KR20070032678A - 적층된 금속 수산화물의 소수성 염 - Google Patents

적층된 금속 수산화물의 소수성 염 Download PDF

Info

Publication number
KR20070032678A
KR20070032678A KR1020067025964A KR20067025964A KR20070032678A KR 20070032678 A KR20070032678 A KR 20070032678A KR 1020067025964 A KR1020067025964 A KR 1020067025964A KR 20067025964 A KR20067025964 A KR 20067025964A KR 20070032678 A KR20070032678 A KR 20070032678A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
acid
waxes
hydrophobic
metal
weight
Prior art date
Application number
KR1020067025964A
Other languages
English (en)
Inventor
에드워드 마이클
Original Assignee
클라리안트 프로두크테 (도이칠란트) 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 클라리안트 프로두크테 (도이칠란트) 게엠베하 filed Critical 클라리안트 프로두크테 (도이칠란트) 게엠베하
Publication of KR20070032678A publication Critical patent/KR20070032678A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09708—Inorganic compounds
    • G03G9/09716—Inorganic compounds treated with organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F7/00—Compounds of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F7/00—Compounds of aluminium
    • C01F7/78—Compounds containing aluminium and two or more other elements, with the exception of oxygen and hydrogen
    • C01F7/784—Layered double hydroxide, e.g. comprising nitrate, sulfate or carbonate ions as intercalating anions
    • C01F7/785—Hydrotalcite
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/40—Compounds of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/03—Powdery paints
    • C09D5/033—Powdery paints characterised by the additives
    • C09D5/034—Charge control agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09708—Inorganic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09733—Organic compounds
    • G03G9/0975—Organic compounds anionic
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09783—Organo-metallic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09783—Organo-metallic compounds
    • G03G9/09791—Metallic soaps of higher carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/20—Two-dimensional structures
    • C01P2002/22—Two-dimensional structures layered hydroxide-type, e.g. of the hydrotalcite-type
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/40—Electric properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity
    • C01P2006/82—Compositional purity water content

Abstract

본 발명은 3가, 2가, 및 선택적으로 1가 금속 양이온, 및 X-R-Y의 구조를 갖는 화학식 I의 하나 이상의 유기 음이온 A를 함유하는 적층된 금속 수산화물 염에, 분산액 중에서 철저하게 혼합하면서, 왁스 및 금속 비누로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 소수성 화합물을 금속 수산화물 염을 기준으로 0.2 내지 200중량%의 함량으로 첨가함으로써 수득될 수 있는 적층된 금속 수산화물의 소수성 염에 관한 것이다. 상기 화학식 I에서, X는 수소, 하이드록실, 카복실, 설페이토 또는 설포이고; Y는 카복실, 설페이토 또는 설포이고; R은 2 내지 50개의 탄소 원자의 탄소 원자를 갖는 지방족, 지환족, 헤테로지환족, 올레핀계, 사이클로올레핀계, 헤테로사이클로올레핀계, 방향족, 헤테로방향족, 방향지방족 또는 헤테로방향지방족 라디칼 기이되, 하이드록실, 아미노, 할로겐, C1-C22-알킬, C1-C22-알콕시, C1-C22-알켄-(CO)-O-(CH2CH2O)0-50-알킬, C1-C22-알켄-(CO)-O-(CH2CH2O)0-50-할로알킬, 카복실, 설포, 나이트로 및 사이아노로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기를 함유할 수 있다. 다음, 액체 매질은 선택적으로 제거되고, 건조된 후 단리되어 분말을 제조한다. 본 발명의 화합물은 특히 전자사진 분야에서 정전 전하 조절제로서 사용된다.

Description

적층된 금속 수산화물의 소수성 염{HYDROPHOBIC SALTS OF LAYERED METAL HYDROXIDES}
본 발명은 매트릭스에서 정전 전하 특성에 선택적으로 영향을 주는 성분과 관련된 전하 조절제 분야에 관한 것이다.
전자사진 기록 공정에서, "전하 잠상"은 광전도체 상에 형성된다. 이런 전하 잠상은 정전기적으로 대전된 토너를 인가함에 의해 현상되고, 이어서 예컨대 종이, 직물, 필름 또는 플라스틱에 전달되어 예컨대 압력, 조사, 열, 또는 용매 작용에 의해 고정된다. 전형적인 토너는 1 또는 2 성분 분말 토너(또한 1 또는 2성분 현상제로도 알려짐)이고; 또한 특수 토너, 예컨대 마그네틱 토너, 액체 토너 또는 중합 토너가 사용된다. 중합 토너는 예컨대 현탁 중합(축합) 또는 유화 중합에 의해 형성되고, 토너의 입자 특성이 개선된 토너를 의미한다. 또한, 상기 용어는 기본적으로 비수성 분산액으로 제조된 토너를 의미한다.
토너 품질의 결정의 척도는 토너의 특이 전하 q/m(단위 질량 당 전하)이다. 정전기적 전하의 부호 및 수준 외에, 중요한 품질 기준은 원하는 전하 수준에의 신 속 도달, 비교적 긴 활성화 기간 동안 이런 전하의 항상성(constancy), 및 온도 및 대기 중의 습도와 같은 기후 영향에 대한 토너의 비민감성이다. 양 및 음으로 대전될 수 있는 토너 둘다는 공정 유형 및 장치의 유형에 따라 복사기 및 레이저 프린터에 사용된다.
양 또는 음 전하를 갖는 전자사진 토너 또는 현상제를 수득하기 위해, 전하 조절제가 종종 첨가된다. 토너 결합제의 전하가 종종 활성화 기간에 크게 좌우되기 때문에, 전하 조절제의 기능은, 한편으로는 토너 전하의 부호 및 수준을 설정하는 것이고, 다른 한편으로는 토너 결합제의 전하 이동에 대응하여 토너 전하의 항상성을 제공하는 것이다. 실질적으로, 전하 조절제가 적절한 열 안정성 및 우수한 분산성을 갖는 것이 중요하다. 혼련기 또는 압출기를 사용하는 경우, 전하 조절제가 토너 수지로 혼입될 때의 전형적 온도는 100℃ 내지 200℃이다. 따라서, 200℃에서의 열적 안정성은 큰 잇점이다. 또한, 이런 열적 안정성이 비교적 오랜 기간(약 30분) 동안 그리고 다양한 결합제 시스템에서 확보되는 것이 중요하다.
우수한 분산을 위해, 전하 조절제가 어떠한 왁스 유사 특성 또는 어떠한 끈적거림을 보이지 않고, 150℃ 초과, 보다 바람직하게는 200℃을 초과하는 융점 또는 연화점을 갖는 것이 유리하다. 끈적거림은 종종 토너 배합물 중으로 계량될 때 문제를 유발하고, 낮은 융점 또는 연화점은 물질이 캐리어 물질 중에서 소적 형태로 융합되기 때문에 분산 동안 균질한 분포를 달성할 수 없게 한다.
전형적인 토너 결합제는 중합, 중첨가 및 중축합 수지, 예컨대 스티렌, 스티렌-아크릴레이트, 스티렌-부타디엔, 아크릴레이트, 폴리에스터 및 페놀-에폭시 수 지 뿐만 아니라 사이클로올레핀 공중합체 각각 또는 이들의 조합물이고, 추가 성분, 예컨대 착색제(예컨대 염료 및 안료), 왁스 또는 유동 보조제를 포함하거나 또는 후속적으로 첨가되는 첨가제로서 예컨대 고도 분산성 실리카를 가질 수 있다.
또한, 전하 조절제는 분말 및 랙커, 특히 금속, 목재, 플라스틱, 유리, 세라믹, 콘크리트, 직물 물질, 종이 또는 고무로 만들어진 제품의 표면을 코팅하는데 사용되는 마찰전기적으로 또는 동전기학적으로 분무된 분말 코팅 물질의 정전기적 전하를 개선하는데 사용될 수 있다.
통상적인 경화제와 함께, 에폭시 수지, 카복실- 및 하이드록실-함유 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 수지 및 아크릴 수지가 분말 코팅 수지로서 전형적으로 사용된다. 수지 조합물이 또한 사용된다. 따라서, 예들 들면, 에폭시 수지가 종종 카복실- 및 하이드록실-함유 폴리에스터 수지와 조합되어 사용된다.
또한, 전하 조절제가 일렉트렛 물질, 특히 일렉트렛 화이버의 대전 및 전하 안정성을 현저하게 개선시킬 수 있다는 것이 알려져 있다(독일특허공개(DE-A) 제 43 21 289 호). 전형적인 일렉트렛 물질은 폴리올레핀, 할로겐화 폴리올레핀, 폴리아크릴레이트, 폴리아크릴로나이트릴, 폴리스타이렌 또는 플루오로 중합체, 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리테트라플루오로에틸렌 및 퍼플루오르화 에틸렌 및 프로필렌을 기본으로 하거나 또는 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르-케톤을 기본으로 하거나, 폴리아릴렌 설파이드, 특히 폴리페닐렌 설파이드를 기본으로 하거나, 폴리아세탈, 셀룰로스 에스터, 폴리알킬렌 테레프탈레이트 및 이들의 혼합물을 기본으로 한다. 일렉트렛 물질, 특히 일렉트렛 화 이버는 예컨대 극미세 더스트 여과에 사용될 수 있다. 일렉트렛 물질은 코로나 대전 또는 마찰전기적 대전에 의해 이들의 전하를 수득할 수 있다.
또한, 전하 조절제는 정전기 분리 작동, 특히 중합체 상에서의 분리 작동에 사용될 수 있다. 전하 조절제가 없는 경우, 저밀도 폴리에틸렌(LDPE) 및 고밀도 폴리에틸렌(HDPE)는 실질적으로 유사한 방식으로 마찰전기적으로 대전된다. 전하 조절제가 첨가된 후에는, LDPE는 고도의 양 전하를 갖고, HDPE는 고도의 음 전하를 갖게 되어어, 용이하게 분리될 수 있다. 전하 조절제의 외부 첨가에 더하여, 또한 마찰전기 전압 시리즈 내로 중합체의 위치를 이동시켜 상응하는 분리 작용을 얻기 위해, 전하 조절제를 중합체로 혼입할 수 있다. 다른 중합체들, 예컨대 폴리프로필렌(PP) 및/또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 및/또는 폴리바이닐 클로라이드(PVC)도 또한 이러한 방식으로 서로 분리될 수 있다.
기재-특이적 정전기적 대전을 개선하는 제제와 미리 혼합되는 경우(표면 컨디셔닝)에는 염 미네랄이 유사하게 분리될 수 있다.
또한, 전하 조절제는 잉크젯 프린터용 잉크 및 전자 잉크 또는 전자 종이에서 전도성 부여제(ECPA)로서 사용된다.
미국특허(US-A) 제 5,288,581 호에서는 특정 하이드로탈사이트를 전하 조절 첨가제로서 사용한다.
일본특허(JP) 제 10-090 941 호에서는 지방산으로 소수성화된 하이드로탈사이트를 양 전하 조절제와 조합하여 외부 첨가제로서 사용하고 있다. 상기 특허 내용에서, 첨가제는 토너의 유동성을 개선하는 작용을 한다.
국제특허(WO) 제 2004/019 137 A1 호에서는, 적층된 이중 수산화물을 전하 조절제로서 사용한다.
본 발명의 목적은 매우 빠른 대전성 및 높은 전하 안정성을 가지며, 또한 여러 대기 습도 조건, 특히 높은 대기 습도에서 단지 낮은 민감성을 갖는 활성적이고, 환경독성학적으로 허용가능한 전하 조절제를 발견하는데 있었다. 또한, 이런 물질은, 실제로 사용된 다양한 토너 결합제, 예컨대 폴리에스터, 폴리스타이렌-아크릴레이트 또는 폴리스타이렌-뷰타디엔/에폭시 수지 및 사이클로올레핀 공중합체에서 분해 없이 용이하게 분산가능해야 한다. 또한, 이들의 작용은 다양한 적용가능성을 갖기 위해 수지/캐리어 조합물에 대해 상당히 독립적이어야 한다. 유사하게 이러한 물질은 일반적인 분말 코팅 결합제 및 일렉트렛 물질, 예컨대 폴리에스터(PES), 에폭시, PES-에폭시 혼성체, 폴리우레탄, 아크릴 시스템 및 폴리프로필렌에서 분해 없이 용이하게 분산가능해야 한다.
이들의 정전기적 효능의 관점에서, 전하 조절제는 매우 낮은 농도(1% 이하)에서도 활성을 가져야 하고, 카본 블랙 또는 기타 착색제와 조합되는 경우 이의 효능을 상실해서는 않된다. 착색제는 최근 일부 경우에서 토너의 마찰전기적 대전에 영향을 줄 수 있다고 알려져 있다.
놀랍게도, 이제 다음에 기술되는 적층된 금속 수산화물의 소수성 염은 상기 필요 조건을 충족한다는 것을 알게 되었다.
그러므로, 본 발명은 3가, 2가, 및 선택적으로 1가 금속 양이온 및 하기 화학식 I의 하나 이상의 유기 음이온 A를 함유하는 적층된 금속 수산화물 염에, 분산액 중에서 철저하게 혼합하면서 왁스 및 금속 비누로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 소수성 화합물을 금속 수산화물 염을 기준으로 0.2 내지 200중량%, 예를들면 1 내지 200중량%, 바람직하게는 1.5 내지 150중량%, 특히 바람직하게는 2 내지 100중량%의 함량으로 첨가하고, 선택적으로 액체 매질을 제거하고, 생성물을 건조시킨 후 분말로서 이것을 단리함으로써 수득될 수 있는 적층된 금속 수산화물의 소수성 염을 제공하는 것이다:
X-R-Y
상기 식에서,
X는 수소, 하이드록실, 카복실, 설페이토 또는 설포이고;
Y는 카복실, 설페이토 또는 설포이고;
R은 2 내지 50개의 탄소 원자, 특히 2 내지 44개의 탄소 원자, 바람직하게는 2 내지 32개의 탄소 원자를 갖는 지방족, 지환족, 헤테로지환족, 올레핀계, 사이클로올레핀계, 헤테로사이클로올레핀계, 방향족, 헤테로방향족, 방향지방족 또는 헤테로방향지방족 라디칼을 의미하되, 하이드록실, 아미노, 할로겐, C1-C22-알킬, C1-C22-알콕시, C1-C22-알킬렌-(CO)-O-(CH2CH2O)0-50-알킬, C1-C22-알킬렌-(CO)-O-(CH2CH2O)0-50-할로알킬, 카복실, 설포, 나이트로 및 사이아노로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상, 바람직하게는 1, 2, 3 또는 4개의 치환기가 존재할 수 있다.
본 발명에 따른 염은, 금속 산화물이 다중 수산화물이고, 이때 3가 금속 양이온에 대한 2가 금속 양이온의 몰비는 1,000 내지 0.001, 특히 100 내지 0.01이며, 수산화물은 물이 분리된 무수 형태 또는 혼합 산화물-수산화물 또는 산화물로서의 하소된 형태일 수 있다는데 그 특징이 있다.
본 발명에 따른 염은 또한 물분자를 결정 수로서 또는 각개 층 사이에 삽입된 물로서 함유하고, 본 발명에 따라 열수적으로 제조되고 처리된 금속 수산화물/산화물의 형태로 구성될 수 있다.
가능한 1가 금속 양이온은 특히 Li+, Na+, K+, Rb+, Cs+, 또는 Ag+이다.
가능한 2가 금속 양이온은 특히 Mg2+, Ca2+, Sr2+, Ba2+, Zn2+, Co2+, Ni2+, Fe2+, Cu2+ 또는 Mn2+를 포함한다.
가능한 3가 금속 양이온은 특히 Al3+, Fe3+, Co3+, Mn3+, Cr3+, Sr3+, 및 B3+를 포함한다.
Mg2+ 및 Al3+을 특히 100:1 내지 1:100의 몰비로 함유하는 이중 수산화물 염이 특히 바람직하다.
적층된 수산화물 염은 화학식 2에 대응하는 것이 바람직하다:
[M(I)y1M(II)y2M(III)x(OH)2]A(x/z)ㆍnH2O
상기 식에서,
0<x<1이며;
0<y2<1 및 y2≤(1-x)이며;
y1 = 2-2x-2y2이며;
z는 음이온 A의 음전하이거나, 수 개 음이온의 경우 평균 음전하이며;
n은 0 내지 20의 수이며;
M(I)은 하나 이상의 1가 금속 양이온이며;
M(II)는 하나 이상의 2가 금속 양이온이며;
M(III)는 하나 이상의 3가 금속 양이온이며;
A는 상기에서 정의한 바와 같다.
A는 하나 이상의 전하를 갖는 화학식 I의 유기 음이온일 수 있다. 음이온 A의 양은 수산화물/산화물 염의 양 및 음 전하의 화학양론에 의해 모든 전하의 합이 0으로 되도록 결정된다. 그러나, 화학식 I의 음이온의 일부(예컨대, 5 내지 95몰%, 바람직하게 10 내지 90몰%, 특히 20 내지 80몰%)가 다른 음이온, 예컨대 무기 음이온(예컨대, 할로겐화물, 중탄산염, 탄산염, 설페이트, 나이트레이트, 포스페이트 또는 보레이트 또는 아세테이트)에 의해 대체될 수 있다. 가능한 유기 음이온은 바람직하게는 벤질산, 살리실산, 벤조산, 나프탈렌다이설폰산, 예컨대 나프탈렌-1,5-다이설폰산, 나프탈렌다이카복실산, 하이드록시나프토산, 예컨대 1-하이드록시-2-나프토산, 2-하이드록시-1-나프토산, 3-하이드록시-2-나프토산, 락트산, 스테 아르산, 아라크산, 베헨산, 에루스산, 옥탄다이카복실산, 데칸다이카복실산(세바스산), 도데칸다이카복실산, 테트라데칸다이카복실산, 헥사데칸다이카복실산, 옥타데칸다이카복실산, 나프탈렌테트라카복실산, 설포석신산(C6-C20)-알킬 모노에스터, 설포석신산 (C6-C22)-플루오로알킬 모노에스터로 구성되는 군으로부터 선택된다.
본원에 있어서, 가능한 왁스는 산왁스, 예를들면 몬탄산 왁스, 또는 부분적으로 에스터화 또는 부분적으로 비누화된 몬탄산 왁스; 에스터 왁스, 예를들면 하이드록시스테아르산 에스터 왁스, 몬탄산 에스터 왁스 또는 부분적으로 가수분해된 몬탄산 에스터 왁스; 아미드 왁스, 예를들면 C18-C44-지방산 아미드 왁스; 카나우바 왁스; 폴리올레핀 왁스, 예를들면 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 왁스; 폴리올레핀 분해 왁스; 산화된 PE, PP 또는 파라핀 왁스; 추가의 단량체(예를들면 실레인, 아크릴산 유도체, 메타크릴산 유도체, 말레산 무수물 또는 스타이렌)로 그래프팅됨으로써 개질된 PP 왁스; 폴리올레핀-메탈로센 왁스; 및 파라핀 왁스이다.
상기 왁스의 특성은 40 내지 200℃의 비교적 뚜렷한 융점 또는 드롭점(drop point), 드롭점 초과에서 5 내지 5,000mPas 범위의 점도를 갖는 비교적 낮은 점성 항상성, 거칠거나 미세한 결정질 구조, 250 내지 20,000g/mol의 분자량(수평균 Mn), 약한 압력하에서의 광택성, 0 내지 200mg의 KOH/g의 비교적 낮은 산가 및 극단적으로 낮은 가용성, 또한 드롭 또는 융점 이상에서 알칼리 pH 조건이다.
금속 비누는 포화 또는 불포화의 선형 또는 분지된 C7-C43-카복실산, C8-C44- 설폰에이트, C8-C44-설페이트, C8-C44-알킬에터설페이트, C8-C44-알킬아미도 에터-설페이트, C8-C44-아르알킬설폰에이트(여기서, 아릴은 C6-C12를 나타내며, 알킬은 C1-C32를 나타냄), C8-C44-알킬 에터-설포석신에이트, C8-C44-N-알킬설포석시나메이트, C8-C44-아실 글루타메이트, C8-C44-지방산 이세싸이오네이트, C8-C44-지방산 메틸타우라이드, C8-C44-지방산 사르코사이드, C8-C44-포스페이트, 산왁스, 부분적으로 에스터화된 산왁스, 부분적으로 가수분해된 에스터 왁스 또는 산화된 PE 또는 파라핀 왁스로 구성된 군으로부터 선택된 산성분과 고가(즉, 2, 3 또는 4가) 금속 이온과의 염, 특히 Al, Ba, Sr, Ca, Fe, Co, Cu, Mg, Mn, Ni, Pb, ZrO, TiO 및 Zn 스테아레이트, 베헤네이트, 에루세이트, 팔미테이트, 올레에이트, 리놀레에이트, 레신에이트, 라우레이트, 미리스테이트, 나프탈렌에이트, 톨레이트, 도데실설페이트, 2차 알킬설폰에이트, 도데실벤젠설폰에이트 및 N-(1,2-다이카복시에틸)-N-옥타데실설포석시나메이트이다.
1,000:1 내지 1:1,000의 Mg:Al를 몰비를 가지며, 유기 음이온으로서 0.1 내지 30중량%의 세바스산 및/또는 0.1 내지 75중량%의 스테아르산를 가지며, 소수성 화합물로서 Mg-Al 이중 수산화물 염의 총 중량을 기준으로 각 경우 0.5 내지 150중량%(예를들면 1 내지 150중량%)의 몬탄산 왁스, 부분적으로 에스터화된 몬탄산 왁스, 하이드록시스테아르산 에스터 왁스, 에루스산 아미드 왁스, 베헨산 아미드 왁스, 카나우바 왁스, 몬탄산 에스터 왁스, 부분적으로 가수분해된 몬탄산 에스터 왁 스, 산화 또는 그래프팅에 의해 극성이 부여된 폴리올레핀 왁스, 산화 파라핀 왁스, 또는 포화 또는 불포화 선형 또는 분지된 C7-C43-카복실산, C8-C44-설폰에이트, C8-C44-설페이트, C8-C44-알킬 에터 설페이트, C8-C44-알킬아미도 에터 설페이트, C8-C44-아르알킬설폰에이트(여기서, 아릴은 C6-C12를 나타내며, 알킬은 C1-C32를 나타냄), C8-C44-알킬 에터-설포석신에이트, C8-C44-N-알킬설포석시나메이트, C8-C44-아실 글루타메이트, C8-C44-지방산 이세싸이오네이트, C8-C44-지방산 메틸타우라이드, C8-C44-지방산 사르코사이드, C8-C44-포스페이트, 산왁스, 부분적으로 에스터화된 산왁스, 부분적으로 가수분해된 에스터 왁스 또는 산화된 PE 또는 파라핀 왁스의 2 및 3가 금속염, 특히, Zn, Pb, Sn, TiO, ZrO, Mg, Ca, Sr, Ba, Al 염을 갖는 소수성 이중 수산화물 염이 바람직하다.
0.1 내지 20중량%의 모노- 또는 다이 음이온의 세바스산 및/또는 0.1 내지 50중량%의 스테아르산; 및 1 내지 100중량%(예를들면 2 내지 100중량%)(각 경우, Mg-Al 이중 수산화물 탄산염의 총 중량을 기준으로 함)의, 몬탄산 왁스, 몬탄산 에스터 왁스, 부분적으로 가수분해된 몬탄산 에스터 왁스, 하이드록시 스테아르산 에스터 왁스, 에루스산 아미드 왁스, 베헨산 아미드 왁스, 카나우바 왁스, 산화 또는 그래프팅된 폴리올레핀 왁스, 산화 파라핀 왁스로 구성되는 군으로부터 선택된 왁스, 또는 포화 또는 불포화 선형 또는 분지된 C7-C43-카복실산, C8-C44-설폰에이트, C8-C44-설페이트, C8-C44-알킬 에터 설페이트, C8-C44-알킬아미도 에터 설페이트, C7- C44-아르알킬설폰에이트(여기서, 아릴은 C6-C12를 나타내며, 알킬은 C1-C32를 나타냄), C8-C44-알킬 에터-설포석신에이트, C8-C44-N-알킬설포석시나메이트, C8-C44-아실 글루타메이트, C8-C44-지방산 이세싸이오네이트, C8-C44-지방산 메틸타우라이드, C8-C44-지방산 사르코사이드, C8-C44-포스페이트의 2가 또는 3가의 금속 염, 특히 스테아르산, 아라키산, 팔미트산, 미리스트산, 라우르산, 베헨산, 에루스산, 도데실설페이트, 2차 C10-C20-알킬설폰에이트, 도데실벤젠설폰에이트 또는 N-(1,2-다이카복시에틸)-N-옥타데실설포석시나메이트의 Mg, Ca, Zn, Al, ZrO 염을 함유한, 0.1 내지 4중량%의 탄산염을 가지며, 5:1 내지 1:5의 Mg 대 Al의 몰비를 갖는, 선택적으로 열수 또는 하소 형태의 소수성 적층된 마그네슘-알루미늄 이중 수산화물 탄산염이 특히 관심의 대상이 된다.
적층된 금속 수산화물 염 그 자체 또는 본 발명에 따라 기술된 화합물은 예를들면 혼련기, 압출기, 용해기, 비드 밀, 헨셀 혼합기(Henschel mixer) 또는 밀과 같은 혼합 장치에서 가열되는 동안 하소 또는 비하소되거나 또는 열수적으로 제조된 금속 수산화물/산화물과 화학식 I의 대응하는 유기산 또는 이것의 염 및 왁스 또는 금속 비누를 직접적으로 반응시킴으로써 제조될 수 있다. 적층된 금속 수산화물 염 그 자체는 또한 염화 마그네슘 및 염화 알루미늄과 같은 금속 수산화물/산화물을 형성하는 금속 양이온의 염을 수성 알칼리 용액 중에서 산 또는 하나 이상의 유기 음이온 A의 염과 동시에 반응시키고, 선택적으로 후속의 중간 단리 단계에 의해 제조하는 것도 가능하다.
본원에서 금속 수산화물/산화물의 염에 대한 출발 물질은 통상적으로 입수할 수 있고, 무기 음이온, 통상적으로 탄산염을 함유한 하이드로탈사이트와 같은 물질이다. 하이드로탈사이트는 예를들면 독일특허(DE-A) 제 40 10 606 호 및 독일특허(DE-A) 제 40 34 305 호에 기술되어 있다.
예를들면 사진복사 공정에서 토너를 광전도체(저온 오프-셋 방지) 또는 고정 롤(고온 오프-셋 방지)로부터 더욱 용이하게 분리시키기 위해, 또는 중합체 결합제의 유리 전이점을 낮추기 위하여, 전자사진 토너의 결합제에 비교적 다량의 왁스(예를들면 3 내지 5중량%, 결합제의 중량 기준)를 첨가한다는 것이 알려져 있다. 그러나, 본 발명에 따른 목적은 왁스의 외부 첨가에 의해 달성되지 않는다. 바라는 전하 조절 특성이 달성되고, 환경적 영향, 특히 비교적 높은 대기 습도에 민감하지 않는 방식으로 실시되는 전하 조절제의 소수성화는 단지 적층된 금속 수산화물 염을 본 발명에 따라 처리하는 경우에만 달성된다.
왁스 또는 금속 비누인 소수성 화합물은 금속 수산화물의 유기 이온들 사이에 삽입되고/되거나, 적층된 금속 수산화물 염의 표면 상에 흡착된다고 추측된다.
본 발명은 또한 수성, 수성-유기 또는 유기 분산액 중에서 철저하게 혼합하면서 3가, 2가 및 선택적으로 일가 금속 양이온 및 상술된 화학식 I의 유기 음이온 A 하나 이상을 함유한 적층된 금속 수산화물 염에, 왁스 및 금속 비누로 구성되는 군으로부터의 하나 이상의 소수성 화합물을 금속 수산화물 염을 기준으로 0.2 내지 200중량%, 예를들면 1 내지 200중량%, 바람직하게는 1.5 내지 150중량%, 특히 바람 직하게는 2 내지 100중량%, 특별하게 3 내지 75중량%의 함량으로 첨가하고, 선택적으로 액체 매질을 제거하고, 생성물을 건조시킨 후 분말로서 단리시키는, 적층된 소수성 금속 수산화물 염의 제조 방법에 관한 것이다.
소수성 화합물은 또한 적층된 금속 수산화물과 유기 음이온 A와의 반응 전 및/또는 반응 중에 첨가될 수 있다.
본 발명은 또한 수성, 수성-유기 또는 유기 분산액 중에서 철저하게 혼합하면서, 왁스 및 금속 비누로 구성되는 군으로부터 선택되는, 금속 수산화물 염을 기준으로 0.2 내지 200중량%(예를들면 1 내지 200중량%, 바람직하게는 1.5 내지 150중량%, 특히 바람직하게는 2 내지 100중량%, 특별하게 3 내지 75중량%)의 함량의 하나 이상의 소수성 화합물의 존재하에서, 3가, 2가 및 선택적으로 일가 금속 양이온을 함유한 적층된 금속 수산화물 염을 상술된 화학식 I의 유기 음이온 A 하나 이상과 반응시키고, 선택적으로 액체 매질을 제거하고, 생성물을 건조시킨 후 분말로서 단리시키는 소수성 적층된 금속 수산화물 염의 제조 방법에 관한 것이다.
적층된 금속 수산화물/산화물의 염은 0 내지 14 pH의 수성 매질 및 0 내지 190℃의 온도에서, 바람직하게는 교반 및 선택적으로 또한 가압하에서 바람직하게 제조된다. 상기 제조 방법은 또한 선택적으로 오토클래이브 조건 및 5 내지 200℃, 바람직하게는 20 내지 190℃, 특히 30 내지 180℃의 온도에서 실시될 수 있다. 또한 상기 제조 방법은 상술된 조건하에서 유기 용매(예, 알콜, 에스터, 에터 또는 케톤) 및 바라는 비율의 물 및 하나 이상의 유기 용매의 혼합물 중에서 실시될 수 있다.
본원에서, 유기 음이온은 염(예를들면 나트륨 또는 칼륨 염)으로서, 또는 산으로서, 고체 상태로, 예를들면 분말로서 또는 그래뉼로서, 용융 상태 또는 용해된 형태로, 예를들면 수용액으로서 사용될 수 있다. 유기 음이온 A는 또한 산할로겐화물(예, 산 염화물)로서, 산 무수물로서, 산 아지드 또는 산 에스터로서 사용될 수 있다. 이것은 특히 유기 용매의 제조에도 적용된다.
바람직하게는, 소수성 화합물은 유기 용매 중에서 용해되고 20 내지 200℃의 온도에서 용액으로서 첨가되거나, 소수성 화합물은 20 내지 200℃의 온도에서 수성 분산액으로서 첨가된다. 또한, 수성 분산액은 임의 함량(40중량% 이하)의 유기 용매, 예컨대 알콜을 함유할 수 있다.
소수성 화합물을 분말로서 또는 용융 형태로 천천히 예를들면 미세 제트에서 1 분이상 동안 편리하게는 20 내지 200℃에서 계량할 수 있다. 소수성 화합물은 금속 산화물의 분산액과 철저하게 혼합되면서, 예를들면 적합한 교반 장치, 예컨대 울트라투랙스(Ultraturrax) 또는 프로펠러 교반기, 비드 밀, 또는 초음파 도움하에 철저하게 교반되면서 첨가된다.
분산액 또는 용액 형태의 소수성 화합물의 사용에 있어서, 하나 이상의 음이온성, 양이온성, 양쪽이온성 또는 비이온성 저분자량 또는 중합체성 분산 보조제, 예컨대 다이에틸아미노에탄올(DEAE), 알킬아민, 알킬-설페이트, 알킬설폰에이트, 알킬 포스페이트, 베타민, 설포베타민, 폴리(바이닐 알콜-코-바이닐 아세테이트-코-바이닐아세탈)(가장 다양한 단량체 조성으로), 폴리(스타이렌-코-아크릴산), 포화 또는 불포화 지방산, 알킬 또는 알켄일 폴리(글라이콜 에터), 지방 알콜 폴리(글라 이콜 에터) 또는 지방 알콜 폴리(글라이콜 에터-블록-프로필렌 글라이콜 에터)를 사용하는 것이 편리하며, 비이온성 분산 보조제가 바람직하다.
소수성 화합물의 분산액 또는 용액 중에서 분산 보조제 또는 분산 보조제들의 함량은 소수성 화합물의 함량을 기준으로 0.1 내지 500중량%, 바람직하게는 0.1 내지 50중량%일 수 있다.
소수성 화합물의 분산액에서 평균 입자 크기(d50 값)는 500㎛ 이하, 바람직하게는 1㎛ 이하, 특히 바람직하게는 500nm 이하이다.
금속 비누가 사용되는 경우, 이것들은 금속 수산화물에 첨가되기 직전에 침전에 의해 제조되거나, 또는 적층된 금속 수산화물 염에 첨가된 후에만 반응 혼합물 중에서의 침전에 의해 제조된다. 이러한 절차에 있어서, 산 성분(예, 스테아르산)은 열의 영향하에 선택적으로 또한 상기 성분의 융점 이상에서 알칼리(예, 고체 또는 수용성 수산화 나트륨) 및 선택적으로 상술된 하나 이상의 분산 보조제의 첨가와 함께 물 중에서, 물-용매 혼합물의 중에서 또는 반응 혼합물 중에서 용해되고, 이어서 금속 염의 수용액, 예컨대 황산아연, 염화아연, 수산화아연, 염화알루미늄, 황산알루미늄, 수산화알루미늄 또는 염화지르코늄 용액의 첨가에 의해 침전이 실시된다. 본원에 있어서, 2가, 3가 또는 4가 금속 양이온의 전하 대 금속 비누의 산 성분 중의 산기의 전하의 몰비는 1:100 내지 10:1, 바람직하게는 1:50 내지 5:1, 특히 1:10 내지 3:1이다.
성분 모두가 조합되고, 적절하다면 pH가 2 내지 12, 바람직하게는 2 내지 11 의 값으로 조정된 경우, 선택적으로는 가압하에 여전히 가열된 상태에서 반응 혼합물을 여과지 상에서 액체 상으로부터 즉각적으로 분리시키고, 탈이온수 또는 물-용매 혼합물(예, 물-알콜 혼합물)로 불순물을 세척하여 제거하고(이때, 세척 작동은 전도율에 의해 조절되며, 여과물의 전도율은 10mS/cm 미만임), 이어서 예를들면 순환하는 공기 건조, 진공 건조, 스핀 플러시 건조, 분무 건조 또는 유동상 건조에 의해 생성물을 건조시키고 선택적으로 분말로 연마시킨다.
본 발명은 또한 전자사진 토너 및 현상제, 분말 코팅, 일렉트렛 물질, 전자 잉크(e-잉크), 전자 종이(e-종이) 및 정전 분리 작동에서 전하 조절제로서, 분말 토너의 유동성 및 전하를 조절하기 위한 외부 첨가제로서, 및 오프-셋 방지제로서의 본 발명에 따른 소수성 금속 수산화물 염의 용도에 관한 것이다.
본원에 있어서, 본 발명에 따른 금속 수산화물은 각각 또는 다른 성분 또는 후술되는 추가의 성분과 조합하여 예를들면 압출 또는 혼련, 비드 밀 또는 울트라투랙스(고속 교반기)에 의해 총 혼합물을 기준으로 0.01 내지 50중량%, 바람직하게는 0.05 내지 20중량%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5.0중량%의 농도로 특정 토너, 현상제, 분말 코팅, 일렉트렛 물질 또는 정전기적으로 분리될 중합체의 결합제 중으로 균일하게 혼입된다. 본원에 있어서, 본 발명에 따라 사용되는 화합물은 건조 및 연마된 분말, 콜로이드 용액, 프레스-케익, 마스터배치, 제제, 혼합 페이스트로서, 적합한 캐리어, 예컨대 실리카겔 또는 이것과 혼합된 TiO2, Al2O3, 카본 블랙 상의 수성 또는 비수성 분산액으로부터 흡착된 화합물로서 첨가될 수 있다. 본 발 명에 따라 사용되는 화합물은 또한 원칙적으로 특정 결합제의 제조 중에, 즉 이것의 중합, 중첨가 또는 중축합 과정 중에 및 화학 토너의 제조 중에, 예를들면 폴리에스터계 화학 토너의 경우에 현탁 또는 유화 중합 중에 또는 토너 입자에의 유화된 구성 성분의 응집 중에 첨가될 수 있다. 분산 후 결합제 중에 존재하는 전하 조절제 입자는 1㎛ 보다 작아야 하며, 바람직하게는 0.5㎛ 보다 작아야 하며, 좁은 입자 크기 분포가 유리하다. 본 발명에 따른 전하 조절제는 또한 미분, 수성, 수성-유기 또는 유기 분산액 형태로 사용될 수 있다. 입자 크기(d50 값)는 20nm 내지 1㎛, 바람직하게는 50 내지 500nm이다. 분산액의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 50중량%, 바람직하게는 0.1 내지 30중량%의 전하 조절제 농도가 편리하다.
수성 또는 수성-유기 분산액의 경우, 물은 증류 또는 탈염수 형태로 사용되는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 화합물의 제조와 관련하여 유기 또는 수성-유기 분산액의 경우, 하나 이상의 유기 용매가 유기 매질로서 사용되며, 바람직하게는 일가 또는 다가 알콜, 이것의 에터 및 에스터, 예컨대 특히 1 내지 4개의 탄소원자를 갖는 알칸올, 예컨대 메탄올, 에탄올, 프로판올, 아이소프로판올, 뷰탄올, 아이소뷰탄올; 특히 2 내지 6개의 탄소원자를 갖는 2가 또는 3가 알콜, 예컨대 에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 1,3-프로판다이올, 1,4-뷰탄다이올, 1,5-펜탄다이올, 1,6-헥산다이올, 1,2,6-헥산트라이올, 글라이세롤, 다이에틸렌 글라이콜, 다이프로필렌 글라이콜, 트라이에틸렌 글라이콜, 폴리에틸렌 글라이콜, 트라이프로필렌 글라이콜, 폴리프로필렌 글라이콜; 다가 알콜의 저급 알킬 에터, 예컨대 에틸렌 글라이콜 모노메틸 또는 에틸 또는 뷰틸에터, 트라이에틸렌 글라이콜 모노메틸 또는 에틸 에터; 케톤 및 케톤 알콜, 예컨대 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 다이에틸 케톤, 메틸 아이소뷰틸 케톤, 메틸 펜틸 케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 다이아세톤 알콜; 아미드, 예컨대 다이메틸폼아미드, 다이메틸아세트아미드 및 N-메틸피롤리돈으로 구성되는 군으로부터 선택된다.
통상의 이온성 또는 비이온성 저급 분자량 또는 중합성 분산 보조제, 예를들면 설페이트, 설폰에이트, 포스페이트, 폴리포스페이트, 탄산염, 카복실레이트, 카복실산, 실리케이트, 수산화물, 금속 비누, 중합체, 예컨대 아크릴레이트, 지방산 유도체 및 글리코사이드 화합물이 부가적으로 안정한 분산액의 제조를 위해 사용될 수 있다. 분산액은 또한 금속 착화제, 예컨대 EDTA 또는 NTA를 함유할 수 있다. 분산액은 또한 통상의 첨가제, 예를들면, 보존제, 살생제, 산화방지제, 탈가스제/소포제, 및 점도 조절제, 예컨대 폴리바이닐 알콜, 셀룰로스 유도체 또는 수용성 천연 또는 합성 수지 및 중합체(필름 형성제로서), 또는 접착 강도 및 내마멸제를 증가시키기 위한 결합제를 함유할 수 있다. pH 조절제로서 유기 또는 무기 염기 및 산이 사용된다. 바람직한 유기 염기는 아민, 예컨대 에탄올아민, 다이에탄올아민, 트라이에탄올아민, 다이에틸아미노에탄올(DEAE), N,N-다이메틸-에탄올아민, 다이아이소프로필아민, 아미노메틸프로판올 또는 다이메틸아미노메틸프로판올이다. 바람직한 무기 염기는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬 또는 암모니아이다. 추가의 성분은 예를들면 폼아미드, 우레아, 테트라메틸우레아, ε-카프로락탐, 에틸렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 트라이에틸렌 글라이콜, 폴리에틸렌 글라이 콜, 뷰틸 글라이콜, 메틸셀로솔브, 글라이세롤, 슈가, N-메틸피롤리돈, 1,3-다이에틸-2-이미다졸다이논, 싸이오다이글라이콜, 소디움 벤젠설폰에이트, Na 자일렌설폰에이트, Na 톨루엔설폰에이트, Na 큐멘설폰에이트, Na 벤조에이트, Na 살리실레이트 또는 Na 뷰틸 모노글라이콜 설페이트와 같은 소수성 화합물이다.
본 발명에 따라 사용된 전하 조절제는 특정 전하를 달성하기 위해 이미 공지된 양 또는 음의 전하 조절제와 조합될 수 있으며, 전하 조절제의 총 농도는 전자사진 토너, 현상제, 분말 또는 분말 코팅의 총 중량을 기준으로 편리하게는 0.01 내지 약 50중량%, 바람직하게는 0.05 내지 20중량%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5중량%이다.
적당한 추가적 전하 조절제의 예는 다음과 같다:
트라이페닐메탄; 암모늄 및 임모늄 화합물, 이미늄 화합물; 불화 암모늄 및 불화 임모늄 화합물; 쌍양이온성 산 아미드; 중합체성 암모늄 화합물; 다이알릴암모늄 화합물; 아릴 설파이드 유도체; 페놀 유도체; 포스포늄 화합물 및 불화 포스포늄 화합물; 칼릭스[n]아렌, 고리형으로 결합된 올리고사카라이드(사이클로덱스트린) 및 이들의 유도체, 특히 붕소 에스터 유도체; 상호중합전해질(interpolyelectrolyte) 착체(IPECS); 폴리에스터 염; 금속 착체 화합물, 특히 살리실레이트-금속 착체 및 살리실레이트-비금속 착체, 하이드록시카복실산-금속 착체 및 하이드록시카복실산-비금속 착체; 벤즈이미다졸론; 아진, 티아진 또는 옥사진(이들은, 안료, 솔벤트 염료, 염기성 염료 또는 산성 염료로서 색 지수에 열거 되어 있다), 및 고도의 분산성 금속 산화물, 예컨대 SiO2, TiO2 또는 Al2O3(이들은 예를들면 카복실레이트, 아미노, 암모늄기로 표면 개질될 수 있다).
공지된 전하 조절제의 보기는 국제특허 제 01/40878 A1 호에 열거되어 있다.
전자사진 유색 토너를 제조하기 위해, 흑색, 시안색, 황색, 마젠타색, 녹색, 오렌지색, 적색 및 청색의 둘 이상의 유색 토너 세트로서, 예를들면 유기 유색 안료, 무기 안료 또는 염료와 같은 착색제가 통상적으로 분말, 분산액, 프레스-케익, 용액 또는 마스터배치 형태로 첨가된다.
유기 유색 안료는 아조 안료 또는 폴리사이클릭 안료 또는 이러한 안료의 혼합 결정(고체 용액)으로 구성되는 군으로부터 선택될 수 있다.
바람직한 청색 안료 및/또는 녹색 안료는 구리 프탈로사이아닌, 예컨대 C.I. 피그멘트 블루(Pigment Blue) 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 피그멘트 블루 16(금속-비함유 프탈로사이아닌), 또는 중심 원자로서 알루미늄, 니켈, 철 또는 바나듐을 갖는 프탈로사이아닌, 및 트라이아릴카보늄 안료, 예컨대 피그멘트 블루 1, 2, 9, 10, 14, 60, 62, 68, 80; 피그멘트 그린(Pigment Green) 1, 4, 7, 45; 오렌지색 안료, 예컨대 P.O. 5, 62, 36, 34, 13, 43, 71; 황색 안료, 예컨대 P.Y. 12, 13, 14, 17, 74, 83, 93, 97, 111, 122, 139, 151, 155, 180, 174, 175, 185, 188, 191, 213, 214; 적색 안료, 예컨대 P.R. 48, 57, 122, 146, 147, 149, 150, 184, 185, 186, 202, 207, 209, 238, 254, 255, 269, 270, 272; 보라색 안료, 예컨대 P.V. 1, 19; 카본 블랙, 철/망간 산화물; 및 C.I. 피그멘트 바이올렛 19 및 C.I. 피그멘트 레드 122의 혼합 결정이다.
유기 염료와의 혼합물이 특히 휘도를 증가시키고 색조를 조정하는데 적합하다. 이러한 염료로서는 수용성 염료(예컨대 직접, 반응성 및 산성 염료) 및 용매 용해성 염료(예컨대 솔벤트 염료, 분산성 염료 및 배트 염료)가 바람직하게 언급된다. 언급되는 보기로서는 다음을 들 수 있다: C.I. 리액티브 옐로우 37, 애시드 옐로우 23, 리액티브 레드 23, 180, 애시드 레드 52, 리액티브 블루 19, 21, 애시드 블루 9, 다이렉트 블루 199, 솔벤트 옐로우 14, 16, 25, 56, 62, 64, 79, 81, 82, 83, 83:1, 93, 98, 133, 162, 174, 솔벤트 레드 8, 19, 24, 49, 89, 90, 91, 92, 109, 118, 119, 122, 124, 127, 135, 160, 195, 212, 215, 솔벤트 블루 44, 45, 솔벤트 오렌지 41, 60, 63, 디스퍼스 옐로우 64, 배트 레드 41, 솔벤트 블랙 45, 27.
본 발명에 따른 전자사진 토너 및 분말 코팅은 물론 상술된 바와 같은 왁스, 예를들면 오프-셋 방지제를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 화합물은 유동성을 개선시키고 접착성을 개선시키며, 정전기적 미세 조절을 위하여, 외부 첨가제로서 자유 유동제, 예를들면 고도의 분산성 실리카, 금속 산화물 또는 금속 비누와 조합되거나 또는 개별적으로 가공된 분말 토너에 첨가된다.
본 발명은 또한 30 내지 99.99중량%, 바람직하게는 40 내지 99,5 중량%의 통상의 결합제(예, 스타이렌, 스타이렌 아크릴레이트, 스타이렌-뷰타다이엔, 아크릴레이트, 우레탄, 아크릴 수지, 폴리에스터 또는 에폭시 수지 또는 폴리에스터 및 에폭시 수지의 조합물); 0.01 내지 50중량%, 바람직하게는 0.05 내지 20중량%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5중량%의 하나 이상의 소수성 적층된 금속 수산화물; 및 선택적으로 0.001 내지 50중량%, 바람직하게는 0.05 내지 20중량%의 착색제를 포함하는 전자사진 토너, 분말 또는 분말 코팅의 제공에 관한 것으로, 각 경우 상기 중량%는 전자사진 토너, 분말 또는 분말 코팅의 총량을 기준으로 한 것이다.
하기 실시예에서, 백분율은 중량%를 의미한다.
제조예 1
30g의 열수적으로 제조된 Mg-Al 수산화물 탄산염(MgO:Al2O3 = 61:39 중량%, 푸랄(Pural) MG 61 HT, 사솔(Sasol), 독일)을 교반에 의해 60℃에서 30분 동안 100ml의 탈이온수에 분산시켰다. 이어서, 4.5g의 분쇄된 세바스산을 첨가하고, 10% 세기의 수산화나트륨 용액에 의해 혼합물의 pH를 약 8로 조절하였다. 2시간의 반응 시간 후, 10부의 용융된 몬탄산 왁스(리코왁스(Licowax) S, 클라리언트(Clariant), 산가 127 내지 160mg의 KOH/g, 드롭 점 79 내지 85℃)를 2부의 올레산, 4부의 다이에틸아미노에탄올(DEAE) 및 84부의 탈이온수로 구성된 약 70℃의 고온 수용액에 첨가하여 제조된 60g의 10% 세기의 수성 몬탄산 왁스 분산액을 첨가하였다. 반응 혼합물을 1시간 동안 85℃에서 교반시키고, 계속하여 약 50℃로 냉각시킨 후, 현탁액을 여과하고, 고형물을 탈이온수로 수회 세정한 후 진공의 60 내지 80℃에서 건조시켰다. 수율: 36.8g의 백색분말
특징:
외형: 백색 분말
DSC: 400℃ 이하에서는 분해 안됨.
pH: 7.9
전도율: 90μS/cm
잔류 습도: 1.6%
tan δ(1 kHz): 0.5
Ωcm: 3 x 109
용해도: 물, 에탄올, 아세톤, 다이메틸설폭사이드, n-헥산 중 1g/l 미만(20℃)
입자 크기 분포: d50 = 8㎛, d95 = 18㎛(레이저 광 회절)
분산후 다이에틸 에터 중에서의 평균 입자 크기: 약 200nm
(투과 전자 현미경)
제조예 2
30g의 열수적으로 제조된 Mg-Al 수산화물 탄산염(MgO:Al2O3 = 70:30 중량%, 0.1 내지 3중량%의 탄산염, 푸랄 MG 70 HT, 사솔, 독일)을 교반에 의해 60℃에서 30분 동안 100ml의 탈이온수에 분산시켰다. 이어서, 3.0g의 분쇄된 세바스산을 첨가하고, 10% 세기의 수산화나트륨 용액에 의해 혼합물의 pH를 약 8 내지 9로 조절하였다. 1시간의 반응 시간 후, 10부의 용융된 몬탄산 에스터 왁스(리코왁스 F, 클라리언트, 산가 6 내지 10mg의 KOH/g, 드롭 점 75 내지 81℃)를 0.7부의 21% 세기의 KOH-에틸렌 글라이콜 용액, 3부의 10% 세기의 폴리바이닐 알콜 용액(모위올(Mowiol) 4-88, 쿠라레이(Kuraray), 독일) 및 86.3부의 탈이온수로 구성된 약 95℃의 고온 수용액에 첨가하여 제조된 90g의 10% 세기의 수성 몬탄산 에스터 왁스 분산액을 첨가하였다. 이어서, 다시 3.0g의 분쇄된 세바스산을 첨가하고, 10% 세기의 수산화나트륨 용액에 의해 혼합물의 pH를 약 8 내지 9로 다시 조절하였다. 반응 혼합물을 추가로 1시간 동안 80℃에서 교반시키고, 계속하여 약 50℃로 냉각시킨 후, 현탁액을 여과하고, 고형물을 탈이온수로 수회 세정한 후 진공의 60 내지 80℃에서 건조시켰다. 수율: 39.7g의 백색분말
제조예 3
25g의 Mg-Al 수산화물 탄산염(MgO:Al2O3 = 70:30 중량%, 탄산염 함량 약 4중량%, 푸랄 MG 70 C, 사솔, 독일)을 교반에 의해 60℃에서 30분 동안 100ml의 탈이온수에 분산시켰다. 이어서, 4.5g의 분쇄된 세바스산을 첨가하고, 10% 세기의 수산화나트륨 용액에 의해 혼합물의 pH를 약 8 내지 9로 조절하였다. 1시간의 반응 시간 후, 5부의 스테아르산, 95부의 탈이온수, 1.8부의 수산화나트륨, 8부의 아이소프로판올 및 0.5부의 코코넛 지방 알콜 폴리글라이콜 에터(제나폴(Genapol) C 050, 클라리언트, 독일)를 80℃에서 용해시킨 후, 상기 온도에서 50부의 탈이온수 중의 6.0부의 Al2(SO4).18H2O 용액으로 침전시키고, 침전된 현탁액을 8 내지 9의 pH로 조절하여 제조된 수성 알루미늄 스테아레이트 분산액을 첨가하였다. 이어서, 20g의 수산화나트륨 수용액에 용해된 2.0g의 세바스산을 다시 첨가하고, 혼합물의 pH를 약 8 내지 9로 다시 조절하였다. 반응 혼합물을 추가로 1시간 동안 80℃에서 교반시키고, 계속하여 약 50℃로 냉각시킨 후, 현탁액을 여과하고, 고형물을 탈이온수로 수회 세정한 후 진공의 60 내지 80℃에서 건조시켰다. 수율: 31.8g의 백색분말.
하기 표에 열거된 화합물을 유사한 방식으로 제조하였다.
제조예 4 내지 13
Figure 112006091187017-PCT00001
제조예 4의 특성
외형: 백색 분말
DSC: 400℃ 이하에서는 분해 안됨.
pH: 7.7
전도율: 110μS/cm
잔류 습도: 1.2%
tan δ(1 kHz): 1.1
Ωcm: 1 x 109
BET: 36.4m2/g
입자 크기 분포: d50 = 7㎛, d95 = 17㎛(레이저 광 회절)
용해도: 물, 에탄올, 아세톤, 다이메틸설폭사이드, n-헥산 중 1g/l 미만(20℃)
분산 후 다이에틸 에터 중에서의 평균 입자 크기: 약 150nm
(투과 전자 현미경)
제조예 7의 특성
외형: 백색 분말
DSC: 400℃ 이하에서는 분해 안됨.
pH: 6.7
전도율: 195μS/cm
잔류 습도: 1.4%
tan δ(1 kHz): 1.0
Ωcm: 6 x 109
BET: 33.5m2/g
입자 크기 분포: d50 = 8㎛, d95 = 17㎛(레이저 광 회절)
용해도: 물, 에탄올, 아세톤, 다이메틸설폭사이드, n-헥산 중 1g/l 미만(20℃)
분산 후 다이에틸 에터 중에서의 평균 입자 크기: 약 150nm
(투과 전자 현미경)
적용예 1a
제조예 1의 화합물 1부를 30분에 걸쳐 혼련기를 사용하여 비스페놀 A계 폴리에스터 수지 99부(등록상표 화인 톤(Fine Tone) 382-ES)에 균질하게 혼입시켰다. 그 후 혼합물을 범용 실험실 밀에서 연마시킨 후, 이어서 원심분리 분류기에서 분류시켰다. 25℃/40 내지 60%(상대)의 대기 습도하에 실리콘-코팅된 페라이트 입자(50 내지 200㎛ 크기)를 포함하는 캐리어를 사용하여 바라는 입자 분획(4 내지 25㎛)을 활성화시켰다.
적용예 1b
적용예 1a의 과정을 반복하되, 25℃/90%(상대)의 대기 습도 하에서 토너-캐리어 혼합물을 24시간 동안 저장한 후, 캐리어를 사용하여 토너의 활성화를 실시하였다.
측정은 통상의 q/m 측정대에서 실시하였다. 45㎛의 메시 크기를 갖는 체를 사용하여, 토너가 방출될 경우 캐리어가 포획되지 않도록 하였다. 활성화 기간에 따라 하기 표에 명시된 q/m 값[μC/g]이 측정되었다:
Figure 112006091187017-PCT00002
적용예 2a 내지 13
적용예 1의 과정을 반복하되, 제조예 1로부터의 화합물 대신에 다른 제조예의 화합물을 사용하였다. 적용예에 사용된 화합물은 동일 번호의 제조예에 대응한다.
Figure 112006091187017-PCT00003
적용예 14 내지 19
적용예 1a, 2a, 또는 3a와 동일한 과정을 반복하되, 각 경우에 있어서 1부 대신에, 대응하는 제조예로부터의 특정 화합물 0.5부 또는 2부를 사용하였다.
Figure 112006091187017-PCT00004
적용예 20 내지 25
적용예 1a, 또는 3a와 동일한 과정을 반복하되, 5부의 유기 안료(카본 블랙 등록상표 모굴 엘 캐보트(Mogul L, Cabot); 등록상표 토너 마젠타(Toner Magenta) E 02, 클라리언트(C.I. 피그먼트 레드 122); 등록상표 토너 옐로우(Toner Yellow) HG, 클라리언트(C.I. 피그먼트 옐로우 180))를 부가적으로 또한 혼입하였다.
Figure 112006091187017-PCT00005
적용예 26 내지 28
적용예 1a, 2a 또는 3a의 과정을 반복하되, 정전기적으로 양의 고유 효과를 갖는 2부의 착색제(C.I. 솔벤트 블루 125)를 또한 혼입하였다.
Figure 112006091187017-PCT00006
비교예 A
적용예 1a 및 1b의 과정을 반복하되, 제조예 1로부터의 화합물 대신에, 본 발명에 따른 소수성화 단계를 거치지 않은 대응하는 화합물을 사용하였다.
Figure 112006091187017-PCT00007
높은 대기 습도하에서의 마찰대전성은 본 발명의 생성물의 경우에 비해 크게 열등하였다.
비교예 B
적용예 8a 및 8b의 과정을 반복하되, 제조예 8로부터의 화합물 대신에, 본 발명에 따른 소수성화 단계를 거치지 않은 대응하는 화합물을 사용하고, 토너의 총 중량을 기준으로 2중량%의 분쇄된 왁스(리코왁스 F, 클라리언트)를 결합제 시스템에 첨가하였다.
Figure 112006091187017-PCT00008
높은 대기 습도 하에서의 마찰대전성은 본 발명의 생성물의 경우에 비해 크게 열등하였다. 이것은, 분쇄된 왁스를 별도로 첨가하면 비록 제조예 8보다 훨씬 많은 양을 사용한다고 할지라도 마찰대전면에서 전혀 소수성 효과를 보여 주지 않는다는 것을 의미한다.

Claims (17)

  1. 3가, 2가, 및 선택적으로 1가 금속 양이온 및 하기 화학식 I의 하나 이상의 유기 음이온 A를 함유하는 적층된 금속 수산화물 염에 분산액 중에서 철저하게 혼합하면서 왁스 및 금속 비누로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 소수성 화합물을 금속 수산화물 염을 기준으로 0.2 내지 200중량%의 함량으로 첨가하고, 선택적으로 액체 매질을 제거하고, 생성물을 건조시킨 후 이것을 분말로서 단리함으로써 수득될 수 있는 적층된 금속 수산화물의 소수성 염:
    화학식 I
    X-R-Y
    상기 식에서,
    X는 수소, 하이드록실, 카복실, 설페이토 또는 설포이고;
    Y는 카복실, 설페이토 또는 설포이고;
    R은 2 내지 50개의 탄소 원자를 갖는 지방족, 지환족, 헤테로지환족, 올레핀계, 사이클로올레핀계, 헤테로사이클로올레핀계, 방향족, 헤테로방향족, 방향지방족 또는 헤테로방향지방족 라디칼이되, 하이드록실, 아미노, 할로겐, C1-C22-알킬, C1-C22-알콕시, C1-C22-알킬렌-(CO)-O-(CH2CH2O)0-50-알킬, C1-C22-알킬렌-(CO)-O-(CH2CH2O)0-50-할로알킬, 카복실, 설포, 나이트로 및 사이아노로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기가 존재할 수 있다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    왁스 및 금속 비누로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 소수성 화합물이 금속 수산화물 염을 기준으로 1 내지 200중량%의 함량으로 첨가되는 것을 특징으로 하는, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    금속 수산화물은, 2가 금속 양이온 대 3가 금속 양이온의 몰비가 1,000 내지 0.001인 다중 수산화물인 것을 특징으로 하는, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,
    2가 금속 양이온이 Mg2+, Ca2+, Sr2+, Ba2+, Zn2+, Co2+, Ni2+, Fe2+, Cu2+ 또는 Mn2+인 것을 특징으로 하는, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,
    3가 금속 양이온이 Al3+, Fe3+, Co3+, Mn3+, Cr3+, Sr3+, 또는 B3+인 것을 특징으로 하는, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,
    유기 음이온 A가 벤질산, 살리실산, 벤조산, 나프탈렌다이설폰산, 나프탈렌다이카복실산, 하이드록시나프토산, 락트산, 스테아르산, 아라크산, 베헨산, 에루스산, 옥탄다이카복실산, 데칸다이카복실산(세바스산), 도데칸다이카복실산, 테트라데칸다이카복실산, 헥사데칸다이카복실산, 옥타데칸다이카복실산, 나프탈렌테트라카복실산, 설포석신산(C6-C20)-알킬 모노에스터, 또는 설포석신산 (C6-C22)-플루오로알킬 모노에스터인 것을 특징으로 하는, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항중 어느 한 항에 있어서,
    왁스가 산왁스, 에스터 왁스, 아미드 왁스, 카나우바 왁스, 폴리올레핀 왁스, 폴리올레핀 분해 왁스, 산화된 PE 또는 PP 왁스, 단량체로 그래프팅됨으로써 개질된 PP 왁스, 폴리올레핀메탈로센 왁스, 파라핀 왁스 및 이것의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택되는 화합물인 것을 특징으로 하는, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,
    금속 비누가 포화 또는 불포화된 C7-C43-카복실산, C8-C44-설폰에이트, C8-C44-설페이트, C8-C44-포스페이트, 산왁스, 부분적으로 에스터화된 산왁스, 부분적으로 가수분해된 에스터 왁스 및 산화된 PE의 2가, 3가 또는 4가 금속 염으로 구성되는 군으로부터 선택된 화합물인 것을 특징으로 하는, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  9. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,
    금속 비누가 C8-C44-알킬 에터-설페이트, C8-C44-알킬아미도 에터-설페이트, C8-C44-아르알킬설폰에이트(여기서, 아릴은 C6-C12를 나타내며, 알킬은 C1-C32를 나타냄), C8-C44-알킬 에터-설포석신에이트, C8-C44-N-알킬설포석시나메이트, C8-C44-아실 글루타메이트, C8-C44-지방산 이세싸이오네이트, C8-C44-지방산 메틸타우라이드, C8-C44-지방산 사르코사이드의 2, 3 또는 4가 금속 염으로 구성되는 군으로부터 선택되는 화합물인 것을 특징으로 하는, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항중 어느 한 항에 있어서,
    1,000:1 내지 1:1,000의 Mg:Al를 몰비를 가지며, 유기 음이온으로서 0.1 내지 30중량%의 세바스산 및/또는 0.1 내지 75중량%의 스테아르산을 가지며, 소수성 화합물로서, 각 경우 Mg-Al 이중 수산화물 염의 총 중량을 기준으로 1 내지 150중량%의 몬탄산 왁스, 부분적으로 에스터화된 몬탄산 왁스, 하이드록시스테아르산 에스터 왁스, 에루스산 아미드 왁스, 베헨산 아미드 왁스, 카나우바 왁스, 몬탄산 에스터 왁스, 부분적으로 가수분해된 몬탄산 에스터 왁스, 산화 또는 그래프팅에 의해 극성이 부여된 폴리올레핀 왁스, 포화 또는 불포화된 C7-C43-카복실산, C8-C44-설폰에이트, C8-C44-설페이트, C8-C44-포스페이트, 산왁스, 부분적으로 에스터화된 산왁스, 부분적으로 가수분해된 에스터 왁스 또는 산화된 PE의 Zn, Pb, Sn, TiO, ZrO, Mg, Ca, Sr, Ba, 또는 Al 염을 갖는 Mg-Al 이중 수산화물 염인 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항중 어느 한 항에 있어서,
    0.1 내지 4중량%의 탄산염을 가지며; 5:1 내지 1:5의 Mg:Al의 몰비를 가지며; 0.1 내지 20중량%의 모노- 또는 다이 음이온의 세바스산 및/또는 0.1 내지 50중량%의 스테아르산을 가지며; 각 경우 Mg-Al 이중 수산화물 탄산염의 총 중량을 기준으로 2 내지 100중량%의, 몬탄산 왁스, 몬탄산 에스터 왁스, 부분적으로 가수분해된 몬탄산 에스터 왁스, 하이드록시스테아르산 에스터 왁스, 에루스산 산 아미드 왁스, 베헨산 아미드 왁스, 카나우바 왁스, 산화 또는 그래프팅된 폴리올레핀 왁스로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 왁스, 또는 스테아르산, 아라키산, 베헨산, 에루스산, 도데실황산 또는 코코넛 알킬설폰산의 Mg, Ca, Zn, Al 또는 ZrO염을 갖는 마그네슘-알루미늄 이중 수산화물 탄산염인, 적층된 금속 수산화물의 소수성 염.
  12. 수성, 수성-유기 또는 유기 분산액 중에서 철저하게 혼합하면서 3가, 2가 및 선택적으로 일가 금속 양이온 및 제 1 항에 따른 화학식 I의 유기 음이온 A 하나 이상을 함유한 적층된 금속 수산화물 염에 왁스 및 금속 비누로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 소수성 화합물을 금속 수산화물 염을 기준으로 0.2 내지 200중량%, 바람직하게는 1 내지 200중량%의 함량으로 첨가하고, 선택적으로 액체 매질을 제거하고, 생성물을 건조시킨 후 분말로서 단리시키는 것을 특징으로 하는, 제 1 항 내지 제 11 항중 어느 한 항에 정의된 적층된 금속 수산화물의 소수성 염의 제조 방법.
  13. 수성, 수성-유기 또는 유기 분산액 중에서 철저하게 혼합하면서, 왁스 및 금속 비누로 구성되는 군으로부터 선택되는, 금속 수산화물 염을 기준으로 0.2 내지 200중량%, 바람직하게는 1 내지 200중량%의 함량의 하나 이상의 소수성 화합물의 존재하에서, 3가, 2가 및 선택적으로 일가 금속 양이온을 함유한 적층된 금속 수산화물 염을 제 1 항에 따른 화학식 I의 유기 음이온 A 하나 이상과 반응시키고, 선택적으로 액체 매질을 제거하고, 생성물을 건조시킨 후 분말로서 단리시키는 것을 특징으로 하는, 제 1 항 내지 제 11 항중 어느 한 항에 정의된 적층된 금속 수산화물의 소수성 염의 제조 방법.
  14. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
    금속 비누가 침전에 의해 수성, 수성-유기 또는 유기 분산액 중에서 제조되는 방법.
  15. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,
    소수성 화합물이 20 내지 200℃의 온도에서 용액 또는 수성 분산액으로서 첨가되는 방법.
  16. 전자사진 토너 및 현상제, 분말 코팅, 일렉트렛 물질, 전자 잉크, 전자 종이 및 정전 분리 작동에서 전하 조절제로서의, 제 1 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 정의된 적층된 금속 수산화물의 소수성 염의 용도.
  17. 분말 토너의 유동성 및 전하를 조절하기 위한 전자 사진 토너 및 현상제에서 외부 첨가제로서, 및 오프-셋 방지제로서의 제 1 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 정의된 적층된 금속 수산화물의 소수성 염의 용도.
KR1020067025964A 2004-06-11 2005-05-06 적층된 금속 수산화물의 소수성 염 KR20070032678A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004028493.8 2004-06-11
DE102004028493A DE102004028493A1 (de) 2004-06-11 2004-06-11 Hydrophobierte Salze schichtartiger Metallhydroxide
PCT/EP2005/004915 WO2005121258A1 (de) 2004-06-11 2005-05-06 Hydrophobierte salze schichtartiger metallhydroxide

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070032678A true KR20070032678A (ko) 2007-03-22

Family

ID=35124605

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020067025964A KR20070032678A (ko) 2004-06-11 2005-05-06 적층된 금속 수산화물의 소수성 염

Country Status (10)

Country Link
US (1) US7923189B2 (ko)
EP (1) EP1758958B1 (ko)
JP (1) JP4810535B2 (ko)
KR (1) KR20070032678A (ko)
CN (1) CN101048467B (ko)
BR (1) BRPI0511971B1 (ko)
CA (1) CA2569882A1 (ko)
DE (2) DE102004028493A1 (ko)
ES (1) ES2303681T3 (ko)
WO (1) WO2005121258A1 (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080213682A1 (en) * 2007-03-02 2008-09-04 Akinori Saitoh Toner for developing electrostatic image, method for producing the toner, image forming method, image forming apparatus and process cartridge using the toner
JP5178027B2 (ja) * 2007-03-05 2013-04-10 テイカ株式会社 水中で剥離する層状複水酸化物およびその製造法
JP4979497B2 (ja) * 2007-07-26 2012-07-18 旭化成ケミカルズ株式会社 トナー組成物
US20090258307A1 (en) * 2008-04-11 2009-10-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Developer and image forming apparatus
EP2174909A1 (en) * 2008-10-07 2010-04-14 Akzo Nobel N.V. Composition comprising a layered double hydroxide
JP5634252B2 (ja) * 2010-12-22 2014-12-03 キヤノン株式会社 トナー及び二成分系現像剤
JP5867218B2 (ja) * 2012-03-23 2016-02-24 富士ゼロックス株式会社 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法
JP6597326B2 (ja) * 2016-01-13 2019-10-30 富士ゼロックス株式会社 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法
CN106497548B (zh) * 2016-10-21 2019-03-12 北京师范大学 3-羟基-2-萘甲酸/1-辛烷磺酸/LTbH复合体及其合成方法
CN106497550B (zh) * 2016-10-21 2019-03-12 北京师范大学 3-羟基-2-萘甲酸/1-辛烷磺酸/lyh复合体及其合成方法
CN110191926A (zh) 2016-11-15 2019-08-30 Scg化学有限公司 表面改性的层状双氢氧化物
JP2023502668A (ja) * 2019-11-21 2023-01-25 ユニリーバー・アイピー・ホールディングス・ベスローテン・ヴェンノーツハップ 水溶性有益剤の送達を増強するための石鹸バー組成物

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH531989A (de) * 1967-10-12 1972-12-31 Degussa Verfahren zur Herstellung von organisch modifizierten Kieselsäuren und Silikaten
JPS5131235B1 (ko) * 1967-10-12 1976-09-06
US4772434A (en) * 1986-10-03 1988-09-20 The Dial Corporation Soap making process
JPH0285862A (ja) * 1988-09-22 1990-03-27 Canon Inc 電子写真感光体
DE4010606A1 (de) * 1990-04-02 1991-10-10 Henkel Kgaa Verwendung von hydrophobierten hydrotalciten als katalysatoren fuer die ethoxylierung bzw. propoxylierung
JP2682220B2 (ja) * 1990-09-17 1997-11-26 富士ゼロックス株式会社 静電荷像用現像剤
DE4034305A1 (de) 1990-10-29 1992-04-30 Henkel Kgaa Hydrophobierte doppelschichthydroxid-verbindungen, verfahren zur herstellung und ihre verwendung als alkoxylierungskatalysatoren
US5288581A (en) * 1992-05-19 1994-02-22 Xerox Corporation Toner compositions with anionic clay or clay-like charge enhancing additives
JP3338498B2 (ja) * 1993-03-01 2002-10-28 旭電化工業株式会社 合成樹脂組成物
DE4321289A1 (de) 1993-06-26 1995-01-05 Hoechst Ag Elektretfasern mit verbesserter Ladungsstabilität, Verfahren zu ihrer Herstellung, und Textilmaterial enthaltend diese Elektretfasern
EP0615007B1 (de) * 1993-03-09 2004-02-04 Trevira Gmbh Elektretfasern mit verbesserter Ladungsstabilität, Verfahren zu ihrer Herstellung, und Textilmaterial enthaltend diese Elektretfasern
JP2001172608A (ja) * 1999-10-08 2001-06-26 Mizusawa Ind Chem Ltd 極遠赤外乃至遠赤外線吸収複合金属多塩基性塩
DE19957245A1 (de) 1999-11-27 2001-05-31 Clariant Gmbh Verwendung von salzartigen Struktursilikaten als Ladungssteuermittel
CN1164521C (zh) * 2001-11-01 2004-09-01 北京化工大学 一种镁铝型双羟基复合金属氧化物的非平衡制备方法
DE10235571A1 (de) 2002-08-03 2004-02-12 Clariant Gmbh Verwendung von Salzen schichtartiger Doppelhydroxide als Ladungssteuermittel
DE10235570A1 (de) * 2002-08-03 2004-02-19 Clariant Gmbh Verwendung von Salzen schichtartiger Doppelhydroxide
CN1208125C (zh) * 2002-12-10 2005-06-29 合肥工业大学 层状双氢氧化物及其衍生物似方镁石的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
US7923189B2 (en) 2011-04-12
JP4810535B2 (ja) 2011-11-09
DE102004028493A1 (de) 2005-12-29
WO2005121258A1 (de) 2005-12-22
CA2569882A1 (en) 2005-12-22
BRPI0511971A (pt) 2008-01-22
ES2303681T3 (es) 2008-08-16
CN101048467A (zh) 2007-10-03
BRPI0511971B1 (pt) 2017-06-06
EP1758958B1 (de) 2008-04-23
DE502005003851D1 (de) 2008-06-05
JP2008501614A (ja) 2008-01-24
US20080070139A1 (en) 2008-03-20
EP1758958A1 (de) 2007-03-07
CN101048467B (zh) 2011-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20070032678A (ko) 적층된 금속 수산화물의 소수성 염
CA2494652C (en) Use of salts of layered double hydroxides as charge control agents
JP4157525B2 (ja) 層状化複水酸化物の塩の使用
JP2007537120A (ja) 疎水性塩様構造を有するシリケート
JP4607271B2 (ja) 電子写真用トナー及び現像剤、粉末塗料並びにインクジェットインクにおけるキナクリドン系混晶顔料の使用
JP5868817B2 (ja) 静電荷像現像用トナー
KR20070023696A (ko) 소수성 염-유사 구조의 실리케이트
JP2022096559A (ja) 顔料分散体、及びトナーの製造方法
MXPA00006043A (en) Use of improved cyan pigments in electrophotographic toners and developers, powder coatings and inkjet inks

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid