KR20060048549A

KR20060048549A - 패턴 검사 장치

Info

Publication number: KR20060048549A
Application number: KR1020050055637A
Authority: KR
Inventors: 아츠시 미토
Original assignee: 우시오덴키 가부시키가이샤
Priority date: 2004-07-05
Filing date: 2005-06-27
Publication date: 2006-05-18
Also published as: TWI323343B; TW200604516A; CN1721842A; JP4479383B2; JP2006017642A; CN100516847C

Abstract

투과 조명에 의해 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하여 검사하는 장치에 있어서, 폭이 넓은 워크나 휘어짐이나 요철이 생긴 워크이더라도, 워크의 검사하는 개소를 촬상 장치의 초점 심도 내로 유지할 수 있는 패턴 검사 장치를 제공하는 것이다.

띠형상 워크의 폭방향으로 텐션을 부여하는 워크 인장 기구와, 워크 인장 기구에 의해 텐션이 부여된 띠형상 워크를 흡착 유지하는 스테이지를 구비하고, 상기 스테이지는, 띠형상 워크의 양측에 있는 워크 인장 기구의 사이에, 검사하는 패턴의 길이에 따른 간격을 두고 복수 설치한다.

Description

패턴 검사 장치{INSPECTION APPARATUS FOR PATTERN}

도 1은 워크 인장 기구와 스테이지를 도시하는 사시도,

도 2는 도 1의 워크의 반송 방향에서 본 단면도,

도 3은 도 1의 워크의 폭방향에서 본 단면도,

도 4는 도 1의 위쪽 방향에서 본 단면도,

도 5는 스테이지와 지주의 구성의 상세를 도시하는 도면,

도 6은 장변이 긴 스테이지로 교환한 경우의 워크의 유지 수단의 상태를 도시하는 단면도,

도 7은 장변이 긴 스테이지로 교환한 경우의 워크의 유지 수단의 상태를 도시하는 평면도,

도 8은 패턴이 형성된 TAB 테이프의 예를 도시하는 도면,

도 9는 종래의 투과 조명에 의해 패턴의 검사를 행하는 장치의 개략 구성을 도시하는 도면이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1, 1' : TAB 테이프 11 : 제1 그립부

12 : 제2 그립부 13 : 그립용 상부 부재

14 : 그립용 하부 부재 15 : 그립 구동부

16 : 리니어 가이드 20, 20' : 스테이지

21 : 지주 22 : 진공 흡착구멍 또는 홈

23 : 위치 결정 핀 24 : 고정 나사

25 : 장변이 긴 스테이지 30 : 진공 펌프

31 : 압축 에어 32 : 전환 밸브

41, 42 : 협지면 50 : 테이프 인장 기구

51 : 그립 52 : 투과 조명 장치

53 : 촬상 장치 54 : 제어부

55 : 마스터 데이터 101 : TAB 테이프

102 : 수지 필름 103 : 퍼포레이션 홀

110 : 디바이스 홀 111 : 배선 패턴

본 발명은, 띠형상의 워크에 형성된 패턴을 검사하는 장치에 관한 것이며, 예를 들면 테이프 캐리어 방식에 의한 TAB(Tape Automated Bonding) 테이프에 조명광을 조사하여, TAB 테이프 상에 형성된 배선 등의 패턴을, 촬상 수단에 의해 촬상하여 기준 패턴과 비교함으로써 외관 검사를 자동으로 행하는, 패턴 검사 장치에 관한 것이다.

반도체 디바이스는, 고집적화와 고밀도 실장의 요구에 대응하여, 리드의 다( 多)핀화와 미소화가 진행되고 있다. 이 다핀화나 미소화에 유리하기 때문에, 반도체 칩을 필름형상의 TAB 테이프에 설치한 다수의 리드선과 접속하는 방법이 채용되고 있다.

도 8은, 패턴이 형성된 TAB 테이프의 예를 도시하는 도면이다.

상기 도면에서, TAB 테이프(101)는, 두께 20∼150㎛ 정도(대부분은 25∼75㎛)의 수지 필름(102) 상에, 퍼포레이션 홀(103)이 형성되는 폭방향 양측의 에지(edge)를 제외하고, 구리박 등의 금속박이 부착되어, 이 금속박(구리박)을 노광 및 에칭에 의해 가공하여, 배선 등의 패턴을 형성한다.

상기 도면과 같이, TAB 테이프(101)에는, 동일한 회로를 1피스로 하여 복수 연속하여 제작된다. 상기 도면의 내부가 흰 직사각형은, 반도체 칩을 부착하는 개구부(디바이스 홀)(110)이고, 111은 회로의 배선 패턴이다.

이와 같은 TAB 테이프(101)의 제조 공정에서는, 배선 패턴(111)이 정확하게 형성되어 있는지의 여부를 검사할 필요가 있고, 패턴 검사 장치에 의해서 검사가 행해진다.

패턴 검사 장치는, 검사하는 TAB 테이프(101)를 조명광으로 조명하여, 배선 등의 패턴의 상태(외관)를 촬상 장치 또는 눈으로 확인하여 검출하고, 기준 패턴과 비교하여 형성된 패턴의 좋고 나쁨을 판정한다.

최근에는, 미리 검사 장치의 제어부의 기억부에 기준 패턴을 기억시켜 두고, 기억하고 있는 기준 패턴과, 촬상 장치에 의해 촬상한 실제의 패턴을 비교하여, 자동적으로 좋고 나쁨을 판정하는 자동 검사 장치도 이용되도록 되어져 왔다.

패턴을 촬상하기 위해서, TAB 테이프에 대해서 조명광을 조사하는 방법에는, 반사광을 이용하는 방법과, 투과광을 이용하는 방법이 있다.

반사광을 이용하는 방법의 경우에는, TAB 테이프의 배선이 형성되어 있는 면측에서 조명광을 조사하여, 조명광이 조사되는 측에서, TAB 테이프로부터의 반사광에 의한 패턴상을 관찰한다.

한편, 투과광을 이용하는 방법의 경우에는, TAB 테이프에 조명광을 조사하여, 테이프에 대해서 조명광이 조사되는 측과는 반대측에서, TAB 테이프를 투과한 투과광에 의한 패턴상을 관찰한다.

또, 반사 조명광과 투과 조명광의 양쪽을 이용하여, TAB 테이프를 검사하는 것도 제안되어 있다.

예를 들면, 특허문헌 1에 기재된 것은, TAB 테이프를 배선 패턴이 형성되어 있는 표면측에서 조명하는 낙사(落射)(반사) 조명 장치와, 이면측에서 조명하는 투과 조명 장치, 및 낙사(반사) 조명에 의한 패턴의 화상(낙사(반사) 조명 화상)과 투과 조명에 의한 패턴의 화상(투과 조명 화상)을 촬상하는 촬상 장치를 설치하여, 촬상한 낙사(반사) 조명 화상과 투과 조명 화상에 기초하여 패턴의 검사를 행하는 것이다.

도 9에, 종래의 투과 조명에 의해 패턴의 검사를 행하는 장치의 개략 구성을 도시한다.

52는 투과 조명 장치이고, TAB 테이프(101)의 도면 아래쪽에서 조명광을 조사한다. 53은 예를 들면 CCD 카메라와 같은 촬상 장치이고, TAB 테이프(101)에 대 해서 조명광이 조사되는 측과는 반대측(도면 위쪽)에서 TAB 테이프(101)를 투과한 광에 의한 패턴상을 촬상한다.

촬상 장치(53)에 의해 촬상한 패턴의 투과 조명 화상은 제어부(54)에 이송되고, 제어부(54)에서, 미리 기억되어 있는 패턴의 기준 패턴(55)와 비교되어, 좋고 나쁨이 판정된다.

촬상 장치(53)에 의해 투과 조명 화상을 촬상할 때, 촬상한 화상이 흐릿해져서 있어서는 검사할 수 없다. 그 때문에, TAB 테이프(101)의 검사하는 개소를 촬상 장치(53)의 초점 심도 내로 유지해 둘 필요가 있지만, TAB 테이프(101)는, 두께가 얇은 것은 자중에 의해 휘어지거나, 배선 패턴을 형성하는 노광, 현상, 에칭의 공정에서 휘어짐이나 요철이 발생하거나 하는 경우가 있다.

따라서, 테이프에 생긴 휘어짐이나 휨 요철을 교정하여 평면으로 유지하기 위한 수단이 필요해지지만, 투과 조명에 의해 검사를 행하기 위해서는, 불투명한 스테이지를 투과 조명의 광로 내로 배치할 수 없다.

따라서, 특허문헌 1에 나타낸 장치에서는, 테이프의 반송 방향에 대해서는, 테이프를 반송하는 기구에 의해 텐션(tension)을 걸고, 테이프의 폭방향(반송 방향에 대한 직각 방향)에 대해서는, 테이프의 양 에지를 협지(挾持)하여 폭방향으로 잡아 당기는 테이프 인장 기구(50)에 의해 텐션을 걸어, TAB 테이프(101)의 검사하는 개소를 촬상 장치(53)의 초점 심도 내로 유지하고 있다.

(특허문헌 1) 일본국 특개 2004-28597

종래, TAB 테이프의 폭은 30㎜의 것이 주류이었지만, 최근에는 70㎜∼160㎜와 같은 폭이 넓은 테이프를 사용하여, 1개의 테이프에 복수열의 패턴을 형성하는 것과 같은 프로세스도 채용되도록 되어져 왔다. 이 때문에, 검사 장치도 다양한 폭의 TAB 테이프에 대응할 수 있도록 하는 것이 바람직하지만, 테이프의 폭이 넓어짐에 따라서, 다음과 같은 문제나 발생하게 되었다.

상기 종래예에 나타낸 바와 같은, 테이프를 잡아 당겨 평면으로 유지하는 경우, 테이프의 폭이 넓어짐에 따라서, 보다 강한 힘으로 폭방향으로 잡아 당기지 않으면 안된다. 그러나, 테이프의 폭방향으로 텐션을 거는 테이프 인장 기구(50)는, 그립(51)에 의해 테이프의 에지만을 협지하는 구조이기 때문에, 충분한 텐션을 부여하는 것이 어려워진다.

특히, 노광, 현상, 에칭의 공정을 복수회 반복하여 패턴을 형성한 TAB 테이프의 경우, 테이프에 생긴 휘어짐이나 요철은 크고 또 강고하게 되어, 테이프의 에지를 협지하여 잡아 당기는 것 만으로는, TAB 테이프의 검사하는 개소를, 촬상 장치의 초점 심도 내로 유지할 수 있을 정도로 충분한 평면으로 하는 것이, 점점 더 곤란해진다.

또, 도 9에 도시되는 바와 같이, TAB 테이프(101)가 반송될 때, 테이프의 에지는, 테이프 인장 기구(50)의 테이프를 협지하기 위한 그립(51)의 사이를 반송되지만, 테이프의 폭이 넓어짐에 따라서, 테이프 에지는, 점선으로 나타내는 바와 같이, 그립(51) 사이로부터의 탈락이 빈번하게 발생하게 되었다.

테이프 에지가 탈락해 버리면, 그립(51)은 에지를 협지할 수 없기 때문에, 테이프 인장 기구(50)는 테이프에 텐션을 걸 수 없게 된다.

테이프의 폭이 종래의 30㎜ 정도일 때에는, 그립(51)의 사이로부터의 탈락은 발생하지 않았지만, 폭이 70㎜ 이상이 되면, 테이프 자중 휘어짐에 의해, 탈락하기 쉬워지는 것으로 생각된다.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 투과 조명에 의해 패턴의 검사를 행하는 장치에 있어서, 폭이 넓은 워크나, 휘어짐이나 요철이 생긴 워크이더라도, 검사하는 개소를 촬상 장치의 초점 심도 내로 유지할 수 있고, 또, 반송 중에, 워크의 에지가, 상기 에지를 협지하여 텐션을 부여하는 워크 인장 기구로부터 탈락하지 않는 패턴 검사 장치를 제공하는 것이다.

상기 과제를 본 발명에서는, 다음과 같이 하여 해결한다.

필름형상의 띠형상 워크에 형성된 패턴을, 투과 조명광에 의해 촬상하여, 상기 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 폭방향으로 텐션을 부여하는 워크 인장 기구와, 상기 띠형상 워크를 흡착 유지하는 스테이지를 구비한다.

이 스테이지는, 장변이 띠형상 워크의 폭방향에, 단변이 길이방향에 대응하는 직사각형상이고 복수 설치한다.

스테이지의 표면에는, 워크를 흡착 유지하기 위한 진공 흡착구멍 또는 홈이 형성되어 있다. 패턴을 촬상할 때에는, 워크 인장 기구에 의해 텐션이 부여된 띠형상 워크의, 검사하는 개소의 반송 방향 상류측과 하류측의 부분이, 이 스테이지 에 흡착 유지된다. 따라서, 띠형상 워크에 휘어짐이나 요철이 발생하고 있었다고 해도, 검사하는 개소를 촬상 장치의 초점 심도 내로 유지할 수 있다.

또, 스테이지는, 띠형상 워크의 양측에 있는 워크 인장 기구의 사이에, 검사하는 패턴의 띠형상 워크 길이방향의 길이에 따른 간격을 두고 복수 설치하기 때문에, 검사를 향하는 개소에는, 스테이지와 스테이지의 사이로부터, 투과 조명광을 조사할 수 있다.

또한, 스테이지는 교환 가능하게 하고, 장변의 길이가 다른 것을 준비해 두면, 검사를 행하는 띠형상 워크의 폭에 따라서 교환함으로써, 폭이 다른 띠형상 워크의 검사도 가능해진다.

또한, 스테이지에는, 띠형상 워크를 흡착 유지하기 위한 진공원과 에어를 공급하는 에어원(源)이 접속되어, 전환 밸브에 의해, 스테이지에 공급하는 진공과 에어를 전환한다.

띠형상 워크를 반송할 때, 전환 밸브에 의해 스테이지에 공급되는 진공을 에어로 전환하고, 스테이지의 진공 흡착구멍 또는 홈으로부터 에어를 내뿜는다. 이것에 의해, 워크의 반송 중, 폭이 넓은 워크이더라도, 자중에 의한 휘어짐을 방지하여, 워크의 에지가 워크 인장 기구로부터 탈락하는 것을 방지할 수 있다.

또, 띠형상 워크의 이면이 스테이지 표면과 스쳐, 워크 이면에 상처가 생기는 것을 방지할 수 있다.

이하에, 도면에 기초하여 본 발명의 실시예의 형태를 구체적으로 설명한다.

도 1은 검사 장치에서의, 워크의 유지 수단이 되는 워크 인장 기구(10)와 스 테이지(20)를 도시하는 사시도, 도 2는 도 1의 화살표 A(워크의 반송) 방향에서 본 단면도, 도 3은 도 1의 화살표 B(워크의 폭) 방향에서 본 단면도, 도 4는 도 1의 화살표 C(위쪽) 방향에서 본 평면도이다.

또한, 검사를 행하는 회로 패턴이 형성된 띠형상 워크인 TAB 테이프(1)는, 도 1 및 도 2에서 점선으로 표시되고, 도 1에서 화살표 G로 나타낸 방향으로, 도시하지 않은 드라이브 롤러와 브레이크 롤러의 조합에 의해 반송된다.

이들의 도면에서, 11, 12는 TAB 테이프(1)를 협지하는 제1 및 제2 그립부이고, 띠형상 워크인 TAB 테이프(1)의 양측에 설치된다. 13, 14는 그립용 상부 부재 및 그립용 하부 부재이고, 그립용 상부 부재(13)의 협지면(41)과 그립용 하부 부재(14)의 협지면(42)에 의해 TAB 테이프(1)의 에지를 협지한다.

15는 그립 구동부이고, 그립용 상부 부재(13)를 상하로 이동시킨다. 이것에 의해 TAB 테이프(1)의 에지는 협지 또는 개방된다.

16은 리니어 가이드이고, 제2 그립부(12)는, 리니어 가이드(16) 상을 도시하지 않은 구동 수단에 의해 자유롭게 이동한다. 제1 그립부(11)와 제2 그립부(12)가 TAB 테이프(1)를 협지한 상태로, 제2 그립부(12)가 리니어 가이드(16) 상을 TAB 테이프(1)의 폭을 넓히는 방향으로 이동함으로써, TAB 테이프(1)에 텐션이 걸린다. 또한, 제1 그립부(11)는, 장치의 기대(基臺)에 고정되어 있고 이동하지 않는다.

워크 인장 기구(10)는, 이들의 제1, 제2 그립부(11, 12), 그립부의 그립용 상부 부재 및 하부 부재(13, 14), 그립 구동부(15), 리니어 가이드(16) 등에 의해 구성되어 있다.

20, 20'는 스테이지이고, 워크 인장 기구(10)에 의해 텐션이 걸린 TAB 테이프(1)를 흡착 유지한다. 스테이지(20)는 직사각형상으로, 장변를 TAB 테이프(1)의 폭방향으로, 단변을 테이프의 길이방향으로 대응시켜, 제1 그립부(11)와 제2 그립부(12)의 사이에 복수 설치된다.

스테이지(20과 20')를 설치하는 간격은, TAB 테이프(1) 상에 형성되어 있는 1개의 회로 패턴(도 8에 점선으로 둘러싸인 1피스)의, 테이프 길이방향의 길이보다도 길게 한다.

이 간격으로 설치된 스테이지(20과 20')의 사이에서, 검사를 행하는 TAB 테이프에 대해서 투과 조명광이 조사된다.

또한, 회로 패턴의 테이프 길이방향의 길이는, 제작되는 회로의 종류에 따라 다르지만, 현재 상태로는 긴 것이라도 50㎜ 정도이기 때문에, 그 이상의 간격이면 문제없다. 본 실시예에서는, 스테이지(20과 20')는 약 100㎜의 간격으로 설치하였다.

또, 스테이지(20)의 표면은 정밀도가 좋은 평면 가공이 이루어져 있고, TAB 테이프(1)의 이면을 흡착하여 유지하기 위한 진공 흡착구멍 또는 홈이 형성되어 있다.

또, 스테이지(20)의 표면의 높이 방향의 위치는, TAB 테이프(1)의 투과 조명 화상을 촬상하는 촬상 장치(도시하지 않음)의 초점 위치가 되도록, 지주(21)에 의해 지지되어 있다.

도 5는, 스테이지(20)와 지주(21)의 구성의 상세를 도시하는 도면이고, 테이 프의 반송 방향에서 본 단면도이다.

도 5(a)에 도시하는 바와 같이, 스테이지(20)는 지주(21)에 대해서, 위치 결정 핀(23)에 의해 위치 결정되어, 고정 나사(24)에 의해 고정된다.

상기한 바와 같이, 스테이지(20)의 표면에는 진공 흡착구멍 또는 홈(22)이 형성되어 있고, 지주(21)를 통해서, TAB 테이프(1)를 흡착 유지하기 위한 진공이 공급된다.

스테이지(20)는, 도 5(b)에 도시하는 바와 같이, 분리 가능하고, 도 5(c)에 도시하는 바와 같이, 폭이 넓은 TAB 테이프에 대응한 장변이 긴 스테이지(25)로 교환할 수 있다.

도 6 및 도 7은, 장변이 긴 스테이지(25)로 교환한 경우의 워크의 유지 수단의 상태를 도시하는 도면이다. 도 6은 도 3과 동일 방향에서 본 단면도, 도 7은 도 4과 동일 방향에서 본 평면도이다.

제2 그립부(12)를, 도면 중 화살표 방향으로 이동시키고, 제1 그립부(11)와의 간격을 넓혀, 폭이 넓은 TAB 테이프(1')에 대응한 스테이지(25)를 지주(21)에 부착한다.

도 5(c)로 되돌아가서, 지주(21)를 통해서 스테이지(20이나 25)에 진공을 공급하는 배관에는, 진공을 공급하는 진공원인 진공 펌프(30)뿐만 아니라, 에어원인 압축 에어(31)도 접속되어 있고, 장치의 제어부가 전환 밸브(32)를 전환함으로써, 스테이지(20이나 25)에 에어를 공급할 수 있다. 에어가 공급되면, 스테이지(20이나 25)의 진공 흡착구멍 또는 홈(22)으로부터는 에어가 내뿜어진다(백 블로우(back blow)된다).

다음에, 워크 인장 기구(10)와 스테이지(20)의 동작에 대해서 설명한다.

검사를 행하는 TAB 테이프(1)의 폭에 맞추어, 인장 기구(10)의 제2 그립부(12)를, 리니어 가이드(16) 상에서 이동시켜, 제1 그립부(11)와의 간격을 설정한다. 즉, 도 2에 도시하는 바와 같이, TAB 테이프(1)의 에지 부분이, 그립용 상부 부재(13)의 협지면(41)과 그립용 하부 부재(14)의 협지면(42)의 사이에 있지만, 그립용 하부 부재(14)의 단차의 측면(43)에는 접촉되지 않는 간격으로 한다. 테이프폭이 넓어지면, 도 6과 같이, 간격이 넓어지도록 제2 그립부(12)를 이동시킨다.

TAB 테이프(1)는, 도시하지 않은 드라이브 롤러와 브레이크 롤러의 조합에 의해, 도 1의 화살표 G방향으로 반송된다. 이 때, 스테이지(20, 20')에는 에어원으로부터 압축 에어(31)가 공급되고, 진공 흡착구멍 또는 홈(22)으로부터는, 에어가 백 블로우된다. 이것에 의해, TAB 테이프(1)는 스테이지(20, 20')에 대해서 부상한다.

도 2는, TAB 테이프(1)가, 에어의 백 블로우에 의해 스테이지(20)에 대해서 부상하고 있는 상태를 도시하고 있다. 상기 도면에 도시하는 바와 같이, TAB 테이프(1)는 스테이지(20)에 대해서 부상하지만, 동시에 테이프의 에지 부분도 그립용 하부 부재(14)의 협지면(42)에 대해서 부상한다.

이와 같이, 스테이지(20, 20')로부터 에어가 백 블로우됨으로써, TAB 테이프(1)에는 들어 올려지는 힘이 작용하기 때문에, 자중에 의한 느슨함이 발생하지 않고, 따라서, 테이프의 에지는, 제1 및 제2 그립부(11, 12)의 그립용 상부 부재(13) 의 협지면(41)과 그립용 하부 부재(14)의 협지면(42)의 사이에 유지되어, 이 사이에서 탈락하지 않고 반송된다.

검사를 행하는 회로의 배선 패턴의 개소가, 스테이지(20, 20')의 사이에 반송되면, TAB 테이프(1)의 반송이 정지하여, 드라이브 롤러와 브레이크 롤러에 의해, 테이프 길이 방향에 대해서 텐션이 걸린다.

한편, 테이프의 폭방향에 관해서는, 그립 구동부(15)에 의해 그립용 상부 부재(13)가 하강하여, 테이프의 에지가 그립용 상부 부재(13)의 협지면(41)과 그립용 하부 부재(14)의 협지면(42)에 의해 협지되어, 제2 그립부(12)가 리니어 가이드(16) 상을 테이프 폭방향(도 2에서의 화살표 P방향)으로 이동함으로써 텐션이 걸린다.

스테이지(20, 20')에는, 전환 밸브(32)가 전환됨으로써, 압축 에어(31)로 바뀌어 진공 펌프(30)로부터 진공이 공급되고, 길이 방향으로도 폭방향으로도 텐션이 걸린 TAB 테이프(1)의 검사를 행하는 회로의 주변부, 즉 검사하는 개소의 반송 방향 상류측과 하류측의 부분이 흡착 유지된다.

이것에 의해, TAB 테이프(1)는 평면으로 유지된다. 상기한 바와 같이, TAB 테이프는 노광, 현상, 에칭 등의 각 공정에 의해 휘어짐이나 요철이 발생하고 있는 경우가 많지만, 이와 같이 검사를 행하는 회로 패턴의 주변을 스테이지(20, 20')에 유지시킴으로써 휘어짐이나 요철이 교정되어, 검사를 행하는 회로의 배선 패턴의 부분을, 촬상 장치의 초점 심도 내로 유지할 수 있다.

이 상태에서, 스테이지(20과 20')의 사이에서, TAB 테이프(1)에 대해서 투과 조명광이 조사된다. 촬상 수단이, 테이프를 투과한 광을 수광함으로써, 배선 패턴의 투과 조명 화상이 촬상된다.

장치의 제어부는, 촬상한 배선 패턴의 투과 조명 화상과, 미리 기억해 둔 기준 패턴을 비교하여 좋고 나쁨을 판정한다.

배선 패턴의 촬상이 종료하면, 그립 구동부(15)에 의해 그립용 상부 부재(13)가 상승하여, TAB 테이프(1)의 에지가 개방된다. 또, 전환 밸브(32)가 전환되어, 스테이지(20, 20')에는 진공으로 바뀌어 에어가 공급된다. 스테이지(20, 20')로부터는 에어가 백 블로우되어, 드라이브 롤러에 의한 테이프의 반송이 재개된다.

또한, 상기한 바와 같은 워크 인장 기구와 스테이지를 조합한 워크 유지 수단을, 1대의 검사 장치에 복수 설치함으로써, 테이프의 복수 개소의 회로의 패턴을 동시에 검사할 수 있다.

이상, 본 실시예는, 검사를 행하는 띠형상 워크으로서 TAB 테이프를 예로 하여 설명하였지만, 그 이외의 띠형상 워크, 예를 들면 플렉시블 프린트(FPC) 기판의 검사를 행하는 경우에도, 동일하게 적용할 수 있다.

본 발명에서는, 이하의 효과를 얻을 수 있다.

띠형상 워크를 흡착 유지하는 스테이지를 설치하였기 때문에, 워크 인장 기구에 의해 텐션이 부여된 띠형상 워크를 스테이지에 흡착 유지함으로써, 띠형상 워크에 휘어짐이나 요철이 발생하고 있었다고 해도, 패턴을 검사하는 개소를 촬상 장치의 초점 심도 내로 유지할 수 있다.

스테이지는, 장변이 띠형상 워크의 폭방향에, 단변이 길이방향에 대응하고 있기 때문에, 검사하는 패턴의 띠형상 워크 길이방향의 길이에 따른 간격을 두고 복수 설치함으로써, 스테이지와 스테이지의 사이에서 띠형상 워크에 대해서 투과 조명광을 조사할 수 있다.

또, 스테이지가 교환 가능하기 때문에, 장변의 길이가 다른 스테이지를 준비해 두면, 검사를 행하는 띠형상 워크의 폭에 따라서 교환함으로써, 1개의 장치로 폭이 다른 띠형상 워크의 검사를 행할 수 있다.

또한, 스테이지에는, 띠형상 워크를 흡착 유지하기 위한 진공원과 에어를 공급하는 에어원이 접속되어, 전환 밸브에 의해, 스테이지에 공급하는 진공과 에어를 전환할 수 있기 때문에, 띠형상 워크의 반송시, 스테이지로부터 에어를 내뿜음으로써, 워크의 자중에 의한 휘어짐을 방지하여, 워크의 에지가 워크 인장 기구로부터 탈락하는 것을 방지할 수 있다.

Claims

필름형상의 띠형상 워크에 형성된 패턴을, 투과 조명광에 의해 촬상하여, 상기 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서,

상기 띠형상 워크의 폭방향으로 텐션을 부여하는 워크 인장 기구와, 상기 띠형상 워크를 흡착 유지하는 스테이지를 구비하고, 상기 스테이지는, 장변이 띠형상 워크의 폭방향에 단변이 길이방향에 대응하는 직사각형상이고, 복수 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.
제1항에 있어서, 상기 스테이지는, 교환 가능한 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 스테이지에는, 상기 띠형상 워크를 흡착 유지하기 위한 진공원과 에어를 공급하는 에어원이 접속되고, 상기 스테이지에 공급되는 진공과 에어는, 전환 밸브에 의해 전환되는 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.