KR100605451B1 - 패턴 검사 장치 - Google Patents

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KR100605451B1
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나가모리신이치
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우시오덴키 가부시키가이샤
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Abstract

투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 실현함과 동시에, 1개의 장치에서 반사광에 의한 검사와 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 제공한다.
필름형의 띠형상 워크(1)에 형성된 패턴을 촬상(撮像)하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크(1)의 한쪽 면측으로부터 조사하는 제1의 조명 수단(6)과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측으로부터 조사하는 제2의 조명 수단(7)과, 상기 띠형상 워크(1)의 한쪽 또는 다른 쪽의 면에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단(8)과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단(22)을 구비한 것을 특징으로 한다.

Description

패턴 검사 장치{PATTERN INSPECTION APPARATUS}
도 1은 본 실시 형태의 발명에 관한 검사 장치의 구성을 도시하는 사시도,
도 2는 도 1에 도시한 검사 장치에 있어서 낙사 조명 장치(6), 투과 조명 장치(7), 및 촬상 장치(8)의 부분을 확대하여 도시한 단면도,
도 3은 도 1에 도시한 검사 장치에 있어서의 TAB 테입(1)의 폭 방향의 인장 기구를 도시하는 사시도,
도 4는 도 3에 도시한 그립용 액추에이터(15)의 부분을 확대하여 도시한 사시도,
도 5는 패턴 검사 장치 내에 설치되는 제어 장치에 의해 제어되는 검사 장치 각 부와의 제어 관계를 도시하는 도면,
도 6은 낙사 조명 장치(6)에 의해서 조명되어 있는 상태로, 촬상 장치(8)가 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동하면서, 피검사 패턴을 촬상하는 상태를 도시하는 도면,
도 7은 투과 조명 장치(7)에 의해서 조명되어 있는 상태로, 촬상 장치(8)가 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동하면서, 피검사 패턴을 촬상하는 상태를 도시하는 도면,
도 8은 본 실시 형태에 관한 패턴 검사 장치에 있어서의 양부 판정의 순서를 도시하는 도면,
도 9는 양부 판정을 설명하기 위한 도면,
도 10은 필름형의 TAB 테입의 일부를 도시하는 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1 : TAB 테입 2 : 반송용 롤러
3 : 브레이크 롤러 4 : 테입 롤러
5 : 피검사 패턴 6 : 낙사 조명 장치
61: LED 62: 필터
63: 렌즈 7 : 투과 조명 장치
8 : 촬상 장치 81: CCD 라인 센서
9 : 관찰창 10: 베이스 플레이트
11: 슬라이드 플레이트 12: 모터
13: 볼 나사 14: 프레임
15: 그립용 액추에이터 151: 모터
152: 경사 부재 153: 회전 이동 부재
16: 그립용 상측 부재 17: 그립용 하측 부재
18: 슬라이드용 액추에이터 19: 슬라이드 플레이트
20: 슬라이드 플레이트 스토퍼 21: 제어 장치
22: 테입 인장 기구 23: 테입 반송 기구
24: 불량품 펀치 기구 25: 마스터 데이터
본 발명은, 패턴 검사 장치에 관한 것으로, 특히, 테입 캐리어 방식에 의한 TAB(Tape Automated Bonding) 테입의 상하로부터 조명광을 조사하여, TAB 테입 상에 형성된 집적 회로 등의 회로 패턴을 자동 검사하는 패턴 검사 장치에 관한 것이다.
반도체 디바이스는, 고집적화와 고밀도 실장의 요구에 대응하여 리드의 다핀화와 미소화가 진행되고 있다. 이 다핀화와 미소화에 유리한 것으로부터, 반도체 칩을 필름형의 TAB 테입에 설치한 다수의 리드선과 접속하는 방법이 채용되고 있다.
도 10은, 필름형의 TAB 테입의 일부를 도시하는 도면이다.
동 도면에 있어서, TAB 테입(101)은, 두께 20∼150μm 정도, 폭 35∼165mm 정도의 유기 화합물의 필름 상에 동박 등의 금속 박을 붙여 부착한 것으로, 그 내부에는, 반도체 칩의 외경보다도 큰 개구부(102)가 설치되고, 개구부(102) 주변에는, 반도체 칩을 외부 회로 등과 전기적으로 접속하기 위한 회로 패턴이 형성되어 있다. 회로 패턴의 일단은, 반도체 칩과 접속하기 위해서 개구부(102)의 측변으로부터 안쪽으로 향하게 하여, 허공에 뜬 상태에서 리드가 노출하는 플라잉 리드(103)가 형성되고, 회로 패턴의 타단은, 외부 회로 등과 접속하기 위해서 개구부(102)의 측변으로부터 바깥쪽으로 향하게 하여 노출하는 아우터 리드(104)가 형 성되어 있다.
개구부(102)의 주변부의 플라잉 리드(103)의 부분으로부터 아우터 리드(104)까지의 사이에 있는 회로 패턴은, 포토 솔더 레지스트(105) 등의 보호막이 도포되어 있다.
이러한 TAB 테입(101)의 제조 공정에서는, 상기의 플라잉 리드(103)의 부분, 아우터 리드(104)의 부분, 포토 솔더 레지스트(105)의 부분의 각각의 회로 패턴이 정확하게 형성되어 있는지의 여부를 검사해야 할 필요가 있어, 패턴 검사 장치가 이용되고 있다.
패턴 검사 장치는, 검사하는 TAB 테입(101)에 조명광을 조사하여, 회로 패턴의 상태를 촬상 장치 또는 눈으로 검출하여, 기준 패턴과 비교하여 회로 패턴의 양부를 판정하는 것이다.
예컨대, 포토 솔더 레지스트(105) 등의 보호막이 소정의 개소에 정확하게 형성되어 있는지, 긁힘 등은 없는지, 또한 불필요한 곳에 형성되어 있지는 않은지, 배선 도금의 얼룩 또는 더러워짐은 없는지 등이, 낙사광에 의한 조명광을 반사시켜 검사하고 있다. 이 경우, TAB 테입(101)을 평면도가 좋은 스테이지에 유지하고, TAB 테입(101)의 위쪽으로부터 조명광을 조사하여, 그 반사광에 의한 회로 패턴상을 TAB 테입(101) 상에 설치한 촬상 장치에 의해 촬상하여 화상 처리하고 있다. 화상 처리된 회로 패턴상은 기준이 되는 회로 패턴과 비교되어 양부가 판정된다.
한편, 회로 패턴 배선의 결락, 단선, 쇼트, 팽창 등에 관해서는, 투과광에 의한 조명광에 의해서 검사하고 있다. 특히, 포토 솔더 레지스트(105) 등의 보호 막이 도포된 부분의 회로 패턴은, TAB 테입(101)의 위쪽으로부터 조명광을 조사하고, 그 반사광에 의한 회로 패턴상을 촬상 장치에 의해 촬상하여 화상 처리하더라도, 콘트라스트가 나타나지 않아 검출할 수 없다. 따라서, 통상적으로, 포토 솔더 레지스트(105) 등의 보호막이 도포된 부분의 회로 패턴을 검출할 경우, TAB 테입(101)의 아래쪽으로부터 조명광을 조사하고, TAB 테입(101)을 투과한 투과광에 의한 회로 패턴상을 TAB 테입(101)의 위쪽에 설치한 촬상 장치에 의해 촬상하여 화상 처리한다.
따라서, 1개의 TAB 테입의 검사를 하기 위해서는, TAB 테입을 위쪽으로부터 조명하는 조명 장치를 구비한 검사 장치와, TAB 테입을 아래쪽으로부터 조명하는 조명 장치를 구비한 검사 장치의 두 종류의 검사 장치를 필요로 하고 있다.
상하 양방향으로부터 워크를 조사하여 검사하는 검사 장치로서는, 예컨대, 일본국 특개평11-312241호, 특개 2001-21333호가 알려져 있다.
상기의 공지 기술에 도시되는 것과 같은 검사 장치를 이용하면, 두 종류의 검사 장치가 필요하지 않게 된다.
그러나, TAB 테입의 검사 장치에 관해서는, 이하에 도시하는 바와 같은 문제점이 있고, 상기와 같은 검사 장치는 실현되어 있지 않다.
TAB 테입으로부터의 반사광 또는 투과광을 촬상 장치로 촬상할 경우, TAB 테입을 검사하는 위치가, 촬상 장치의 초점 심도 범위 내에 없으면 흐릿해져 검사할 수 없게 된다. 따라서, 상술한 바와 같이, 반사광에 의해 검사할 경우는, TAB 테 입을 평면도가 좋은 스테이지에 진공 흡착 등에 의해 유지하여 검사하고 있다.
그러나, 투과에 의해 검사하고자 하는 경우는, TAB 테입을 스테이지에 유지한 상태에서는 아래쪽으로부터의 조명을 할 수 없다. 따라서, 스테이지를 이용하지 않고, 테입을 반송하는 기구에 의해 텐션을 가해서 평면을 유지하는 방법을 생각할 수 있다.
통상적으로, 검사 장치나 노광 장치에 있어서 TAB 테입을 반송할 경우, TAB 테입은 롤러 사이에 끼워져 롤러가 회전하는 것에 의해 반송된다. 이들의 장치에서는, 반송 하류 측에 반송용 롤러가, 상류 측에 브레이크 롤러가 설치되어, 사행이나 슬립이 생기지 않도록 반송되고 있다. 이 반송용 롤러와 브레이크 롤러와의 작용에 의해, TAB 테입에 반송 방향을 따른 텐션을 부여하고 있다.
그러나, 이와 같이 TAB 테입의 반송 방향으로 텐션을 부가하는 것만으로는, TAB 테입의 폭 방향(반송 방향에 대한 직각 방향)의 휘어짐은 보정되지 않는다.
TAB 테입은, 수지인 필름형의 테입 기판 표면에, 팽창 계수가 다른 금속막 등이 형성되어, 열처리되고 있다. 따라서, 테입의 폭 방향으로 휘어짐이 발생하는 경우가 많다.
또한, 반송 방향만의 텐션으로는, 장치의 진동 등에 의한 테입의 상하 진동을 막을 수도 없다. 이 테입 폭 방향의 휘어짐이나 진동이 촬상 장치의 초점 심도보다 커지면, 촬상된 화상은 핀트가 흐릿해진 상태가 되어, 화상 처리를 할 수 없고, 회로 패턴의 양부의 판정을 할 수 없다.
따라서, 투과광에 의해, TAB 테입 상의 회로 패턴을 검사하는 경우는, 촬상 장치를 이용하여 화상 처리하는 것에 의한 자동 검사 장치에서의 실현은 곤란하므로, 투과광을 눈으로 관찰하여, 테입의 휘어짐이나 진동에 따라 핀트를 수동으로 조절하면서 검사하는 방법이 채용되고 있다.
즉, 반사광에 의한 검사는, 자동 검사 장치에 의한 검사는 가능하지만, 투과광에 의한 검사는 자동 검사 장치에 의한 검사를 할 수 없고, 또한 반사광과 투과광에 의한 양자의 검사를 합체한 검사 장치는 실현되어 있지 않다.
본 발명의 목적은, 상기의 문제점을 감안하여, 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 실현함과 동시에, 1개의 장치로 반사광에 의한 검사와 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은, 상기의 과제를 해결하기 위해서, 다음과 같은 수단을 채용하였다.
제1의 수단은, 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측에 배치되어 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.
제2의 수단은, 제1의 수단에 있어서, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
제3의 수단은, 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 제1의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측으로부터 조사하는 제2의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 한쪽 또는 다른 쪽 면측에 배치되어 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.
제4의 수단은, 제3의 수단에 있어서, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 제1의 조명 수단 및 제2의 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 한 실시 형태를 도 1 내지 도 9를 이용하여 설명한다.
도 1은, 본 실시 형태의 발명에 관한 검사 장치의 구성을 도시하는 사시도이다.
동 도면에 있어서, 1은 TAB 테입, 2는 촬상 위치의 반송 하류 측에 설치된 반송용 롤러, 3은 촬상 위치의 반송 상류 측에 설치되어, 반송용 롤러(2)와 함께 TAB 테입(1)에 반송 방향으로 텐션을 부여하고, 사행이나 슬립이 생기지 않도록 하여 반송하는 브레이크 롤러, 4는 테입 롤러, 5는 촬상 위치에 있는 피검사(被檢査) 패턴, 6은 TAB 테입(1)의 위쪽에 배치된 낙사(落射) 조명 장치, 7은 TAB 테입(1)의 아래쪽에 배치된 투과 조명 장치, 8은 낙사 조명 장치(6)에 의해 조사되어 TAB 테입(1)으로부터의 반사광 및 투과 조명 장치(7)에 의해서 조사되어 TAB 테입(1)으로부터의 투과광을 수광하는 것에 의해, TAB 테입(1) 상의 피검사 패턴(5)을 촬상하 는 촬상 장치, 9는 낙사 조명 장치(6)를 덮는 커버의 상부에 설치되고, 검사 시, TAB 테입(1)으로부터의 반사광 또는 투과광을 촬상 장치(8)에 통과시키기 위한 관찰창, 10은 베이스 플레이트, 11은 낙사 조명 장치(6), 투과 조명 장치(7) 및 촬상 장치(8)를 지지하는 프레임과 일체로 구성하고, 베이스 플레이트(10)에 대하여 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치된 슬라이드 플레이트, 12는 모터, 13은 모터(12)의 구동에 의해서 회전 이동되어 슬라이드 플레이트(11)를 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동시키기 위한 볼 나사, 14는 슬라이드 플레이트(11)와 일체로 구성되어, 낙사 조명 장치(6), 투과 조명 장치(7) 및 촬상 장치(8)를 지지하는 프레임이다.
도 2는, 도 1에 도시한 검사 장치에 있어서 낙사 조명 장치(6),투과 조명 장치(7) 및 촬상 장치(8)의 부분을 확대하여 도시한 단면도이다.
동 도면에 있어서, 61, 62, 63은 각각 낙사 조명 장치(6)의 커버 내에 설치되는 LED, 필터, 렌즈, 81은 촬상 장치(8)에 설치되어, 그 종축 방향이 TAB 테입(1)의 반송 방향을 따르도록 설치되는 CCD 라인 센서이다.
동 도면에 도시하는 바와 같이, 낙사 조명 장치(6)는, TAB 테입(1)의 위쪽으로부터 조명광을 조사하고, TAB 테입(1)에 조사된 광을 그 표면에서 반사시켜, 관찰창(9)을 통해 촬상 장치(8)의 CCD 라인 센서(81)에 입력시키는 것이다.
한편, 투과 조명 장치(7)에도 낙사 조명 장치(6)와 같은 LED, 필터, 렌즈가 설치되어 있고, 투과 조명 장치(7)는 TAB 테입(1)의 아래쪽으로부터 조명광을 조사하여, TAB 테입(1)에 조사된 광을 TAB 테입(1)을 투과시켜, 관찰창(9)을 통해 촬상 장치(8)의 CCD 라인 센서(81)에 입력시키는 것이다.
도 3은, 도 1에 도시한 검사 장치에 있어서, 워크 유지 수단이 되는 TAB 테입(1)의 폭 방향의 인장 기구를 도시하는 사시도이다.
동 도면에 있어서, 15는 TAB 테입(1)의 양측에 설치되고, TAB 테입(1)을 사이에 끼워 동작하는 그립용 액추에이터, 16, 17은 양자간에 TAB 테입(1)을 사이에 끼우는 그립용 상측 부재 및 그립용 하측 부재, 18은 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 텐션을 부가하기 위해 슬라이드 플레이트(19)를 구동하는 슬라이드용 액추에이터, 19는 그립용 상측 부재(16) 및 그립용 하측 부재(17)를 지지하고, 슬라이드용 액추에이터(18)에 의해서 구동되는 슬라이드 플레이트, 20은 슬라이드 플레이트 스토퍼이다.
도 4는, 도 3에 도시한 그립용 액추에이터(15)의 부분을 확대하여 도시한 사시도이다.
동 도면에 있어서, 151은 모터, 152는 모터(151)의 회전 이동에 의해 도시 화살표 방향(a)으로 이동 가능한 경사 부재, 153은 그립용 상측 부재(16)에 장착됨과 동시에 경사 부재(152) 상을 회전 이동하여, 그립용 상측 부재(16)를 도시 화살표 방향(b)으로 상하 동작시키는 회전 이동 부재이다.
TAB 테입(1)이 반송되고 있는 상태에서는, 그립용 상측 부재(16)는 상승하고 있고, 그립용 상측 부재(16)는 그립용 하측 부재(17)와 핀과 함께, 테입 반송중의 사행을 방지하는 테입 가이드로서 작용한다. TAB 테입(1)의 검사 위치가 촬상 위치까지 이동하면, TAB 테입(1)의 반송을 정지하고, 도 4에 도시하는 바와 같이, 그 립용 액추에이터(15)의 모터(151)가 구동되어, 그립용 상측 부재(16)가 하강한다. 그립용 상측 부재(16)가 하강되면, 그립용 하측 부재(17)와의 사이에서 TAB 테입(1)을 상하로부터 사이에 끼워 유지한다. 그 상태로, 도 3에 도시하는 바와 같이, 슬라이드용 액추에이터(18)를 구동하는 것에 의해, 슬라이드 플레이트(19)와 일체로 구성된 그립용 상측 부재(16)와 그립용 하측 부재(17)는 TAB 테입(1)을 사이에 끼운 상태로 TAB 테입의 폭 방향으로 이동한다. 이것에 의해서 TAB 테입(1)을 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 텐션을 부가할 수 있어, TAB 테입(1)을 좋은 평면도로 유지할 수 있다.
다음으로, 본 실시 형태에 관한 패턴 검사 장치의 검사 동작의 순서를 도 5 내지 도 7을 이용하여 설명한다.
도 5는, 패턴 검사 장치 내에 설치되는 제어 장치에 의해서 제어되는 검사 장치 각 부와의 제어 관계를 도시하는 도면이고, 제어 장치(21)는, 촬상 장치(8), 낙사 조명 장치(6), 테입 인장 기구(22), 투과 조명 장치(7), 테입 반송 기구(23), 불량품 펀치 기구(24) 등에 대하여, 검사 동작의 소정의 타이밍으로 제어 신호를 송신하고, 제어한다. 제어 장치(21)에는, 미리 패턴 검사의 기준이 되는 마스터 데이터(25)가 입력되어 있고, 마스터 데이터(25)에는 낙사 조명에 이용되는 것과 투과 조명에 이용되는 것의 두 가지가 있다.
우선, 제어부(21)에 의해서 테입 반송 기구(23)가 구동되고, TAB 테입(1)이 반송되어, 피검사 패턴(5)이 촬상 위치에 정지한다. 다음에, 테입 인장 기구(22)의 그립용 상측 부재(16), 그립용 하측 부재(17)에 의해서 TAB 테입(1)의 주변부가 사이에 끼워진 상태로 테입의 폭 방향으로 텐션이 부가된다.
다음에, 도 6(a)에 도시하는 바와 같이, 낙사 조명 장치(6)에 의해서 TAB 테입(1) 상의 검사 패턴에 대하여 조명광이 조사된다. 검사 패턴으로부터의 반사광은 촬상 장치(8)의 CCD 라인 센서(81)에서 수광된다.
다음에, 도 6(b)에 도시하는 바와 같이, 낙사 조명 장치(6)에 의한 조명을 하고 있는 상태에서, 프레임(14)이 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동한다. 그 결과, 낙사 조명 장치(6)와 촬상 장치(8)는 모두 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동하고, TAB 테입(1)의 한쪽의 에지(edge)(A)에서 다른 쪽의 에지(B)를 향해 주사하고, 촬상 장치(8)에는, TAB 테입(1)의 에지(A)에서 에지(B) 사이의 피검사 패턴이 촬상된다. 촬상된 피검사 패턴의 정보는, 테입의 폭 방향의 위치에 대응하여 제어부(21)에 기억된다.
촬상 장치(18)에 의한 촬상이 TAB 테입(1)의 에지(B)까지 달하면, 낙사 조명 장치(6)에 의한 조명을 정지하고, 도 7(a)에 도시하는 바와 같이, 투과 조명 장치(7)에 의해서 TAB 테입(1) 상의 검사 패턴에 대하여 조명광이 조사되고, 검사 패턴을 투과한 투과광은 촬상 장치(8)의 CCD 라인 센서(81)에서 수광된다.
다음에, 도 7(b)에 도시하는 바와 같이, 투과 조명 장치(7)에 의한 조명을 하고 있는 상태에서, 프레임(14)이 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동한다. 그 결과, 투과 조명 장치(7)와 촬상 장치(8)는 모두 TAB 테입(1)의 폭 방향으로 이동하고, TAB 테입(1)의 다른 쪽의 에지(B)에서 한쪽의 에지(A)를 향하여 주사하고, 촬상 장치(8)에는, TAB 테입(1)의 에지(B)에서 에지(A) 사이의 피검사 패턴이 촬상된 다. 촬상된 피검사 패턴의 정보는, 먼저와 같이, 테입의 폭 방향으로 위치에 대응하여 제어부(21)에 기억된다.
촬상 장치(8)에 의한 촬상이 TAB 테입(1)의 에지(A)까지 달하면, 투과 조명 장치(7)에 의한 조명을 정지하고, 다시 테입 반송 기구(23)가 구동되어, TAB 테입(1)이 반송되고, 새로운 피검사 패턴(5)이 소정의 촬상 위치에 정지하도록 제어된다.
상기와 같이, 프레임(14), 즉, 촬상 장치(8)의 왕복 이동에 의해 얻은 TAB 테입(1) 상의 피검사 패턴의 반사광에 의한 정보(낙사 조명 이미지)와 투과광에 의한 정보(투과 조명 이미지)의 2개의 정보는, 제어 장치(21) 내에서, 기억되어 있는 각각의 마스터 데이터(25)와 비교하여 양부가 판정된다.
다음에, 본 실시 형태에 관한 패턴 검사 장치에 있어서의 양부 판정의 순서를 도 8 및 도 9를 이용하여 설명한다.
도 8에 도시하는 바와 같이, 상술의 화상 취득 처리에 의해, 낙사 조명 이미지와 투과 조명 이미지가 취득된다. 처음에는, 낙사 조명 이미지와 낙사 조명용의 마스터 데이터(1)가 화상 비교되고, 이어서, 투과 조명 이미지와 투과 조명용의 마스터 데이터(2)가 화상 비교된다. 다음에, 양쪽의 화상 비교의 결과에 따라서 양품, 불량품의 판정이 내려진다.
양쪽의 화상 비교에 있어서, 양쪽 모두 결함(불량)이 없는 경우는, 양품으로 판정되고, TAB 테입(1)은 반송되어 다음 검사 위치가 검사되고, 다음 화상이 취득된다.
양쪽의 화상 비교 결과, 어느 한쪽의 화상 비교에 있어서 불량이 있는 경우는, 불량이라고 된 위치에서 낙사 조명 이미지와 투과 조명 이미지가 비교된다. 예컨대, 도 9(a), (b)는 각각 TAB 테입의 보호 테입 상에 쓰레기(이물질)가 부착된 상태 및 배선 패턴에 팽창이 있는 상태를 도시하고, 도 9(c), (d)에 도시하는 바와 같이, 투과 조명 이미지에 있어서, 패턴의 팽창이 보이는 경우, 이것만으로는 도 9(c), (d)에 도시한 바와 같이, 패턴의 팽창에 의한 것인지, 이면에 쓰레기가 있어서인지는 판정할 수 없다. 이것을 도 9(e, f)에 도시하는 바와 같이, 낙사 조명 이미지에 의하면, 이면에 쓰레기가 있는 경우는 패턴의 팽창은 볼 수 없고, 실제로 패턴의 팽창이 있는 경우만 패턴의 팽창을 볼 수 있다.
따라서, 투과 조명 이미지에 있어서, 패턴의 팽창이 보이는 위치에, 낙사 조명 이미지에서 패턴의 팽창이 보이지 않으면, 그것은 패턴의 팽창이 아니고 이면에 접착된 보호막 상에 있는 쓰레기로 취급하여, 그 크기나 위치가 허용 범위인지를 판별하여 양부를 결정한다. 또한, 낙사 조명 이미지에 있어서도, 패턴의 팽창이 보이면, 그것은 패턴의 팽창으로 취급하고, 그 크기나 위치가 허용 범위인지 아닌지를 판별하여 양부를 판정한다.
불량이 아니다라고 판정되면, TAB 테입은 반송되어, 다음 검사 위치가 검사되고, 불량이라고 판정되면, 불량품 펀치를 위한 처리가 행해져, TAB 테입은 반송되어, 다음 검사 위치가 검사된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 발명에 의하면, 테입 인장 기구를 설치한 것에 의해, TAB 테입을 흡착 유지하는 스테이지를 설치하지 않고, 테입의 휘어짐이나 진동을 촬상 위치의 초점 심도의 범위로 억제할 수 있게 된다. 그 결과, 투과광에 의한 검사라도, 촬상 장치를 이용한 자동 검사를 실현할 수 있게 된다.
또한, 1대의 장치에서, 반사광에 의한 검사와 투과광에 의한 검사를 자동으로 할 수 있기 때문에, 각각의 검사 결과를 화상 처리하여 비교하는 것에 의해, 효율적인 검사나 불량 부분의 검사를 정밀하게 할 수 있게 된다.
청구항 1에 기재된 발명에 의하면, 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비하여, 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 실현하는 것이 가능하게 된다.
청구항 2에 기재된 발명에 의하면, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있어, 촬상 위치가 이동하여도 피검사 패턴에 대하여 조명 수단으로부터 항상 일정한 조명광을 얻을 수 있다.
청구항 3에 기재된 발명에 의하면, 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서, 상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 제1의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측으로부터 조사하는 제2의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 한쪽 또는 다른 쪽 면측에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비하여, 1개의 장치에서 반사광에 의한 검사와 투과광에 의한 검사를 자동 검사하는 패턴 검사 장치를 실현하는 것이 가능하게 된다.
청구항 4에 기재된 발명에 의하면, 상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 제1의 조명 수단 및 제2의 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있어, 촬상 위치가 이동하여도, 피검사 패턴에 대하여 제1의 조명 수단 또는 제2의 조명 수단으로부터 항상 일정하게 조명광을 얻을 수 있다.

Claims (4)

  1. 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서,
    상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.
  3. 필름형의 띠형상 워크에 형성된 패턴을 촬상하고, 이 패턴의 외관을 검사하는 패턴 검사 장치에 있어서,
    상기 띠형상 워크의 한쪽 면측으로부터 조사하는 제1의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 다른 쪽 면측으로부터 조사하는 제2의 조명 수단과, 상기 띠형상 워크의 한쪽 또는 다른 쪽 면측에 배치되어, 상기 띠형상 워크를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 텐션을 부여하는 워크 유지 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 촬상 수단은, 촬상 시에 상기 제1의 조명 수단 및 제2의 조명 수단과 함께 상기 띠형상 워크의 폭 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 검사 장치.
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