KR20060043596A - 그레이톤 마스크 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 차광부, 투광부 및 반투광부를 갖는 그레이톤 마스크로서, 상기 그레이톤 마스크를 이용하여 노광하는 피처리체의 감광성 재료층으로의 노광량을, 상기 차광부와 투광부와 반투광부로 다르게 함으로써, 서로 다른 막두께의 감광성 재료층으로 이루어지는 피처리체의 처리를 수행하기 위한 마스크층을 피처리체상에 얻기 위하여 이용되는 그레이톤 마스크에 있어서,상기 차광부가, 투명기판상에 설치된 차광막 및 그 위에 성막된 반투광막으로 형성되고, 상기 반투광부는, 반투광부에 대응하는 영역을 노출시킨 투명기판상에 성막된 반투광막으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크.
- 제 1항에 있어서,상기 차광막 및 반투광막을, 에칭 특성이 같거나 혹은 비슷한 막재료로 구성하는 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크.
- 제 1항 또는 2항에 있어서,상기 그레이톤 마스크는 차광부와 반투광부가 인접하는 부분을 가지며, 상기 반투광부를 형성하는 반투광막의 막두께가 반투광부에서의 상기 차광부와의 경계 근방에 있어서 다른 반투광부보다도 두꺼운 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크.
- 제 1항 또는 2항에 있어서,상기 피처리체의 처리가 에칭 처리이고, 상기 그레이톤 마스크는 차광부와 반투광부가 인접하는 부분을 가지며, 상기 반투광부에 있어서의 상기 차광부와의 경계 근방에 대응하는 피처리체의 패턴 형상이, 테이퍼 형상인 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크.
- 차광부, 투광부 및 반투광부를 갖는 그레이톤 마스크의 제조방법으로서,투명기판상에 차광막이 형성된 마스크 블랭크를 준비하는 공정과,상기 마스크 블랭크상에 상기 차광부 및 투광부에 대응하는 영역의 레지스트 패턴을 형성하고, 이 레지스트 패턴을 마스크로 하여, 노출된 차광막을 에칭함으로써, 상기 반투광부에 대응하는 영역의 투명기판을 노출시키는 공정과,상기 공정에서 잔존한 레지스트 패턴을 제거하고, 얻어진 기판상의 전면(全面)에 반투광막을 성막함으로써, 반투광부를 형성하는 공정과,상기 차광부 및 반투광부에 대응하는 영역에 레지스트 패턴을 형성하고, 이 레지스트 패턴을 마스크로 하여, 노출된 반투광막 및 차광막을 에칭함으로써, 투광부 및 차광부를 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크의 제조방법.
- 제 5항에 있어서,상기 차광막 및 반투광막을, 에칭 특성이 같거나 혹은 비슷한 막재료로 형성 하고, 동일 에칭액 또는 동일 에칭가스로 처리하는 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크의 제조방법.
- 차광부, 투광부 및 반투광부를 갖는 그레이톤 마스크를 이용하여 피처리체의 감광성 재료층에 노광을 수행하고, 이 피처리체의 감광성 재표층으로의 노광량을 상기 차광부와 투광부와 반투광부로 다르게 함으로써, 서로 다른 막두께의 감광성 재료층으로 이루어지는 마스크층을 피처리체상에 얻는 공정과,상기 서로 다른 막두께의 감광성 재료층으로 이루어지는 마스크층을 적절하게 나누어 사용하여 피처리체의 처리를 수행하고, 피처리체에 패턴을 형성하는 공정을 갖는 피처리체의 제조방법에 있어서,상기 그레이톤 마스크는, 상기 차광부와, 투명기판상에 설치된 차광막 및 그 위에 성막된 반투광막으로 형성되고, 상기 반투광부는, 반투광부에 대응하는 영역을 노출시킨 투명기판상에 성막된 반투광막으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 피처리체의 제조방법.
- 제 7항에 있어서,상기 피처리체의 처리가 에칭처리이고, 상기 그레이톤 마스크는 차광부와 반투광부가 인접하는 부분을 가지며, 상기 반투광부에 있어서의 상기 차광부와의 경계 근방에 대응하는 피처리체의 패턴 형상이 테이퍼 형상인 것을 특징으로 하는 피처리체의 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004065115A JP4521694B2 (ja) | 2004-03-09 | 2004-03-09 | グレートーンマスク及び薄膜トランジスタの製造方法 |
JPJP-P-2004-00065115 | 2004-03-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060043596A true KR20060043596A (ko) | 2006-05-15 |
KR100609678B1 KR100609678B1 (ko) | 2006-08-08 |
Family
ID=35083537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050019701A KR100609678B1 (ko) | 2004-03-09 | 2005-03-09 | 그레이톤 마스크 및 그 제조방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4521694B2 (ko) |
KR (1) | KR100609678B1 (ko) |
TW (1) | TWI280457B (ko) |
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-
2004
- 2004-03-09 JP JP2004065115A patent/JP4521694B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-03-08 TW TW094106912A patent/TWI280457B/zh active
- 2005-03-09 KR KR1020050019701A patent/KR100609678B1/ko active IP Right Review Request
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI280457B (en) | 2007-05-01 |
JP2005257712A (ja) | 2005-09-22 |
TW200600963A (en) | 2006-01-01 |
KR100609678B1 (ko) | 2006-08-08 |
JP4521694B2 (ja) | 2010-08-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
O035 | Opposition [patent]: request for opposition | ||
O132 | Decision on opposition [patent] | ||
O074 | Maintenance of registration after opposition [patent]: final registration of opposition | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150630 Year of fee payment: 10 |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160701 Year of fee payment: 11 |
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FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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