KR20050098881A - 스프링된 밸런스 스파이럴 공명기 및 이의 제조방법 - Google Patents

스프링된 밸런스 스파이럴 공명기 및 이의 제조방법 Download PDF

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띠에리 코누스
카스파 트럼피
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에타 쏘시에떼 아노님 마누팍투레 홀로게레 스위세
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Abstract

스파이럴(spiral, 10)은 사각형 섹션(h,x,e)의 회전(turn)을 포함하는데, 상기 회전(turn)의 피치(p) 또는/및 두께(e)가 내부곡선(11)으로부터 외부곡선(14)을 향하여 변할 수 있으며, 그 감김(winding)은 완전한 스파이럴(spiral)의 라인으로부터 벗어날 수 있다. 내부곡선(11)은 유극(play)없이 밸런스 아버(balance arbour) 상에 스파이럴(spiral)을 고정하기 위한 자가-잠금 와셔(self-locking washer, 17)에 의해서 연장되어질 수도 있다. 스파이럴(spiral)은 포토리소그래피(photolithography) 및 갈바닉 성장(galvanic growth)에 의해서 제작되어지거나 또는 실리콘 웨이퍼와 같은 결정질 재료(crystalline material) 또는 비결정질 재료(amorphous material)를 마이크로-가공(micro-machining)함에 의해서 제작되어진다.

Description

스프링된 밸런스 스파이럴 공명기 및 이의 제조방법{SRPUNG BALANCE SPIRAL RESONATOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 한편으로는 스파이럴(spiral) 등의 제작 매개변수(construction parameter) 상에 작용하고, 다른 한편으로는 아르키메데스의 스파이럴(spiral of Archimedes)의 원점(point of origin)과 밸런스의 회전축 사이에서 통상적인 결속모드(securing mode)에 내재된 기하학적 편차(geometrical deviation)를 감소하기 위하여 밸런스 아버(balance arbour)에 스파이럴을 결속하는 모드 상에 작용함에 의해서 등시성(isochronism)을 개선하기 위한 제작방법에 의하여 얻어지는 스프링된 밸런스를 위한 편평한 공명기 스파이럴(flat resonator spiral)에 관한 것이다. 다음의 기재내용에서, 등시성(isochronism)이란 시계의 수평위치와 수직위치 사이의 작동편차(working deviation) 뿐만 아니라 밸런스의 진동폭(oscillation amplitude) 내의 변동의 함수로서의 작동편차를 의미한다.
공지된 방법에서, 스파이럴(spiral)의 평면 내에서 또는 대부분 다른 평면 내에서 내부곡선 및 외부곡선의 특별한 형태(conformation)를 통하여, 균일한 섹션(section, 단면) 및 피치(pitch)의 회전(turn)을 가지는 스파이럴(spiral)은 스파이럴의 동심적인 전개를 얻는 것을 가능하게 하고, 중력벡터(gravity vector)에 관한 스파이럴(spiral)의 진폭(amplitude)과 위치의 함수로서 작동파괴(working disruption)을 최소화하는 전개동안 스파이럴(spiral)의 관성(inertia)에서의 변화와 스파이럴(spiral) 무게의 중심의 이동을 얻는 것을 가능하게 한다. 이러한 스파이럴(spiral)을 만드는데 상당한 기량을 필요로 한다는 사실에 더하여, 높이에서 요구되는 공간은 명백하게 미적인 이유에서 가장 작은 두께를 가져야만 하는 손목시계에서 사용되기에는 일정한 단점을 구성하게 된다.
이러한 이유로서, 도 1에서 도시되어진 것과 같은 편평한 스파이럴(flat spiral)의 사용이 선호되어진다. 이러한 스파이럴(spiral)은 그 전체 길이에 걸쳐서 일정한 섹션(section, 단면)의 와이어(wire) 또는 금속 밴드(metal band)로부터 감김(winding)에 의해서 공지된 방법으로 제작되어지고, 회전(turn)들 사이에서도 일정한 피치(pitch)를 가지고 있다. 도 1에서 도시되어진 바와 같이, 내부곡선은 밸런스(balance, 8)의 아버(arbour, 9) 상으로 구동되어지는 콜렛(collet, 20)상으로 예를 들어 레어저 용접(laser welding)에 의해서 고정되어진다.
현재의 기술과 관련하여, 회전(turn)들 사이의 피치에 관하여 1966년에 출원된 스위스(CH)특허 제465,537호가 언급되어지는데, 여기서는 다이(die)의 그루브(groove) 내에서 감겨지고 다음으로 어닐링(anneal)되어지고 경화되어지는, 일정한 섹션의 와이어 도는 금속 스트립(metal strip)으로부터 특히 가변적인 피치를 가지고, 어떠한 형상의 스파이럴(spiral)을 제작하기 위한 방법이 개시되어진다. 출원인이 알고 있는 한, 이러한 형태로 된 제품이 시장에 출시되어진 적은 없으며, 당업자들은 이러한 제작방법은 기술적으로 또는 경제적으로 만족스럽지 못한 것으로 알고 있다.
감겨진 금속 스트립(metla strip)의 두께에서의 변화와 관련하여, 영국(GB) 특허 제1,020,456호가 언급되어지는데, 상기 특허는 중심으로부터 둘레부로 증가하는 섹션(section)을 가지는 스트립의 맞대기용접(butt welding)에 의한 메인 스프링(main spring)의 제작을 개시하고 있다. 이러한 스프링은 동일한 공간 요구조건으로써 파워 리저브(power reserve)를 증가시키도록 설계되어지나, 이러한 제작방법을 스파이럴(spiral)에 적용함에 의해서 용접의 존재는 동심적인 전개(concentric development)를 막고 재생가능한 등시성(reproducible isochronism)이 하나의 스파이럴(spiral)로부터 다른 스파이럴(spiral)까지 얻어지게 되는 것을 허용하지 않는다는 것이 명확하게 된다.
나아가 이러한 동일한 원리는 더 작은 섹션의 내부 회전(inside turn)으로써 만들어진 스파이럴(spiral)의 등시성을 개시하기 위하여 1878년부터 이미 미국특허 제209,602호에서 개시되어졌다. 상세한 설명에서 알 수 있듯이, 실험은 이러한 주장을 부인한다.
도 1은 종래기술의 스프링된 밸런스(sprung balance)를 도시한 모습
도 2는 도 1의 스파이럴(spiral)의 확대된 모습
도 3A는 도 2에서 도시된 스파이럴(spiral)로써 얻어진 등시성(isochronism)의 도면
도 3B는 종래의 다른 스파이럴(spiral)로써 얻어진 등시성의 도면
도 4는 본 발명에 따른 스파이럴(spiral)의 제 1 실시예를 도시한 모습
도 5는 도 4의 스파이럴(spiral)로써 얻어진 등시성의 도면
도 6은 본 발명에 따른 스파이럴(spiral)의 제 2 실시예를 도시한 모습
도 7은 도 6의 스파이럴(spiral)로써 얻어진 등시성의 도면
도 8은 본 발명에 따른 스파이럴(spiral)의 제 3 실시예를 도시한 모습
도 9는 도 8의 스파이럴(spiral)로써 얻어진 등시성의 도면
도 10은 본 발명에 따른 스파이럴(spiral)을 결속한 모드(mode)를 도시한 모습
도 10A내지 도 10E는 중앙부에 스파이럴(spiral)을 결속하기 위한 다른 형태를 도시한 모습
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
6 : 밸런스-콕(balance-cock) 7 : 플레이트
8 : 밸런스(balance) 9 : 아버(arbour)
10 : 스파이럴(spiral) 20 : 콜렛(collet)
따라서, 본 발명은 결속수단(securing means)에 의해서 뿐만 아니라 스파이럴의 형태에 의해서 등시성을 개선하기 위한 목적을 위하여 편리한 방법으로 가장 선호적인 제작 매개변수(construction parameter)를 선택하기 위한, 편평한 스파이럴(flat spiral) 및 마이크로-기계가공(micro-machining) 또는 갈바닉 성장 제작방법에 관한 것이다.
따라서, 본 발명은 밸런스 메커니즘을 조절하기 위하여 회전(turn)들 사이에서 피치 “p”를 가지는 연속적인 회전(turn)으로 만들어진 스트립(strip)의 형태로 된 편평한 스파이럴에 관한 것이며, 상기 스파이럴(spiral)은 거의 완벽한 등시성(isochronism)을 허용하는 제작방법에 의해서 얻어진다. 사각형 섹션(section, 단면)의 회전(turn)들은 내부곡선으로부터 외부곡선까지 단일의 연속적인 재료에서 형성되어지나, 중앙부에서의 부착지점과 외부(exterior)에서의 부착지점 사이에서 구성된 특정한 부위(portion) 상에서는 비-균일한 섹션 “s” 또는/및 완벽한 스파이럴의 트레이싱(tracing)의 외부에 형성된 하나 또는 그 이상의 부위를 가진다. “비-균일 섹션(non-uniform section)”의 표현은, 일정한 높이 “h”를 가지는 스트립(strip)에 대해서 선택된 부위의 두께 “e”는 스파이럴(spiral)을 형성하는 스트립의 나머지의 두께보다 더 크거나 또는 더 작게 되어질 수도 있는 것을 의미한다.
아래에서 더욱 자세하게 설명되어지는 바와 같이, 제작방법은 금속 또는 금속 합금의 전기도금(electroplating) 및 포토리소그래피(photolithography)와 같은 마이크로-기술(micro-technique)에 의존하거나, 또는 단-결정(mono-crystalline) 또는 다결정(poly-crystalline) 형태로 된 실리콘과 같은 결정질 재료 또는 비결정질 재료로 만들어진 두께 “h”의 플레이트(plate)를 마이크로-기계가공(micro-machining)하는 것에 의존한다.
첫 번째 실시예에 따르면, 회전(turn)의 섹션 “s”는 외부곡선으로부터 내부곡선까지 점진적으로 증가된다.
첫 번째 실시예와 조합되어질 수 있는 두 번째 실시예에 따르면, 회전(turn)들 사이의 피치 “p”는 외부곡선으로부터 내부곡선까지 규칙적으로 감소한다.
또 다른 실시예에 따르면, 등시성(isochronism)에 선호적인 다른 매개변수(parameter)에 작용하도록 하기 위하여 결정된 회전(turn)부위를 선택하고 스트립의 폭(width)을 국부적으로 변화시키는 것이 가능하다. 이러한 증가(increase)는 예를 들어 내부곡선 상에서 또는 외부곡선 상에서 또는 동시에 양자의 곡선 상에서 얻어질 수도 있으며, 스파이럴(spiral)의 다름 부위 상에서의 많은 다른 위치에서 달성되어질 수 있다.
또한, 예를 들어 그로스만(Grossmann) 타입의 내부곡선을 가짐에 의해서 완벽한 스파이럴(spiral)의 곡선으로부터 벗어나는 회전(turn) 부위를 가지는 스파이럴(spiral)을 얻는 것도 가능하다.
또한 본 발명은 실제적인 스파이럴(spiral)과 밸런스 아버(balance arbour) 상으로 상기 스파이럴을 결속하기 위한 수단 모두를 동시에 제작할 수 있는 장점을 제공하며, 상기 결속수단(securing means)은 어셈블리(assembly)에 대한 충분한 탄성(elasticity)을 주도록 중심부에 예를 들어 별모양의 외형을 가지며 그 둘레부에 리세스(recess)를 포함하고, 아르키메데스의 스파이럴(spiral of Archimedes)의 원점(point of origin)과 밸런스의 회전축사이의 편차(deviation)를 방지하는, 자가-잠금 와셔(self-locking washer)에 의해서 형성되어진다.
금속 또는 금속합금 스파이럴(spiral)을 위하여, 제작방법은 요구되는 스파이럴(spiral)의 프로파일(profile)에 대응되는 몰드를 형성하도록 LIGA 기술(LIGA technique)을 적용하는 것을 기본적으로 포함한다. 시장에서 현재 이용가능한 포토리지스터(photoresist)의 특성을 생각한다면, 수십 밀리미터까지의 스트립 높이를 가지는 스파이럴(spiral)의 전체 범위를 얻도록 포토리지스터 층의 두께를 조절하는 것이 가능하다.
결정질 재료 또는 비결정질 재료로 만들어진 스파이럴을 위하여, 본 방법은 상기 재료의 플레이트를 마스크(mask)를 통하여 에칭(etching)하는 것을 기본적으로 포함한다.
본 발명의 다른 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련하여 비제한적인 실시예로 주어지는 다른 실시예들의 다음의 설명에 더욱 잘 나타나 있다.
일부분이 제거되어진 도 1은 서두에서 언급되어진 종래기술의 스프링된 밸런스(sprung balance)를 도시하고 있다. 그 특징은 등시성(isochronism)과 관련하여 발명에 의해서 얻어지는 현저한 진행(progress)을 도시하는 기준(reference)으로서 기능한다. 스파이럴(spiral, 10)은 플레이트(7)와 밸런스-콕(balance-cock, 6) 사이에서 피벗되어지는 밸런스(balance, 8)의 아버(arbour, 9) 상으로 구동되어지는 콜렛(collet, 20) 상으로 종래의 방법으로 결속되어지는 중심(11)에서 그 곡선의 단부를 가진다. 나아가, 조절장치(regulating device)는 스파이럴(spiral, 10)의 외부곡선(14)을 결속하기 위한 밸런스 스프링 스터드 홀더(balance spring stud holder, 5)와 그리고 스케일(1)을 향하는 인덱스 꼬리(index tail, 14)와 핀(3)이 구비되어진 인덱스(index, 4)를 공지된 방법으로 포함한다. 스파이럴(spiral,10) 자체만이 확대되어진 도 2에서는, 상기 스파이럴(spiral)이 중앙곡선(11)으로부터 외부곡선(14)까지 균일한 사각형 섹션(section, 단면), 예를 들어 0.05 X 0.30 mm를 가지는 14번의 회전(turn)으로 형성되어지며, 상기 회전(turn)은 그들 사이에서 일정한 피치(p)를 가지는 것이 도시되어진다. 중앙곡선(11)의 부착지점은 스파이럴(spiral)의 피벗팅 중심으로부터 거리 r에서 위치되어지고, 외부곡선(14)의 부착지점은 벤드(bend, 16)이전의 거리 R에서 위치되어진다. 이러한 실례에서, r과 R은 각각 0.57mm와 2.46mm를 가진다. 상기 r과 R의 값과 회전(turn) 개수는, 특별히 달리 언급되어지지 않는다면, 다음의 기술에서도 동일하게 된다.
다음으로 도 3A와 관련하여, 상기한 특성을 가지는 스파이럴(spiral)의 등시성(isochronism)의 도면을 도시하고 있다. 밸런스 위치와 관련하여 각도(degree)로서 표시되어진 밸런스의 진동폭(oscillation amplitude)은 X축 상에서 도시되어지고, 하루마다의 초(second per day)로서 표시되어진 작동편차(working deviation)는 Y축 상에서 도시되어진다. 상기 도면은 스프링된 밸런스(sprung balance)로써의 일반적인 측정위치에 대응하는 다섯 개의 곡선(curve), 수평(곡선 1), 수직(곡선 2 내지 5, 하나의 곡선으로부터 다른 곡선까지 90도로써 회전에 의함)을 포함한다. 점선은 가장 비선호적인 모든 위치의 포락선(envelope)에 해당한다. 작동편차(working deviation)의 이해는 200도와 300도 사이를 구성하는 진폭(amplitude)을 위한 포락선의 최대 편차를 고려함에 의해서 통상적인 방법으로 수행되어진다. 도 3A의 도면에서, 종래의 상기 기준 스파이럴(spiral)로써, 최대 편차는 236도의 진폭에 대해서 매일 4.7초인 것이 도시되어진다.
도 3B는 서두에서 언급된 미국특허 제209,642호에서 개시된 특징을 가지는 (도시되지 않은) 스파이럴(spiral), 즉 외부곡선(14)에 대한 0.046mm와 내부곡선(11)에 대한 0.036mm 사이에서 변하는 스트립 두께를 가지는 스파이럴(spiral)로써 얻어지는 도면을 도시하고 있다. 상기 특허의 개시로부터 예상되어지는 것과 대비되게, 최대 편차는 230도의 진폭에 대해 매일 7.7초로 증가되어지는 것이 관찰되어진다.
도 4와 도 5와 관련하여, 스파이럴(spiral)의 첫 번째 실시예가 기술되어지며, 마이크로-머쉬닝(micro-machining) [포토리소그래피(photolithography) 및 갈바닉성장(galvanic growth)], 또는 비결정질(amorphous) 또는 결정질(crystalline) 재료의 에칭(etching)에 의한 제작은 등시성(isochronism)에 선호적인 기하(geometry)가 얻어지도록 한다. 도시되어진 바와 같이, 하나의 회전(turn)과 다음의 회전 사이의 피치(p)는 스파이럴(spiral)의 중앙을 향하여 점차적으로 감소한다. 이와 반대로, 외부곡선(14)으로부터 내부곡선(11)으로의 섹션(section)은 증가한다. 제작방법이 스트립(strip)에 일정한 높이를 준다는 것을 고려한다면, 섹션(section)에서의 변화는 외부곡선(14)에 대한 0.036mm 로부터 내부곡선(11)에 대한 0.046mm로 되는 두께에서의 변화에 실제로 대응된다.
도 5에서의 도면에서, 최대편차는 242도 진폭에 대해서 매일 2.8초로 감소되어진다. 선호적인 결과가 스트립의 피치(p) 상에서 또는 두께(e) 상에서 단독으로 작용함에 의해서 상기 최대 편차 상에서 얻어진다.
도 6과 도 7은 외부곡선(14)과 내부곡선(11)을 위한 두 번째 “미셀(Michel)”타입 실시예에 상응한다. 회전(turn)들은 이들 사이에서 일정한 피치(pitch)를 가지며, 아래와 같이 두께가 0.056 mm로 되는 두개의 회전(turn) 부분을 제외하고는 0.042 mm의 일정한 두께에 대응되는 일정한 섹션(section)을 가진다.
- 기준축(reference axis) Ox로부터 실질적으로 -110도에 중간부분이 있으며, 대략 80도의 각도 섹터(angular sector)에 걸친 내부곡선(11)의 부위(12)과,
- 기준축 Ox로부터 실질적으로 +115도에 중간부분이 있으며, 대략 20도의 각도 섹터에 걸친 외부곡선(14)의 부분(15).
도 7에서 도시된 도표에서, 최대 편차는 매일 1.8초 이상은 아닌 것이 도시되어진다. 회전(turn) 상의 과도한 두께와 위치의 값은 단지 예시로서만 주어지는 것이고, 당업자들은 다른 위치에서 더 많은 개수의 과도한 두께부위를 가지도록 선택할 수도 있다.
도 8과 도 9는 내부곡선(11)이 L.Defossez에 의한 “Theorie generale de l'horlogerie”에서 개시되어진 기하학(geometry)을 가지는, 그로스만(Grossmann) 타입(13)으로 되는 것을 특징으로 하는 세 번째 실시예를 도시하고 있다. 상기 기하학은 금속 스트립(metal strip)을 변형함에 의해서 얻는 것은 매우 어렵다. 그러나 본 발명에 따른 제작방법은 아주 숙련된 사람의 개입 없이도 상기와 같은 형상이 아주 용이하게 얻어지는 것을 가능하게 한다. 도 9에서 도시되어진 도면은 300도에서의 최대 편차는 매일 2.1초에 불과하다는 것을 도시하고 있다.
물론, 본 발명에 따른 제작방법에 의해서 주어지는 형상의 자유(freedom)가 주어진다면, 개선된 등시성(isochronism)을 가지는 본 발명에 따른 스파이럴(spiral)을 얻도록 앞서 기술된 실시예들을 조합하는 것도 가능하다.
도 10은 도 4의 제 1 실시예에 대응되는 스파이럴(spiral)을 도시하고 있는데, 콜렛(collet, 20)은 스파이럴(spiral, 10)과 동시에 형성된 자가-잠금 와셔(self-locking washer, 17)에 의해서 대체되어진다. 상기 와셔(17)는 그 중심부에 외형(contour, 19)을 가짐으로써, 도 10에서 별모양으로 도시되어진 잠금 외형(locking contour, 19) 둘레에 분포되어진 구멍들(hole, 18)에 의해서 제공되어지는 특정한 탄성(elasticity)을 가지면서도 밸런스(balance, 8)의 아버(arbour, 9)가 어떠한 유극(play)없이도 잠겨지도록 한다. 도 10A 내지 도 10E는 삼각형, 사각형 육각형, 원형 또는 노즈형상(nose-shaped)의 잠금외형(19)을 가지는 자가-잠금 와셔(17)의 다른 가능한 형상들을 도시하고 있다. 나선형-자가-잠금 와셔 어셈블리(assembly)가 포토리소그래피(photolithography)와 갈바닉 성장(galvanic growth)에 의해서 만들어질 때, 당업자들은 스파이럴(spiral, 10)이 밸런스 아버(balance arbour, 9) 상에서 더 잘 유지되어지도록 추가적인 단계에 의해서 스트립(strip)의 높이보다 더 큰 두께를 가지는 상기 자가-잠금 와셔(17)를 순서대로 장점적으로 만들 수 있다.
실리콘과 같은 결정질 재료 또는 비결정질(amorphous) 재료로 만들어진 본 발명에 따른 스파이럴(spiral)은, 예를 들어 실리콘 웨이퍼로부터 집적회로(integrated circuit) 또는 가속도계(acceleration meter)를 제작하기 위하여 이미 사용되어진 마이크로-공작 방법(micro-machining method)을 채택함에 의해서 제작되어질 수 있다. 가속도계에 관한 미국특허 제4,571,661호 및 제5,576,250호에서 개시되어진 방법에 특히 참조가 되어진다. 방법은 기본적으로 다음의 단계로 구성되어진다.
- 절연 실리카(SiO2) 인터페이스를 생성하는 기판에 실리콘 웨이퍼를 적용(applying);
- C.Harendt 등에 의해 기술된 방법(“웨이퍼 본딩 및 실리콘-온-절연체 제작에의 적용(wafer bonding and its application to silicon-on-insulator fabrication)”, 테크니컬 다이제스트 MNE'90, 2차 워크숍, 베를린 1990. 11. 제81쪽 내지 제86쪽)에 따라서 플레이트(plate)를 요구되는 스트립 높이(h)로 시닝(thinning)하고;
- 요구되는 스파이럴(spiral) 외형에 대응되는 포토리소그래피(photolithography)에 의해서 마스크(mask)를 형성(forming)하고;
- 습식방법 화학적 에칭(wet method chemical etching), 건식 플라즈마 에칭(dry plasma etching), 또는 이 두개의 조합과 같은 공지된 방법들에 따라서, 실리콘 웨이퍼를 기판에 에칭(etching)하고;
- 기판으로부터 스파이럴(spiral)을 분리(separating)한다.
스파이럴(spiral)의 아주 작은 크기를 고려한다면, 단일의 실리콘 웨이퍼로부터 그 배치(batch) 내에서 이들을 제작하는 것이 명백하게 가능하게 장점적이다.
본 발명에 따른 금속 또는 금속합금 스파이럴(spiral)을 제작하기 위하여, 1970년대 중반이후부터 공지된 LIGA 방법이 사용되어진다. 첫 번째 단계에 있어서, 상기 방법은 요구되는 스트립 높이 “h”에 대응되는 두께에 걸쳐서 희생층(sacrificial layer)으로써 이전에 코팅되어진 기판상에 양(positive) 또는 음(negative) 포토레지스터(photoresist)를 분포(spreading)시키고, 포토리소그래피 및 화학적 에칭(chemical etching)에 의한 마스크(mask)에 의해서 요구되는 스파이럴(spiral) 외형(contour)에 상응하는 중공구조를 형성한다. 두 번째 단계에서, 상기 중공 구조는 예를 들어 미국특허 제4,661,212호에서 지적되어진 전기도금(electroplating) 또는 미국특허 출원 제2001/0038803호에서 개시되어진 나노입자(nanoparticle) 압축 또는 소결(sintering)에 의해서 금속 또는 금속 합금으로써 채워진다.
마지막 단계에서, 희생층을 제거함에 의해서 스파이럴(spiral)은 기판으로부터 해제되어진다.

Claims (14)

  1. 플레이트(plate, 7)와 밸런스-콕(balance-cock, 6) 사이에서 피벗되어진 아버(arbour, 9)를 가지는 스프링된 밸런스 공명기 스파이럴(sprung balance resonator spiral)에 관한 것으로서, 상기 스파이럴(spiral, 10)은 그 사이에서 피치(pitch) “p”를 가지는 연속적인 회전(turn)으로부터 만들어진 스트립(strip)으로 형성되어지며, 내부곡선(inside curve, 11)의 단부는 밸런스 아버(balance arbour)에 결속되어지고 외부곡선(outside curve, 14)의 단부는 밸런스-콕(6) 또는 이에 결속된 부분에 결속되어지는, 스프링된 밸런스 공명기 스파이럴(sprung balance resonator spiral)에 있어서,
    상기 회전(turn)은 내부곡선(11)으로부터 외부곡선(14)까지 단일의 스트립으로 형성되어지며, 중앙 부착지점과 외부 부착지점 사이에 구성된 특정한 부위에 걸쳐서 높이 “h”와 비-균일한 두께 “e”의 사각형 섹션(section) “s”를 가지거나 또는/및 완전한 스파이럴의 라인(line) 외부에 형성된 하나 또는 그 이상의 부위를 포함하는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  2. 제 1 항에 있어서, 회전(turn)의 섹션 “s”는 내부곡선(11)을 향하여 외부곡선(14)으로부터 규칙적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  3. 제 1 항에 있어서, 회전(turn)들 사이의 피치 “p”는 내부곡선(11)을 향하여 외부곡선(14)으로부터 규칙적으로 감소하는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  4. 제 2 항 및 제 3 항에 있어서, 회전(turn)의 섹션 “s”는 내부곡선(11)을 향하여 외부곡선(14)으로부터 증가하고 피치 “p”는 감소하는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  5. 제 1 항에 있어서, 내부곡선(11)의 부위는 다른 모든 회전(turn)을 형성하는 스트립(strip)의 섹션(section) 보다 더 큰 섹션을 가지는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  6. 제 1 항에 있어서, 외부곡선(14)의 부위는 다른 모든 회전(turn)을 형성하는 스트립의 섹션(section)보다 더 큰 섹션을 가지는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  7. 제 5 항 및 제 6 항에 있어서, 내부곡선(11)의 부위(12)와 외부곡선(14)의 부위(15)는 다른 모든 회전(turn)을 형성하는 스트립의 섹션(section)보다 더 큰 섹션을 가지는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  8. 제 1 항에 있어서, 내부곡선은 그로스만(Grossmann) 타입 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 내부곡선(11)은 스트립(strip)으로서 동시에 형성되어지고 밸런스(8)의 아버(9) 상에 상기 스파이럴(spiral)을 위치시키도록 콜렛(collet)으로서 작용하는 자가-잠금 와셔(self-locking washer, 17)에 의해서 연장되어지며, 따라서 아르키메데서의 스파이럴의 원점의 방향과 거리가 밸런스(8)의 회전축에 대해서 제어되어지도록 하는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  10. 제 9 항에 있어서, 자가-잠금 와셔(self-locking washer, 17)는 스트립의 높이 “h”보다 더 큰 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 스파이럴(spiral)
  11. 스파이럴(spiral)은 비-균일한 두께 “e”를 가지며 또는/및 완전한 스파이럴의 라인(line)의 외부에 형성된 하나 또는 그 이상의 회전부위를 포함하는 사각형 섹션의 단일의 스트립으로부터 형성되어지는, 결정질 재료 또는 비결정질 재료의 플레이트(plate)로부터 스파이럴(spiral)을 제작하기 위한 방법에 있어서, 마스크(mask)에 의해서 스파이럴(spiral)이 요구되는 외형(contour)을 따라서 상기 플레이트를 에칭(etching)하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
  12. 비-균일한 두께 “e”를 가지며 또는/및 완전한 스파이럴의 라인(line)의 외부에 형성된 하나 또는 그 이상의 회전부위를 포함하는 사각형 섹션의 단일의 스트립으로부터 형성되어지는, 금속 또는 금속 합금의 스파이럴(spiral)을 제작하기 위한 방법에 있어서, 스파이럴(spiral)의 요구되는 외형(contour)에 대응하는 LIGA 방법에 의해서 몰드(mould)가 형성되어지고, 금속 또는 합금은 상기 몰드에 더해지는 것을 특징으로 하는 방법
  13. 제 12 항에 있어서, 금속 또는 합금은 전기도금(electroplating)되어지는 것을 특징으로 하는 제작방법
  14. 제 12 항에 있어서, 금속 또는 합금은 압축되어지고 소결되어지는 나노입자 파우더(nanoparticle powder)의 형태로 추가되어지는 것을 특징으로 하는 제작방법
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