KR20050036871A - 원자층 증착 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

화학물 및 반응 가스들을 혼합을 최소화하는 원자 층 증착용 장치(2) 및 방법이 개시된다. 제 1 선구체 및 제 2 선구체는 분산 전방 라인(26)을 설치 및 모니터링함으로써 원하는 시간 및 장소에서만 여러 화학물 및 반응 가스와 혼합된다. 또한, 독립적이고 전용의 챔버 출구들(17, 29), 절연 밸브들(24, 34), 배출 전방 라인(26), 및 배출 펌프들(20, 30)이 제공되어 필요할때 특정 가스에 대해 활성화된다.

Description

원자층 증착 장치 및 방법{Atomic layer deposition apparatus and process}
본 발명은 원자층 증착에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 원자 층 증착 챔버의 성능을 개선하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.
매우 박막을 증착하는 방법은 원자 층 증착(ALD)이다. 이 방법은 종래 화학 기상 증착에 비해 몇몇 장점을 가진다. 상기 방법은 보다 낮은 온도에서 수행될 수 있고, 넓은 범위의 선구체(precursor)들을 사용하고, 매우 박막들을 형성하고, 본질적으로 100% 스텝 커버리지를 얻고, "마이크로엔지니어(microengineer)" 복합 막 매트릭스들에 사용될수있다.
ALD에서, 각각의 선구체들은 가스 위상에서 선구체들을 혼합하지 않고 순차 방식으로 웨이퍼의 표면 상에 펄스된다. 각각의 개별 선구체는 하나의 층만이 한번에 형성되는 방식으로 원자 층을 형성하기 위하여 표면과 반응한다. 표면 반응은 반응이 완료되도록 일어나고, 한번에 겨우 하나의 층이 증착된다. 이것은 아무리 많은 분자들이 과도한 도즈 모드에서 표면에 인가된다하더라도 일어난다. 막들은 빠른 사이클들에서 가스들의 짧은 버스트들을 도입함으로써 형성된다.
본 발명자의 인식에 따라, 두개의 문제들이 ALD 방법에서 생긴다. 한가지 문제는 기상 상태에서 도입된 액체 선구체들의 흐름의 전환에 관한 것이다. 액체 전환 시스템을 사용한 ALD 처리 동안, 기상 상태에서 액체 선구체의 설정된 흐름을 유지하는 것이 필요하다. 흐름 동작을 유지하기 위하여, 흐름은 액체 선구체가 증착 처리시에 필요하지 않을때 ALD 챔버의 전방 라인으로 전환되어야 한다. 반대 가스가 펄스될때, 반응되지 않은 화학물은 전환된 화학물과 전방 라인에서 혼합되고 반응하여 전방 라인에서 형성물을 유발한다. 형성물은 심각할수있고 전방 라인을 막는다. 제 2 문제는 가스들의 반응에 관한 것이다. 처리 가스들은 개별적으로 ALD 처리를 위하여 도입되고 동일한 전방 라인들을 통하여 증착되어 가스들 또는 증기들이 서로 반응할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 ALD 장치의 도면.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 ALD 장치의 도면.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 ALD 장치의 도면.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 ALD 장치의 도면.
도 5는 본 발명의 다른 실시에에 따른 ALD 장치의 도면.
따라서, 전환된 액체 선구체의 전방 라인을 막는것을 최소화하는 ALD 장치 및 방법이 필요하다. 또한 임의의 원하지 않는 반응을 최소화하기 위하여 반응 가스들 또는 증기들에 공통인 임의의 영역을 제어하기 위한 기술이 필요하다.
이들 필요성들은 본 발명에 의해 부합되고 개선된 ALD 장치 및 방법이 제공된다. 본 발명은 제 2 전방 라인을 설치 및 모니터링함으로써 목표된 시간 및 장소에서만 각각의 화학물이 혼합하도록 하는 ALD 장치 및 방법을 제공함으로써 전방 라인의 차단을 최소화하는 제 1 필요성을 충족한다. 본 발명은 처리 가스들 또는 증기들의 원하지 않는 반응을 형성하는 영역에서 서로 접촉하지 않고 처리 반응기 챔버로부터 반응 가스들 또는 증기들이 제거되도록 하여 펌프 라인들에서 가스들의 반응을 최소화하는 제 2 필요성을 충족한다. 이것은 독립적이고 전용의 펌핑 라인들과 필요할때 특정 가스에 대해 활성화되는 대응 격리 밸브들을 제공함으로써 달성된다. 각각의 펌프 라인들은 가스가 가능한한 원하지 않는 반응 가스들의 반응을 최소화하는 방식으로 배출되도록 한다. 따라서, 본 발명의 목적은 배출 전방 라인의 차단을 방지하기 위하여 전방 라인들 및 제 2 배출 경로 분배를 사용하는 개선된 ALD 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 바람직한 실시예의 다음 상세한 설명은 다음 도면과 결합하여 판독될때 가장 잘 이해될수있고, 유사 구조는 유사 참조 번호들로 표시된다.
도 1을 참조하여, 본 발명의 일실시예에 따른 ALD 장치(2)는 도시된다. 도 1은 처리 반응기 챔버(10), 제 1 분배 밸브(4), 제 2 분배 밸브(8), 격리 밸브(24), 배출 전방 라인(22), 배출 펌프(20) 및 분배 전방 라인(26)을 포함하는 ALD 장치(2)를 도시한다. 처리 반응기 챔버(10)는 제 1 선구체 입구(14), 제 2 선구체 입구(16), 및 제 1 챔버 출구(17)를 포함한다. 제 1 분배 밸브(4)는 처리 반응기 챔버(10)의 제 1 선구체 입구(14)에 결합된다. 제 2 분배 밸브(8)는 상기 처리 반응기 챔버(10)의 제 2 선구체 입구(16)에 결합된다. 격리 밸브(24)는 처리 반응기 챔버(10)의 제 1 챔버 출구(17)에 직접 결합된다. 분배 전방 라인(26)은 제 1 단부(25) 및 제 2 단부(27)를 포함한다. 제 1 단부(25)는 제 1 분배 밸브(4)에 결합되고 제 2 단부(27)는 배출 펌프(20)에 결합된다.
제 1 분배 밸브(4)는 제 1 선구체(6)가 제 1 선구체 입구(14)를 통하여 처리 반응기 챔버(10)내로 흐르게 한다. 제 1 선구체(6)의 연속적인 흐름은 유지된다. 그러므로, 제 1 분배 밸브(4)는 처리 반응기 챔버(10)의 제 1 선구체 입구(14)로 제 1 선구체(6)의 방향을 선택적으로 전환한다. 제 1 선구체(6)가 처리 반응기 챔버(10)내로 전환되지 않을때, 분배 전방 라인(26)을 통하여 배출 펌프(20)로 보내진다. 분배 전방 라인(26)은 제 1 선구체 입구(14)로 전환되지 않을때 제 1 선구체(6)를 버리기 위하여 사용된다. 분배 전방 라인(26)은 다른 화학물로부터 제 1 선구체(6)를 격리시키기 위하여 사용될수있고 제 1 선구체(6)와 혼합하고 잠재적으로 제 1 배출 전방 라인(22)의 차단을 유발하는 배출물을 배출시킨다. 따라서, 배출 전방 라인(22)은 깨끗함을 유지하고 흐름은 안정되고 일정하게 유지된다.
처리 반응기 챔버(10)는 제 1 선구체 입구(14), 제 2 선구체 입구(16), 가열기(13), 웨이퍼(11) 및 샤워헤드 장치(18)를 포함한다. 제 1 선구체 입구(14) 및 제 2 선구체 입구(16)는 공통 개구부(12)를 공유하거나 선택적으로 독립된 개구부를 가진다. 제 1 선구체 입구(14)는 제 1 선구체(6)를 처리 반응기 챔버(10)로 분배하는 샤워 헤드 장치(18)를 통하여 제 1 선구체(6)를 인도할수있다. 일단 처리 반응기 챔버(10)에서, 제 1 선구체(6)는 웨이퍼(11)의 표면상에 흡수된다. 웨이퍼는 가열기(13)상에 놓인다. 선구체 흡수가 달성되는 방식은 본 발명의 범위를 벗어나고 종래에 공지되었다. 그것은 원자층 증착에 관한 다수의 기술중 하나로부터 조사될수있다.
제 1 선구체(6)가 웨이퍼(11)상에 흡수된후, 반응하지 않은 제 1 선구체는 정화 밸브(7)를 통하여 챔버 출구(17)내로 정화 가스를 도입함으로써 처리 반응기 챔버(10)에서 정화된다. 반응하지 않은 제 1 선구체는 격리 밸브(24)내로 직접적으로 흐르고 여기서 반응되지 않은 제 1 선구체는 배출 전방 라인(22)을 통하여 배출 펌프(20)로 전달된다.
제 1 선구체(6) 및 제 2 선구체(9)는 각각의 시간 동안 도입된다. 일단 반응되지 않은 제 1 선구체가 정화 밸브(7)의 사용을 통해 처리 반응기 챔버(10)로부터 정화되면, 제 2 분배 밸브(8)는 제 2 선구체(9)가 제 2 선구체 입구(16), 궁극적으로 처리 반응기 챔버(10)로 도입되게 한다. 제 2 선구체 입구(16)는 제 2 선구체(9)를 처리 반응기 챔버(10)로 분배하는 샤워 헤드 장치(18)를 통하여 제 2 선구체(9)를 지향시킨다. 그 다음 제 2 선구체(9)는 제 1 선구체(9)로부터 웨이퍼(11)상에 형성된 층과 반응하여, 웨이퍼(11)상에 단층 막을 형성한다.
반응되지 않은 제 2 선구체는 정화 밸브(7)를 사용하여 처리 반응기 챔버(10)로부터 챔버 출구(17)로 정화된다. 반응되지 않은 제 2 선구체는 격리 밸브(24)내로 직접 흐르고 여기서 반응되지 않은 제 2 선구체는 배출 전방 라인(22)을 통하여 배출 펌프(20)로 전달된다.
제 2 선구체(9)와 제 1 선구체(6)를 교번시키는 도입, 반응 및 정화의 이런 처리는 연속적으로 고속으로 수행된다.
본 발명을 기술 및 한정하기 위하여, 제 1 선구체의 분자가 반도체 기판의 표면에 부착되는 정밀한 메카니즘이 본 발명의 주제가 아니라는 것이 주의된다. 메카니즘은 단순히 여기에서 "흡수"로서 기술된다. 일반적인 용어 '흡수'는 커버 흡수, 흡수, 및 선구체가 웨이퍼(11)의 표면상에 단층을 형성하는 임의의 다른 유사한 메카니즘들을 의미한다.
본 발명의 실시예는 도 2에 도시되고 분배 펌프(28)를 사용하는 것에서 도 1과 다르다. 이 실시예에서, 분배 전방 라인(26)의 제 1 단부(25)는 분배 밸브(4)에 결합된다. 분배 전방 라인(26)의 제 2 단부(27)는 분배 펌프(28)에 결합된다. 분배 펌프(28)는 반응되지 않은 제 1 선구체(6)를 수집하여 반응되지 않은 제 1 선구체(6)는 제 1 선구체(6)와 혼합하고 잠재적으로 제 1 배출 전방 라인(22)을 차단하는 여러 화학물, 선구체들 및 배출물들로부터 격리된다. 따라서, 배출 전방 라인(22)은 깨끗함을 유지하고 흐름은 안정되고 일정하다.
도 3의 실시예는 도 2에 도시된 것과 다른데, 그 이유는 제 2 격리 밸브(34), 제 2 배출 전방 라인(36) 및 제 2 배출 펌프(30)가 도시되고, 따라서 제 2 배출 경로를 형성하기 때문이다. 이 제 2 배출 경로는 반응하지 않은 제 1 선구체 및 반응되지 않은 제 2 선구체를 가각 유지하도록 구성된다. 그것에 의해, 배출 전방 라인들(22, 36)중 어느 하나를 혼합 및 차단하는 가능성을 감소시킨다. 제 2 격리 밸브(34), 제 2 배출 전방 라인(36), 및 제 2 배출 펌프(30)는 제 1 격리 밸브(24), 제 1 배출 전방 라인(22) 및 제 1 배출 펌프(20)와 유사한 방식으로 동작한다. 제 2 선구체(9)는 웨이퍼(11)상에 흡수되고, 반응되지 않은 제 2 선구체는 정화 밸브(7)를 통하여 제 2 챔버 출구(29)내에 정화 가스를 도입함으로써 처리 반응기 챔버(10) 밖으로 정화된다. 반응되지 않은 제 2 선구체는 제 2 격리 밸브(34)내로 직접적으로 흐르고, 여기서 반응되지 않은 제 2 선구체는 제 2 배출 전방 라인(36)을 통하여 제 2 배출 펌프(300로 전달된다.
도 3의 실시예는 도 2에 도시된 것과 다른데, 그 이유는 분배 전방 라인(26)이 제 1 배출 경로에 접속되기 때문이다. 특히, 분배 전방 라인(26)은 제 1 배출 펌프(20)에 접속된다. 분배 밸브는 선택적으로 제 1 배출 전방 라인(22)에 결합되거나 도 2에 도시된 바와같이 분배 펌프(28)에 직접적으로 결합된다.
도 4의 실시예는 제 2 분배 전방 라인(36)이 제 2 분배 밸브(8)로부터 제 2 배출 경로로, 특히 제 2 배출 전방 라인(33)으로 연장되기 때문에 도 3의 것과 다르다. 제 2 분배 전방 라인(36)은 도 1의 실시예와 유사한 방식으로 제 2 배출 펌프(30)에 직접 접속되거나 도 2의 실시예와 유사한 방식으로 제 2 분배 펌프에 접속된다. 제 2 분배 펌프는 상기된 제 1 분배 펌프(28)와 유사한 방식으로 동작한다. 제 2 분배 펌프는 반응되지 않은 제 2 선구체(9)를 수집하여, 반응되지 않은 제 2 선구체(9)는 제 2 선구체(9)와 혼합하고 잠재적으로 제 2 배출 전방 라인(36)의 차단을 유발하는 여러 화학물, 선구체들 및 배출물로부터 격리된다. 따라서, 제 2 배출 전방 라인(36)은 깨끗함을 유지하고 흐름은 안정되고 일정하게 유지된다.
제 2 분배 전방 라인(36)은 제 1 분배 전방 라인(26)과 유사한 방식으로 동작한다. 제 2 분배 전방 라인(36)은 제 2 선구체 입구(16)로 전환되지 않을때 제 2 선구체를 버리기 위하여 사용된다. 제 2 분배 전방 라인(36)은 제 2 선구체(9)와 혼합하고 잠재적으로 제 2 배출 전방 라인(33)의 차단을 유발하는 여러 화학물, 선구체들 및 배출물로부터 제 2 선구체(9)를 격리하기 위하여 사용될수있다. 따라서, 제 2 배출 전방 라인(33)은 깨끗함을 유지하고 흐름은 안정되고 일정하게 유지된다.
도 5는 이전 도면과 다른데, 그 이유는 제 1 분배 전방 라인(26) 또는 제 2 분배 전방 라인(36)을 도시하지 않기 때문이다. 그러므로, 단지 두개의 독립된 배출 경로들이 묘사된다.
본 발명이 바람직한 실시예를 참조하여 상세히 기술되었지만, 변형 및 변화는 첨부된 청구항들에 한정된 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 가능하다. 특히, 비록 본 발명의 몇몇 측면들이 여기에서 바람직하거나 특히 바람직한 것으로서 식별되었지만, 본 발명이 본 발명의 이들 바람직한 측면들로 필수적으로 한정되는 것이 아니라는 것이 이해된다.

Claims (64)

  1. 원자 층 증착 장치에 있어서,
    제 1 선구체 입구, 제 2 선구체 입구 및 제 1 챔버 출구를 포함하는 처리 반응기 챔버;
    상기 처리 반응기 챔버의 상기 제 1 선구체 입구에 결합된 제 1 분배 밸브;
    상기 처리 반응기 챔버의 상기 제 2 선구 입구에 결합된 제 2 분배 밸브;
    상기 처리 반응기 챔버로부터 선택적으로 격리되도록 구성된 상기 반응기 챔버에 결합된 제 1 배출 경로; 및
    제 1 단부 및 제 2 단부를 포함하는 제 1 분배 전방 라인을 포함하고, 상기 제 1 단부는 상기 제 1 분배 밸브에 결합되고 상기 제 1 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 상기 제 1 배출 경로 또는 제 1 분배 펌프중 하나에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 분배 전방 라인의 제 2 단부는 상기 제 1 배출 경로에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 배출 경로는 제 1 배출 펌프, 제 1 격리 밸브, 및 제 1 배출 전방 라인을 더 포함하고, 상기 제 1 배출 펌프는 상기 제 1 배출 전방 라인에 의해 상기 제 1 격리 밸브에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 배출 경로는 상기 제 1 격리 밸브가 밀폐된 상태에 있을때 상기 처리 반응기 챔버로부터 격리되는, 원자 층 증착 장치.
  5. 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 격리 밸브는 직접적으로 상기 처리 반응기 챔버의 제 1 챔버 출구에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  6. 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 상기 제 1 배출 경로의 상기 제 1 격리 밸브에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  7. 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 상기 제 1 배출 경로의 상기 제 1 배출 펌프에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  8. 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 상기 제 1 배출 경로의 상기 제 1 배출 전방 라인에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 장치는 제 2 챔버 출구에 결합된 제 2 배출 경로를 더 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 제 2 배출 경로는 제 2 배출 펌프, 제 2 격리 밸브, 및 제 2 배출 전방 라인을 포함하고, 상기 제 2 배출 펌프는 상기 제 2 배출 전방 라인에 의해 상기 제 2 격리 밸브에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 제 2 배출 경로는 상기 격리 밸브가 밀폐된 상태일때 상기 처리 반응기 챔버로부터 격리되는, 원자 층 증착 장치.
  12. 제 9 항에 있어서, 상기 제 2 격리 밸브는 상기 처리 반응기 챔버의 제 2 챔버 출구에 직접 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 상기 제 1 분배 펌프에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 장치는 제 1 단부 및 제 2 단부를 포함하는 제 2 분배 전방 라인을 더 포함하고, 상기 제 1 단부는 상기 제 2 분배 밸브에 결합되고 상기 제 2 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 제 2 배출 경로에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 제 2 배출 경로는 제 2 배출 펌프, 제 2 격리 밸브, 및 제 2 배출 전방 라인을 포함하고, 상기 제 2 배출 펌프는 상기 제 2 배출 전방 라인에 의해 상기 제 2 격리 밸브에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 제 2 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 상기 제 2 배출 경로의 상기 제 2 격리 밸브에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 제 2 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 상기 제 2 배출 경로의 상기 제 2 배출 펌프에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 제 2 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 상기 제 2 배출 경로의 상기 제 2 배출 전방 라인에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  19. 제 1 항에 있어서, 상기 장치는 제 1 단부 및 제 2 단부를 포함하는 제 2 분배 전방 라인을 더 포함하고, 상기 제 1 단부는 상기 제 2 분배 밸브에 결합되고 상기 제 2 분배 전방 라인의 상기 제 2 단부는 제 2 분배 펌프에 결합되는, 원자 층 증착 장치.
  20. 제 1 항에 있어서, 상기 처리 반응기 챔버는 제 2 챔버 출구를 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  21. 제 1 항에 있어서, 상기 장치는 상기 제 1 선구체 입구에 결합되는 제 1 증기 공급부를 더 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  22. 제 1 항에 있어서, 상기 장치는 상기 제 2 선구체 입구에 결합된 제 2 증기 공급부를 더 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  23. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 선구체 입구 및 상기 제 2 선구체 입구는 공통 개구부를 공유하는, 원자 층 증착 장치.
  24. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 선구체 입구 및 상기 제 2 선구체 입구는 독립된 개구부를 가지는, 원자 층 증착 장치.
  25. 제 1 항에 있어서, 상기 장치는 정화 밸브를 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  26. 제 1 항에 있어서, 상기 처리 반응기 챔버는 샤워 헤드 장치를 더 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  27. 원자 층 증착 장치에 있어서,
    처리 반응기 챔버;
    상기 처리 반응기의 제 1 챔버 출구에 직접 결합된 제 1 격리 밸브;
    제 1 배출 전방 라인에 의해 상기 제 1 격리 밸브에 결합된 제 1 배출 펌프;
    상기 처리 반응기의 제 1 챔버 출구에 직접 결합된 제 2 격리 밸브; 및
    제 2 배출 전방 라인에 의해 상기 제 2 격리 밸브에 결합된 제 2 배출 펌프를 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  28. 제 27 항에 있어서, 상기 장치는 정화 밸브를 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  29. 제 27 항에 있어서, 상기 처리 반응기 챔버는 샤워 헤드 장치를 더 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  30. 제 27 항에 있어서, 상기 처리 반응기 챔버는 제 1 선구체 입구, 제 2 선구체 입구, 제 1 챔버 출구, 및 제 2 챔버 출구를 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  31. 제 30 항에 있어서, 상기 장치는 상기 제 1 선구체 입구에 결합된 제 1 증기 공급부를 더 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  32. 제 30 항에 있어서, 상기 장치는 상기 제 2 선구체 입구에 결합된 제 2 증기 공급부를 더 포함하는, 원자 층 증착 장치.
  33. 제 30 항에 있어서, 상기 제 1 선구체 입구 및 상기 제 2 선구체 입구는 공통 개구부를 공유하는, 원자 층 증착 장치.
  34. 제 30 항에 있어서, 상기 제 1 선구체 입구 및 상기 제 2 선구체 입구는 독립된 개구부를 가지는, 원자 층 증착 장치.
  35. 원자 층 증착 방법에 있어서,
    처리 반응기 챔버의 제 1 선구체 입구에 제 1 선구체를 도입하는 단계;
    상기 제 1 선구체의 기판상 흡수를 위하여 상기 처리 반응기 챔버를 제어하는 단계;
    반응되지 않은 제 1 선구체의 상기 챔버를 정화하는 단계;
    상기 처리 반응기 챔버의 제 2 선구체 입구에 제 2 선구체를 도입하는 단계;
    상기 제 1 선구체와 상기 제 2 선구체의 반응을 위하여 상기 처리 반응기 챔버를 제어하는 단계; 및
    반응되지 않은 제 2 선구체를 상기 처리 반응기 챔버에서 정화하는 단계를 포함하는, 방법.
  36. 제 35 항에 있어서, 상기 방법은 제 1 입구 상태 및 제 1 바이패스 상태 사이를 교번하기 위하여 제 1 분배 밸브를 제어하는 단계를 더 포함하고, 상기 제 1 입구 상태는 상기 처리 반응기 챔버의 상기 제 1 선구체 입구에 상기 제 1 선구체의 전환을 특징으로 하고 상기 제 1 바이패스 상태는 상기 제 1 분배 밸브에 결합된 상기 전방 라인에 상기 제 1 선구체의 전환을 특징으로 하는, 방법.
  37. 제 36 항에 있어서, 상기 제 1 분배 밸브의 제어 단계는 상기 제 1 선구체의 연속적인 흐름을 유지하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  38. 제 36 항에 있어서, 상기 방법은 상기 전방 라인에 결합된 제 1 배출 펌프쪽으로 상기 제 1 전방 라인으로 전환된 상기 제 1 선구체를 비우는 단계를 더 포함하는, 방법.
  39. 제 36 항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 1 전방 라인에 결합된 상기 제 1 배출 경로로 상기 전방 라인으로 전환된 상기 제 1 선구체를 비우는 단계를 더 포함하는, 방법.
  40. 제 36 항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 1 전방 라인에 결합된 제 1 분배 펌프쪽으로 상기 제 1 전방 라인으로 전환된 상기 제 1 선구체를 비우는 단계를 더 포함하는, 방법.
  41. 제 35 항에 있어서, 상기 방법은 제 2 입구 상태 및 제 2 바이패스 상태 사이에서 교번하도록 제 2 분배 밸브를 제어하는 단계를 더 포함하고, 상기 제 2 입구 상태는 처리 반응기 챔버의 제 2 선구체 입구로 제 2 선구체의 전환을 특징으로 하고 상기 제 2 바이패스 상태는 상기 제 2 분배 밸브에 결합된 제 2 전방 라인으로 상기 제 2 선구체의 전환을 특징으로 하는, 방법.
  42. 제 41 항에 있어서, 상기 제 1 분배 밸브의 제어 단계는 상기 제 2 선구체의 연속적인 흐름을 유지하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  43. 제 41 항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 2 전방 라인에 결합된 제 2 배출 펌프쪽으로 상기 제 2 전방 라인으로 전환된 상기 제 2 선구체를 비우는 단계를 더 포함하는, 방법.
  44. 제 41 항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 2 전방 라인에 결합된 상기 제 2 배출 경로쪽으로 상기 제 2 전방 라인으로 전환된 상기 제 2 선구체를 비우는 단계를 더 포함하는, 방법.
  45. 제 41 항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 2 전방 라인에 결합된 제 2 분배 펌프쪽으로 상기 제 2 전방 라인으로 전환된 상기 제 2 선구체를 비우는 단계를 더 포함하는, 방법.
  46. 제 35 항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 1 선구체의 연속적인 흐름을 유지하면서 상기 처리 반응기 챔버의 상기 제 1 선구체 입구내로 상기 제 1 선구체를 선택적으로 전환하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  47. 제 35 항에 있어서, 상기 방법은 상기 제 2 선구체의 연속적인 흐름을 유지하면서 상기 처리 반응기 챔버의 상기 선구체 입구쪽으로 상기 제 2 선구체를 선택적으로 전환하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  48. 제 35 항에 있어서, 상기 반응되지 않은 제 1 선구체를 상기 처리 반응기 챔버에서 정화하는 단계는 상기 반응기 챔버의 제 1 배출 출구에 결합된 제 1 격리 밸브를 개방하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  49. 제 48 항에 있어서, 상기 제 1 격리 밸브 및 상기 제 1 배출 출구는 상기 제 1 배출 경로를 형성하는, 방법.
  50. 제 35 항에 있어서, 상기 반응되지 않은 제 2 선구체를 상기 처리 반응기 챔버에서 정화하는 단계는 상기 반응기 챔버의 제 2 배출 출구에 결합된 제 2 격리 밸브를 개방하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  51. 제 50 항에 있어서, 상기 제 2 격리 밸브 및 상기 제 2 배출 출구는 제 2 배출 경로를 형성하는, 방법.
  52. 제 35 항에 있어서, 상기 반응되지 않은 제 1 선구체를 상기 처리 반응기 챔버에서 정화하는 단계는 상기 반응기 챔버의 제 1 배출 출구에 결합된 제 1 격리 밸브를 개방하는 단계를 더 포함하고 상기 반응되지 않은 제 2 선구체를 상기 처리 반응기 챔버에서 정화하는 단게는 상기 반응기 챔버의 제 2 배출 출구에 결합된 제 2 격리 밸브를 개방하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  53. 제 52 항에 있어서, 상기 제 1 격리 밸브는 상기 제 2 격리 밸브가 밀폐된 동안 개방되는, 방법.
  54. 제 52 항에 있어서, 상기 제 2 격리 밸브는 상기 제 1 격리 밸브가 밀폐된 동안 개방되는, 방법.
  55. 제 52 항에 있어서, 상기 제 1 격리 밸브는 상기 제 2 격리 밸브가 밀폐되는 동안 개방되고 상기 제 2 격리 밸브는 상기 제 1 격리 밸브가 밀폐된 동안 개방되는, 방법.
  56. 제 52 항에 있어서, 상기 제 1 격리 밸브는 상기 제 2 격리 밸브와 독립적인, 방법.
  57. 제 52 항에 있어서, 상기 제 1 배출 출구는 상기 제 2 배출 출구와 독립적인, 방법.
  58. 제 35 항에 있어서, 상기 처리 반응기 챔버로부터 반응되지 않은 제 1 선구체를 제거하기 위하여 제 1 배출 경로를 개방함으로써 상기 처리 반응 채버를 정화하는 단계를 포함하는, 방법.
  59. 제 35 항에 있어서, 상기 처리 반응기 챔버로부터 반응되지 않은 제 2 선구체를 제거하기 위하여 제 2 배출 경로를 개방함으로써 처리 반응기 챔버를 정화하는 단계를 포함하는, 방법.
  60. 제 35 항에 있어서, 상기 처리 반응기 챔버로부터 반응되지 않은 제 1 선구체를 제거하기 위하여 제 1 배출 경로를 개방함으로써 상기 처리 반응기 챔버를 정화하는 단계 및 상기 처리 반응기 챔버로부터 반응되지 않은 제 2 선구체를 제거하기 위하여 제 2 배출 경로를 개방함으로써 상기 처리 반응기 챔버를 정화하는 단계를 포함하는, 방법.
  61. 제 60 항에 있어서, 상기 제 1 배출 경로는 상기 제 2 배출 경로가 밀폐되는 동안 개방되는, 방법.
  62. 제 60 항에 있어서, 상기 제 2 배출 경로는 상기 제 1 배출 경로가 밀폐되는 동안 개방되는, 방법.
  63. 제 60 항에 있어서, 상기 제 1 배출 경로는 상기 제 2 배출 경로가 밀폐되는 동안 개방되고 상기 제 2 배출 경로는 상기 제 1 배출 경로가 밀폐되는 동안 개방되는, 방법.
  64. 제 60 항에 있어서, 상기 제 1 배출 경로는 상기 제 2 배출 경로와 독립적인, 방법.
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