KR20040041157A - 웨이퍼 엔진 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- 반도체 웨이퍼 및 관련 기판 대상물을 이동시키기 위한 장치에 있어서,x축을 따라 선형 동작을 하는 선형 구동부와,상기 선형 구동부에 장착되어 연장되며 θ축 둘레에서 회전하는 회전 구동부와,상기 회전 구동부에 장착되어 연장되며 상기 θ축에서 오프셋되고 상기 θ축에 사실상 평행한 z축을 따라 선형 동작을 하는 z축 선형 구동부와,상기 z축 선형 구동부에 장착되어 연장되며 단부 작동체를 갖는 방사 방향 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 단부 작동체는 방사상 축을 따라 선형으로 이동하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 방사상 축은 상기 회전 구동부가 회전할 때 상기 θ축 둘레에서 회전하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 장치는 상기 회전 구동부에 장착되는 공기류 유닛을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 공기류 유닛은 상기 z축 선형 구동부에 의해 생성된 입자들이 상기 단부 작동체에 의해 지지되는 웨이퍼를 오염시키는 것을 방지하기 위해 상기 z축 선형 구동부 내의 압력을 저감하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 방사 방향 구동부는 상기 z축 선형 구동부에 제거 가능하게 장착되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제6항에 있어서, 상기 방사 방향 구동부는 (ⅰ) ID 판독기, (ⅱ) 계측 공구, (ⅲ) 정렬기, (ⅳ) 노치 검출기, (ⅴ) 모서리 검출기, (ⅵ) 웨이퍼 표시 공구, (ⅶ) 처리 모듈, (ⅷ) 웨이퍼 관찰부 및 (ⅸ) 환경 제어부로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나의 부품을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제1항에 있어서, 팬/필터 유닛이 상기 방사 방향 구동부에 장착되며, 상기 팬/필터 유닛은 상기 방사 방향 구동부에 의해 생성된 입자들이 상기 단부 작동체에 의해 지지되는 웨이퍼를 오염시키는 것을 방지하도록 개조되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 단부 작동체에 의해 지지되는 웨이퍼가 상기 회전 구동부가 장치를 회전시킬 때 원형 영역을 그리는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 z축 선형 구동부는 원형 영역 내에 남아 있는 것을 특징으로 하는 장치.
- 반도체 웨이퍼 및 관련 기판 대상물을 운반하기 위한 웨이퍼 엔진에 있어서,x축을 따라 선형 동작을 하는 선형 구동부와,상기 선형 구동부에 장착되어 연장되며 θ축 둘레에서 회전하는 회전 구동부와,상기 회전 구동부에 장착되어 그 위에 위치되며 상기 θ축에서 오프셋되고 상기 θ축에 사실상 평행한 z축을 따라 선형 동작을 하는 z축 선형 구동부와,상기 z축 선형 구동부에 장착되어 연장되며 방사상 축을 따라 선형 동작을 하는 적어도 하나의 단부 작동체를 포함하는 방사 방향 구동부를 포함하며,상기 θ축은 상기 방사 방향 구동부의 상기 θ축과 중심이 오프셋되도록 상기 방사 방향 구동부를 통해서 연장되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 엔진.
- 제11항에 있어서, 상기 z축 선형 구동부는 상기 회전 구동부가 상기 θ축 둘레에서 회전할 때 웨이퍼와 사실상 유사한 유격 직경부를 통해서 회전하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 엔진.
- 제11항에 있어서, 상기 방사 방향 구동부는 (ⅰ) ID 판독기, (ⅱ) 계측 공구, (ⅲ) 정렬기, (ⅳ) 노치 검출기, (ⅴ) 모서리 검출기 및 (ⅵ) 웨이퍼 표시 공구로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나의 부품을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제한된 작업 공간 내에서 반도체 웨이퍼 및 관련 기판 대상물을 조작하기 위한 시스템에 있어서,전방 단부, 후방 단부 및 단부 작동체를 가지며 방사상 축을 따라 상기 단부 작동체를 이동시키기 위한 선형 구동부와,x 및 z 방향을 따라서 상기 방사 방향 구동부를 이동시키며 θ축 둘레에서 상기 선형 구동부를 회전시키기 위한 수단을 포함하며,상기 선형 구동부의 상기 전방 단부는 상기 선형 구동부의 상기 후방 단부보다 큰 유격 직경부를 통해서 회전하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제한된 작업 공간 내에서 반도체 웨이퍼 및 관련 기판 대상물을 조작하기 위한 시스템에 있어서,선형 동작 제공 수단과,상기 선형 동작 제공 수단을 덮는 하우징과,상기 선형 동작 제공 수단에 장착되는 단부 작동체와,상기 하우징을 z방향으로 선형으로 이동시키고 상기 하우징을 θ축 둘레에서 회전시키기 위한 수단과,상기 하우징에 의해 생성된 물품이 상기 단부 작동체에 의해 지지되는 웨이퍼를 오염시키기 않도록 상기 하우징 내측의 기압을 저감시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 반도체 웨이퍼 및 관련 기판 대상물을 조작하기 위한 기구에 있어서,선형 구동부와,상기 선형 구동부를 덮고 개구를 갖는 하우징과,상기 선형 구동부에 장착되고 상기 하우징의 상기 개구를 거쳐 연장되는 단부 작동체 지지 구조물과,상기 단부 작동체 지지 구조물에 장착된 반도체 웨이퍼를 조작하기 위한 단부 작동체와,Z 방향을 따라 θ축 둘레에서 상기 하우징을 이동시키기 위한 수단과,상기 단부 작동체 상의 웨이퍼를 재배치하기 위한 상기 하우징에 장착된 회전자 척를 포함하는 것을 특징으로 하는 기구.
- 반도체 웨이퍼 및 관련 기판 대상물을 조작하기 위한 기구에 있어서,제1 선형 구동부와,제2 선형 구동부와,상기 제1 및 제2 선형 구동부를 덮고 제1 선형 개구 및 제2 선형 개구를 갖는 하우징과,상기 제1 선형 구동부에 장착되고 제1 선형 구동부에 의해 이동되는 지지 구조물을 갖고 상기 지지 구조물은 상기 제1 선형 개구를 거쳐 연장되는 제1 단부 작동체와,상기 제2 선형 구동부에 장착되는 지지 구조물을 갖고 상기 지지 구조물을 상기 제2 선형 개구를 거쳐 연장되는 제2 단부 작동체와,z축을 따라서 상기 하우징을 이동시키는 수단과,θ축 둘레에서 상기 하우징을 회전시키는 수단을 포함하며,상기 제1 단부 작동체는 웨이퍼를 원하는 방향으로 지지하고 회전시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기구.
- 반도체 웨이퍼 및 기판을 조작하기 위한 기구에 있어서,단부 작동체와,상기 단부 작동체를 수평 방향으로 이동시키기 위한 제1 구동 기구와,상기 수평 구동 기구를 지지하기 위한 캐리지와,상기 캐리지를 수직 방향으로 선형 이동시키기 위한 제2 구동 기구를 갖는 Z 기둥과,수직한 θ축 둘레에서 상기 z 기둥을 회전시키기 위한 회전 구동부를 포함하며,상기 캐리지는 상기 z 기둥의 측면에 위치되는 것을 특징으로 하는 기구.
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