KR20030076235A - 다중빔 패턴 발생기 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 감광성 기판(11)상에 고정밀 패턴의 마이크로리소그래피 다중빔 기록용 주사 패턴 발생기 및 방법에 관한 것으로, 이러한 장치는 적어도 두 개의 광빔을 발생시키기 위한 광원(1) 바람직하게는 레이저, 컴퓨터-제어 광 변조기(4), 광원으로부터의 적어도 하나의 광빔이 기판에 도달하기 전에 수렴하기 위해 기판과 대물렌즈(10)상에 빔을 주사하는 편향기를 포함하며, 적어도 대물렌즈는 기판(11)과 광원(1)에 대해 이동 가능한 캐리어(22)상에 배치된다. 이에 따라, 캐리어는 나머지 고정 광학 경로에 대해 가동 광학 경로를 한정한다. 더욱이, 시스템은 캐리어와 가동 광학 경로의 이동 동안 감광성 기판상에 부딪칠 때 빔에 대한 텔레센트리시티가 유지되도록 고정 광학 경로를 변경하기 위한 수단을 포함한다.

Description

다중빔 패턴 발생기 {MULTI-BEAM PATTERN GENERATOR}
기판의 마이크로리소그래피 기록을 위한 장치 및 방법은 본 출원인의 유럽특허 EP 0 467 076호에 이미 공지되어 있다. 마이크로그래피 기록용 장치의 일례는 도 1에 도시된 바와 같이, 레이저와 같은 광원(1), 원하는 방향으로 빔을 지향시키기 위한 하나 이상의 반사경(2), 광빔을 수렴하기 위한 제 1 렌즈(3), 기록될 원하는 패턴을 생성하는 변조기(4) 및 변조기 다음에 배치된 제 2 렌즈(5)를 포함한다. 변조기는 입력 데이터에 따라 제어된다. 편향기가 기판(11)상에 빔을 주사하는데 사용되며, 렌즈(7, 8, 10)가 기판상에 빔을 수렴하고 결상하는데 사용된다. 편향기는 거울과 같은 가동 반사 엘리먼트일 수 있다. 하지만, 음향-광학 편향기 등과 같은 여러 기능적으로 동일한 스캐너가 사용될 수 있다. 더욱이, 기판은 바람직하게는 대물 테이블상에 배치된다.
캐리어상에 적어도 대물 렌즈(10) 바람직하게는, 렌즈(7-8)와 편향기(6)를 배치함으로써 렌즈(10)와 테이블(스테이지) 사이에 상대 이동이 제공될 수 있다. 여기서, 캐리어는 기판에 대해 그리고 실질적으로 주사 방향에 수직인 방향으로 광원에 대해 움직일 수 있다.
이러한 종래기술의 장치가 기록 속도를 개선하기 위해 소위 다중빔 기록이라 불리는 기판에 여러 빔이 동시에 지향되도록 하는데 사용된다면, 여러 문제점들이 발생할 것이다.
조리개내 가우스 고정 조사(gauss stationary illumination)가 달성되는 것이 중요하지만, 이는 가동 캐리어와 조합하여 다중빔을 사용할 때 얻어지는 것이 어렵다는 것을 나타낸다. 만일 이러한 조사가 얻어지지 않는다면, 빔은 다른 각도로 기판에 부딪칠 것이고, 이에 따라 피할 수 없는 기판상의 초점에 작은 차이로 인해 주사 길이에서의 바람직하지 않은 편차를 초래한다. 여러 응용에서, 20nm의 주사 길이의 최대 편차가 필요하다. 그러므로, 고도의 텔레센트리시티(telecentricity) 즉, 주사동안 빔들이 평행한 것이 요구된다. 이를 위해, 빔이 편향기내에서 서로에 대해 중첩되는 것이 중요하지만, 이는 캐리어상의 편향기와 변조기 사이의 거리 변화로 인해 달성되기 어렵다는 것이 판명되었다.
특히, 광학 경로의 일부가 이동 가능한 패턴 발생기내 다중빔 기록을 사용하는 것은 여러 문제점을 야기한다. 도 2a는 가동 광학 경로가 중간 위치에 있는 패턴 발생기를 도시한다. 이 경우, 빔은 편향기(6)와 일치할 것이고 만족스런 텔레센트리시티가 달성된다. 하지만, 도 2b에 도시된 바와 같이 캐리어가 최종 위치로 이동될 때, 빔은 편향기와 일치하지 않고 서로에 대해 변위하게 될 것이다. 이에 따라, 대물렌즈(10)내 빔 경로는 비스듬할 것이고, 텔레센트리시티는 심각하게 저하될 것이다. 또한, 빔의 일부가 렌즈의 동작부로부터 변위할 것이기 때문에 방사 에너지의 손실도 있을 것이다.
본 발명은 감광성 기판상에 마이크로리소그래피 다중빔 기록을 위한 장치 및 방법, 특히 반도체 장치 패턴, 디스플레이 패널, 집적 광학장치 및 전자 상호연결 구조물을 위한 포토마스크와 같은 패턴을 초고정밀도로 인쇄하는 것에 관한 것이다. 기록 및 인쇄라는 용어는 광의적으로 포토레지스트 노광 및 사진 유제를 의미할 뿐만 아니라, 광 또는 열에 의해 활성화된 연마 또는 화학처리에 의해 건식-처리 페이퍼(dry-process paper)와 같은 다른 감광성 매체상에서의 광의 작용을 의미한다. 광은 가시광에만 제한되는 것이 아니라 적외선으로부터 극원자외선까지의 넓은 파장 범위이다.
도 1은 종래기술의 단일빔 장치의 개략도.
도 2a 및 도 2b는 바람직하지 않은 텔레센트리시티의 문제점을 도시하는 다중빔 장치의 개략도.
도 3a는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 장치의 개략도.
도 3b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 장치의 개략도.
도 3c는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 장치의 개략도.
본 발명의 목적은 마이크로리소그래피 다중빔 기록용 장치 및 방법을 제공하여, 종래기술과 관련된 문제점들을 극복 또는 적어도 감소시키는 것이다.
이러한 목적은 첨부된 청구항에 따른 장치에 의해 달성된다.
본 발명에 따르면, 감광성 기판(11)상에 고정밀 패턴의 마이크로리소그래피 다중빔 기록을 위한 주사 패턴 발생기 및 방법이 제공된다. 이러한 장치는 적어도 두 개의 광빔을 발생시키기 위한 광원(1) 바람직하게는, 레이저인 광원, 컴퓨터-제어 광 변조기(4), 기판상에 빔을 주사하기 위한 편향기 및 광원으로부터의 적어도 하나의 광빔을 기판상에 도달하기 전에 수렴하는 대물렌즈(10)를 포함하고, 여기서 적어도 대물렌즈는 기판(11)과 광원(1)에 대해 이동 가능한 캐리어(22)상에 배치되며, 캐리어는 나머지 고정 광학 경로에 대해 이동 가능한 가동 광학 경로를 한정한다. 더욱이, 캐리어와 가동 광학 경로의 이동 동안 감광성 기판상에 빔이 부딪칠때 빔에 대한 텔레센트리시티를 유지하기 위해 고정 광학 경로를 변경하기 위한 수단을 포함한다.
이에 따라, 고정 광학 경로는 텔레센트리시티를 유지하기 위해 자동적으로 조정될 수 있다.
바람직하게, 편향기(6)는 캐리어상에 배치되고, 고정 광학 경로를 변경하기 위한 수단은 빔이 편향기와 일치하도록 배치된다.
본 발명의 제 1 특징에 따르면, 고정 광학 경로를 변경하기 위한 수단은 가동 반사 엘리먼트를 포함하는 광학 우회로(24)와 같은 고정 광학 경로의 공간 경로 길이를 변경하기 위한 수단(24)을 포함한다.
본 발명의 제 2 특징에 따르면, 고정 광학 경로를 변경하기 위한 수단은 제어가능한 빔 분할기(20)를 포함한다. 이러한 빔 분할기는 바람직하게는 이동 가능하고, 바람직하게는 회절 광학 엘리먼트를 포함한다.
본 발명의 제 3 특징에 따르면, 고정 광학 경로를 변경하기 위한 수단은 변조기 이후 배치되는 적어도 하나의 가동 렌즈를 포함한다.
예시를 위해, 본 발명은 첨부된 도면에 도시된 실시예를 참조하여 이하에서 상세히 설명될 것이다.
본 발명에 따른 장치는 바람직하게는 도입부에서 설명된 바와 같이 EP 0 467 076에 공지된 것 바와 같은 레이저 주사기 장치이지만, 다중빔 기록에 대핸 개선된 특성을 가진다. 따라서, 이러한 장치는 다중빔 장치이고, 여기서 이러한 장치는 광원으로부터의 빔을 여러 빔으로 분할하고, 기판을 여러 주사선에 동시에 노광하는 빔 분할기를 포함한다.
도 3a를 참조하면, 본 발명의 제 1 특징에 따른 장치는 광원(1) 바람직하게는 레이저, 광원으로부터의 빔을 여러 빔으로 분할하기 위한 빔 분할기(20), 컴퓨터-제어 광 변조기(4) 및 감광성 기판(11)에 도달하기 전에 광원으로부터의 광빔을 수렴하기 위한 대물렌즈(10)를 포함한다. 더욱이, 이러한 장치는 원하는 방향으로 광을 지향하기 위한 하나 이상의 반사경(2), 기록될 원하는 패턴을 발생시키는 변조기(4), 변조기상에 광빔을 수렴하기 위한 제 1 렌즈(3) 및 편향기(6)쪽으로 빔을 지향하기 위해 변조기 이후에 위치하는 제 2(시준) 렌즈(5)를 포함한다. 변조기는 입력 데이터에 따라 제어된다.
편향기(6)는 기판(11)상에 빔을 주사하는데 사용되고, 렌즈(7, 8, 10)는 기판상에 빔을 모아 결상하는데 사용된다. 추가로, 조리개(9)는 바람직하게는 미광(stray-light)이 기판상에 부딪치는 것을 방지하는데 사용된다. 편향기는 거울과 같은 가동 반사 엘리먼트일 수 있다. 하지만, 음향-광학 편향기와 같은 여러 기능적으로 동일한 주사기가 사용될 수도 있다. 추가로, 기판(11)은 바람직하게는 대물 테이블상에 배치된다.
적어도 대물렌즈(10)는 가동 캐리어(22) 바람직하게는 편향기(6)상에 위치하고, 렌즈(7-8) 또한 캐리어상에 위치한다. 캐리어(22)는 기판에 대해 이동 가능하고, 더욱이 변조기 및 장치의 다른 광학 엘리먼트에 대해 빔 방향으로 이동 가능하다. 본 발명에 따른 장치는 특히 광역 기판의 기록에 사용되며, 이러한 응용을 위해 캐리어는 전형적으로 동작시 1100mm 이동된다.
캐리어의 이동으로 인해, 빔은 가장먼저 고정 광학 경로를 통해 이동하고, 이후 캐리어상의 가동 광학 경로로 이동한 다음 기판으로 지향된다.
본 발명에 따르면, 이러한 장치는 고정 광학 경로로부터의 빔이 가동 광학 경로로 지향되는 방법을 변경하기 위한 수단을 포함한다. 이러한 수단은 바람직하게는 가동 회절 광학 엘리먼트(DOE) 및 제어 가능한 빔 분할기 및 가장 바람직하게는 변조기(4) 이전에 배치된 회절 광학 빔 분할기(20)를 포함한다. 이러한 광학 엘리먼트(20)는 이동 가능하고, 이에 의해 빔의 방향이 가동 광학 경로로 지향되며, 편향기가 변경될 수 있다. 이에 따라, 매우 제한된 광학 엘리먼트의 이동이 충분한 텔레센트리시티를 달성하기 위해 필요하고, 이에 의해 매우 낮은 기계적 정밀도만이 요구된다. 예를 들면, 캐리어의 대략 1100mm의 이동을 보상하기 위해, 광학 엘리먼트에 대해 대략 +/-35mm의 이동이 요구된다. 이에 따라, 빔 분할기 또는 회절 광학 엘리먼트의 위치를 조정함으로써 빔이 편향기와 일치하도록 할 수 있고, 만족스러운 텔레센트리시티가 달성된다는 것을 알 수 있다. 이는 도 3a에 도시되어 있고, 여기서 캐리어의 위치는 도 2b에 도시된 바와 같지만, 빔 분할기는 이를 보상하기 위해 이동되었다.
광학 엘리먼트의 이동에 대한 제어는 바람직하게는 캐리어(22)의 이동과 관련하여 동시에 제어된다. 이를 위해, 제어기가 바람직하게 제공된다. 상기 제어기는 캐리어의 위치를 나타내는 위치 신호를 제공받으며 이에 따라 광학 엘리먼트에 제어 신호를 발생시킨다.
도 3b에서, 본 발명에 따른 제 2 실시예가 도시된다. 이러한 실시예에서, 유사 부분에 대해 동일 참조부호가 사용되었다. 제 2 실시예에 따른 장치는 여기서 상술된 제 1 실시예와 상응하지만, 고정 광학 경로로부터의 빔이 가동 광학 경로 및 편향기에 지향되는 방법을 변경하는 수단이 변조기 이후 배치된 하나 또는 여러 개의 가동 렌즈라는 차이를 가진다. 이러한 가동 렌즈는 바람직하게는 시준 렌즈(5와 21)이다. 더욱이, 렌즈(25)와 같은 가동 또는 고정 렌즈가 배치될 수도 있다. 그러므로, 이러한 실시예에서, 하나, 둘 또는 그 이상의 가동 시준 렌즈가 빔이 편향기와 일치하도록 제어하고 텔레센트리시티를 개선하는데 사용된다.
도 3c에서, 본 발명의 제 3 실시예가 도시된다. 이러한 실시예에서, 유사한 부분에 대해 동일한 참조부호가 사용되었다. 본 발명의 제 3 실시예에 따른 장치는 제 1 실시예와 상응하지만, 고정 광학 경로로부터의 빔이 가동 광학 경로 및 편향기로 지향되는 방법을 변경하기 위한 수단이 변조기와 편향기 사이의 광학 경로 길이를 변경하기 위한 수단(24)이라는 차이를 가진다. 이러한 수단을 예를 들면,거울 또는 프리즘과 같은 반사 엘리먼트를 가진 광학 우회로를 포함하고, 여기서 반사 엘리먼트중 적어도 하나는 도 3c에 도시된 바와 같이 공간 경로 길이를 증가 또는 감소시키도록 이동 가능하다.
그러므로, 제 3 실시예에서, 광학 경로 길이는 빔이 편향기와 일치하도록 제어하고 텔레센트리시티를 개선하도록 변경될 수 있다.
본 발명에 따른 장치는 용이한 방법으로 그리고 소수의 부품을 가진 수단을 사용하여 개선된 정밀도와 텔레센트리시티를 제공한다. 따라서, 본 발명에 따른 장치 및 방법은 바람직하지 않은 텔레센트리시티로 인한 빔 위치 편차를 효율적으로 보상한다. 따라서, 본 발명은 고정밀 패턴 마이크로리소그래피 기록이 더욱 효율적이고 비용효과적이 되도록 하며, 동시에 패턴 정밀도 또한 개선된다.
하지만, 당업자라면 상술된 실시예에 대한 여러 변경이 가능하다는 것을 알 수 있을 것이다. 예를 들면, 광학 우회로, 여러 제어 가능한 빔 분할기, 여러 광학 엘리먼트 등과 같은 광학 경로 길이를 변경하기 위한 여러 수단이 사용 가능하다는 것을 알 수 있을 것이다. 이러한 변경은 본 발명의 일부로서 고려되며, 이하의 청구항에 한정된 바와 같다.

Claims (17)

  1. 감광성 기판(11)상에 고정밀 패턴의 마이크로리소그래피 다중빔 기록용 주사 패턴 발생기로서, 적어도 두 개의 광빔을 발생시키는 레이저와 같은 광원(1), 컴퓨터-제어 광 변조기(4), 상기 기판상에 빔을 주사하는 편향기 및 상기 광원으로부터의 적어도 하나의 빔이 상기 기판에 도달하기 전에 수렴하는 대물렌즈(10)를 포함하며, 적어도 상기 대물렌즈는 상기 기판(11)과 상기 광원(1)에 대해 이동 가능한 캐리어(22)상에 배치되며, 상기 캐리어는 나머지 고정 광학 경로에 대해 가동 광학 경로를 한정하며, 상기 캐리어와 상기 가동 광학 경로의 이동동안 상기 감광성 기판상에 부딪칠 때 상기 빔에 대한 텔레센트리시티를 유지하도록 상기 고정 광학 경로를 변경하는 수단을 더 포함하는 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 수단은 상기 캐리어(22)의 이동에 대해 자동적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 장치는 상기 캐리어(22)의 위치를 나타내는 위치 신호를 공급받으며 이에 따라 상기 고정 광학 경로를 변경하는 수단을 제어하는 제어 신호를 발생시키는 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향기(6)는 상기 캐리어상에 배치되며, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 수단은 상기 빔이 상기 편향기와 일치하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제 1항 내지 제 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 수단은 상기 고정 광학 경로의 공간 경로 길이를 변경하는 수단(24)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 수단은 가동 반사 엘리먼트를 구비하는 광학 우회로(24)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제 1항 내지 제 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 수단은 제어 가능한 빔 분할기(20)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제 7항에 있어서, 상기 빔 분할기는 회절 광학 엘리먼트인 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제 1항 내지 제 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 수단은 상기 변조기 이후 배치되는 적어도 하나의 가동 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제 1항 내지 제 9항중 어느 한 항에 있어서, 상기 변조기는 음향-광학 변조기인 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제 1항 내지 제 10항중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향기는 음향-광학 편향기인 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 감광성 기판(10)상에 고정밀 패턴을 마이크로리소그래피 다중빔 기록용 주사 방법으로서, 광원(1)으로부터 발생되며, 컴퓨터-제어 광 변조기(4), 상기 기판상에 빔을 주사하는 편향기 및 상기 광원으로부터의 적어도 하나의 광빔이 상기 기판에 도달하기 전에 수렴하는 대물렌즈에 의해 제어되는 적어도 두 개의 빔을 가지며, 적어도 상기 대물렌즈는 상기 기판(11)과 상기 광원(1)에 대해 이동 가능한 캐리어(22)상에 배치되며, 상기 캐리어는 나머지 고정 광학 경로에 대해 가동 광학 경로를 한정하며, 상기 캐리어 및 상기 가동 광학 경로의 이동 동안 상기 감광성 기판상에 부딪칠 때 상기 빔에 대한 텔레센트리시티를 유지하도록 상기 고정 광학 경로를 변경하는 단계를 포함하는 방법.
  13. 제 12항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 단계는 상기 캐리어(22)의 이동에 대해 자동적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제 12항 또는 제 13항에 있어서, 상기 편향기(6)는 상기 캐리어상에 배치되며, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 단계는 상기 빔이 상기 편향기와 일치하도록 하는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제 12항 내지 제 14항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 단계는 상기 고정 광학 경로의 공간 경로 길이를 변경하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제 12항 내지 제 14항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 단계는 가동 빔 분할기(20)의 제어된 이동을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제 12항 내지 제 14항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정 광학 경로를 변경하는 단계는 변조기 이후 배치된 적어도 하나의 렌즈의 제어된 이동을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8238006B2 (en) 2007-09-04 2012-08-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for displaying three-dimensional images

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7184184B2 (en) 2003-12-31 2007-02-27 Reliant Technologies, Inc. High speed, high efficiency optical pattern generator using rotating optical elements
US7196831B2 (en) 2003-12-31 2007-03-27 Reliant Technologies, Inc. Two-dimensional optical scan system using a counter-rotating disk scanner
US8390781B2 (en) 2008-09-23 2013-03-05 Pinebrook Imaging Technology, Ltd. Optical imaging writer system
US8395752B2 (en) 2008-09-23 2013-03-12 Pinebrook Imaging Technology, Ltd. Optical imaging writer system
US8253923B1 (en) 2008-09-23 2012-08-28 Pinebrook Imaging Technology, Ltd. Optical imaging writer system
US8390786B2 (en) 2008-09-23 2013-03-05 Pinebrook Imaging Technology, Ltd. Optical imaging writer system
US8670106B2 (en) 2008-09-23 2014-03-11 Pinebrook Imaging, Inc. Optical imaging writer system
EP2202580B1 (en) * 2008-12-23 2011-06-22 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
JP5689535B2 (ja) * 2010-12-08 2015-03-25 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
US10725287B2 (en) 2013-06-11 2020-07-28 Nlight, Inc. Image rotation compensation for multiple beam material processing
CN105659164B (zh) * 2013-10-22 2019-04-30 应用材料公司 根据光刻胶厚度使用处理器改变写入射束的输送剂量的图案产生器及相关方法
US10569357B1 (en) 2014-08-01 2020-02-25 Nlight, Inc. Scanner drift compensation for laser material processing
US10406630B1 (en) 2014-11-20 2019-09-10 Nlight, Inc. Multi-beam laser processing with dispersion compensation

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5793907U (ko) * 1980-11-26 1982-06-09
JPS57102016A (en) * 1980-12-17 1982-06-24 Hitachi Ltd Pattern generator
US4861983A (en) * 1987-04-27 1989-08-29 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Optical system for flying-spot scanning system
JPH0315018A (ja) * 1989-01-13 1991-01-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像走査記録装置のレーザ露光装置
DE69226511T2 (de) * 1992-03-05 1999-01-28 Micronic Laser Systems Ab Verfahren und Vorrichtung zur Belichtung von Substraten
JPH0992592A (ja) * 1995-09-22 1997-04-04 Canon Inc 走査露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JP3991166B2 (ja) * 1996-10-25 2007-10-17 株式会社ニコン 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
JP3571935B2 (ja) * 1998-10-09 2004-09-29 キヤノン株式会社 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
SE514835C2 (sv) * 1999-01-21 2001-04-30 Micronic Laser Systems Ab System och metod för mikrolitografiskt skrivande
US6570840B1 (en) * 2000-04-26 2003-05-27 Optical Disc Corporation Figure of merit in optical recording structures

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8238006B2 (en) 2007-09-04 2012-08-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for displaying three-dimensional images

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Publication number Publication date
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