DE10196379B3

DE10196379B3 - Mehrstrahl-Mustergenerator

Info

Publication number: DE10196379B3
Application number: DE10196379T
Authority: DE
Inventors: Torbjörn Sandström
Original assignee: Micronic Laser Systems AB
Current assignee: Micronic Laser Systems AB
Priority date: 2000-06-27
Filing date: 2001-06-25
Publication date: 2012-03-29
Anticipated expiration: 2021-06-26
Also published as: JP2004502197A; AU2001266499A1; WO2002001298A1; US20030140806A1; CN1221866C; KR20030076235A; US6975443B2; SE0002405L; DE10196379T1; KR100794851B1; SE0002405D0; CN1432142A; SE518170C2

Abstract

Abtast-Mustergenerator für mikrolithographisches Mehrstrahl-Schreiben von hochpräzisen Mustern auf einem lichtempfindlichen Substrat (11), wobei das Abtast-Mustergenerator eine Lichtquelle (1) zum Erzeugen wenigstens zweier Lichtstrahlen, einen rechnergesteuerten Lichtmodulator (4), eine Ablenkeinheine Objektivlinse (10) zum Bündeln der wenigstens zwei von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahlen aufweist, bevor diese auf das Substrat treffen, wobei zumindest die Objektivlinse auf einem Träger (22) angeordnet ist, der relativ zu dem Substrat (11) und der Lichtquelle (1) beweglich ist, wobei der Träger einen beweglichen ersten optischen Pfad relativ zu dem verbleibenden zweiten optischen Pfad definiert, darüber hinaus gekennzeichnet durch Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades, um eine Telezentrizität für die Strahlen aufrechtzuerhalten, wenn diese während der Bewegung des Trägers und des beweglichen ersten optischen Pfades auf das lichtempfindliche Substrat auftreffen.

Description

Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein System und ein Verfahren zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben auf lichtempfindlichen Substraten gemäß dem Oberbegriff der Ansprüche 1 und 13 und speziell zum Drucken von Mustern mit extrem hoher Präzision, wie Fotomasken für Muster für Halbleiterbauteile, Anzeigeflächen, integrierte optische Bauteile und elektronische Verbindungsstrukturen.
Die Begriffe des Schreibens und Druckens sollten im weiteren Sinne verstanden werden und umfassen die Belichtung von Fotolack und fotographischer Emulsion ebenso wie das Einwirken von Licht auf andere lichtempfindliche Medien, wie Papier für Trockenverfahren, durch Ablation oder chemische Prozesse, die durch Licht oder Wärme aktiviert werden. Licht ist nicht auf sichtbares Licht beschränkt, sondern umfasst einen breiten Wellenlängenbereich von Infrarot bis zum extremen Ultraviolett.
Hintergrund der Erfindung
Ein System und ein Verfahren zum mikrolithographischen Schreiben auf einem Substrat ist beispielsweise aus der EP 0 467 076 A2 desselben Anmelders bekannt. Ein Ausführungsbeispiel eines Systems zum mikrolithographischen Schreiben, wie es in der 1 dargestellt ist, weist eine Lichtquelle 1, wie einen Laser, einen oder mehrere reflektierende Spiegel 2 zum Lenken des Strahls in die gewünschte Richtung, eine erste Linse 3 zum Bündeln der Lichtstrahlen, einen Modulator 4 zum Erzeugen des gewünschten zu schreibenden Musters und eine zweite Linse 5 hinter dem Modulator auf. Der Modulator wird durch Eingangsdaten gesteuert. Eine Ablenkeinheit wird zum Scannen der Strahlen auf das Substrat 11 eingesetzt, und Linsen 7, 8, 10 finden zum Bündeln und Fokussieren der Strahlen auf das Substrat Verwendung. Die Ablenkeinheit kann ein bewegliches reflektierendes Element sein, beispielsweise ein Spiegel. Es können jedoch auch eine Anzahl funktionell gleichwirkender Scanner benutzt werden, wie akusto-optische Ablenkeinheiten usw. Darüber hinaus ist das Substrat vorzugsweise auf einem Objekttisch angeordnet.
Eine Relativbewegung zwischen der Linse 10 und dem Tisch (der Plattform) lässt sich dadurch erreichen, dass zumindest die Objektlinse 10 und vorzugsweise die Linsen 7, 8 sowie die Ablenkeinheit 6 auf einem Träger angeordnet werden. Dabei lässt sich der Träger relativ zum Substrat und zu der Lichtquelle in einer zur Scan-Richtung im wesentlichen senkrechten Richtung bewegen.
Wenn ein solches System vorbekannter Art mit mehreren Strahlen verwendet werden sollte, die gleichzeitig auf das Substrat gerichtet sind, um die Schreibgeschwindigkeit zu erhöhen, sogenanntes Mehrstrahlen-Schreiben, so würden mehrere Probleme entstehen.
Es ist wichtig, im Brennpunkt der Linse eine stationäre gaußverteilte Beleuchtung zu erzielen, was sich jedoch als schwierig herausstellt, wenn mehrere Strahlen in Verbindung mit einem beweglichen Träger verwendet werden. Wird eine solche Beleuchtung nicht erreicht, so treffen die Strahlen unter verschiedenen Winkeln auf das Substrat, wodurch sich kleine, unvermeidliche Fokusunterschiede auf dem Substrat zu nachteiligen Veränderungen der Scan-Längen auswachsen. Für mehrere Anwendungen ist eine maximale Scanlängen-Variation von 20 nm gefordert. Aus diesem Grund ist ein hohes Maß an Telezentrizität, d. h. paralleler Strahlen während des Scan-Vorgangs, erforderlich. Um dies zu erreichen, ist es wichtig, dass die Strahlen in der Ablenkeinheit überlagert werden, was sich jedoch aufgrund des veränderlichen Abstands zwischen der auf dem Träger angeordneten Ablenkeinheit und dem Modulator als schwierig erweist.
Insbesondere ergeben sich Probleme bei der Anwendung des Mehrstrahl-Schreibens in einem Mustergenerator, bei dem ein Teil des optischen Pfades beweglich ist. Die 2a zeigt einen Mustergenerator, bei dem sich der bewegliche optische Pfad in einer Zwischenstellung befindet. In diesem Fall fallen die Strahlen in der Ablenkeinheit 6 zusammen, und es ergibt sich eine zufriedenstellende Telezentrizität. Wird der Träger jedoch in eine Endstellung bewegt, wie in 2b dargestellt, so fallen die Strahlen in der Ablenkeinheit nicht zusammen, sondern sind gegeneinander verschoben. Auf diese Weise ergibt sich ein schiefer Strahlengang in der Objektivlinse 10, und die Telezentrizität wird stark verschlechtert. Es ergibt sich zudem ein Verlust von Strahlungsenergie, da ein Teil der Strahlen aus dem Arbeitsbereich der Linsen hinaus verschoben wird.
Darüber hinaus beschreibt die US 5 495 279 A ein Verfahren zum Belichten von Mustern durch Schreiben mit fokussiertem Laserlicht auf Substrate, die bei der jeweiligen Wellenlänge des verwendeten Laserlichtes lichtempfindlich sind. Hierbei wird das Substrat während des Schreibvorgangs in einer ersten Richtung relativ zu einem feststehenden Rahmen bewegt, woraufhin das optische System, welches das laserlicht auf die lichtempfindliche Fläche fokussiert, kontinuierlich in eine zweite Richtung bewegt wird, die sich im Wesentlichen senkrecht zur ersten Richtung erstreckt. Das fokussierte Laserlicht wird sodann entlang der ersten Richtung auf die lichtempfindliche Fläche verteilt, um eine ausgedehnte Brennfläche auszubilden, wobei das fokussierte Laserlicht, das auf mehr als eine vorgegebene Anzahl an Positionsinkrementen auftrifft, die in der ersten Richtung entlang der ausgedehnten Brennfläche in Abständen voneinander angeordnet sind, unabhängig gesteuert wird. Die Position des Substrates wird hierbei in der ersten Richtung relativ zu der Fokussierlinse erfasst und wird die Position des geschriebenen Musters relativ zu dem feststehenden Rahmen durch die Ausführung von Positionskorrelationen in der ersten Richtung in Abhängigkeit von der erfassten Position gesteuert. Eine Veränderung eines stationären Pfades zur Aufrechterhaltung einer Telezentrizität von mehreren Laserlichtstrahlen ist indes nicht vorgesehen.
Entsprechendes gilt für die US 4 455 485 A und für die WO 00/43838 A1 . Erstere beschreibt ein Laserstrahl-Abtastsystem zum Abtasten der Oberfläche einer Probe mit einem Lichtstrahl, dessen Abtastfleck einen kleinen Durchmesser aufweist. Das System umfasst ferner eine akusto-optische Ablenkeinheit, eine Objektivlinse zum Fokussieren des Laserstrahls zu einem Abtastfleck mit kleinem Durchmesser auf der Oberfläche der Probe, einen optischen Modulator zum Modulieren des Laserstrahls, welcher auf die akusto-optische Ablenkeinheit auftrifft, sowie eine Relais-Linse, die zwischen der akusto-optischen Ablenkeinheit und der Objektivlinse angeordnet ist, um dem Laserstrahldurchmesser zu vergrößern und um den Ablenkpunkt des Laserstrahls in Richtung auf des Zentrum der Objektivlinse zu projizieren. Ein Schlitten sorgt für die Bewegung der Probe in der Richtung von zwei Achsen in einer zur Oberfläche der Probe parallelen Ebene. Die akusto-optische Ablenkeinheit lenkt den stark fokussierten einfallenden Laserstrahl innerhalb eines kleinen Feldes auf der Probenoberfläche ab, während der Schlitten die Probe innerhalb eines in Bezug auf den einfallenden Laserstrahl relativ großen Feldes bewegt.
Der WO 00/43838 A1 desselben Anmelders ist schließlich ein System und ein Verfahren zum mikrolithographischen Schreiben auf einem lichtempfindlichen Substrat zu entnehmen, welches einen Detektor zum Ermitteln von zeitweiligen abnormalen Fehlerparametern während des Schreibvorgangs umfasst, wobei ein System zur Fehlerbehebung einen Neustart des Schreibvorgangs in einer Position ermöglicht, in welcher der Schreibvorgang unterbrochen worden ist, als der Fehlerparameter aufgehört hat zu existieren.
Zusammenfassung der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein System und ein Verfahren zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben der eingangs genannten Art zu schaffen, bei denen die mit dem Stand der Technik verbundenen Probleme überwunden oder zumindest reduziert werden.
In vorrichtungstechnischer Hinsicht wird diese Aufgabe erfindungsgemäß bei einem System zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben auf lichtempfindlichen Substraten der eingangs genannten Art durch die kennzeichnenden Merkmale der Anspruchs 1 gelöst.
In verfahrenstechnischer Hinsicht sieht die Erfindung zur Lösung dieser Aufgabe bei einem Verfahren zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben auf lichtempfindlichen Substraten der eingangs genannten Art die kennzeichnenden Merkmale der Anspruchs 13 vor.
Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
Erfindungsgemäß wird ein Abtast-Mustergenerator und ein Verfahren zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben von hochpräzisen Mustern auf einem lichtempfindlichen Substrat 11 geschaffen. Das System weist eine Lichtquelle 1, vorzugsweise einen Laser, zum Erzeugen wenigstens zweier Lichtstrahlen, einen rechnergesteuerten Lichtmodulator 4, eine Ablenkeinheit zum Scannen der Strahlen auf das Substrat und eine Objektivlinse 10 zum Bündeln des wenigstens einen von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahls auf, bevor dieser auf das Substrat trifft, wobei zumindest die Objektivlinse auf einem Träger 22 angeordnet ist, der relativ zu dem Substrat 11 und der Lichtquelle 1 beweglich ist, wobei der Träger einen beweglichen ersten optischen Pfad relativ zu dem verbleibenden zweiten optischen Pfad definiert.
Dabei kann der zweite optische Pfad automatisch eingestellt werden, um die Telezentrizität zu erhalten.
Vorzugsweise ist die Ablenkeinrichtung 6 auf dem Träger angeordnet, wobei die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades derart angeordnet sind, dass die Strahlen in der Ablenkeinheit zusammenfallen.
Gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung weisen die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades Mittel 24 zum Verändern der räumlichen Pfadlänge des zweiten optischen Pfades auf, wie eine optische Umleitung 24 mit beweglichen reflektierenden Elementen.
Gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung weisen die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades einen steuerbaren Strahlteiler 20 auf. Der Strahlteiler ist vorzugsweise beweglich und weist vorzugsweise ein diffraktives optisches Element auf.
Gemäß einem dritten Aspekt der Erfindung weisen die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades wenigstens eine bewegliche Linse auf, die hinter dem Modulator angeordnet ist.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Die Erfindung wird im folgenden exemplarisch anhand von Ausführungsbeispielen detaillierter beschrieben, die in den beigefügten Zeichnungen dargestellt sind. Es zeigt:
1 eine schematische Darstellung eines vorbekannten Einstrahl-Systems;
2a und 2b eine schematische Darstellung eines Mehrstrahl-Systems zur Darstellung des Problems verschlechterter Telezentrizität;
3a eine schematische Darstellung einer ersten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Systems;
3b eine schematische Darstellung einer zweiten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Systems; und
3c eine schematische Darstellung einer dritten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Systems.
Beschreibung bevorzugter Ausgestaltungen
Bei dem erfindungsgemäßen System handelt es sich vorzugsweise um ein Laser-Scannersystem, wie es aus der EP 0 467 076 bekannt ist, die hiermit zum Bestandteil dieser Beschreibung gemacht wird, jedoch mit verbesserten Eigenschaften für ein Mehrstrahl-Schreiben. Daher ist das System ein Mehrstrahl-System, wobei das System vorzugsweise einen Strahlteiler aufweist, um den von der Lichtquelle ausgesandten Strahl in mehrere Strahlen zu zerlegen und das Substrat entlang mehrerer Scan-Linien gleichzeitig zu belichten.
Mit Blick auf die 3a umfasst das System nach einer ersten, bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung eine Lichtquelle 1, vorzugsweise einen Laser, einen Strahlteiler 20 zum Teilen des von der Lichtquelle ausgesandten Strahls in mehrere Strahlen, einen rechnergesteuerten Lichtmodulator 4 und eine Objektivlinse 10 zum Bündeln des von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahls, bevor dieser auf das lichtempfindliche Substrat 11 trifft. Weiterhin umfasst das System vorzugsweise einen oder mehrere reflektierende Spiegel 2 zum Lenken des Strahls in die gewünschte Richtung, einen Modulator 4 zum Erzeugen des gewünschten zu schreibenden Musters, eine erste Linse 3 zum Bündeln der Lichtstrahlen auf dem Modulator und eine zweite (Sammel-)Linse 5 hinter dem Modulator, um die Strahlen auf eine Ablenkeinheit 6 zu richten. Der Modulator wird durch Eingangsdaten gesteuert.
Die Ablenkeinheit 6 wird zum Scannen der Strahlen auf das Substrat 11 verwendet, und die Linsen 7, 8, 10 dienen zum Bündeln und Fokussieren der Strahlen auf dem Substrat. Weiterhin wird vorzugsweise eine Blende 9 verwendet, um zu verhindern, dass Streulicht auf das Substrat fällt. Die Ablenkeinrichtung kann als bewegliches reflektierendes Element, wie ein Spiegel, ausgebildet sein. Allerdings können auch andere funktionell gleichwirkende Scanner eingesetzt werden, wie akusto-optische Ablenkeinrichtungen usw. Darüber hinaus ist das Substrat 11 vorzugsweise auf einem Objekttisch angeordnet.
Zumindest die Objektivlinse 10 befindet sich auf einem beweglichen Träger 22, allerdings sind vorzugsweise auch die Ablenkeinheit 6 und die Linsen 7, 8 auf dem Träger angeordnet. Der Träger 22 ist relativ zu dem Substrat und darüber hinaus in der Strahlrichtung relativ zum Modulator und den anderen optischen Bauteilen des Systems beweglich. Das erfindungsgemäße System ist besonders geeignet zum Beschreiben großflächiger Substrate, und der Träger kann für solche Anwendungen während des Betriebs typischerweise um 1100 mm verschoben werden.
Aufgrund der Bewegung des Trägers bewegen sich die Strahlen zunächst entlang einem zweiten optischen Pfad und anschließend entlang einem beweglichen ersten optischen Pfad auf dem Träger und werden anschließend auf das Substrat gerichtet.
Erfindungsgemäß weist das System weiterhin Mittel auf, die dazu geeignet sind, die Ablenkung der Strahlen vom zweiten optischen Pfad zum beweglichen ersten optischen Pfad zu verändern. Diese Mittel weisen vorzugsweise ein bewegliches defraktives optisches Element (DOE) oder einen steuerbaren Strahlteiler und nach einer äußerst bevorzugten Ausgestaltung einen diffraktiven optischen Strahlteiler 20 auf, der bzw. das vor dem Modulator 4 angeordnet ist. Das optische Element 20 ist beweglich, wodurch die Richtung der Strahlen, die in Richtung des beweglichen ersten optischen Pfades und der Ablenkeinrichtung gelenkt werden, verändert werden kann. Derart sind nur sehr begrenzte Bewegungen des optischen Elements erforderlich, um eine ausreichende Telezentrizität zu erreichen, wobei nur ein geringes Maß an mechanischer Präzision erforderlich ist. Beispielsweise ist zur Kompensation von Bewegungen des Trägers von etwa 1100 mm eine Bewegung von etwa +/–35 mm für das optische Element erforderlich. Auf diese Weise ist es durch Einstellen der Position des Strahlteilers oder des diffraktiven optischen Elementes möglich, die Strahlen in der Ablenkeinheit zusammenfallen zu lassen, so dass sich eine zufriedenstellende Telezentrizität ergibt. Dies ist in 3a dargestellt, in der die Position des Trägers dieselbe ist wie in 2b, während der Strahlteiler 20 zu Kompensationszwecken verschoben wurde.
Die Steuerung der Bewegung des optischen Elements erfolgt vorzugsweise synchron und in Verbindung mit der Bewegung des Trägers 22. Zu diesem Zweck ist vorzugsweise eine Steuerungseinrichtung vorgesehen. Die Steuerungseinrichtung erhält ein Positionssignal, das die Stellung des Trägers angibt, und erzeugt dementsprechend ein Steuersignal für das optische Element.
In der 3b ist eine alternative zweite Ausgestaltung der Erfindung dargestellt. Dabei werden zur Bezeichnung gleicher Komponenten dieselben Bezugszeichen verwendet. Das System gemäß der zweiten Ausgestaltung entspricht der vorstehend beschriebenen ersten Ausgestaltung mit dem Unterschied, dass die Mittel zum Verändern der Richtung der Strahlen vom zweiten optischen Pfad zum beweglichen ersten optischen Pfad und zur Ablenkeinrichtung hier als eine oder mehrere bewegliche Linsen ausgebildet sind, die sich hinter dem Modulator befinden. Bei den beweglichen Linsen handelt es sich vorzugsweise um Sammellinsen 5, 21. Weiterhin können auch bewegliche oder stationäre Linsen, wie Linse 25, vorgesehen sein. Auf diese Weise werden bei dieser Ausgestaltung eine, zwei oder noch mehr bewegliche Sammellinsen benutzt, um die Strahlen zu steuern, so dass diese in der Ablenkeinheit zusammenfallen, um die Telezentrizität zu verbessern.
Die 3c zeigt eine alternative dritte Ausgestaltung der Erfindung. Bei dieser Ausgestaltung bezeichnen dieselben Bezugszeichen gleiche Komponenten. Das System gemäß der dritten Ausgestaltung entspricht der vorstehend beschriebenen ersten Ausgestaltung mit dem Unterschied, dass die Mittel zum Verändern der Strahlrichtung vom zweiten optischen Pfad zum beweglichen ersten optischen Pfad und zur Ablenkeinrichtung hier als Mittel 24 zum Verändern der optischen Pfadlänge zwischen dem Modulator und der Ablenkeinrichtung ausgebildet sind. Derartige Mittel können beispielsweise eine optische Umleitung mit reflektierenden Elementen, wie Spiegeln oder Prismen, aufweisen, wobei zumindest eines der reflektierenden Elemente beweglich ist, um die räumliche Pfadlänge zu vergrößern oder zu verkleinern, wie in 3c dargestellt ist.
Auf diese Weise wird im Zuge der dritten Ausgestaltung die optische Pfadlänge verändert, um die Strahlen zu steuern, so dass sie in der Ablenkeinheit zusammenfallen, und um die Telezentrizität zu verbessern.
Das erfindungsgemäße System schafft auf einfache Weise und unter Verwendung einer geringen Anzahl von Bauteilen verbesserte Präzision und Telezentrizität. Auf diese Weise kompensieren das erfindungsgemäße System und das erfindungsgemäße Verfahren in effizienter Weise die Veränderungen der Strahlposition aufgrund verschlechterter Telezentrizität. Somit verbessert die Erfindung die Effizienz und reduziert die Kosten des mikrolithographischen Schreibens von hochpräzisen Mustern zusammen mit einer Verbesserung der Präzision der Muster selbst.
Verschiedenartige Abänderungen der vorgenannten Ausführungsformen sind möglich und für den Fachmann offensichtlich. Es ist beispielsweise möglich, mehrere unterschiedliche Mittel zum Verändern der optischen Pfadlänge zu verwenden, wie optische Umleitungen, verschiedene steuerbare Strahlteiler, unterschiedliche optische Elemente und dergleichen. Derartige offensichtliche Veränderungen, fallen unter den Schutzbereich der Erfindung, wie er durch die beigefügten Patentansprüche definiert ist.

Claims

Abtast-Mustergenerator für mikrolithographisches Mehrstrahl-Schreiben von hochpräzisen Mustern auf einem lichtempfindlichen Substrat (11), wobei das Abtast-Mustergenerator eine Lichtquelle (1) zum Erzeugen wenigstens zweier Lichtstrahlen, einen rechnergesteuerten Lichtmodulator (4), eine Ablenkeinheit zum Scannen der Strahlen auf das Substrat und eine Objektivlinse (10) zum Bündeln der wenigstens zwei von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahlen aufweist, bevor diese auf das Substrat treffen, wobei zumindest die Objektivlinse auf einem Träger (22) angeordnet ist, der relativ zu dem Substrat (11) und der Lichtquelle (1) beweglich ist, wobei der Träger einen beweglichen ersten optischen Pfad relativ zu dem verbleibenden zweiten optischen Pfad definiert, darüber hinaus gekennzeichnet durch Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades, um eine Telezentrizität für die Strahlen aufrechtzuerhalten, wenn diese während der Bewegung des Trägers und des beweglichen ersten optischen Pfades auf das lichtempfindliche Substrat auftreffen.
Abtast-Mustergenerator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquelle (1) von einem Laser gebildet ist.
Abtast-Mustergenerator nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades in Verbindung mit der Bewegung des Trägers (22) automatisch gesteuert sind.
Abtast-Mustergenerator nach Anspruch 3, gekennzeichnet durch eine Steuerungseinheit, die ein Positionssignal erhält, das die Position des Trägers (22) angibt, und die ein Steuerungssignal zum entsprechenden Steuern der Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades erzeugt.
Abtast-Mustergenerator nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablenkeinheit (6) auf dem Träger angeordnet ist und dass die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfads derart angeordnet sind, dass die Strahlen in der Ablenkeinheit (6) zusammenfallen.
Abtast-Mustergenerator nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades Mittel (24) zum Verändern der räumlichen Pfadlänge des stationären optischen Pfades aufweisen.
Abtast-Mustergenerator nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades eine optische Umleitung (24) mit beweglichen reflektierenden Elementen aufweisen.
Abtast-Mustergenerator nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades einen steuerbaren Strahlteiler (20) aufweisen.
Abtast-Mustergenerator nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahlteiler (20) ein diffraktives optisches Element ist.
Abtast-Mustergenerator nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades wenigstens eine bewegliche Linse aufweisen, die hinter dem Modulator angeordnet ist.
Abtast-Mustergenerator nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Modulator ein akusto-optischer Modulator ist.
Abtast-Mustergenerator nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablenkeinheit eine akusto-optische Ablenkeinheit ist.
Verfahren zum abtastenden mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben von hochpräzisen Mustern auf einem lichtempfindlichen Substrat (11) mit wenigstens zwei Lichtstrahlen, die von einer Lichtquelle (1) ausgesandt und durch einen rechnergesteuerten Lichtmodulator (4) gesteuert werden, einer Ablenkeinheit zum Scannen der Strahlen auf das Substrat und einer Objektivlinse zum Bündeln der wenigstens zwei von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahlen vor deren Auftreffen auf das Substrat, wobei zumindest die Objektivlinse auf einem Träger (22) angeordnet ist, der relativ zu dem Substrat (11) und der Lichtquelle (1) beweglich ist, wobei der Träger einen beweglichen ersten optischen Pfad relativ zu dem verbleibenden zweiten optischen Pfad definiert, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin die Schritte eines Veränderns des zweiten optischen Pfades zum Aufrechterhalten einer Telezentrizität für die Strahlen bei ihrem Auftreffen auf das lichtempfindliche Substrat während der Bewegung des Trägers und des beweglichen ersten optischen Pfades umfasst.
Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das verändern des zweiten optischen Pfades in Verbindung mit der Bewegung des Trägers (22) automatisch gesteuert wird.
Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablenkeinheit (6) auf dem Träger angeordnet ist und dass das Verändern des zweiten optischen Pfades zu einem Zusammenfallen der Strahlen in der Ablenkeinheit führt.
Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass das Verändern des zweiten optischen Pfades ein Verändern der räumlichen Pfadlänge des stationären optischen Pfades umfasst.
Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass das Verändern des zweiten optischen Pfades ein kontrolliertes Bewegen des beweglichen Strahlteilers (20) umfasst.
Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass ein Verändern des zweiten optischen Pfades ein kontrolliertes Bewegen wenigstens einer hinter dem Modulator angeordneten Linse umfasst.