DE10196379B3

DE10196379B3 - Multi-beam pattern generator

Info

Publication number: DE10196379B3
Application number: DE10196379T
Authority: DE
Inventors: Torbjörn Sandström
Original assignee: Micronic Laser Systems AB
Current assignee: Micronic Laser Systems AB
Priority date: 2000-06-27
Filing date: 2001-06-25
Publication date: 2012-03-29
Anticipated expiration: 2021-06-26
Also published as: US6975443B2; SE518170C2; CN1432142A; DE10196379T1; AU2001266499A1; CN1221866C; WO2002001298A1; US20030140806A1; KR100794851B1; SE0002405L; SE0002405D0; JP2004502197A; KR20030076235A

Abstract

Abtast-Mustergenerator für mikrolithographisches Mehrstrahl-Schreiben von hochpräzisen Mustern auf einem lichtempfindlichen Substrat (11), wobei das Abtast-Mustergenerator eine Lichtquelle (1) zum Erzeugen wenigstens zweier Lichtstrahlen, einen rechnergesteuerten Lichtmodulator (4), eine Ablenkeinheine Objektivlinse (10) zum Bündeln der wenigstens zwei von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahlen aufweist, bevor diese auf das Substrat treffen, wobei zumindest die Objektivlinse auf einem Träger (22) angeordnet ist, der relativ zu dem Substrat (11) und der Lichtquelle (1) beweglich ist, wobei der Träger einen beweglichen ersten optischen Pfad relativ zu dem verbleibenden zweiten optischen Pfad definiert, darüber hinaus gekennzeichnet durch Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades, um eine Telezentrizität für die Strahlen aufrechtzuerhalten, wenn diese während der Bewegung des Trägers und des beweglichen ersten optischen Pfades auf das lichtempfindliche Substrat auftreffen.Scanning pattern generator for microlithographic multi-beam writing of high-precision patterns on a light-sensitive substrate (11), the scanning pattern generator having a light source (1) for generating at least two light beams, a computer-controlled light modulator (4), a deflection unit and an objective lens (10) for bundling which has at least two light beams emitted by the light source before they strike the substrate, at least the objective lens being arranged on a carrier (22) which is movable relative to the substrate (11) and the light source (1), the carrier defines a movable first optical path relative to the remaining second optical path, further characterized by means for altering the second optical path to maintain telecentricity for the beams as they strike the photosensitive during movement of the carrier and the movable first optical path Hit the substrate.

Description

Gebiet der ErfindungField of the invention

Die vorliegende Erfindung betrifft ein System und ein Verfahren zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben auf lichtempfindlichen Substraten gemäß dem Oberbegriff der Ansprüche 1 und 13 und speziell zum Drucken von Mustern mit extrem hoher Präzision, wie Fotomasken für Muster für Halbleiterbauteile, Anzeigeflächen, integrierte optische Bauteile und elektronische Verbindungsstrukturen.The present invention relates to a system and a method for microlithographic multi-beam writing on photosensitive substrates according to the preamble of claims 1 and 13 and especially for printing extremely high precision patterns such as photomasks for semiconductor device patterns, display surfaces, integrated optical components and electronic interconnect structures.

Die Begriffe des Schreibens und Druckens sollten im weiteren Sinne verstanden werden und umfassen die Belichtung von Fotolack und fotographischer Emulsion ebenso wie das Einwirken von Licht auf andere lichtempfindliche Medien, wie Papier für Trockenverfahren, durch Ablation oder chemische Prozesse, die durch Licht oder Wärme aktiviert werden. Licht ist nicht auf sichtbares Licht beschränkt, sondern umfasst einen breiten Wellenlängenbereich von Infrarot bis zum extremen Ultraviolett.The terms of writing and printing should be understood in a broad sense and include the exposure of photoresist and photographic emulsion as well as the exposure of light to other photosensitive media, such as dry-process paper, ablation, or chemical processes that are activated by light or heat , Light is not limited to visible light, but covers a broad wavelength range from infrared to extreme ultraviolet.

Hintergrund der ErfindungBackground of the invention

Ein System und ein Verfahren zum mikrolithographischen Schreiben auf einem Substrat ist beispielsweise aus der EP 0 467 076 A2 desselben Anmelders bekannt. Ein Ausführungsbeispiel eines Systems zum mikrolithographischen Schreiben, wie es in der 1 dargestellt ist, weist eine Lichtquelle 1, wie einen Laser, einen oder mehrere reflektierende Spiegel 2 zum Lenken des Strahls in die gewünschte Richtung, eine erste Linse 3 zum Bündeln der Lichtstrahlen, einen Modulator 4 zum Erzeugen des gewünschten zu schreibenden Musters und eine zweite Linse 5 hinter dem Modulator auf. Der Modulator wird durch Eingangsdaten gesteuert. Eine Ablenkeinheit wird zum Scannen der Strahlen auf das Substrat 11 eingesetzt, und Linsen 7, 8, 10 finden zum Bündeln und Fokussieren der Strahlen auf das Substrat Verwendung. Die Ablenkeinheit kann ein bewegliches reflektierendes Element sein, beispielsweise ein Spiegel. Es können jedoch auch eine Anzahl funktionell gleichwirkender Scanner benutzt werden, wie akusto-optische Ablenkeinheiten usw. Darüber hinaus ist das Substrat vorzugsweise auf einem Objekttisch angeordnet.A system and method for microlithographic writing on a substrate is known, for example, from EP 0 467 076 A2 of the same applicant. An embodiment of a system for microlithographic writing, as shown in the 1 is shown, has a light source 1 like a laser, one or more reflective mirrors 2 for directing the beam in the desired direction, a first lens 3 for bundling the light beams, a modulator 4 for generating the desired pattern to be written and a second lens 5 behind the modulator. The modulator is controlled by input data. A deflector unit is used to scan the beams onto the substrate 11 used, and lenses 7 . 8th . 10 find use for focusing and focusing the beams onto the substrate. The deflection unit may be a movable reflecting element, for example a mirror. However, a number of functionally equivalent scanners may also be used, such as acousto-optic deflectors, etc. In addition, the substrate is preferably disposed on a stage.

Eine Relativbewegung zwischen der Linse 10 und dem Tisch (der Plattform) lässt sich dadurch erreichen, dass zumindest die Objektlinse 10 und vorzugsweise die Linsen 7, 8 sowie die Ablenkeinheit 6 auf einem Träger angeordnet werden. Dabei lässt sich der Träger relativ zum Substrat und zu der Lichtquelle in einer zur Scan-Richtung im wesentlichen senkrechten Richtung bewegen.A relative movement between the lens 10 and the table (the platform) can be achieved in that at least the object lens 10 and preferably the lenses 7 . 8th as well as the deflection unit 6 be arranged on a support. In this case, the carrier can be moved relative to the substrate and to the light source in a direction substantially perpendicular to the scanning direction.

Wenn ein solches System vorbekannter Art mit mehreren Strahlen verwendet werden sollte, die gleichzeitig auf das Substrat gerichtet sind, um die Schreibgeschwindigkeit zu erhöhen, sogenanntes Mehrstrahlen-Schreiben, so würden mehrere Probleme entstehen.If such a prior art system was to be used with multiple beams simultaneously aimed at the substrate to increase the writing speed, so-called multi-beam writing, several problems would arise.

Es ist wichtig, im Brennpunkt der Linse eine stationäre gaußverteilte Beleuchtung zu erzielen, was sich jedoch als schwierig herausstellt, wenn mehrere Strahlen in Verbindung mit einem beweglichen Träger verwendet werden. Wird eine solche Beleuchtung nicht erreicht, so treffen die Strahlen unter verschiedenen Winkeln auf das Substrat, wodurch sich kleine, unvermeidliche Fokusunterschiede auf dem Substrat zu nachteiligen Veränderungen der Scan-Längen auswachsen. Für mehrere Anwendungen ist eine maximale Scanlängen-Variation von 20 nm gefordert. Aus diesem Grund ist ein hohes Maß an Telezentrizität, d. h. paralleler Strahlen während des Scan-Vorgangs, erforderlich. Um dies zu erreichen, ist es wichtig, dass die Strahlen in der Ablenkeinheit überlagert werden, was sich jedoch aufgrund des veränderlichen Abstands zwischen der auf dem Träger angeordneten Ablenkeinheit und dem Modulator als schwierig erweist.It is important to achieve stationary Gaussian distributed illumination at the focal point of the lens, but this proves to be difficult when multiple beams are used in conjunction with a movable support. If such illumination is not achieved, the rays impinge on the substrate at different angles, causing small, unavoidable differences in focus on the substrate to grow into detrimental changes in scan lengths. For several applications, a maximum scan length variation of 20 nm is required. For this reason, a high degree of telecentricity, i. H. parallel rays during the scanning process, required. To accomplish this, it is important that the beams be superimposed in the deflection unit, which, however, proves to be difficult due to the variable distance between the on-carrier deflection unit and the modulator.

Insbesondere ergeben sich Probleme bei der Anwendung des Mehrstrahl-Schreibens in einem Mustergenerator, bei dem ein Teil des optischen Pfades beweglich ist. Die 2a zeigt einen Mustergenerator, bei dem sich der bewegliche optische Pfad in einer Zwischenstellung befindet. In diesem Fall fallen die Strahlen in der Ablenkeinheit 6 zusammen, und es ergibt sich eine zufriedenstellende Telezentrizität. Wird der Träger jedoch in eine Endstellung bewegt, wie in 2b dargestellt, so fallen die Strahlen in der Ablenkeinheit nicht zusammen, sondern sind gegeneinander verschoben. Auf diese Weise ergibt sich ein schiefer Strahlengang in der Objektivlinse 10, und die Telezentrizität wird stark verschlechtert. Es ergibt sich zudem ein Verlust von Strahlungsenergie, da ein Teil der Strahlen aus dem Arbeitsbereich der Linsen hinaus verschoben wird.In particular, problems arise in the use of multi-beam writing in a pattern generator in which a part of the optical path is movable. The 2a shows a pattern generator in which the movable optical path is in an intermediate position. In this case, the rays fall in the deflection unit 6 together, and there is a satisfactory telecentricity. However, if the carrier is moved to an end position, as in 2 B shown, the rays do not fall together in the deflection, but are shifted from each other. In this way, a slanted beam path results in the objective lens 10 and the telecentricity is severely degraded. It also results in a loss of radiant energy, since a part of the rays is shifted out of the working range of the lenses.

Darüber hinaus beschreibt die US 5 495 279 A ein Verfahren zum Belichten von Mustern durch Schreiben mit fokussiertem Laserlicht auf Substrate, die bei der jeweiligen Wellenlänge des verwendeten Laserlichtes lichtempfindlich sind. Hierbei wird das Substrat während des Schreibvorgangs in einer ersten Richtung relativ zu einem feststehenden Rahmen bewegt, woraufhin das optische System, welches das laserlicht auf die lichtempfindliche Fläche fokussiert, kontinuierlich in eine zweite Richtung bewegt wird, die sich im Wesentlichen senkrecht zur ersten Richtung erstreckt. Das fokussierte Laserlicht wird sodann entlang der ersten Richtung auf die lichtempfindliche Fläche verteilt, um eine ausgedehnte Brennfläche auszubilden, wobei das fokussierte Laserlicht, das auf mehr als eine vorgegebene Anzahl an Positionsinkrementen auftrifft, die in der ersten Richtung entlang der ausgedehnten Brennfläche in Abständen voneinander angeordnet sind, unabhängig gesteuert wird. Die Position des Substrates wird hierbei in der ersten Richtung relativ zu der Fokussierlinse erfasst und wird die Position des geschriebenen Musters relativ zu dem feststehenden Rahmen durch die Ausführung von Positionskorrelationen in der ersten Richtung in Abhängigkeit von der erfassten Position gesteuert. Eine Veränderung eines stationären Pfades zur Aufrechterhaltung einer Telezentrizität von mehreren Laserlichtstrahlen ist indes nicht vorgesehen.In addition, the describes US 5,495,279 A a method for exposing patterns by writing with focused laser light on substrates that are photosensitive at the respective wavelength of the laser light used. Here, during the writing operation, the substrate is moved in a first direction relative to a fixed frame, whereupon the optical system which focuses the laser light on the photosensitive surface is continuously moved in a second direction, which extends substantially perpendicular to the first direction. The focused laser light is then distributed along the first direction of the photosensitive surface to form an extended focal plane, wherein the focused laser light impinging upon more than a predetermined number of position increments spaced apart in the first direction along the extended focal surface is independently controlled. In this case, the position of the substrate is detected in the first direction relative to the focusing lens, and the position of the written pattern relative to the fixed frame is controlled by the execution of position correlations in the first direction depending on the detected position. However, a change of a stationary path for maintaining a telecentricity of a plurality of laser light beams is not provided.

Entsprechendes gilt für die US 4 455 485 A und für die WO 00/43838 A1 . Erstere beschreibt ein Laserstrahl-Abtastsystem zum Abtasten der Oberfläche einer Probe mit einem Lichtstrahl, dessen Abtastfleck einen kleinen Durchmesser aufweist. Das System umfasst ferner eine akusto-optische Ablenkeinheit, eine Objektivlinse zum Fokussieren des Laserstrahls zu einem Abtastfleck mit kleinem Durchmesser auf der Oberfläche der Probe, einen optischen Modulator zum Modulieren des Laserstrahls, welcher auf die akusto-optische Ablenkeinheit auftrifft, sowie eine Relais-Linse, die zwischen der akusto-optischen Ablenkeinheit und der Objektivlinse angeordnet ist, um dem Laserstrahldurchmesser zu vergrößern und um den Ablenkpunkt des Laserstrahls in Richtung auf des Zentrum der Objektivlinse zu projizieren. Ein Schlitten sorgt für die Bewegung der Probe in der Richtung von zwei Achsen in einer zur Oberfläche der Probe parallelen Ebene. Die akusto-optische Ablenkeinheit lenkt den stark fokussierten einfallenden Laserstrahl innerhalb eines kleinen Feldes auf der Probenoberfläche ab, während der Schlitten die Probe innerhalb eines in Bezug auf den einfallenden Laserstrahl relativ großen Feldes bewegt.The same applies to the US 4,455,485 A and for the WO 00/43838 A1 , The former describes a laser beam scanning system for scanning the surface of a sample with a light beam whose scanning spot has a small diameter. The system further includes an acousto-optical deflector, an objective lens for focusing the laser beam to a small diameter scanning spot on the surface of the sample, an optical modulator for modulating the laser beam incident on the acousto-optic deflector, and a relay lens disposed between the acousto-optic deflecting unit and the objective lens to increase the laser beam diameter and to project the deflection point of the laser beam toward the center of the objective lens. A carriage provides for movement of the sample in the direction of two axes in a plane parallel to the surface of the sample. The acousto-optic deflector deflects the highly focused incident laser beam within a small field on the sample surface while the carriage moves the sample within a relatively large field relative to the incident laser beam.

Der WO 00/43838 A1 desselben Anmelders ist schließlich ein System und ein Verfahren zum mikrolithographischen Schreiben auf einem lichtempfindlichen Substrat zu entnehmen, welches einen Detektor zum Ermitteln von zeitweiligen abnormalen Fehlerparametern während des Schreibvorgangs umfasst, wobei ein System zur Fehlerbehebung einen Neustart des Schreibvorgangs in einer Position ermöglicht, in welcher der Schreibvorgang unterbrochen worden ist, als der Fehlerparameter aufgehört hat zu existieren.Of the WO 00/43838 A1 of the same assignee, finally, there is provided a system and method for microlithographic writing on a photosensitive substrate, comprising a detector for detecting temporary abnormal error parameters during the writing operation, a system for debugging enabling a restart of the writing operation in a position in which the Write has been interrupted when the error parameter has ceased to exist.

Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein System und ein Verfahren zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben der eingangs genannten Art zu schaffen, bei denen die mit dem Stand der Technik verbundenen Probleme überwunden oder zumindest reduziert werden.The invention has for its object to provide a system and a method for microlithographic multi-jet writing of the type mentioned, in which overcome the problems associated with the prior art, or at least reduced.

In vorrichtungstechnischer Hinsicht wird diese Aufgabe erfindungsgemäß bei einem System zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben auf lichtempfindlichen Substraten der eingangs genannten Art durch die kennzeichnenden Merkmale der Anspruchs 1 gelöst.In device technical terms, this object is achieved in a system for microlithographic multi-beam writing on photosensitive substrates of the type mentioned by the characterizing features of claim 1.

In verfahrenstechnischer Hinsicht sieht die Erfindung zur Lösung dieser Aufgabe bei einem Verfahren zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben auf lichtempfindlichen Substraten der eingangs genannten Art die kennzeichnenden Merkmale der Anspruchs 13 vor.In procedural terms, the invention provides for solving this problem in a method for microlithographic multi-beam writing on photosensitive substrates of the type mentioned above the characterizing features of claim 13 before.

Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.Advantageous embodiments emerge from the dependent claims.

Erfindungsgemäß wird ein Abtast-Mustergenerator und ein Verfahren zum mikrolithographischen Mehrstrahl-Schreiben von hochpräzisen Mustern auf einem lichtempfindlichen Substrat 11 geschaffen. Das System weist eine Lichtquelle 1, vorzugsweise einen Laser, zum Erzeugen wenigstens zweier Lichtstrahlen, einen rechnergesteuerten Lichtmodulator 4, eine Ablenkeinheit zum Scannen der Strahlen auf das Substrat und eine Objektivlinse 10 zum Bündeln des wenigstens einen von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahls auf, bevor dieser auf das Substrat trifft, wobei zumindest die Objektivlinse auf einem Träger 22 angeordnet ist, der relativ zu dem Substrat 11 und der Lichtquelle 1 beweglich ist, wobei der Träger einen beweglichen ersten optischen Pfad relativ zu dem verbleibenden zweiten optischen Pfad definiert.According to the present invention, there is provided a scanning pattern generator and a method of microlithographic multi-beam writing of high-precision patterns on a photosensitive substrate 11 created. The system has a light source 1 , Preferably a laser, for generating at least two light beams, a computer-controlled light modulator 4 a deflection unit for scanning the beams onto the substrate and an objective lens 10 for bundling the at least one light beam emitted by the light source before it strikes the substrate, wherein at least the objective lens is mounted on a support 22 disposed relative to the substrate 11 and the light source 1 is movable, wherein the carrier defines a movable first optical path relative to the remaining second optical path.

Dabei kann der zweite optische Pfad automatisch eingestellt werden, um die Telezentrizität zu erhalten.At this time, the second optical path can be automatically adjusted to obtain the telecentricity.

Vorzugsweise ist die Ablenkeinrichtung 6 auf dem Träger angeordnet, wobei die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades derart angeordnet sind, dass die Strahlen in der Ablenkeinheit zusammenfallen.Preferably, the deflection device 6 arranged on the carrier, wherein the means for changing the second optical path are arranged such that the beams coincide in the deflection unit.

Gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung weisen die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades Mittel 24 zum Verändern der räumlichen Pfadlänge des zweiten optischen Pfades auf, wie eine optische Umleitung 24 mit beweglichen reflektierenden Elementen.According to a first aspect of the invention, the means for changing the second optical path means 24 for changing the spatial path length of the second optical path, such as optical redirection 24 with movable reflective elements.

Gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung weisen die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades einen steuerbaren Strahlteiler 20 auf. Der Strahlteiler ist vorzugsweise beweglich und weist vorzugsweise ein diffraktives optisches Element auf.According to a second aspect of the invention, the means for changing the second optical path comprises a controllable beam splitter 20 on. The beam splitter is preferably movable and preferably has a diffractive optical element.

Gemäß einem dritten Aspekt der Erfindung weisen die Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades wenigstens eine bewegliche Linse auf, die hinter dem Modulator angeordnet ist.According to a third aspect of the invention, the means for changing the second optical path at least one movable lens, which is arranged behind the modulator.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

Die Erfindung wird im folgenden exemplarisch anhand von Ausführungsbeispielen detaillierter beschrieben, die in den beigefügten Zeichnungen dargestellt sind. Es zeigt:The invention will now be described in more detail by way of example with reference to exemplary embodiments which are illustrated in the attached drawings. It shows:

1 eine schematische Darstellung eines vorbekannten Einstrahl-Systems; 1 a schematic representation of a prior art single-jet system;

2a und 2b eine schematische Darstellung eines Mehrstrahl-Systems zur Darstellung des Problems verschlechterter Telezentrizität; 2a and 2 B a schematic representation of a multi-beam system to illustrate the problem of deteriorated telecentricity;

3a eine schematische Darstellung einer ersten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Systems; 3a a schematic representation of a first embodiment of the system according to the invention;

3b eine schematische Darstellung einer zweiten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Systems; und 3b a schematic representation of a second embodiment of the system according to the invention; and

3c eine schematische Darstellung einer dritten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Systems. 3c a schematic representation of a third embodiment of the system according to the invention.

Beschreibung bevorzugter AusgestaltungenDescription of preferred embodiments

Bei dem erfindungsgemäßen System handelt es sich vorzugsweise um ein Laser-Scannersystem, wie es aus der EP 0 467 076 bekannt ist, die hiermit zum Bestandteil dieser Beschreibung gemacht wird, jedoch mit verbesserten Eigenschaften für ein Mehrstrahl-Schreiben. Daher ist das System ein Mehrstrahl-System, wobei das System vorzugsweise einen Strahlteiler aufweist, um den von der Lichtquelle ausgesandten Strahl in mehrere Strahlen zu zerlegen und das Substrat entlang mehrerer Scan-Linien gleichzeitig zu belichten.The system according to the invention is preferably a laser scanner system, as is known from US Pat EP 0 467 076 which is hereby incorporated by reference into this specification, but with improved properties for multi-jet writing. Therefore, the system is a multi-beam system, which system preferably includes a beam splitter to split the beam emitted by the light source into a plurality of beams and simultaneously expose the substrate along multiple scan lines.

Mit Blick auf die 3a umfasst das System nach einer ersten, bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung eine Lichtquelle 1, vorzugsweise einen Laser, einen Strahlteiler 20 zum Teilen des von der Lichtquelle ausgesandten Strahls in mehrere Strahlen, einen rechnergesteuerten Lichtmodulator 4 und eine Objektivlinse 10 zum Bündeln des von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahls, bevor dieser auf das lichtempfindliche Substrat 11 trifft. Weiterhin umfasst das System vorzugsweise einen oder mehrere reflektierende Spiegel 2 zum Lenken des Strahls in die gewünschte Richtung, einen Modulator 4 zum Erzeugen des gewünschten zu schreibenden Musters, eine erste Linse 3 zum Bündeln der Lichtstrahlen auf dem Modulator und eine zweite (Sammel-)Linse 5 hinter dem Modulator, um die Strahlen auf eine Ablenkeinheit 6 zu richten. Der Modulator wird durch Eingangsdaten gesteuert.With view on 3a According to a first, preferred embodiment of the invention, the system comprises a light source 1 , preferably a laser, a beam splitter 20 for dividing the beam emitted by the light source into a plurality of beams, a computer-controlled light modulator 4 and an objective lens 10 for bundling the light beam emitted by the light source before it is applied to the photosensitive substrate 11 meets. Furthermore, the system preferably comprises one or more reflecting mirrors 2 for directing the beam in the desired direction, a modulator 4 for generating the desired pattern to be written, a first lens 3 for bundling the light beams on the modulator and a second (collecting) lens 5 behind the modulator to bring the beams to a deflection unit 6 to judge. The modulator is controlled by input data.

Die Ablenkeinheit 6 wird zum Scannen der Strahlen auf das Substrat 11 verwendet, und die Linsen 7, 8, 10 dienen zum Bündeln und Fokussieren der Strahlen auf dem Substrat. Weiterhin wird vorzugsweise eine Blende 9 verwendet, um zu verhindern, dass Streulicht auf das Substrat fällt. Die Ablenkeinrichtung kann als bewegliches reflektierendes Element, wie ein Spiegel, ausgebildet sein. Allerdings können auch andere funktionell gleichwirkende Scanner eingesetzt werden, wie akusto-optische Ablenkeinrichtungen usw. Darüber hinaus ist das Substrat 11 vorzugsweise auf einem Objekttisch angeordnet.The deflection unit 6 is used to scan the rays onto the substrate 11 used, and the lenses 7 . 8th . 10 serve to bundle and focus the beams on the substrate. Furthermore, preferably, a diaphragm 9 used to prevent stray light from falling on the substrate. The deflection device may be formed as a movable reflective element, such as a mirror. However, other functionally equivalent scanners may be used, such as acousto-optic deflectors, etc. In addition, the substrate is 11 preferably arranged on a stage.

Zumindest die Objektivlinse 10 befindet sich auf einem beweglichen Träger 22, allerdings sind vorzugsweise auch die Ablenkeinheit 6 und die Linsen 7, 8 auf dem Träger angeordnet. Der Träger 22 ist relativ zu dem Substrat und darüber hinaus in der Strahlrichtung relativ zum Modulator und den anderen optischen Bauteilen des Systems beweglich. Das erfindungsgemäße System ist besonders geeignet zum Beschreiben großflächiger Substrate, und der Träger kann für solche Anwendungen während des Betriebs typischerweise um 1100 mm verschoben werden.At least the objective lens 10 is on a mobile carrier 22 but preferably also the deflection unit 6 and the lenses 7 . 8th arranged on the carrier. The carrier 22 is movable relative to the substrate and beyond in the beam direction relative to the modulator and the other optical components of the system. The system of the invention is particularly suitable for writing to large area substrates, and the support may typically be displaced 1100 mm during operation for such applications.

Aufgrund der Bewegung des Trägers bewegen sich die Strahlen zunächst entlang einem zweiten optischen Pfad und anschließend entlang einem beweglichen ersten optischen Pfad auf dem Träger und werden anschließend auf das Substrat gerichtet.Due to the movement of the carrier, the beams first move along a second optical path and subsequently along a movable first optical path on the carrier and are subsequently directed onto the substrate.

Erfindungsgemäß weist das System weiterhin Mittel auf, die dazu geeignet sind, die Ablenkung der Strahlen vom zweiten optischen Pfad zum beweglichen ersten optischen Pfad zu verändern. Diese Mittel weisen vorzugsweise ein bewegliches defraktives optisches Element (DOE) oder einen steuerbaren Strahlteiler und nach einer äußerst bevorzugten Ausgestaltung einen diffraktiven optischen Strahlteiler 20 auf, der bzw. das vor dem Modulator 4 angeordnet ist. Das optische Element 20 ist beweglich, wodurch die Richtung der Strahlen, die in Richtung des beweglichen ersten optischen Pfades und der Ablenkeinrichtung gelenkt werden, verändert werden kann. Derart sind nur sehr begrenzte Bewegungen des optischen Elements erforderlich, um eine ausreichende Telezentrizität zu erreichen, wobei nur ein geringes Maß an mechanischer Präzision erforderlich ist. Beispielsweise ist zur Kompensation von Bewegungen des Trägers von etwa 1100 mm eine Bewegung von etwa +/–35 mm für das optische Element erforderlich. Auf diese Weise ist es durch Einstellen der Position des Strahlteilers oder des diffraktiven optischen Elementes möglich, die Strahlen in der Ablenkeinheit zusammenfallen zu lassen, so dass sich eine zufriedenstellende Telezentrizität ergibt. Dies ist in 3a dargestellt, in der die Position des Trägers dieselbe ist wie in 2b, während der Strahlteiler 20 zu Kompensationszwecken verschoben wurde.According to the invention, the system further comprises means adapted to alter the deflection of the beams from the second optical path to the movable first optical path. These means preferably comprise a movable optical diffractive element (DOE) or a controllable beam splitter and, according to an extremely preferred embodiment, a diffractive optical beam splitter 20 on, the one before the modulator 4 is arranged. The optical element 20 is movable, whereby the direction of the beams, which are directed in the direction of the movable first optical path and the deflector, can be changed. Thus, only very limited movements of the optical element are required to achieve sufficient telecentricity, requiring only a small amount of mechanical precision. For example, to compensate for movements of the wearer of about 1100 mm, a movement of about +/- 35 mm is required for the optical element. In this way, by adjusting the position of the beam splitter or diffractive optical element, it is possible to collapse the beams in the deflecting unit to give a satisfactory telecentricity. This is in 3a shown in which the position of the carrier is the same as in 2 B while the beam splitter 20 has been moved for compensation purposes.

Die Steuerung der Bewegung des optischen Elements erfolgt vorzugsweise synchron und in Verbindung mit der Bewegung des Trägers 22. Zu diesem Zweck ist vorzugsweise eine Steuerungseinrichtung vorgesehen. Die Steuerungseinrichtung erhält ein Positionssignal, das die Stellung des Trägers angibt, und erzeugt dementsprechend ein Steuersignal für das optische Element.The control of the movement of the optical element is preferably synchronous and in conjunction with the movement of the carrier 22 , For this purpose, a control device is preferably provided. The controller receives a position signal indicative of the position of the carrier and accordingly generates a control signal for the optical element.

In der 3b ist eine alternative zweite Ausgestaltung der Erfindung dargestellt. Dabei werden zur Bezeichnung gleicher Komponenten dieselben Bezugszeichen verwendet. Das System gemäß der zweiten Ausgestaltung entspricht der vorstehend beschriebenen ersten Ausgestaltung mit dem Unterschied, dass die Mittel zum Verändern der Richtung der Strahlen vom zweiten optischen Pfad zum beweglichen ersten optischen Pfad und zur Ablenkeinrichtung hier als eine oder mehrere bewegliche Linsen ausgebildet sind, die sich hinter dem Modulator befinden. Bei den beweglichen Linsen handelt es sich vorzugsweise um Sammellinsen 5, 21. Weiterhin können auch bewegliche oder stationäre Linsen, wie Linse 25, vorgesehen sein. Auf diese Weise werden bei dieser Ausgestaltung eine, zwei oder noch mehr bewegliche Sammellinsen benutzt, um die Strahlen zu steuern, so dass diese in der Ablenkeinheit zusammenfallen, um die Telezentrizität zu verbessern.In the 3b an alternative second embodiment of the invention is shown. The same reference numerals are used to designate the same components. The system according to the second embodiment corresponds to the first embodiment described above, with the difference that the means for changing the direction of the beams from the second optical path to the movable first optical path and the deflector are formed here as one or more movable lenses which are behind the modulator. The movable lenses are preferably collecting lenses 5 . 21 , Furthermore, also movable or stationary lenses, such as lens 25 , be provided. In this way, in this embodiment, one, two or more movable converging lenses are used to control the beams so that they collapse in the deflection unit to improve the telecentricity.

Die 3c zeigt eine alternative dritte Ausgestaltung der Erfindung. Bei dieser Ausgestaltung bezeichnen dieselben Bezugszeichen gleiche Komponenten. Das System gemäß der dritten Ausgestaltung entspricht der vorstehend beschriebenen ersten Ausgestaltung mit dem Unterschied, dass die Mittel zum Verändern der Strahlrichtung vom zweiten optischen Pfad zum beweglichen ersten optischen Pfad und zur Ablenkeinrichtung hier als Mittel 24 zum Verändern der optischen Pfadlänge zwischen dem Modulator und der Ablenkeinrichtung ausgebildet sind. Derartige Mittel können beispielsweise eine optische Umleitung mit reflektierenden Elementen, wie Spiegeln oder Prismen, aufweisen, wobei zumindest eines der reflektierenden Elemente beweglich ist, um die räumliche Pfadlänge zu vergrößern oder zu verkleinern, wie in 3c dargestellt ist.The 3c shows an alternative third embodiment of the invention. In this embodiment, the same reference numerals designate like components. The system according to the third embodiment corresponds to the first embodiment described above, with the difference that the means for changing the beam direction from the second optical path to the movable first optical path and to the deflection device here as a means 24 for changing the optical path length between the modulator and the deflector are formed. Such means may include, for example, optical redirection with reflective elements, such as mirrors or prisms, wherein at least one of the reflective elements is movable to increase or decrease the spatial path length, as in FIG 3c is shown.

Auf diese Weise wird im Zuge der dritten Ausgestaltung die optische Pfadlänge verändert, um die Strahlen zu steuern, so dass sie in der Ablenkeinheit zusammenfallen, und um die Telezentrizität zu verbessern.In this way, in the third embodiment, the optical path length is changed to control the beams to coincide in the deflecting unit and to improve the telecentricity.

Das erfindungsgemäße System schafft auf einfache Weise und unter Verwendung einer geringen Anzahl von Bauteilen verbesserte Präzision und Telezentrizität. Auf diese Weise kompensieren das erfindungsgemäße System und das erfindungsgemäße Verfahren in effizienter Weise die Veränderungen der Strahlposition aufgrund verschlechterter Telezentrizität. Somit verbessert die Erfindung die Effizienz und reduziert die Kosten des mikrolithographischen Schreibens von hochpräzisen Mustern zusammen mit einer Verbesserung der Präzision der Muster selbst.The system of the invention provides improved precision and telecentricity in a simple manner and using a small number of components. In this way, the system and the method according to the invention efficiently compensate for changes in the beam position due to deteriorated telecentricity. Thus, the invention improves the efficiency and reduces the cost of microlithographic writing of high-precision patterns together with an improvement in the precision of the patterns themselves.

Verschiedenartige Abänderungen der vorgenannten Ausführungsformen sind möglich und für den Fachmann offensichtlich. Es ist beispielsweise möglich, mehrere unterschiedliche Mittel zum Verändern der optischen Pfadlänge zu verwenden, wie optische Umleitungen, verschiedene steuerbare Strahlteiler, unterschiedliche optische Elemente und dergleichen. Derartige offensichtliche Veränderungen, fallen unter den Schutzbereich der Erfindung, wie er durch die beigefügten Patentansprüche definiert ist.Various modifications of the aforementioned embodiments are possible and obvious to those skilled in the art. For example, it is possible to use a plurality of different means for changing the optical path length, such as optical redirections, various controllable beam splitters, different optical elements, and the like. Such obvious changes are within the scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims

Scanning pattern generator for microlithographic multibeam writing of high-precision patterns on a photosensitive substrate (US Pat. 11 ), wherein the sampling pattern generator is a light source ( 1 ) for generating at least two light beams, a computer-controlled light modulator ( 4 ), a deflection unit for scanning the rays onto the substrate and an objective lens ( 10 ) for bundling the at least two light beams emitted by the light source before they hit the substrate, wherein at least the objective lens is mounted on a support ( 22 ) arranged relative to the substrate ( 11 ) and the light source ( 1 ), wherein the carrier defines a movable first optical path relative to the remaining second optical path, further characterized by means for varying the second optical path to maintain telecentricity for the beams as they move during movement of the carrier and the optical path movable first optical path impinging on the photosensitive substrate.

A scanning pattern generator according to claim 1, characterized in that the light source ( 1 ) is formed by a laser.

Scanning pattern generator according to claim 1 or 2, characterized in that the means for changing the second optical path in connection with the movement of the carrier ( 22 ) are automatically controlled.

A scanning pattern generator according to claim 3, characterized by a control unit which receives a position signal indicative of the position of the carrier ( 22 ), and which is a control signal to corresponding control generates the means for changing the second optical path.

Sampling pattern generator according to one of the preceding claims, characterized in that the deflection unit ( 6 ) is arranged on the carrier and that the means for changing the second optical path are arranged such that the beams in the deflection unit (FIG. 6 ) coincide.

Sampling pattern generator according to one of claims 1 to 5, characterized in that the means for changing the second optical path means ( 24 ) for changing the spatial path length of the stationary optical path.

A sampling pattern generator according to claim 6, characterized in that the means for changing the second optical path comprises optical redirection ( 24 ) with movable reflective elements.

Scanning pattern generator according to one of claims 1 to 5, characterized in that the means for changing the second optical path, a controllable beam splitter ( 20 ) exhibit.

Scanning pattern generator according to claim 8, characterized in that the beam splitter ( 20 ) is a diffractive optical element.

Scanning pattern generator according to one of claims 1 to 5, characterized in that the means for changing the second optical path comprise at least one movable lens which is arranged behind the modulator.

A sampling pattern generator according to one of the preceding claims, characterized in that the modulator is an acousto-optic modulator.

A sampling pattern generator according to any one of the preceding claims, characterized in that the deflection unit is an acousto-optic deflection unit.

Method for scanning multi-jet microlithographic writing of high-precision patterns on a photosensitive substrate ( 11 ) with at least two light beams emitted by a light source ( 1 ) and by a computer-controlled light modulator ( 4 ), a deflection unit for scanning the beams onto the substrate and an objective lens for bundling the at least two light beams emitted by the light source before impinging them on the substrate, wherein at least the objective lens is mounted on a support ( 22 ) arranged relative to the substrate ( 11 ) and the light source ( 1 ), wherein the carrier defines a movable first optical path relative to the remaining second optical path, characterized in that it further comprises the steps of changing the second optical path to maintain telecentricity for the beams as they impinge upon the photosensitive substrate the movement of the carrier and the movable first optical path comprises.

A method according to claim 13, characterized in that the alteration of the second optical path in connection with the movement of the carrier ( 22 ) is controlled automatically.

Method according to claim 13 or 14, characterized in that the deflection unit ( 6 ) is arranged on the carrier and that the changing of the second optical path leads to a collapse of the beams in the deflection unit.

A method according to any one of claims 13 to 15, characterized in that changing the second optical path comprises changing the spatial path length of the stationary optical path.

Method according to one of claims 13 to 15, characterized in that the changing of the second optical path, a controlled movement of the movable beam splitter ( 20 ).

Method according to one of claims 13 to 15, characterized in that a modification of the second optical path comprises a controlled movement of at least one arranged behind the modulator lens.