DE3137031C2 - Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem - Google Patents

Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem

Info

Publication number
DE3137031C2
DE3137031C2 DE3137031A DE3137031A DE3137031C2 DE 3137031 C2 DE3137031 C2 DE 3137031C2 DE 3137031 A DE3137031 A DE 3137031A DE 3137031 A DE3137031 A DE 3137031A DE 3137031 C2 DE3137031 C2 DE 3137031C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
lens
lens system
afocal
deflection
scanning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE3137031A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3137031A1 (de
Inventor
Kazuo Minoura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of DE3137031A1 publication Critical patent/DE3137031A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3137031C2 publication Critical patent/DE3137031C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem gemäß Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
In der Vergangenheit sind verschiedene Vorrichtungen vorgeschlagen worden, die zum Aufzeichnen oder zum Lesen von Daten einen Lichtstrahl verwenden. Bei vielen dieser bekannten Vorrichtungen wird der Lichtstrahl von einer Ablenkeinrichtung (Deflektor) abgelenkt und die abzutastende Oberfläche wird von von dem abgelenkten Strahl gebildeten Strahlpunkten abgetastet. Zur Erhöhung der Abtastleistung der Abtastvorrichtung ist es ferner bekannt, die Oberfläche mit einer Vielzahl von Strahlen gleichzeitig abzutasten. Bei diesem Typ von Abtastvorrichtung, der eine Vielzahl von Strahlen verwendet, ist es oft erforderlich, die Projektionsvergrößerung zu ändern, mit der die Lichtstrahlen auf die abzutastende Oberfläche projiziert werden. Wenn beispielsweise mit einer derartigen Abtastvorrichtung Daten auf einem photoempfindlichen Aufzeichnungsmaterial aufgezeichnet werden, ist es oft erforderlich, die Größe der aufzuzeichnenden Zeichen zu ändern. Ein Beispiel für eine derartige Abtastvorrichtung, bei der die Projektionsvergrößerung des Lichtstrahls geändert werden kann, ist in der offengelegten japanischen Patentanmeldung 54-94053 beschrieben. Diese bekannte Abtastvorrichtung ist in den Fig. 1A und 1B gezeigt, und zwar in der Fig. 1A eine Aufsicht und in der Fig. 1B eine Seitenansicht.
Die Strahlenbündel-Quelle einer derartigen Abtastvorrichtung umfaßt eine Laserlichtquelle und ein Element zum Modulieren und Ablenken der von der Laserlichtquelle einfallenden Lichts. In diesem Modulations- bzw. Ablenkelement wird der von der Laserlichtquelle emittierte Lichtstrahl in eine Vielzahl von Strahlen(bündel) aufgeteilt, so daß die abgeteilten Strahlenbündel in das System veränderbarer Vergrößerung (Bezugszeichen 8 in der Fig. 3 dieser Druckschrift) divergierend eintreten. Bei diesem System wird die Strahlausdehnung in Richtung senkrecht zur Ablenk/Abtastebene, d. h. die Strahlausdehnung in Y-Richtung des auf die Reflexionsflächen des Polygonspiegels einfallenden Strahls mit zunehmender Projektionsvergrößerung größer. Damit ist ein großer Polygonspiegel erforderlich. Dies steht dem Bemühen nach einer hohen Drehgeschwindigkeit des Polygonspiegels und damit dem Bemühen nach einer Geschwindigkeitserhöhung des Abtastvorgangs entgegen. Zum Abtasten mit mehreren Strahlenbündel ist außerdem ein Modulationselement erforderlich.
Aus der DE-OS 22 50 763 ist eine Abtastvorrichtung zum Abtasten einer abzutastenden Fläche mit nur einem Strahlenbündel bekannt.
Gemäß der DE-OS 22 50 763 wird ein Strahlenbündel paralleler Lichtstrahlen, das einen Kreisquerschnitt aufweist, mittels einer ersten Zylinderlinse 20 auf der Ablenkfläche 24 einer Ablenkvorrichtung als schlitzförmiges Bild abgebildet. Nach der Reflexion an der Ablenkfläche 24 durchlaufen die Lichtstrahlen eine zweite Zylinderlinse 25, die das Strahlenbündel derart umformt, daß nach dem Durchlaufen der zweiten Zylinderlinse 25 wieder ein einen Kreisquerschnitt aufweisendes Strahlenbündel paralleler Lichtstrahlen vorliegt, das dann auf der abzutastenden Fläche fokussiert wird. Auf diese Weise ist ein Abbildungsfehler infolge einer Neigung der Ablenkfläche 24 vermeidbar.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Abtastvorrichtung zum Abtasten einer abzutastenden Fläche gleichzeitig mit einer Vielzahl von Strahlenbündeln zu schaffen, bei der kein Ablenkelement erforderlich ist und gleichzeitig ein Hochgeschwindigkeitsbetrieb des Polygonspiegels gewährleistet ist, sogar wenn die Vorrichtung die Funktion, die Vergrößerung zu ändern, besitzt.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 gelöst.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher beschrieben. Es zeigt
Fig. 1A und 1B ein Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem, das mit der Funktion, die Vergrößerung zu ändern, versehen ist, gemäß dem Stand der Technik,
Fig. 2 schematisch ein Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 3 eine Ansicht zur Erläuterung der Verwendung einer Lichtquelle in Form einer Anordnung als Lichtquellenelement des Abtastoptiksystems,
Fig. 4A-4C im Querschnitt ein Ausführungsbeispiel eines anamorphotischen Vario-Linsensystems, das im erfindungsgemäßen Abtastoptiksystem verwendet wird, und
Fig. 5 die Art der Änderung der Winkelvergrößerung der kollimierten Strahlen durch das anamorphotische afokale Vario-Linsensystem.
Fig. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Erfindung, wobei das erfindungsgemäße Abtastoptiksystem in einem Drucker angewendet wird.
Eine Strahlenbündelquelle (im folgenden Lichtquelle genannt) in Form einer Anordnung, die allgemein mit 11 bezeichnet ist, wird von einer Mehrzahl von einzelnen Licht aussendenden Elementen 11a-11e gebildet. Die von den einzelnen Elementen ausgesandten Strahlenbündel werden von einer Kollimatorlinse 12 kollimiert. Nach dem Durchgang durch die Kollimatorlinse 12 tritt jedes Strahlenbündel in ein afokales Vario-Linsensystem 13 ein, durch das die Winkelvergrößerung des jeweiligen Strahlenbündels auf einen gewählten Wert geändert wird. 14 ist ein anamorphotisches Linsensystem und 15 eine Ablenkvorrichtung. Das anamorphotische Linsensystem 14 ist mit seiner Sammelachse parallel zu der Ebene der Ablenkabtastung mit dem Strahlenbündel durch die Ablenkvorrichtung angeordnet. 15b ist ein Antriebssystem für die Ablenkvorrichtung 15 mit einer daran befestigten Reflexionsfläche 15a. Mit 16 ist ein Abtastlinsensystem bezeichnet, das aus einer sphärischen Linse 16a und einer torusförmigen Linse 16b besteht. 17 ist eine photoempfindliche Trommelfläche, die bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel die abzutastende Oberfläche ist. In einer Ebene, die die Ablenk/Abtastebene unter rechten Winkeln schneidet, ist die Oberfläche der photoempfindlichen Trommel 17 optisch mit der Reflexionsfläche 15a der Ablenkvorrichtung 15 konjugiert.
Wenn der Abstand zwischen benachbarten Licht aussendenden Punkten der Lichtquelle in Form einer Anordnung ausreichend klein ist, oder wenn die Größe des Zeichens oder des Bildes, das aufgezeichnet werden soll, passend hierfür ist, können die einzelnen Licht aussendenden Elemente der Anordnung, die die Lichtquelle bildet, in einer Ebene angeordnet sein, die die Ablenk/Abtastebene unter rechten Winkeln schneidet (s. Fig. 2). Die von der Anordnungs-Lichtquelle ausgesandten Strahlenbündel werden von der Kollimatorlinse 12 kollimiert und treten dann in das afokale Vario-Linsensystem 13 ein, das für den gewünschten Austrittswinkel und den gewünschten Strahldurchmesser der kollimierten Strahlenbündel sorgt. Diese Strahlenbündel werden linear auf der Reflexionsfläche 15a der Ablenkvorrichtung 15 fokussiert. Die Richtung dieser linearen Bilder auf der Reflexionsfläche ist parallel zu der Ablenk/Abtastfläche, die die von der Ablenkvorrichtung im Verlauf der Zeit abgelenkten Strahlenbündel bilden. Die durch die Reflexionsfläche 15a abgelenkten Strahlenbündel werden durch das anamorphotische Abtastlinsensystem 16 auf der photoempfindlichen Trommelfläche fokussiert.
Im allgemeinen ist eine Lichtquelle in Form einer Anordnung schwierig herzustellen, und gegenwärtig ist es unmöglich, eine hochintegrierte Lichtquelle in Form einer Anordnung zu erhalten. Wenn die Anordnung der Lichtquellenelemente senkrecht zu der Ablenk/Abtastebene angeordnet ist (Fig. 2), und man die Fokusvergrößerung des im Abtastoptiksystem verwendeten optischen Systems betrachtet, wird der Abstand zwischen benachbarten Abtastzeilen auf der Abtastfläche zu groß, als daß er akzeptabel wäre. Zur Lösung dieses Problems wird die Lichtquelle in Form einer Anordnung gewöhnlich um einen bestimmten Winkel Φ zur Ablenk/Abtastebene geneigt angeordnet, wie dies in Fig. 3 gezeigt ist. Bei Verwendung einer Lichtquelle mit einer derartigen Anordnungsform ist die Richtung der Anordnung der Licht aussendenden Elemente um einen Winkel Φ relativ zur Ablenk/Abtastebene geneigt. In Fig. 3 sind 11a und 11b benachbarte Licht aussendende Elemente. Die Ablenk/Abtastebene ist mit P-P′ bezeichnet. Da die Richtung der Anordnung der Licht aussendenden Elemente um den Winkel Φ relativ zu der Ablenk/Abtastebene P-P′ geneigt ist, ist der scheinbare Abstand zwischen zwei Licht aussendenden Elementen 11a und 11b gegeben durch:
Po = 1 sinΦ
Offensichtlich ist der scheinbare Abstand Po kürzer als der tatsächliche Abstand. Auf diese Weise kann durch Neigen der Richtung der Anordnung der Abstand zwischen benachbarten Lichtpunkten "1", der tatsächlich in der Anordnung vorgegeben ist, auf einen Wert Po, der kleiner als 1 ist, verringert werden. Wenn im erfindungsgemäßen Abtastoptiksystem eine derartige Lichtquelle in Form einer Anordnung verwendet wird, die geneigt angeordnet ist, dehnen sich die Strahlenbündel auf der Reflexionsfläche 15a der Ablenkvorrichtung in Richtung der Ablenkabtastung. In dem Fall, daß das afokale Vario-Linsensystem 13 aus einem sphärischen Linsensystem besteht, wird die Ausdehnung der Lichtstrahlen mit zunehmender Winkelvergrößerung des afokalen Vario-Linsensystems größer. Dieser Ausdehnung der Strahlenbündel muß durch geeignete Mittel entgegengewirkt werden. Ansonsten benötigt die Ablenkvorrichtung eine größere Reflexionsfläche. Erfindungsgemäß wird dies durch die Verwendung eines anamorphotischen afokalen Vario-Linsensystems 13 erreicht, das keine Brechkraft in einer bestimmten Richtung hat. Verfährt man so, ist es möglich, eine kleine Reflexionsfläche zu verwenden, sogar wenn die Vergrößerung geändert wird, wobei eine geneigte Anordnung von Lichtquellen, wie vorstehend beschrieben, verwendet wird. Das in diesem Fall verwendete anamorphotische afokale Vario-Linsensystem 13 hat eine Brechkraft lediglich in einer Ebene senkrecht zu der Ablenk/Abtastebene, so daß es den Teilungsabstand zwischen Abtastzeilen auf der Abtastfläche ändert, jedoch keine Wirkung auf die Änderung der Vergrößerung in Richtung der Abtastzeile hat. Deshalb bleibt auf der Reflexionsfläche 15a der Ablenkvorrichtung die Ausdehnung des Strahlpunktes unabhängig von der Änderung der Vergrößerung konstant.
Die Fig. 4A-4C zeigen ein Ausführungsbeispiel eines anamorphotischen afokalen Vario-Linsensystems. Das Linsensystem besteht aus drei Linsengruppen, von denen die erste Gruppe stationär und die zweite bewegbar ist. Die Fig. 4A, 4B und 4C sind Querschnitte durch das Linsensystem in einer Ebene, die die Ablenk/Abtastebene unter einem rechten Winkel schneidet; zu Erläuterungszwecken ist der optische Weg zweier Strahlenbündel gezeigt. In der in Fig. 4A gezeigten Stellung fallen die beiden Strahlenbündel unter einem Winkel R mit der optischen Achse ein und treten aus dem Linsensystem unter einem Winkel R′=R/3 aus. In der in Fig. 4B gezeigten Stellung fallen die beiden Strahlenbündel unter dem selben Winkel R mit der optischen Achse in das Linsensystem ein und treten mit dem Winkel R=R/6 aus. In der in Fig. 4C gezeigten Stellung treten die beiden Strahlenbündel aus dem Linsensystem mit dem Winkel R′=R/9 aus.
Fig. 5 erläutert die Wirkung eines derartigen anamorphotischen Linsensystems, wie es in den Fig. 4A-4C gezeigt ist.
In Fig. 5 bezeichnet 21 das afokale anamorphotische Vario-Linsensystem; a und b sind zwei Strahlenbündel, die von der Kollimatorlinse kommen und in das Linsensystem 21 einfallen. R ist der Winkel, den die beiden Strahlenbündel bilden, bevor sie in das Linsensystem 21 einfallen; R′ ist der Winkel, den sie nach dem Austritt aus dem Linsensystem bilden. Wie in Fig. 5 gezeigt ist, hat das anamorphotische afokale Vario-Linsensystem 21 die Wirkung, den Winkel R zwischen den beiden Strahlenbündeln a und b in den Winkel R′ zu verwandeln. Nach dem anamorphotischen, afokalen Vario-Linsensystem 21 ist ein Ablenkelement 15 angeordnet, das in Fig. 5 zum Zwecke der Vereinfachung weggelassen ist.
Wenn diese beiden Strahlenbündel aus dem Linsensystem 21 mit einem Winkel R′ zwischen ihnen austreten und auf das Abtastlinsensystem 16 gerichtet werden, werden zwei Strahlpunkte (Flecken) Sa und Sb auf der Brennebene des Abtastlinsensystems 16 gebildet. Wenn P der Abstand zwischen den beiden Punkten Sa und Sb und f die Brennweite des Abtastlinsensystems 16 in der Richtung senkrecht zur Ablenk/Abtastebene ist, gilt
P = fR′ = rfR (1)
wobei r die Winkelvergrößerung des anamorphotischen Vario-Linsensystems 21 ist: r≡R′/R
Die Winkelvergrößerung r ist der Parameter, durch den die Größe des aufgezeichneten Bildes bestimmt wird. Der Wert r kann durch Bewegen der zweiten Gruppe der drei Linsengruppen, die das Linsensystem 21 bilden, bestimmt werden.
Das Linsensystem 21 hat die Wirkung, die Winkelvergrößerung zu ändern. Gleichzeitig mit der Änderung der Winkelvergrößerung ändert sich automatisch der Durchmesser des Austrittsstrahlenbündels. Wenn Φ der Durchmesser des auf das Linsensystem 21 einfallenden Strahlenbündels und R′ der des Austrittsstrahlenbündels ist, gilt:
r = R/R′ (2)
Wenn ferner Rs die Punktgröße der fokussierten Flecken Sa oder Sb (Fig. 5) sei, die sich bei einem Eintrittsstrahlenbündel mit einem Durchmesser R′ am Abtastlinsensystem 16 ergibt, so erhält man:
Rs = K/R′ (K: const) (3)
und aus den Gleichungen (2) und (3):
Rs = K′r (K′ = K/R: const) (4)
Diese Gleichung sagt, daß die Punktgröße proportional zur Winkelvergrößerung des Linsensystems 21 ist. Die Änderung des Punktdurchmessers wird gleichzeitig mit der Änderung der Größe des aufgezeichneten Bildes ausgeführt.
Die vorstehende Beschreibung ist für ein anamorphotisches afokales Vario-Linsensystem erfolgt: es ist selbstverständlich, das die vorstehenden Ausführungen auch für den Fall gelten, daß das afokale Vario-Linsensystem 13 ein sphärisches System ist.
Zur weiteren Erläuterung des afokalen anamorphotischen Vario-Linsensystems 21, das in Fig. 4 gezeigt ist, dienen die folgenden Beispiele. Natürlich sind die in den Beispielen angegebenen Werte auch auf ein sphärisches Linsensystem anwendbar, um das entsprechende afokale Vario-Linsensystem zu erhalten.
In den folgenden Beispielen ist ri immer der Krümmungsradius der i-ten Fläche, di die Linsendicke oder der Luftabstand zwischen der i-ten und der (i+1)ten Fläche, n der Brechungsindex des Glasmaterials für die Wellenlänge 0,85 µm und n′ für die Wellenlänge 0,6328 µm; νd ist die Abbe′sche Zahl des Glasmaterials.
Beispiel 1
Beispiel 2
Beispiel 3
Beispiel 4
Beispiel 5
Die Werte des variablen Luftabstandes (auf der Achse) sind wie folgt:
Beim erfindungsgemäßen Abtastoptiksystem wird die Vergrößerung in Abtastrichtung einer Abtastzeile durch eine elektrische Einrichtung, die das Modulationssignal ändert, oder durch eine mechanische Einrichtung, die die Drehgeschwindigkeit der Ablenk/Abtastfläche ändert, unabhängig davon gesteuert, ob als Linsensystem zur Änderung der Vergrößerung ein afokales Vario-Linsensystem oder ein anamorphotisches afokales Vario-Linsensystem verwendet wird.
Ferner sollte hinsichtlich des anamorphotischen Abtastlinsensystems beachtet werden:
Wenn das Vario-Linsensystem ein afokales Vario-Linsensystem mit einem sphärischen System ist, sollte das anamorphotische Abtastlinsensystem 16 eine derartige Brennweite innerhalb der Ablenk/Abtastebene haben, daß die Strahlkomponente parallel zur Ablenk/Abtastebene auf der Oberfläche, die abgetastet werden soll, in Zusammenwirken mit dem afokalen Vario-Linsensystem fokussiert wird.
Wenn das Vario-Linsensystem ein afokales anamorphotisches Vario-Linsensytem ist, sollte das Abtastlinsensystem 16 eine derartige Brennweite haben, daß die kollimierten Strahlenbündel auf der Abtastfläche fokussiert werden.

Claims (6)

1. Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem mit veränderbarer Vergrößerungsfunktion, mit
einer Strahlenbündelquelle (11), die mehrere kollimierte Strahlenbündel erzeugt;
einer bewegbaren Ablenkvorrichtung (15) mit mindestens einer Reflexionsfläche (15a), um die Strahlenbündel von der Strahlenbündelquelle (11) in einer Ablenkebene abzulenken;
einem Abtastlinsensystem (16), das zwischen der Ablenkvorrichtung (15) und einer abzutastenden Oberfläche angeordnet ist und das die Strahlenbündel als Punkt auf die abzutastende Oberfläche fokussiert; und
einem afokalen Vario-Linsensystem (13; 21), das auf der optischen Achse zwischen der Strahlenbündelquelle (11) und der Ablenkvorrichtung (15) angeordnet ist und das eine Änderung der Abbildungvergrößerung bewirkt,
dadurch gekennzeichnet,
daß das afokale Vario-Linsensystem (13; 21) derart anamorphotisch ausgebildet ist, daß es die Abbildungsvergrößerung nur in einer Ebene, die senkrecht zur Ablenkebene verläuft, ändert,
daß zwischen dem afokalen Vario-Linsensystem (13; 21) und der Ablenkvorrichtung (15) ein anamorphotisches Linsensystem (14) angeordnet ist, daß die Strahlenbündel als linienförmiges Bild, das sich in der Ablenkebene erstreckt auf der Reflexionsfläche (15a) fokussiert, und
daß das Abtastlinsensystem (16) ein anamorphotisches Linsensystem ist.
2. Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlenbündelquelle (11) eine Anordnung von mehreren Lichtquellen (11a, 11b, 11c, 11d, 11e) ist.
3. Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung von mehreren Lichtquellen (11a, 11b, 11c, 11d, 11e) unter einem Winkel R zur Ablenkebene geneigt angeordnet ist.
4. Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Strahlenbündelquelle (11) und dem afokalen Vario-Linsensystem (13; 21) eine Kollimatorlinse (12) angeordnet ist, die die Strahlenbündel von der Strahlenbündelquelle (11) kollimiert.
5. Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das afokale Vario-Linsensystem (13; 21) eine erste unbewegliche Linsengruppe, bestehend aus einer unsymmetrischen bikonvexen Linse sowie einer konvex-konkaven Linse mit sammelnder Wirkung und eine zweite bewegliche Linsengruppe, bestehend aus einer unsymmetrischen bikonkaven Linse sowie einer unsymmetrischen bikonvexen Linse umfaßt, und die zweite Linsengruppe eine verschiebbare Zerstreuungslinse und eine verschiebbare Sammellinse aufweist, wobei die Zerstreuungslinse zwischen der ersten Linsengruppe und der bewegbaren Sammellinse angeordnet ist.
6. Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Abtastlinsensystem (16) eine sphärische Einzellinse (16a) und eine torische Einzellinse (16b) aufweist, die in dieser Reihenfolge von der Seite der Ablenkvorrichtung (15) aus betrachtet, angeordnet sind.
DE3137031A 1980-09-18 1981-09-17 Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem Expired - Fee Related DE3137031C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55130240A JPS5754914A (en) 1980-09-18 1980-09-18 Plural beam scanning optical system having variable magnification function

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3137031A1 DE3137031A1 (de) 1982-04-15
DE3137031C2 true DE3137031C2 (de) 1994-04-14

Family

ID=15029467

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3137031A Expired - Fee Related DE3137031C2 (de) 1980-09-18 1981-09-17 Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4390235A (de)
JP (1) JPS5754914A (de)
DE (1) DE3137031C2 (de)
GB (1) GB2087095B (de)

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2069176B (en) * 1980-02-06 1984-10-24 Canon Kk Optical mechanical scanning using several light beams
JPS58192015A (ja) * 1982-05-04 1983-11-09 Toshiba Corp 複数光束走査装置
JPS60100118A (ja) * 1983-11-05 1985-06-04 Canon Inc 倒れ補正機能を有する走査光学系
JPS60120658A (ja) * 1983-12-03 1985-06-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体レ−ザプリンタの画像変倍方法
JPS60169820A (ja) * 1984-02-15 1985-09-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像走査記録装置の記録ヘツド
US4617578A (en) * 1984-02-15 1986-10-14 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Multi-beam zoom and focusing lens scan pitch-adjusting recorder
JPS60220308A (ja) * 1984-04-17 1985-11-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光ビ−ム走査装置
JPH0743469B2 (ja) * 1984-04-18 1995-05-15 ソニー株式会社 記録再生光学系の製造方法
US4842396A (en) * 1984-06-29 1989-06-27 Canon Kabushiki Kaisha Light modulation element and light modulation apparatus
JPS6135401A (ja) * 1984-07-27 1986-02-19 Minolta Camera Co Ltd 反射鏡
JPS6166465A (ja) * 1984-09-10 1986-04-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 可変倍率レ−ザ−プリンタ
JPS6166466A (ja) * 1984-09-10 1986-04-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 可変倍率レ−ザ−プリンタ
JPS6166467A (ja) * 1984-09-10 1986-04-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 可変倍率レ−ザ−プリンタ
US4580151A (en) * 1984-10-22 1986-04-01 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning apparatus
JPS61128218A (ja) * 1984-11-28 1986-06-16 Ricoh Co Ltd 2枚玉fθレンズ
JPS61156020A (ja) * 1984-12-28 1986-07-15 Ricoh Co Ltd ポストオブジエクテイブ型光偏向器
JPS61172109A (ja) * 1985-01-25 1986-08-02 Ricoh Co Ltd 光走査装置用fθレンズ
JPS61175616A (ja) * 1985-01-30 1986-08-07 Ricoh Co Ltd 偏向光ビ−ム用レンズ系
JPH0743464B2 (ja) * 1985-03-19 1995-05-15 キヤノン株式会社 画像記録装置
US4820030A (en) * 1985-07-29 1989-04-11 Wells-Gardner Electronics Corporation Lens arrangement
JPS62227264A (ja) * 1986-03-28 1987-10-06 Minolta Camera Co Ltd 画像読取装置
USRE34438E (en) * 1986-07-14 1993-11-09 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Tilt error corrective scanning optical system
US4919502A (en) * 1986-07-14 1990-04-24 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Tilt error corrective scanning optical system
JP2584224B2 (ja) * 1987-03-30 1997-02-26 富士写真フイルム株式会社 光ビ−ム記録装置
JPH0734680Y2 (ja) * 1987-04-15 1995-08-09 澁谷工業株式会社 レーザ印字装置の印字パターン倍率変更装置
US4893195A (en) * 1987-08-27 1990-01-09 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Image processing apparatus capable of eliminating moire pattern
JPS6458173A (en) * 1987-08-28 1989-03-06 Minolta Camera Kk Picture processor
JPH01155311A (ja) * 1987-12-11 1989-06-19 Minolta Camera Co Ltd f・θレンズ
US5046795A (en) * 1987-12-23 1991-09-10 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Apparatus for producing a distortion-free two-dimensional image of a scanned object
KR910009142B1 (ko) * 1988-08-12 1991-10-31 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 복수 광빔의 주사빔 주사간격을 가변으로 하는 제어수단을 구비한 광빔주사장치
US5181137A (en) * 1988-08-24 1993-01-19 Canon Kabushiki Kaisha Light scanning apparatus
DE3935239A1 (de) * 1988-10-21 1990-04-26 Asahi Optical Co Ltd Abtastgeraet
JP2537277B2 (ja) * 1989-04-07 1996-09-25 大日本スクリーン製造株式会社 走査光学系
EP0406844A3 (en) * 1989-07-05 1992-08-19 Canon Kabushiki Kaisha Scanning optical apparatus
RU2030842C1 (ru) * 1990-11-29 1995-03-10 Внешнеэкономическая ассоциация "Интерагро" Устройство для воспроизведения на экране изображения
US5469290A (en) * 1994-06-06 1995-11-21 Xerox Corporation Two-element zoom lens for beam separation error correction
JPH0876039A (ja) * 1994-09-08 1996-03-22 Fuji Xerox Co Ltd マルチビームレーザ記録装置
US5990983A (en) * 1994-09-30 1999-11-23 Laser Power Corporation High resolution image projection system and method employing lasers
US5550668A (en) * 1994-11-21 1996-08-27 Xerox Corporation Multispot polygon ROS with maximized line separation depth of focus
US5526166A (en) * 1994-12-19 1996-06-11 Xerox Corporation Optical system for the correction of differential scanline bow
JP3082652B2 (ja) * 1994-12-27 2000-08-28 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
DE19655166C2 (de) * 1995-05-24 2003-04-10 Ricoh Kk Optische Scanvorrichtung bzw. Abtastvorrichtung
US5914477A (en) * 1996-06-26 1999-06-22 Ncr Corporation Line focus barcode scanner
US5841567A (en) * 1996-07-02 1998-11-24 Barco Gerber Systems Method and apparatus for imaging at a plurality of wavelengths
US6154259A (en) * 1996-11-27 2000-11-28 Photera Technologies, Inc. Multi-beam laser scanning display system with speckle elimination
JP3514058B2 (ja) * 1997-01-17 2004-03-31 ミノルタ株式会社 レーザー走査装置
US6351324B1 (en) 2000-03-09 2002-02-26 Photera Technologies, Inc. Laser imaging system with progressive multi-beam scan architecture
JP2002236268A (ja) * 2001-02-07 2002-08-23 Fuji Photo Film Co Ltd 走査光学系、画像記録用露光装置
US6476962B1 (en) 2001-04-24 2002-11-05 Eastman Kodak Company Multi-beam zoom lens for producing variable spot sizes for a laser printer
JP2004109204A (ja) 2002-09-13 2004-04-08 Pentax Corp 走査光学系
JP4428917B2 (ja) 2002-10-24 2010-03-10 Hoya株式会社 走査光学系
US6816292B2 (en) 2002-12-26 2004-11-09 Pentax Corporation Scanning optical system
JP4395340B2 (ja) 2003-07-15 2010-01-06 Hoya株式会社 走査光学系
JP2007033832A (ja) * 2005-07-26 2007-02-08 Fuji Xerox Co Ltd 光走査装置
JP4489678B2 (ja) 2005-09-30 2010-06-23 富士通株式会社 波長選択光スイッチおよび分光機能を備えた光デバイス
JP4929761B2 (ja) * 2006-03-02 2012-05-09 リコープリンティングシステムズ株式会社 光走査装置及びこれを使用した画像形成装置
JP4752698B2 (ja) * 2006-09-21 2011-08-17 富士ゼロックス株式会社 光走査装置及び光線ピッチ調整方法。
JP5879794B2 (ja) * 2011-07-26 2016-03-08 富士ゼロックス株式会社 光走査装置及び画像形成装置
DE102016117863A1 (de) 2016-09-22 2018-03-22 Océ Holding B.V. Elektrofotografiestation und Verfahren zur Belichtung eines Bildträgers

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3687025A (en) * 1970-05-04 1972-08-29 Harris Intertype Corp Image spacing system
US3750189A (en) * 1971-10-18 1973-07-31 Ibm Light scanning and printing system
US3790255A (en) * 1972-09-11 1974-02-05 American Optical Corp Zoom lens system
JPS6011325B2 (ja) * 1977-01-21 1985-03-25 キヤノン株式会社 走査装置
JPS5488139A (en) * 1977-12-26 1979-07-13 Olympus Optical Co Ltd Optical scanner using rotary polyhedral mirror
JPS5494053A (en) * 1978-01-06 1979-07-25 Mitsubishi Electric Corp Light spot scanner

Also Published As

Publication number Publication date
GB2087095A (en) 1982-05-19
GB2087095B (en) 1984-06-20
DE3137031A1 (de) 1982-04-15
US4390235A (en) 1983-06-28
JPH0114562B2 (de) 1989-03-13
JPS5754914A (en) 1982-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3137031C2 (de) Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem
EP1006382B1 (de) Anordnung und Vorrichtung zur optischen Strahltransformation
DE2918283C2 (de) Gerät zur Substratbehandlung mit einem Drehspiegel od. dgl.
DE2458186C3 (de) Vorrichtung zum Aufzeichnen von in einem modulierten Lichtstrahlenbündel enthaltenen Information
DE3922982C2 (de)
DE10293414B4 (de) Lithograph mit bewegtem Zylinderlinsensystem
DE3314963C2 (de)
DE3207467C2 (de)
DE10038622A1 (de) Scan-Mikroskop,optische Anordnung und Verfahren zur Bildaufnahme in der Scan-Mikroskopie
EP0898783A2 (de) Rastermikroskop, bei dem eine probe in mehreren probenpunkten gkeichzeitig optisch angeregt wird
EP0011709A2 (de) Lichtleiteinrichtung zur Auflichtbeleuchtung
EP0943950A1 (de) Verfahren zum Rastern bei der konfokalen Mikroskopie und konfokales Mikroskop
DE19635792A1 (de) Zoomvorrichtung
DE2834085C2 (de)
DE4202606C2 (de) Vorrichtung zum Fokussieren eines Lichtbündels in mehreren Fokuspunkten
EP0911664A2 (de) Optische Bildaufnahmeeinrichtung und Verfahren zu deren Nutzung
DE3609657C2 (de)
DE3443758C2 (de)
DE2705412A1 (de) Abtastvorrichtung
DE60007308T2 (de) Innentrommel-aufzeichnungsgerät mit mehreren strahlen mit mehreren wellenlängen
DE3302800A1 (de) Abbildungssystem
DE3644124C2 (de)
EP2110699A2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Beleuchten einer Objektszene
EP1211066B1 (de) Abbildungsvorrichtung
DE3514302A1 (de) Optische abtastvorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee