DE3207467C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Abtastsystem gemäß dem
Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Bei einem derartigen Abtastsystem, wie es in der DE-OS 22
50 763 gezeigt ist, wird ein von einer Lichtquelle ausge
hendes Strahlenbündel mittels eines ersten optischen
Systems auf einer Ablenk- bzw. Reflexionsfläche einer Ab
lenkeinrichtung als Lichtstrich, d. h. als im wesentlichen
eindimensionales Bild, abgebildet und von dieser reflek
tiert. Das reflektierte Strahlenbündel wird mittels eines
zweiten optischen Systems auf einer abzutastende Oberfläche
fokussiert. Das zweite optische System umfaßt dabei eine
Zylinderlinse, die das an der Ablenkeinrichtung reflek
tierte Strahlenbündel kollimiert, sowie eine bikonvexe
Linse, mittels der das Strahlenbündel nunmehr paralleler
Lichtstrahlen auf der abzutastenden Oberfläche fokussiert
wird. Durch den zweilinsigen Aufbau des zweiten optischen
Systems ist für ein derartiges Abtastsystem ein hoher Mon
tageaufwand notwendig, da sowohl die Zylinderlinse als auch
die bikonvexe Linse relativ zu der Ablenkeinrichtung bzw.
der abzutastenden Oberfläche genau ausgerichtet werden müs
sen. Darüber hinaus erfordert das zweite optische System
einen großen Bauraum, was sehr nachteilig bezüglich einer
Ausbildung eines kompakten Abtastsystems ist. Da die Zylin
derlinse des zweiten optischen Systems gemäß der DE-OS 22
50 763 lediglich die Aufgabe erfüllt, das Strahlenbündel zu
kollimieren, wird die Aberrationskorrektion des Abtastsy
stems, insbesondere hinsichtlich der Bildfeldkrümmung, im
wesentlichen mit Hilfe der bikonvexen Linse durchgeführt.
Eine derartige Linse weist aber nur eine geringe Anzahl an
konstruktiven Freiheitsgraden auf, so daß eine ausreichende
Aberrationskorrektion schwierig ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Abtastsystem
zu schaffen, das einen kompakten Aufbau aufweist und in
einfacher Weise eine gute Aberrationskorrektion ermöglicht.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im
kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 gelöst.
Durch den erfindungsgemäßen einlinsigen Aufbau des zweiten
optischen Systems sind dessen Abmessungen, die wesentlich
zu den Gesamtabmessungen des Abtastsystems beitragen, we
sentlich verringert, so daß ein kompaktes Abtastsystem ge
schaffen ist. Da die torische Einzellinse keine kollimie
rende Funktion hat, weist sie gegenüber der bekannten bi
konvexen Linse gemäß der DE-OS 22 50 763 eine größere An
zahl von konstruktiven Freiheitsgraden auf, so daß die
Aberrationskorrektion vereinfacht ist. Die konkave, der Ab
lenkeinrichtung zugewandte Oberfläche der torischen Einzel
linse dient dabei insbesondere der Korrektion der Bildfeld
krümmung, da bei größer werdendem Ablenkwinkel auch die Um
lenkung eines in die torische Einzellinse einfallenden
Lichtstrahls größer wird. Die Oberfläche positiver Brech
kraft der torischen Einzellinse ermöglicht es, die abzuta
stende Oberfläche relativ nah an der torischen Einzellinse
anzuordnen, was bezüglich der kompakten Ausgestaltung vor
teilhaft ist.
Vorteilhafte Weiterbildungen des Abtastsystems sind Gegen
stand der Unteransprüche.
Aus der US-PS 37 87 107 ist es bekannt, eine torische Linse
zwischen einer Ablenkeinrichtung und einer abzutastenden
Oberfläche anzuordnen. Allerdings handelt es sich bei der
Abtastvorrichtung gemäß der US-PS 37 87 107 nicht um ein
gattungsgemäßes Abtastsystem und über die Ausgestaltung der
torischen Linse sind keine Angaben gemacht.
Die Erfindung wird nachstehend an Hand von Ausführungs
beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher be
schrieben. Es zeigen:
Fig. 1 perspektivisch ein Ausführungsbeispiel des er
findungsgemäßen optischen Abtastsystems,
Fig. 2 eine Aufsicht auf das in Fig. 1 gezeigte opti
sche Abtastsystem,
Fig. 3 einen Querschnitt senkrecht zur Ablenk
ebene,
Fig. 4 ein Ausführungsbeispiel einer Lichtquelle,
Fig. 5 ein Ausführungsbeispiel des ersten optischen
Systems,
Fig. 6 und 7 Ausführungsbeispiele des erfindungsge
mäßen Abtastsystems,
Fig. 8, 9 und 10 die Bildfeldkrümmung bei den Aus
führungsbeispielen des erfindungsgemäßen Abtast
systems,
Fig. 11, 12 und 13 die Verzeichnung bezüglich der
Gleichförmigkeit der Geschwindigkeit bei den Ausführungs
beispielen des erfindungsgemäßen Abtastsystems,
Fig. 14 und 15 Verfahren zur Einstellung des erfin
dungsgemäßen Abtastsystems, und
Fig. 16 die Größe der Einstellung des erfindungsge
mäßen Abtastsystems.
Gemäß Fig. 1
sind eine Lichtquelle bzw. eine
Lichtquelleneinrichtung 1, die entweder eine Lichtquelle oder
eine Lichtquelle 1 a und eine Kondensoreinrichtung 1 b
(siehe Fig. 4) aufweist, ein erstes optisches System 2
zur Linearabbildung eines von der Lichtquel
leneinrichtung 1 ausgesandten Strahlenbündels, eine Ablenkeinrichtung
3 mit einer Ablenk- und Reflexionsfläche 3 a nahe
der Stelle, an der das Strahlenbündel einen linearen Querschnitt aufweist,
und ein zweites optisches System in Form einer torischen Einzel
linse 4 zwischen der Ablenkeinrichtung 3 und einer abzutasten
den Oberfläche 5 vorgesehen. Die torische Einzellinse 4 hat unterschiedliche
Brechkräfte in zwei zueinander orthogonalen Richtungen
und hat eine torische Fläche mit einer Haupt- und einer
Hilfsachse. Ein Abbildungsfleck wird auf der abzutastenden
Oberfläche 5 erzeugt und, wenn die Ablenkeinrichtung 3 gedreht
wird, tastet der Abbildungsfleck die abzutastende Oberfläche
5 ab.
Fig. 2 zeigt
einen Querschnitt parallel zur Ablenkebene des
vorstehend erläuterten Aufbaus, oder anders ausgedrückt,
in einem Querschnitt parallel zu einer Ebene, die die
Hauptachse und die optische Achse der torischen Einzellinse 4
enthält. Das von der Lichtquelle 1 ausgesandte
Strahlenbündel geht durch das erste optische System 2, beispielsweise eine Zylinderlinse, hindurch, wird
anschließend von der Ablenk- und Reflexionsfläche 3 a der Ablenkeinrichtung
3 reflektiert, wobei das reflektierte Strahlenbündel
abgelenkt wird, wenn sich die Ablenkeinrichtung 3 dreht. Das
abgelenkte Strahlenbündel wird auf der abzutastenden Oberfläche
5 durch die torische Einzellinse 4 abgebildet
und die Abtastgeschwindigkeit des Abbildungsflecks kon
stant gehalten.
Fig. 3 zeigt eine abgewickelte Ansicht eines Quer
schnitts längs des Strahlenbündels in einer Richtung senk
recht zu der Ablenkebene, d. h. eines Querschnitts, in dem
der Einfluß der Verkippung bzw. der Neigung der Ablenkeinrichtung 3
korrigiert wird. Das von der Lichtquelle
1 ausgesandte Strahlenbündel wird durch das erste
optische System 2 nahe der Reflexionsfläche 3 a der Ab
lenkeinrichtung 3 linear abgebildet. Die Brechkraft der torischen Ein
zellinse 4 in diesem Querschnitt hält, anders als die
Brechkraft der torischen Einzellinse 4 in der Ablenkebene, die
Reflexionsfläche 3 a der Ablenkeinrichtung
3 mit der abzutastenden Oberfläche 5 optisch konjugiert.
Zwar variiert das Strahlenbündel, das durch die torische Einzellinse 4 hin
durchgeht, wenn die Reflexionsfläche 3 a in einer Richtung
senkrecht zur Ablenkebene geneigt ist, so daß sie während
der Drehung der Ablenkeinrichtung 3 eine Position 3 a′ an
nimmt, wie durch die gestrichelte Linie dargestellt ist. Die
Abbildungsposition auf der abzutastenden Oberfläche 5 va
riiert jedoch nicht.
Im folgenden soll beschrieben werden, warum eine gute
Abbildungsqualität und eine gleichförmige Abtastgeschwin
digkeit auf der abzutastenden Oberfläche mit dem
Abtastsystem trotz des einfachen und
kompakten Aufbaus erreicht werden können. Wenn das Öff
nungsverhältnis klein ist, beispielsweise zwischen 1 : 50
und 1 : 150, können gute Abtasteigenschaften erzielt werden.
Da eine torische Fläche hinsichtlich der zu der Ab
lenkebene senkrechten Richtung vorhanden ist, ist es mög
lich, daß die Brennweite sich von der Brennweite in der
Ablenkebene unterscheidet. Folglich ist es möglich, eine
Abbildungsrelation zu erhalten, die sich von der Abbil
dungsrelation in der Ablenkebene unterscheidet und die Po
sition der Ablenkfläche 3 a der Ablenkeinrichtung 3 und die ab
zutastende Oberfläche 5 können in eine konjugierte Beziehung
gebracht werden.
Dabei ist es notwendig,
daß mindestens eine Fläche der torischen Einzellinse 4
eine negative Brechkraft in dem
zu der Ablenkebene senkrechten Querschnitt hat. Dies dient
zur Korrektur der Krümmung des Bildfeldes, so daß das
in dem zu der Ablenkebene senkrechten Quer
schnitt abgelenkte Strahlenbündel einen guten Abbildungsfleck
auf der abzutastenden Oberfläche 5 bildet. Dies bedeutet, daß
die negative Brechkraft für den einfallenden Lichtstrahl
in dem Querschnitt senkrecht zur Ablenkebene größer wird,
wenn der Ablenkwinkel größer wird; dies führt zu einer
Korrektur der Abbildungsebene in positiver Richtung.
Ein weiterer wichtiger Punkt ist, daß in dem Quer
schnitt senkrecht zur Ablenkebene die Form der torischen Einzellinse
4 vorzugsweise die einer Menis
kus-Einzellinse sein sollte, deren Fläche mit positiver
Brechkraft auf der Seite der abzutastenden Oberfläche 5 an
geordnet ist und die insgesamt eine positive Brechkraft
hat. Dies führt dazu, daß die Hauptpunktposition der torischen Ein
zellinse 4 in dem Querschnitt
senkrecht zur Ablenkebene nahe an das abzutastende Material
gebracht wird. Infolge hiervon wird es möglich, das gesam
te zweite optische System nahe an die Ablenkeinrichtung zu bringen, wo
durch das Abtastsystem kompakt wird.
Andererseits ist der gewünschte Wert des Verzeich
nungskoeffizienten V, auf dem bei der Korrektur abgestellt
wird, durch die Drehcharakteristik der Ablenkeinrichtung 3
bestimmt.
Wenn sich die Ablenkeinrichtung 3 mit gleichförmiger Win
kelgeschwindigkeit dreht, ist der Wert des Verzeichnungs
koeffizienten, bei dem sich das durch die Ablenkeinrichtung 3 ab
gelenkte Strahlenbündel auf der abzutastenden Oberfläche 5 mit
gleichförmiger Geschwindigkeit bewegt, V = .
Wenn die Ablenkeinrichtung 3 eine Sinusschwingung aus
führt, wie sie durch Φ = Φ₀ Sinus ω t (Φ: Drehwinkel, Φ₀:
Amplitude, ω: Winkelfrequenz und t: Zeit) so ist der Wert
des Verzeichnungskoeffizienten, bei dem sich das durch die
Ablenkeinrichtung 3 abgelenkte Strahlenbündel auf der abzutasten
den Oberfläche 5 mit gleichförmiger Geschwindigkeit bewegt.
Ein Ausführungsbeispiel
soll im folgenden gezeigt werden.
Tabelle 1 zeigt den Aufbau eines Kollimatorobjektivs
1 b, das das divergente Strahlenbündel der Lichtquelle 1 a
kollimiert. r i (i=1-10) sind die Krümmungsradien,
d i (i=1-9) sind die Luftabstände oder die Dicken der Linsen
und N i (i=1-5) die Brechungsindizes der jeweiligen Glas
materialien.
Der Aufbau ist in Fig. 4 gezeigt. Der Abstand zwi
schen dem Lichtemissionspunkt der Lichtquelle 1 a und der
Fläche r₁ ist 2,59.
Fig. 2 zeigt den Aufbau in einem Fall, in dem das erste optische
System 2 eine Zylinderlinse
ist, wie es in Fig. 5 gezeigt ist. Ihre Zylinderachse ist parallel
zur Ablenkebene angeordnet, r₁₁ und r₁₂ sind die Krüm
mungsradien in Abfolge von der Seite der Lichtquelle
1 in einem Querschnitt, der die optische Achse g
enthält und senkrecht zur Ablenkebene ist, d₁₀ die axiale
Dicke der Zylinderlinse, und N₆ der Brechungsindex ihres
Glasmaterials.
Die Tabellen 3 und 5 betreffen den Aufbau des Abtastsystems ab
der der Ablenkeinrichtung 3 zugewandten Fläche des ersten optischen Systems 2.
Von den in den Tabellen
3 und 4 angegebenen Parametern ist, wie in Fig. 6 ge
zeigt, d₁₁ der Abstand zwischen der Oberfläche des ersten optischen
Systems 2, die der Ablenkeinrichtung 3 und der
optischen Achse h der torischen Einzellinse 4 zugewandt ist, d₁₂
der Abstand zwischen der optischen Achse g und der Fläche
der torischen Einzellinse 4, die der Ablenkeinrichtung 3 zugewandt
ist, d₁₃ die axiale Dicke der torischen Einzellinse 4 und d₁₄
der Abstand zwischen der torischen Einzellinse 4 und der abzu
tastenden Oberfläche. ₁₃ und ₁₄ sind die Krümmungsradien der
torischen Einzellinse 4 in einer Ebene, die die optische Achse h
enthält und parallel zu der Ablenkebene ist, und r₁₃ und
r₁₄ die Krümmungsradien in einem Querschnitt, der die op
tische Achse h enthält und senkrecht zu der Ablenkebene
ist. N₇ ist der Brechungsindex des Materials der torischen
Einzellinse 4.
Die Tabellen 3 und 4 zeigen den Aufbau
für den Fall, daß die Ablenkeinrichtung ein
Dreh-Polygonspiegel ist, der eine Drehung mit gleichmäßi
ger Winkelgeschwindigkeit ausführt, und der Radius Rp des
in den Dreh-Polygonspiegel eingeschriebenen Kreises
28,85 mm ist, wobei die Drehachse einen Abstand
X=21 mm von der optischen Achse g und Y=21 mm von der
optischen Achse h hat.
Bei den Ausführungsbeispielen gemäß den Tabellen 3
und 4 hat die torische Einzellinse 4 in dem Querschnitt, der die
optische Achse h enthält und senkrecht zu der Ablenkebene
ist, eine konkave Fläche, wobei die der Ablenkeinrichtung 3 zugewandte
Fläche eine negative Brechkraft hat. Wenn der Ablenk
winkel des Strahlenbündels im Verlauf der Drehung der Ablenkeinrichtung
zunimmt, hat dies eine Korrekturwirkung auf
die entsprechende Bildfeldkrümmung in der Ebene senkrecht
zur Ablenkebene. In der Ebene senkrecht zur Ablenkebene
ist sie eine Meniskuslinse mit einer der Ablenkeinrichtung 3 zugewandten
konkaven Fläche und hat insgesamt positive
Brechkraft. Beide Merkmale können die Geschwindigkeiten des
Abbildungsflecks auf der abzutastenden Oberfläche 5 vergleich
mäßigen.
Tabelle 5 zeigt den Aufbau
für den Fall, daß die Ablenkeinrichtung eine Sinus
schwingung ausführt, wie es in Fig. 7 gezeigt ist, und die Dreh
achse am Schnittpunkt der optischen Achse g und der opti
schen Achse h und auf der Reflexionsfläche 3 a liegt.
In diesem Falle hat die torische Einzellinse 4 wie bei den
Ausführungsbeispielen gemäß den Tabellen 3 und 4 in dem
Querschnitt, der die optische Achse h enthält und senk
recht zu der Ablenkebene ist, eine konkave Fläche, wobei
die der Ablenkeinrichtung benachbarte Fläche eine negative Brech
kraft hat und eine Rolle für die Korrektur der Bildfeld
krümmung spielt. Bei diesen Ausführungsbeispielen kann die
Bewegungsgeschwindigkeit des Abbildungsflecks auf der ab
zutastenden Oberfläche gut vergleichmäßigt werden.
Die Fig. 8 bis 10 zeigen die Bildfeldkrümmung bei den
Ausführungsbeispielen gemäß den Tabellen 3 bis 5. Die
durchgezogene Linie gibt die Bildfeldkrümmung in der Ab
lenkebene und die gestrichelte Linie die Bildfeldkrümmung
in einer Ebene senkrecht zur Ablenkebene an. Φ ist der
Ablenkwinkel (Bildfeldwinkel).
Die Fig. 11 bis 13 zeigen die Verzeichnung für eine
gleichmäßige Geschwindigkeit bei den Ausführungsbeispielen
gemäß den Tabellen 3 bis 5. Die Verzeichnung ist durch die
folgende Gleichung definiert:
Hierbei ist Y′(Φ) der Abstand von der optischen Achse h
auf der abzutastenden Oberfläche zu dem Abbildungsfleck für
den Ablenkwinkel Φ, und Y′₀(Φ) der ideale Abstand von der
optischen Achse h zu dem Abbildungsfleck für eine ver
gleichmäßigte Bewegungsgeschwindigkeit des Abbildungs
flecks auf der abzutastenden Oberfläche für den Ablenkwinkel
Φ. Die Fig. 11 und 12 zeigen die Verzeichnung, wenn Y′₀=
K · Φ ist, wobei Fig. 11 die Verzeichnung zeigt, wenn K=242,00
und Fig. 12 die Verzeichnung, wenn K=242,47. Fig. 13
zeigt die Verzeichnung wenn
wobei Φ₀ die Amplitude der Sinusschwingungen
ausführenden Ablenkeinrichtung ist; Fig. 13 gibt die Ver
zeichnung an, wenn Φ₀=0,49742 rad und K=247,82 ist.
Die Fig. 8 bis 10 zeigen die Bildfeldkrümmung, wobei
die abzutastende Oberfläche 5, die in den Fig. 6 bzw. 7 ge
zeigt ist, als Referenzlage genommen wird; bei allen die
sen Ausführungsbeispielen ergibt sich die Korrekturwirkung
der Bildfeldkrümmung dadurch, daß gilt:
| r₁₃ | < | ₁₃ |
| r₁₄ | < | ₁₄ |
Die Ausführungsbeispiele gemäß den Fig. 8 und 9 kön
nen die Bildfeldkrümmung innerhalb der Schärfentiefe da
durch unterdrücken, daß das effektive Öffnungsverhältnis
des abgebildeten Strahlenbündels auf der abzutastenden Oberfläche
in der Größenordnung 1 : 140 ist; hierbei kann ein
gleichmäßiger Abbildungsfleck-Durchmesser erzielt werden.
Die Fig. 11 und 12 zeigen die Verzeichnung für die Aus
führungsbeispiele; beide Ausführungsbeispiele können ein
gutes Bild auf der abzutastenden Oberfläche mit einer Ver
zeichnung innerhalb von 1% erzeugen.
Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Tabelle 3 ist die
Fläche der torischen Einzellinse, die der Ablenkeinrichtung zugewandt
ist, eine zylindrische Fläche in dem Querschnitt pa
rallel zur Ablenkebene; eine derartige zylindrische Fläche
kann, sogar wenn das Material Glas ist, leicht durch
Schleifen hergestellt werden.
Das Ausführungsbeispiel gemäß den Tabellen 4 oder 5
hat eine bi-torische Fläche; wählt man als Material ein
Kunststoffmaterial wie Acryl, so ist es leicht möglich,
eine derartige Fläche durch Pressen, einen Injektions-
Spritzvorgang oder einen Schmelzvorgang bzw. einen Guß
vorgang herzustellen.
Die vorstehenden Ausführungsbeispiele sind für einen
Fall beschrieben worden, daß das von der Lichtquelle
1 emittierte Strahlenbündel parallele Licht
strahlen aufweist. Aber auch wenn das Strahlenbündel divergente oder
konvergente Lichtstrahlen hat, kann die Erfindung
leicht auf der Grundlage dieser Ausführungsbeispiele rea
lisiert werden.
Es ist ferner möglich, einen Halbleiterlaser oder ei
ne Leuchtdiode als Lichtquelle zu verwenden. Alternativ
kann ein optisches Strahl-Umformungssystem zwischen der
Lichtquelle und der Ablenkeinrichtung angeordnet
werden, so daß ein gewünschtes Öffnungsverhältnis des ab
gebildeten Strahlenbündels dadurch erzielt werden kann, daß
als Lichtquelle ein Laser, wie beispielsweise
ein He-Ne-Laser verwendet wird, der ein Strahlenbündel paralleles
Lichtstrahlen aussendet. Die in der vorliegenden Beschreibung
verwendete Längeneinheit ist mm.
Im folgenden soll ein Verfahren zur unabhängigen Ein
stellung
der Position des Bildpunktes in dem Querschnitt parallel
zur Ablenkebene und der Position des Bildpunktes in dem
Querschnitt senkrecht zur Ablenkebene
bei dem vorstehend beschriebenen Abtastsystem
beschrieben werden.
In Fig. 2 wird es in dem Querschnitt parallel zur Ab
lenkebene nunmehr möglich, den Grad der Divergenz oder den Grad
der Konvergenz des von der Lichtquelle 1 aus
gesandten Strahlenbündels einzustellen, so daß sich die Posi
tion des Bildpunktes verändert, nachdem das Strahlenbündel durch das
zweite optische System 4 hindurchgegangen ist, das
zwischen der Ablenkeinrichtung 3 und der abzutastenden Oberfläche
5 angeordnet ist. Somit wird es möglich, eine
optimale Abbildung auf der photoempfindlichen abzutastenden Oberfläche 5
zu realisieren. Dies wird dadurch erreicht, daß der Abstand
zwischen der Lichtquelle 1 a und dem Kollimatorobjektiv 1 b
(siehe Fig. 4) verändert wird.
Andererseits wird es bei dem Aufbau gemäß Fig. 3 möglich, das erste op
tische System 2 in Richtung parallel zu der op
tischen Achse zu verschieben, so daß hierdurch die Posi
tion des Linearbildes relativ zu der Ablenk- und Refle
xionsfläche 3 a verschoben wird sowie die Abbildungsposi
tion auf der abzutastenden Oberfläche 5 konjugiert zu der Position des Linearbildes gehalten werden kann.
Folglich wird es möglich, eine optimale Abbil
dung auf der photoempfindlichen abzutastenden Oberfläche 5 zu realisieren.
Das vorstehend beschriebene Einstellverfahren zeigt insbesondere
eine vorteilhafte Wirkung in den folgenden beiden Fällen:
Der erste Fall ist der Fall, daß sich die Ursprungs
punkte der Divergenz der von der Lichtquelle ausgehenden Lichtstrahlen in zwei zueinander
senkrechten Richtungen unterscheiden. Wenn nicht die vor
stehend beschriebene Einstellung durchgeführt wird, unter
scheiden sich die Abbildungspositionen in zwei zueinander
senkrechten Richtungen auf der photoempfindlichen abzutastenden Oberfläche
voneinander und es wird unmöglich, eine geeignete Form des
Flecks zu erzielen. Wenn das vorstehend beschriebene Ein
stellverfahren verwendet wird, beispielsweise wenn die
photoempfindliche abzutastende Oberfläche 5 an der optimalen Abbildungs
position in der Ablenkebene angeordnet ist, kann die Posi
tion des ersten optischen Systems 2 in Richtung
der optischen Achse bewegt werden, so daß hierdurch die
optimale Abbildungsposition in Richtung senkrecht zu der
Ablenkebene mit der photoempfindlichen abzutastenden Oberfläche überein
stimmt.
Im zweiten Fall unterscheiden sich die Abbildungspo
sitionen in zwei zueinander senkrechten Richtungen auf der
photoempfindlichen abzutastenden Oberfläche voneinander, wenn ein Fehler
in der Flächengenauigkeit, der Dicke oder der Anordnung
des Abtastsystems vorliegt. Wenn in diesem Falle das vor
stehend beschriebene Einstellverfahren verwendet wird,
beispielsweise wenn die photoempfindliche abzutastende Oberfläche 5 an
der optimalen Abbildungsstelle in der Ablenkebene angeord
net ist, wird die Position des ersten optischen
Systems 2 in Richtung der optischen Achse ver
schoben, so daß es möglich wird, daß die optimale Abbil
dungsposition in Richtung senkrecht zu der Ablenkebene mit
der photoempfindlichen abzutastenden Oberfläche übereinstimmt.
Im folgenden sollen spezielle Verfahren beschrieben
werden, um das erste optische System in Richtung
der optischen Achse zu bewegen, sowie eine Einrichtung
hierfür.
Bei dem ersten Verfahren wird das erste optische
System auf einem beweglichen Träger angeordnet.
Bei dem zweiten Verfahren werden Abstandshalter rela
tiv zu einer Referenzfläche eingesetzt.
Ein Ausführungsbeispiel für eine Vorrichtung, bei der das
erste optische System 2 auf einem beweglichen Trä
ger angeordnet wird, ist in Fig. 14 gezeigt. In dieser Fi
gur ist das erste optische System 2 auf einem be
weglichen Träger 6 mittels eines Halters 7 befestigt.
Die linken und die rechten Enden des beweglichen Trä
gers 6 und einer festen Platte 8 sind miteinander über ei
ne Schfwalbenschwanzführung 6′ verbunden. Eine Führungs
schraube 9 mit einem Drehknopf 10 an dem einen Ende ist
über eine Schraubenverbindung mit dem beweglichen Träger 6
verbunden. Der Drehknopf 10 ist drehbar relativ zu einem
Schraubenaufnahmeteil 11 gehalten; durch Drehen des Dreh
knopfs 10 nach links oder nach rechts kann der bewegliche
Träger 6 in Richtung der optischen Achse g nach vorne oder
nach hinten geführt werden. Folglich kann das erste opti
sche System 2 genau und stufenlos in
Richtung der optischen Achse g bewegt werden.
Fig. 15 zeigt einen Querschnitt, der ein Ausführungs
beispiel einer Vorrichtung erläutert, bei der Abstandselemen
te relativ zu einer Referenzfläche eingesetzt werden.
In Fig. 15 ist das erste optische System 2
auf einer optischen Halterung 12 angeordnet. Eine Referenz
fläche 12′ der optischen Halterung 12 und die Frontfläche
des ersten optischen Systems 2 sind unter Zwischenschaltung
einer Vielzahl von Abstandselementen 14 miteinander
in Kontakt. Das erste optische
System 2 wird von hinten durch eine Blattfeder 13 beaufschlagt,
die an der optischen Halterung 12 befestigt
ist. Durch Entfernen der Abstandselemente 14 oder durch
Einsetzen zusätzlicher Abstandselemente kann das erste op
tische System 2 in Richtung der optischen Achse
g nach vorne oder nach hinten bewegt werden.
Diese Vorrichtung hat den Nachteil, daß die minimale
Größe der Bewegung des ersten optischen
Systems durch die Dicke eines Abstandselements be
stimmt ist. Verglichen jedoch mit der vorher beschriebenen Vorrichtung,
bei der ein beweglicher Träger verwendet wird, kann bei
dieser Vorrichtung das erste optische System in
Richtung der optischen Achse mittels eines sehr einfachen
Mechanismus bewegt werden.
Bei dem Abtastsystem, wie es in Fig. 6 oder 7 ge
zeigt ist, wird, wenn die Position der abzutastenden Oberfläche
mit dem optimalen Bildpunkt in dem Querschnitt pa
rallel zur Ablenkebene übereinstimmt oder wenn die Flä
chengenauigkeit der torischen Einzellinse 4 durch einen Bear
beitungsfehler verschlechtert ist oder wenn ein Fehler in
der Position der torischen Einzellinse in Richtung der optischen Achse
während des Zusammenbaus aufgetreten ist, angenom
men, daß der optimale Abbildungspunkt in dem Querschnitt
senkrecht zu der Ablenkebene den Abstand Δ SK′ von der
abzutastenden Oberfläche hat. Dieser Zustand
ist in Fig. 16 gezeigt. Wenn bei einem idealen System,
das frei von irgendwelchen Fehlern in dem Querschnitt
senkrecht zur Ablenkebene ist, das Linearbild C auf der
Oberfläche der Ablenkeinrichtung mit einer Vergrößerung β im
Bildpunkt C′ der abzutastenden Oberfläche 5 gebildet werden soll,
kann die Position des ersten optischen Systems 2
um - Δ Sk′/β² bewegt werden, um die Abweichung Δ Sk′
zu korrigieren (siehe Fig. 16) und ein konjugiertes Bild
auf der abzutastenden Oberfläche zu bilden.
Bei den vorstehend beschriebenen Abtastsy
stemen ist β<-1 und die Größe der Bewegung des ersten optischen
Systems 2 kann kleiner sein als
| -Δ Sk′ |. Wenn der Wert der Bildvergrößerung | β |
größer ist, wird die Größe der Bewegung des ersten optischen
Systems kleiner.
Wenn beispielsweise Δ Sk′=10 mm und β=-5, so ist
die Größe der Bewegung des ersten optischen Systems
-Δ Sk′/b²=-0,4 mm.
Somit kann bei dem Abtastsystem
die Wirkung der Korrektur der Brennpunktlage
dadurch groß gemacht werden, daß das erste optische System
in einfacher Weise um eine kleine Größe ver
schoben wird.
Claims (9)
1. Abtastsystem, mit
einer Lichtquelle, die ein Abtast-Strahlenbündel abgibt, einer Ablenkeinrichtung, die eine Ablenk- und Reflexions fläche aufweist und das Abtast-Strahlenbündel in einer Ab lenkebene in vorbestimmter Weise in Richtung auf eine abzu tastende Oberfläche ablenkt,
einem ersten optischen System, das dem von der Lichtquelle ausgehenden Abtast-Strahlenbündel nahe der Ablenk- und Re flexionsfläche der Ablenkeinrichtung einen linienförmigen Querschnitt gibt, und
einem zweiten optischen System, das das an der Ablenk- und Reflexionsfläche abgelenkte Abtast-Strahlenbündel auf die abzutastende Oberfläche richtet,
dadurch gekennzeichnet, daß das zweite optische System eine torische Einzellinse (4) ist, die sowohl in der Abtastebene als auch in einer senkrecht zu dieser verlaufenden Ebene eine Brechkraft aufweist, wobei die Brechkräfte unter schiedlich sind, und die in einem Querschnitt, der die op tische Achse enthält und senkrecht zur Ablenkebene ver läuft, eine Meniskusform aufweist, deren der Ablenkeinrich tung (3) zugewandte Oberfläche konkav ist und die eine Oberfläche positiver Brechkraft aufweist.
einer Lichtquelle, die ein Abtast-Strahlenbündel abgibt, einer Ablenkeinrichtung, die eine Ablenk- und Reflexions fläche aufweist und das Abtast-Strahlenbündel in einer Ab lenkebene in vorbestimmter Weise in Richtung auf eine abzu tastende Oberfläche ablenkt,
einem ersten optischen System, das dem von der Lichtquelle ausgehenden Abtast-Strahlenbündel nahe der Ablenk- und Re flexionsfläche der Ablenkeinrichtung einen linienförmigen Querschnitt gibt, und
einem zweiten optischen System, das das an der Ablenk- und Reflexionsfläche abgelenkte Abtast-Strahlenbündel auf die abzutastende Oberfläche richtet,
dadurch gekennzeichnet, daß das zweite optische System eine torische Einzellinse (4) ist, die sowohl in der Abtastebene als auch in einer senkrecht zu dieser verlaufenden Ebene eine Brechkraft aufweist, wobei die Brechkräfte unter schiedlich sind, und die in einem Querschnitt, der die op tische Achse enthält und senkrecht zur Ablenkebene ver läuft, eine Meniskusform aufweist, deren der Ablenkeinrich tung (3) zugewandte Oberfläche konkav ist und die eine Oberfläche positiver Brechkraft aufweist.
2. Abtastsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die torische Einzellinse (4) in einem Querschnitt, der
die optische Achse enthält und parallel zur Ablenkebene
verläuft, von der Seite der Ablenkeinrichtung (3) aus gese
hen Krümmungsradien ₁₃ und ₁₄ und in einem Querschnitt,
der die optische Achse enthält und senkrecht zur Ablenk
ebene verläuft, von der Seite der Ablenkeinrichtung (3) aus
gesehen Krümmungsradien r₁₃ und r₁₄ aufweist, wobei die
Krümmungsradien folgende Beziehungen erfüllen:
| r₁₃ | < | ₁₃ || r₁₄ | < | ₁₄ |
3. Abtastsystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die torische Einzellinse (4) aus einem Kunst
stoffmaterial besteht.
4. Abtastsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die torische Einzellinse (4) in der die
optische Achse enthaltenden Ablenkebene eine plankonvexe
Form hat, wobei die konvexe Fläche der abzutastenden Ober
fläche (5) zugewandt ist.
5. Abtastsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die torische Einzellinse (4) in der die
optische Achse enthaltenden Ablenkebene eine bikonvexe Form
hat.
6. Abtastsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die torische Einzellinse (4) in der die
optische Achse enthaltenden Ablenkebene eine Meniskusform
hat, wobei die konvexe Fläche der abzutastenden Oberfläche
(5) zugewandt ist.
7. Abtastsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß in dem Querschnitt, der die optische Achse enthält und
senkrecht zur Ablenkebene verläuft, der Absolutwert des
Krümmungsradius der Oberfläche der torischen Einzellinse,
die der Ablenkeinrichtung zugewandt ist, größer als der Ab
solutwert des Krümmungsradius der Oberfläche der torischen
Einzellinse ist, die der abzutastenden Oberfläche zugewandt
ist.
8. Abtastsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 7, gekenn
zeichnet durch eine Vorrichtung zur Bewegung des ersten op
tischen Systems (2) in Richtung der optischen Achse.
9. Abtastsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (1) ein kollimiertes
Abtast-Strahlenbündel einer einzigen Wellenlänge abgibt,
daß die torische Einzellinse (4) in der senkrecht zur Ab
lenkebene verlaufenden Ebene die Ablenk- und Reflexionsflä
che (3a) der Ablenkeinrichtung (3) mit der abzutastenden
Oberfläche (5) optisch konjugiert hält und daß die torische
Einzellinse (4) in der Ebene parallel zur Ablenkebene eine
Verzeichnung aufweist, infolge der das von der Ablenkein
richtung (3) abgelenkte Strahlenbündel mit gleichförmiger
Geschwindigkeit über die abzutastende Oberfläche bewegbar
ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56030347A JPS57144518A (en) | 1981-03-03 | 1981-03-03 | Scan optical system having fall compensating function |
JP3035381A JPS57144517A (en) | 1981-03-03 | 1981-03-03 | Scan optical system having fall compensating function |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3207467A1 DE3207467A1 (de) | 1982-09-16 |
DE3207467C2 true DE3207467C2 (de) | 1990-04-19 |
Family
ID=26368679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823207467 Granted DE3207467A1 (de) | 1981-03-03 | 1982-03-02 | Optisches abtastsystem mit neigungs-korrekturfunktion |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4585296A (de) |
DE (1) | DE3207467A1 (de) |
FR (1) | FR2501385B1 (de) |
GB (1) | GB2096789B (de) |
Families Citing this family (25)
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |