KR20020013914A - 광학 필터 - Google Patents

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무네유키 가코우
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Abstract

가시광선을 흡수하는 필터층, 투명지지체, 특히 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어진 투명지지체 및 반사방지필름으로 이루어진 광학필터는 플라즈마 디스플레이와 같은 영상 디스플레이와 함께 반사를 방지하고 컬러재생을 향상시키기 위하여 설치된다. 염료와 폴리머바인더로 이루어지는 필터층을 상기 지지체의 적어도 일면에 제공한 투명지지체로 이루어진 광학 필터에 있어서, 가시광선에 대한 반사방지 특성을 갖는 반사방지층은, 상기 필터층이 지지체의 일면에 제공되어질 때에는 필터층이 제공되는 측면의 반대면 상에 제공되고, 상기 필터층이 지지체의 양면에 제공되어질 때에는 임의의 일면 상에 제공되며, 투명지지체는 10 내 500 ㎛ 범위의 두께를 갖는 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

광학 필터{OPTICAL FILTER}
다양한 종류의 영상디스플레이, 예를 들어, 액정디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전기장발광 디스플레이(ELD), 음극선관(CRT), 형광특성 디스플레이 튜브(FLUORESCENT CHARACTER DISPLAY TUBE)와 전계장방출 디스플레이(ELECTRIC FIELD EMISSION DISPLAY)는 발전되었으며 이러한 영상디스플레이들을 포함하는 장치들은 최근 수년동안에 실용화되어져 왔다.
이러한 영상디스플레이는 다양한 문제점, 예를 들어, 디스플레이요소 중 컬러순도와 컬러분할이 불충분하기 때문에 컬러보정이 필요하다는 문제점과, 배경이 디스플레이상에서 반사되기 때문에 콘트라스트가 감소된다는 문제점과, 디스플레이 요소에서 기인하는 적외선과 전자기파가 누설된다는 문제점 등과 같은 다양한 문제점에 직면하였다.
각각의 문제점을 해결하기 위하여, 디스플레이 전면 상에 컬러 보정용 가시 필터, 반사방지 필름, 적외선-차폐 필터와 전자기파-차폐 필터 등을 사용하는 것이 제안되었다.
특히, 필터에 의한 컬러보정은 일본특허 공개번호 제JP-P-1983-0153904호, 제JP-P-1986-0188501호, 제JP-P-1991-0231988호, 제JP-P-1993-0205643호, 제JP-P-1997-0145918호, 제JP-P-1997-0306366호, 제JP-P-1998-0026704호와 WO 1998-0023980호에서 개시되었다.
광학 필터의 다양한 제조방법이 개시되었다. 일본특허 공개번호 제JP-P-1986-0188501호, 제JP-P-1993-0205643호, 제JP-P-1997-0145918호와 제JP-P-1997-0306366호에서 개시된 광학 필터에서, 필터로서 지지체 기능을 만드는 투명지지체에 염료 또는 안료를 첨가한다. 일본특허 공개번호 제JP-P-1998-026704호에서 개시된 광학 필터에서, 투명지지체와 반사방지층 사이에 제공된 경질코팅층(표면-경화층)은 필터로서 경질코팅층 기능을 부여하기 위해 착색되었다. 일본특허 공개번호 제JP-P-1995-0209510호에 개시된 광학 필터에서는, 필터층으로서 기능을 부여하기 위해 염료의 혼합용액과 금속 알콕시드를 코팅하여 건조 및 열처리시킨다. 또한, WO 1998-0023980호에 개시된 광학 필터에서는, 필터층으로서 기능을 부여하기 위해염료와 매트릭스 중합체를 적합한 용매에서 용해하여 코팅하였다.
그러나, 이러한 방법들로 제조된 필터층은 필터층에서 염료의 농도가 높을 경우, 특정 파장의 빛을 반사하게 되어 광학 필터의 컬러보정 성능을 악화시킨다. 이에 반하여, 필터층의 염료 농도가 낮을 경우, 광학 필터로서 광학 농도를 얻기 위하여 필터층의 두께가 증가되어야만 한다. 따라서, 코팅에 의하여 필터층을 제조하는 과정 중에 필름의 건조실패와 크랙킹과 같은 문제점들이 발생하기 쉽다.
또한, 금속 산화물의 투명 박막필름을 라미네이트하여 제조된 다층 반사방지 필름은 안경렌즈, 카메라 렌즈 등에 사용되며, 반사방지를 위해 사용되고, 층이 많으면 많을수록 광범위한 파장 영역의 빛에 대해 다층 반사방지 필름이 더욱 효과적이다.
따라서, 진공증착법(VACUUM DEPOSITION METHOD), 스퍼터링법(SPUTTERING METHOD), 이온-도금법(ION-PLATING METHOD), CVD 방법, 또는 PVD 방법에 의한 투명 박막 필름의 다층 라미네이션이 행해지고 있다.
그러나, 이러한 방법은 진공도(DEGREE OF VACUUM)가 높아야하기 때문에 설비가 대형화되며, 또한 굴절률과 종래 설계된 필름두께와의 상관관계 때문에 각 층의 두께를 정확하게 조절하는 것이 필요하다. 따라서, 생산성에 있어서 문제점이 있으며, 대형 필름 위에 반사방지 필름을 저렴하게 제조하는 것은 어렵다.
또한, 필름은 열에 의해 변형되고 변성되기(DENATURED) 때문에, 이들은 고열에 노출되어서는 안되며, 게다가 필름의 휘발성분(물, 용매 등)이 높은 진공도를 유지하는 것을 방해한다. 그리하여 각각 서로 다른 굴절률을 갖는 투명박막필름들이 진공증착법 또는 스퍼터링법에 의해 필름 위에 라미네이트 될 때, 필름 두께와 강도가 불균일하게 되기 쉽다는 문제점을 야기시킨다.
진공증착법 또는 스퍼터링법으로 인한 문제점을 해결하기 위하여 습식코팅에 의하여 반사방지 필름을 형성하는 방법이 논의되어 왔다. 예를 들어, 미세공(MICROVOIDS)과 1 내지 300nm 범위의 지름을 갖는 무기 미세입자를 함유하고, 상기 기질보다 더 낮은 굴절률을 갖는 반사방지층을 갖는 반사방지 투명물질은 일본특허 공개번호 제JP-P-1985-0059250호에서 개시되었다. 그러나, 이러한 테크닉조차도, 얻어진 샘플은 굴절률을 낮추기 위해 진공 하에서 활성화된 가스와 함께 취급하는 것을 전제로 해야만 하며, 침전물과 동일한 문제점에 부딪히게 된다(고진공 시스템과 활성화된 가스 취급을 위한 정밀한 조절).
또한, 일본특허 공개번호 제JP-P-1984-0049501호, 제JP-P-1984-0050401호와 제JP-P-1995-0048527호에서, 접합제로서 실리카입자들과 가수분해된 시레인 생성물을 이용한 저굴절률층을 갖는 반사방지 필름이 개시되었다. 그러나, 이러한 조성에서, 저굴절률층의 굴절률을 충분히 낮도록 억제시키는 것은 힘들다. 따라서, 저굴절률같은 얻어질 수 없는 이러한 문제점이 여전히 남아 있다.
다양한 종류의 디스플레이들은 예를 들어, 디스플레이 요소의 특성에 상응하는 선명한 흡수체 형성에 요구되어지는 컬러보정용 가시광선 필터 등과 같은 각각의 필터들에 의해 요구되는 다양한 특성을 갖는다. 또한, 유리성분의 혼입 등에 의한 내열 특성의 강화와 물리적 강화가 요구된다. 또한, 반사방지 필름은 가시광선의 전범위에서 이상적인 굴절률을 얻기 위해 다층구조를 갖는 것이 필요하다. 그러나, 침전 또는 코팅에 의해 다층필름을 형성하는 것은 공정의 어려움과 경제적인 문제를 동반한다. 따라서, 디스플레이의 전면패널에 다양한 기능을 부여하려고 할 때, 각각의 기능을 갖는 필터들은 각각 다른 특성을 갖는 것이 필요할 뿐만 아니라 한가지 기능이 다른 기능들을 방해하지 않아야만 한다는 제약조건이 발생된다. 따라서, 다기능 전면패널은 아직 실용화에 이르지 못하고 있는 실정이다.
또한, 반사방지층과 선택적 흡수필터층(SELECTIVELY ABSORPTIVE FILTER LAYER)을 갖는 전면패널은 일정한 정도이상의 강도를 갖는 것이 요구된다. 왜냐하면, 전면패널은 파손시 전면패널의 배면에서 디스플레이 요소의 흩어짐을 방지해야만 할 뿐 아니라 자체 파손에 대한 충분한 저항력을 갖고 있어야 하기 때문이다.
따라서, 본 발명의 목적은 뛰어난 제조성, 비벌크(NON-BULK), 경량성과 높은 기계적 강도와 같은 이러한 요구조건을 만족하는 다기능 광학 필터를 제공하는 것이며, 전면패널과 상기 전면패널을 이용한 영상디스플레이, 특히 반사방지 성능 외에 적절한 컬러보정 성능을 갖는 광학 필터와 전면패널과 상기 전면패널을 이용한 영상디스플레이를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 컬러밸런스를 수정하기 위해 컬러순도를 감소시키는 빛의 파장을 선택적으로 절단할 수 있는 광학필터와 이를 이용한 영상디스플레이를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 디스플레이 패널 위에서 반사되는 외부 빛으로 인한 가시성의 감소를 억제할 수 있고, 컬러를 조절할 수 있으며, 파손에 대한 저항력이 향상된 광학필터를 제공하는 것이다.
본 발명은 가시 광선을 흡수하는 필터층과 투명지지체, 특히 2축방향으로 신장된 투명지지체와 반사방지필름으로 이루어진 광학 필터에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 반사방지와 컬러재생향상을 목적으로 하는 영상 디스플레이를 위한 디스플레이, 예를 들어, 액정디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전기장발광 디스플레이(ELD), 음극선관(CRT), 형광특성 디스플레이 튜브(FLUORESCENT CHARACTER DISPLAY TUBE)와 전계장방출 디스플레이(ELECTRIC FIELD EMISSION DISPLAY)에 부착되는 광학 필터에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 반사방지와 컬러재생향상을 목적으로 하는 광학 필터가 설치된 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 전면 패널과 PDP의 몸체에 관한 것이다.
본 발명의 상기 목적들은 다음과 같은 발명에 의하여 성취되었다.
(1) 염료와 폴리머 바인더(POLYMER BINDER)를 함유하는 필터층을 적어도 지지체의 일면상에 갖는 투명지지체로 이루어지는 광학 필터에 있어서,
필터층이 일면에 제공될 때에는 반대면에 가시광선에 대한 반사방지특성을 갖는 반사방지층을 제공하며, 필터층이 양면에 제공될 때에는 어느 한 면에만 반사방지층을 제공하고, 상기 투명지지체는 10 내지 500 ㎛ 범위의 두께를 갖는 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 것이 특징인 광학 필터.
(2) 상기 2축방향으로 신장된 필름의 재료가 폴리에스테르, 폴리카보네이트 또는 폴리아크릴레이트인 것이 특징인, 상기 (1)항에 따른 광학 필터.
(3) 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 투명지지체의 적어도 일면에 -20 내지 60℃ 범위의 유리전이온도(GLASS TRANSITION TEMPERATURE)를 갖는 중합체로 이루어지는 상기 언더코팅층(UNDERCOAT LAYER)을 갖는 것이 특징인, 상기 (1) 또는 (2)항에 따른 광학 필터.
(4) 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 투명지지체상에 제공된 상기 언더코팅층이 스틸렌-부타디엔계 공중합체로 이루어지는 투명지지체에 접하는 제 1 언더코팅층과, 아크릴계 수지로 이루어지는 제 2 언더코팅층으로 이루어지는 것이 특징인, 상기 (3)항에 따른 광학 필터.
(5) 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 흡수 최대점을 갖는 필터층을 그 위에 갖고, 392 kJ/㎡ 이상의 인장충격강도(TENSILE IMPACT STRENGTH)를 갖는 투명지지체로 이루어지는 것이 특징인 광학 필터.
(6) 상기 필터층이 1:50 내지 1:2,000 범위의 중량비를 갖는 염료와 폴리머 바인더로 이루어진 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (5)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(7) 염료와 폴리머 바인더로 이루어지는 필터층을 그 위에 갖는 투명지지체로 이루어지고, 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 흡수 최대점을 갖고 염료와 폴리머 바인더의 중량비가 1:50 내지 1:2,000 범위인 것이 특징인 광학 필터.
(8) 상기 투명지지체의 적어도 일면이 유리전이온도가 -20 내지 60 ℃ 범위인 중합체로 이루어지는 언더코팅층을 갖는 것이 특징인, 상기 (5) 내지 (7)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(9) 상기 투명지지체상에 제공된 언더코팅층이 스티렌-부타디엔계 공중합체로 이루어진 투명지지체에 접하는 제 1 언더코팅층과, 아크릴계 수지로 이루어지는 제 2 언더코팅층으로 이루어지는 것이 특징인 상기 (7)항에 따른 광학 필터.
(10) 상기 투명지지체는 5 ㎛ 내지 5㎝ 범위의 두께를 갖는 것이 특징인, 상기 (5) 내지 (8)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(11) 상기 투명지지체는 10 내지 500 ㎛ 범위의 두께를 갖는 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 것이 특징인, 상기 (5) 내지 (8)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(12) 상기 2축방향으로 신장된 필름의 재료가 폴리에스테르, 폴리카보네이트 또는 폴리아크릴레이트인 것을 특징인, 상기 (11)항에 따른 광학 필터.
(13) 560 내지 620 ㎚와 500 내지 550 ㎚의 두 개의 범위에서 흡수 최대점들을 갖는 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (12)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(14) 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 0.01 내지 80 % 범위의 투과율의 흡수 최대점을 갖는 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (13)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(15) 500 내지 550 ㎚ 범위 내에서 20 내지 85 % 범위의 투과율의 흡수 최대점을 갖는 것이 특징인, 상기 (14)항에 따른 광학 필터.
(16) 500 내지 550 ㎚ 범위 내에서 40 내지 85 % 범위의 투과율의 흡수 최대점을 갖고, 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 0.01 내지 40 % 범위의 투과율의 흡수 최대점을 갖는 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (13)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(17) 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 필터층의 흡수 최대점의 반감폭(HALF VALUE WIDTH)이 50 ㎚이하 인 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (16)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(18) 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 필터층의 흡수 최대점의 반감폭(HALF VALUE WIDTH)이 10 내지 50 ㎚ 범위인 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (16)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(19) 상기 필터층은 적어도 옥소놀 염료 또는 시아닌 염료로 이루어지는 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (18)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(20) 상기 필터층에 함유된 상기 폴리머 바인더는 젤라틴인 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (19)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(21) 상기 투명지지체는 적어도 상기 지지체보다는 작은 굴절률을 갖는 저굴절률층으로 이루어진 반사방지층을 갖는 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (20)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(22) 상기 투명지지체는 굴절률이 1.45 이하인 반사방지층을 갖는 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (20)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터.
(23) 플라즈마 디스플레이용으로 이용되는 것이 특징인, 상기 (1) 내지 (22)항 중 어느 한 항에 따른 PDP용 광학 필터.
(24) 상기 (1) 내지 (22)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터를 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널.
(25) 상기 (1) 내지 (24)항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터를 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널.
(26) 상기 (24)항에 따른 전면패널을 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널.
(도면에 대한 간단한 설명)
도 1은 음극선관(CRT) 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 본체(A)의 정면에서 볼 때, 본 발명의 전면패널을 이용하는 경우의 횡단면 개념도이다.
도 1(a)는 본체(A)가 전면패널(D)과 접하는 경우의 개념도이고, 도 1(b)는 본체(A)와 전면패널(D) 사이에 공간이 있는 경우의 개념도이다.
A : 음극선관(CRT) 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)
B : 2축방향으로 신장된 투명지지체
C : 광학 필터(다양한 종류의 필터층들과 반사방지층들)
D : 전면패널
E : 전면패널의 관찰측의 표면
F : 전면패널의 음극선관(CRT)측 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)측의 표면
G : 음극선관(CRT) 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 관찰측의 표면
도 2는 전면패널의 층구성을 보이는 대표적인 횡단면도이다. 도 2(a)와 도 2(b)는 도 1(a)의 배열에 따른 층구성을 보이는 실시예이고, 도 2(c)와 2(d)는 도 1(b)의 배열에 따른 층구성을 보이는 실시예이다.
1 : 반사방지층
2 : 전자기파-차폐 및 적외선-차폐층
3 : 경질코팅층
4 : 2축방향으로 신장된 투명지지체
5 : 필터층
6 : 투명 유리 지지체
(본 발명을 수행하는 최상의 모드)
본 발명은 다음과 같은 몇 가지 실시예를 참조하여 설명될 수 있으나, 본 발명은 별도의 지적이 없는 한 이에 한정되지 않는다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 가스, 유리 기질, 전극, 전극 도선 물질(ELECTRODE LEAD MATERIAL), 두꺼운 인쇄 물질(THICK PRINTMATERIAL)과 형광물질로 이루어져 있다. 상기 유리 기질은 전면유리기질과 배면유리기질로 이루어져 있다. 전극들과 절연층들이 두 유리 기질들 위에 형성되어 있다. 또한 형광물질층은 배면유리기질 위에 형성되어 있다. 두 유리 기질들이 조립되고 사이에 가스가 충전된다.
상기 전면패널은 플라즈마 디스플레이 패널의 전면에 위치한 기질이다. 상기 전면패널은 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 보호할 수 있을 정도의 충분한 강도를 갖는 것이 바람직하다. 상기 전면패널은 상기 전면패널과 플라즈마 디스플레이 패널의 사이에 공간을 갖도록 이격되어 사용될 수도 있으며, 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 직접 부착되어질 수도 있다.
본 발명에서의 상기 "플라즈마 디스플레이"는 적어도 상기 플라즈마 디스플레이 패널 본체와 그 박스로 이루어진 온전한 디스플레이를 의미한다. 상기 플라즈마 디스플레이가 전면패널을 갖을 때, 전면패널 또한 "플라즈마 디스플레이"에 포함된다.
플라즈마 디스플레이 패널(PDP)이 시장에 출시되었다. 플라즈마 디스플레이 패널은 일본특허 공개번호 JP-P-1993-00205643과 JP-P-1997-00306366에 개시되었다.
본 발명에서 영상디스플레이용 광학 필터의 대표적인 층 구조와 이를 이용한 전면패널을 관련도면을 참조하여 설명한다.
음극선관(CRT)과 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 전면패널 또는 부품으로 사용된 광학 필터의 층 구조를 다음과 같이 설명한다.
도 1은 음극선관(CRT) 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 본체(A)의 정면에서 본 발명의 전면패널(D)을 이용하는 경우의 횡단면 개념도이다. 도 1(a)는 본체(A)가 전면패널(D)과 접하는 경우의 개념도이며, 다양한 종류의 필터층과 반사방지층을 갖는 광학 필터(C)가 상기 전면패널의 지지체의 단지 일측(전면)에만 제공되었다. 도 1(b)는 본체(A)와 전면패널(D) 사이에 공간이 있는 경우의 개념도이며, 다양한 종류의 필터층과 반사방지층을 갖는 광학 필터(C)가 상기 전면패널의 지지체의 양측면에 제공되었다.
도 2는 광학 필터의 층구조와 이를 이용한 전면패널의 대표적인 횡단면도이다. 도 2(a)와 2(b)는 도 1(a)의 배열에 따른 광학 필터의 층구조와 이를 이용한 전면패널의 실시예들이며, 도 2(c)와 도 2(d)는 도 1(b)의 배열에 따른 광학 필터의 층구조와 이를 이용한 전면패널의 실시예들이다.
도 2(a)에서 언더코팅층은 충분한 접착력을 얻기 위하여 2축방향으로 신장된 투명지지체와 경질코팅층 사이와, 2축방향으로 신장된 투명지지체와 상기 필터층 사이에 제공되는 것이 바람직하다.
도 2(b)에서 언더코팅층은 충분한 접착력을 얻기 위하여 2축방향으로 신장된 투명지지체와 필터층 사이에 제공되는 것이 바람직하다. 상기 필터층과 투명유리지지체는 예를 들어, 일반적으로 구입할 수 있는 아크릴계 접착제 등을 이용하여 쉽게 접착할 수 있다.
도 2(c)와 2(d)에서 언더코팅층은 충분한 접착력을 얻기 위하여 2축방향으로 신장된 투명지지체와 필터층 사이와, 2축방향으로 신장된 투명지지체와 반사방지층사이에 제공되는 것이 바람직하다.
(투명지지체)
본 발명에서 사용되는 투명지지체를 다음과 같이 상세히 설명한다. 본 발명에 이용가능한 투명지지체의 예로는 셀룰로오스 에스테르(예, 디아세틸 셀룰로오스, 트리아세틸 셀룰로오스(TAC), 프로피오닐 셀룰로오스, 부티릴 셀룰로오스, 아세틸 프로피오닐 셀룰로오스, 니트로셀룰로오스), 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르(예, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1, 4-시클로헥산디메틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1, 2-디페녹시에탄-4, 4'-디카르복실레이트), 폴리아릴레이트(예, 비스페놀 A와 프탈산의 액화생성물), 폴리스티렌(예, 신디오택틱 폴리스티렌), 폴리올레핀(예, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐), 아크릴(폴리메틸 메타크릴레이트), 폴리설폰, 폴리에테르 설폰, 폴리에테르 케톤, 폴리에테르 이미드와 폴리옥시에틸렌이 있다. 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리카보네이트, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트와 폴리에틸렌 나프탈레이트가 바람직하다.
투명지지체는 5㎛ 내지 5㎝ 범위의 두께를 갖는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 25㎛ 내지 1㎝ 범위이며, 가장 바람직하게는 80㎛ 내지 1.2㎜ 범위이다.
상기 투명지지체로서 2축방향으로 신장된 필름을 사용하는 것이 바람직하다.
2축방향으로 신장된 필름의 재료의 예는 폴리에스테르(예, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1, 4-시클로헥산디메틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1, 2-디페녹시에탄-4, 4'-디카르복실레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트), 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트(예, 비스페놀 A와 프탈산의 액화생성물), 폴리스티렌(예, 신디오택틱 폴리스티렌), 폴리페닐렌 설파이드, 폴리에테르 에테르 케톤, 폴리올레핀(예, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐), 폴리설폰, 폴리에테르 설폰과 폴리옥시에틸렌이 있다. 폴리에스테르, 폴리카보네이트와 폴리아릴레이트(예, 비스페놀 A와 프탈산의 액화생성물)가 바람직하며, 기계적 강도, 내구성, 폭넓은 용도와 내열성의 관점에서 폴리에스테르 특히, 주요순환단위(MAIN REPEATING UNIT)로써 에틸렌 테레프탈레이트와 에틸렌-2, 6-나프탈레이트를 함유하고 있는 폴리에스테르들이 바람직하다. 본 발명에서 폴리에틸렌 테레프탈레이트는 주요순환단위로써 에틸렌 테레프탈레이트 단위를 함유하는 중합체이다. 또한, 본 발명에서 폴리에틸렌 나프탈레이트는 주요순환단위로써 에틸렌-2, 6-나프탈레이트 UNIT을 함유하는 중합체이다.
여기에서 사용되는 "주요순환단위(MAIN REPEATING UNIT)로서 함유하는"이라는 용어는 70 mol% 이상, 바람직하게는 85 mol% 이상이며, 더욱 바람직하게는 95 mol% 이상의 순환단위를 함유하는 중합체를 의미하며, 공중합가능한 다른 성분들, 에틸렌 글리콜보다는 글리콜 성분들, 테레프탈산 또는 2,6-나프탈렌디카르복실릭산보다는 디카르복실산 성분들, 또는 소량의 트리펑션널 성분들이 함유될 수 있다.
상기 2축방향으로 신장된 투명지지체는 상기 수지 중 하나를 주성분으로 하여 이루어진 수지 화합물을 용융급냉(melt-extruding)하고, 2축방향으로 신장하고, 융착하여 얻어진 필름이다.
상기 2축방향으로 신장된 투명지지체의 두께는 10 내지 500 ㎛ 범위이며, 바람직하게는 20 내지 300 ㎛ 범위이고, 더욱 바람직하게는 50 내지 200 ㎛이다.
본 발명에 따른 상기 2축방향으로 신장된 투명지지체는 지지체 자체의 광선 투과율이 크며, 지지체의 상기 2축방향 신장과 특정한 두께의 상승효과로 인한 기계적 강도와 내열성이 우수하다. 따라서, 이러한 이유가 다양한 기능을 갖는 층들을 라미네이트하는 것을 가능케 한다.
상기 투명지지체는 80%이상의 투과율을 갖는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 86%이상이다. 상기 투명지지체의 인장충격강도가 약할 때, 만일 사용할 투명지지체가 두껍지 않다면, 어느 정도 이상의 충격강도를 얻을 수 없기 때문에, 목표하는 투과율을 얻지 못할 수도 있다. 따라서, 인장충격강도가 가장 낮을 때에 294 kJ/㎡이고, 평상시에는 392 kJ/㎡ 이상이 되는 것이 필요하다. 인장충격강도는 ASTM D1822-93에 따라 얻어진다.
헤이즈(HAZE)는 바람직하게는 5%이하이고, 더욱 바람직하게는 4%이하이다.
굴절률은 1.45 내지 1.70 범위가 바람직하다.
상기 투명지지체에 적외선 흡수재 또는 자외선 흡수재가 첨가될 수도 있다.
적외선 흡수재의 첨가량은 중량비로 투명지지체의 0.01 내지 20 wt% 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 10 wt% 범위이다. 또한, 불활성 무기화합물의 입자가 상기 투명지지체의 슬라이딩 작용제(SLIDING AGENT)로서 첨가될 수 있다. 무기화합물의 예로는 이산화규소, 이산화티타늄, 황산바륨, 탄산칼슘, 활석과 카올린이 있다.
언더코팅층과의 접착을 한층 강화하기 위해서 투명지지체를 표면처리하는 것이 바람직하다. 이러한 표면처리로서, 화학적처리, 기계적처리, 코로나방전처리, 화염처리, 자외선조사처리, 고주파처리, 글로방전처리(GLOW DISCHARGE TREATMENT), 활성플라즈마처리, 레이저처리, 혼합산처리(MIXED ACID TREATMENT)와 오존산화처리가 예시될 수 있으며, 글로방전처리, 자외선조사처리, 코로나방전처리와 화염처리가 바람직하고, 코로나방전처리가 더욱 바람직하다.
(필터층)
상기 필터층은 파장이 500 내지 620 ㎚인 범위에서 흡수 최대점을 갖는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 500 내지 550 ㎚의 범위와 560 내지 620 ㎚의 범위 모두에서 흡수 최대점들을 갖는 것이다.
파장이 500 내지 550 ㎚인 범위에서의 투과율이 바람직하게는 20 내지 85% 범위이며, 더욱 바람직하게는 40 내지 85% 범위이다.
파장이 500 내지 550 ㎚인 범위에서 상기 흡수 최대점은 높은 가시도의 녹색형광물질의 방사강도(EMISSION STRENGTH)를 조절하기 위해 설정된다. 녹색형광물질의 방사범위는 완만하게 끊기는 것이 바람직하다. 파장이 500 내지 550 ㎚인 범위에서 흡수 최대점의 반감폭(흡수 최대점에서의 흡광도의 절반인 흡광도를 보이는 파장의 범위 폭)은 30 내지 300 ㎚ 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 40 내지 300 ㎚ 범위이며, 더 더욱 바람직하게는 50 내지 150 ㎚ 범위이며, 가장 바람직하게는 60 내지 150 ㎚ 범위이다.
파장이 560 내지 620 ㎚인 범위에서 흡수 최대점의 투광율은 0.01 내지 80% 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 60% 범위이며, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 40%이다.
파장이 560 내지 620 ㎚인 범위에서 흡수 최대점은 빨강 형광물질의 컬러순도를 더 낮추는 서브밴드(SUB-BAND)를 선택적으로 끊기 위해 설정된다. PDP에서 네온(NEON)의 가진(EXCITATION)에 의하여 방사되는 585㎚의 부근에서의 불필요한 발광이 차단되고, 동시에 적색형광물질로부터 단파장측의 광이 차단된다. 본 발명에 따른 흡수 최대점을 나눔으로써, 녹색형광물질의 컬러톤에 좋지 않은 영향을 미치지 않고 선택적으로 광을 차단할 수 있다. 또한 녹색형광물질의 컬러톤에 미치는 영향을 감소시키기 위해, 흡수 스펙트럼의 최고점은 가파른 것이 바람직하다. 특히, 파장이 560 내지 620 ㎚인 범위에서 흡수 최대점의 반감폭은 5 내지 200 ㎚ 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10 내지 100 ㎚ 범위이며, 가장 바람직하게는 10 내지 50 ㎚ 범위이다.
상기 흡수 스펙트럼을 얻기 위해서, 필터층은 착색물질 예를 들어, 염료 또는 안료와 같은 것을 이용하여 형성한다.
본 발명의 필터층에서 염료와 바인더의 중량비는 1:50 내지 1:2,000 범위이며, 바람직하게는 1:75 내지 1:1,000 범위이며, 더욱 바람직하게는 1:100 내지 1:500 범위이다. 만일 염료/바인더 비율이 이러한 범위보다 크다면, 필터층에서의 염료의 농도가 높다. 그러므로, 필터층은 특정한 파장의 빛을 반사하여 광학 필터의 컬러보정기능을 저하시키게 된다. 반면에, 염료/바인더의 비율이 상기 범위보다 작다면, 필터층에서의 염료의 농도는 낮아진다. 그러므로, 필터층의 두께가 원하는 광학 밀도(OPTICAL DENSITY)를 얻기 위해서 두꺼워져야만 한다. 두꺼운 필터층의제조는 비록 층들이 나누어져 있고 얇은 층들이 라미네이트되었을지라도, 코팅 또는 건조중 필름의 코팅, 건조 실수 또는 크랙(CRAKING)에 의한 줄무늬(STREAKS)와 같은 문제점을 자주 동반한다. 따라서, 제조공정이 복잡하여 제조가 용이하지 않다.
파장이 500 내지 550 ㎚인 범위에서 흡수 최대점을 갖는 염료로서, 스쿠아리리움계(SQUARYLIUM-BASED), 아조메틴계(AZOMETHINE-BASED), 시아닌계, 옥소놀계, 앤트라퀴논계(ANTHRAQUINONE-BASED), 아조계 또는 벤질리덴계(BENZYLIDENE-BASED) 화합물을 이용하는 것이 바람직하다.
영국특허 제 539,703 호와 제 575,691 호, 미국특허 제 2,956,879 호와 HIROSHI HORIGUCHI에 여러가지 아조염료가 개시되었으며, SOSETSU GOSEI SENRYO(합성 염료 개론), SANKYO SHUPPAN CO., LTD. 등이 아조염료로 이용될 수 있다. 화학식 a6에 의해 표현된 아조염료가 바람직하다. 파장이 500 내지 550 ㎚인 범위에서 흡수 최대점을 갖는 염료의 몇가지 예가 하기와 같이 도시된다.
화합물 M (R1)m1 (R2)m2 (R3)m3
(a6-1) Cu 4-SO3Na 8-SO3Na 5-SO3Na
(a6-2) Cu 4-Cl,6-SO3Na 8-SO3Na 5-SO3Na
(a6-3) Cu 4,6,di-NO2 8-SO3Na 5-SO3Na
R1, R2와 R3각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 기(基)를 나타낸다. M은 금속원자를 나타내며, m1,m2와 m3는 각각 독립적으로 1 내지 4 범위의 상수를 나타낸다. M으로 나타나는 금속원자로서 전이금속들(TRANSITION METALS)이 바람직하며, 예를 들어, 철, 일산화탄소, 니켈, 구리, 아연 그리고 카드뮴이 있으며, 구리가 특히 바람직하다.
파장이 560 내지 620 ㎚인 범위에서 흡수 최대점을 갖는 염료로서, 시아닌계, 스쿠아리리움계, 아조메틴계, 크산텐계(XANTHENE-BASED), 옥소놀계 또는 아조계 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 파장이 520 내지 620 ㎚인 범위에서 흡수 최대점을 갖는 염료의 예는 다음과 같다.
파장이 500 내지 550 ㎚인 범위와 560 내지 620 ㎚인 범위에서 흡수 최대점을 갖는 염료들이 필터층에 사용될 수 있다. 예를 들면, 염료가 미세입자의 분산과 같은 집합체(AGGREGATES)의 상태일 때, 일반적으로 파장은 장파장측으로 이동하게 되고 최고점은 가파르게 된다. 따라서, 파장이 500 내지 550 ㎚인 범위에서 흡수최대점을 갖는 몇가지 염료의 집합체는 파장이 560 내지 620 ㎚인 범위에서 흡수 최대점을 갖는다. 특히 집합체를 부분적으로 형성하는 상태에서 이러한 염료를 이용함으로써, 파장이 500 내지 550 ㎚인 범위와 560 내지 620 ㎚인 범위 양쪽에서 흡수 최대점들을 얻을 수 있다. 이러한 염료의 몇가지 예는 다음과 같다.
혼합물 R R1
(C1) Cl Cl
(C2) Cl CF3
(C3) H Cl
(C4) H CF3
(C5) H COOH
(C6) H CONH2
혼합물 R
(C7) C2H5
(C8) n-C3H7
(C9) t-C3H7
(C10) C2H4OCH3
(C11) C2H4OH
혼합물 R R1
(C12) C2H4SO3 - C2H4SO3K
(C13) C3H6SO3 - C3H6SO3Na
(C14)
(C15) C2H4COO- C2H4COOK
(C16) C4H8SO3 - C4H8COOK
상기와 같이 필름층에 두 가지 이상의 염료가 결합하여 사용될 수 있다.
또한 필터층은 폴리머 바인더로 이루어져 있다. 천연중합체들(예를 들어, 젤라틴, 셀룰로오스 유도체, 알긴산) 또는 합성중합체들(예를 들어, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 염화물, 스티렌-부타디엔 공중합체, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 수용성 폴리아미드)이 바인더 중합체로서 이용될 수 있다. 친수성 중합체들(예를 들어, 상기 천연중합체들, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리비닐 알콜과 수용성 폴리아미드)을 이용하는 것이 특히 바람직하다.
필터층의 두께는 0.1 ㎛ 내지 5 ㎝ 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는0.5 ㎛ 내지 1 ㎝ 범위이고, 가장 바람직하게는 1 ㎛ 내지 7 ㎜ 범위이다.
(언더코팅층)
상기 필터층, 적외선-차폐층 및 전자기파-차폐층이 지지체 위에 제공될 때, 언더코팅층이 지지체 위에 제공될 수 있다. 언더코팅층으로써 이용되는 연질의 중합체들은 상온에서 1 내지 1,000 M㎩ 범위의 탄성계수를 갖으며, 바람직하게는 5 내지 800 M㎩ 범위이며, 더욱 바람직하게는 10 내지 500 M㎩ 범위를 갖는 것이다. 언더코팅층의 두께는 2 ㎚ 내지 20 ㎛ 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 5 ㎚ 내지 5 ㎛ 범위이며, 가장 바람직하게는 50 ㎚ 내지 1 ㎛ 범위이다.
언더코팅층에 사용되는 중합체들은 - 60 내지 60 ℃ 범위의 유리전이온도를 갖는 것이 바람직하다. - 60 내지 60 ℃ 범위의 유리전이온도를 갖는 중합체의 예로써는 비닐 염화물, 비닐이덴 염화물, 비닐 아세테이트, 부타디엔, 네오프렌, 스티렌, 클로로프렌, 아크릴 에스테르, 메타크릴 에스테르, 아크릴로니트릴 또는 메틸 비닐 에테르의 중합체 또는 공중합체가 있다. 다수의 언더코팅층이 제공될 수 있으며, 두 개의 언더코팅층을 제공하는 것이 바람직하다.
(반사방지층)
반사방지층의 일반적인 반사율은 3.0% 이하이며, 더욱 바람직하게는 1.8%이하이다. 저굴절률층이 일반적으로 반사방지층으로서 제공된다. 저굴절률층의 굴절률은 상기 투명지지체의 굴절률보다 낮다. 저굴절률층의 굴절률은 1.20 내지 1.55 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 1.30 내지 1.50 범위이다. 저굴절률층의 두께는 50 내지 400 ㎚ 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 50 내지200 ㎚ 범위이다.
저굴절률층은 저굴절률 플루오르함유 중합체를 포함하는 층(일본특허 공개번호 제JP-P-1982-00034526호, 제JP-P-1991-00130103호, 제JP-P-1994-00115023호, 제JP-P-1996-00313702호 및 제JP-P-1995-00168004호)과, 졸-겔 방법에 의해 얻어지는 층(일본특허 공개번호 제JP-P-1993-00208811호, 제JP-P-1994-00299091호, 제JP-P-1995-00168003호) 또는 미세입자를 포함하는 층(일본특허 공보번호 제JP-P-1985-00059250호 및 일본특허 공개공보 제JP-P-1993-00013021호, 제JP-P-1994-00056478호, 제JP-P-1995-00092306호 및 제JP-P-1997-00288201호)으로 형성될 수 있다. 미세입자를 함유하는 층에서, 미세입자들 사이 또는 미세입자 내에서 극소공극이 저굴절률층에 형성될 수 있다. 미세입자를 함유하는 층은 3 내지 50 vol% 범위의 공극을 갖으며, 더욱 바람직하게는 5 내지 35 vol% 범위이다.
굴절률이 높은 층(중 또는 고 굴절률층)은 폭넓은 파장범위의 반사를 방지하기 위하여 저굴절률층 위에 라미네이트 되는 것이 바람직하다.
고굴절률층의 굴절률은 1.65 내지 2.40 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 1.70 내지 2.20 범위이다. 중굴절률층의 굴절률은 저굴절률층의 굴절률과 고굴절률층의 굴절률 사이의 중간값을 갖도록 조절된다. 중굴절률층의 굴절률은 1.50 내지 1.90 범위인 것이 바람직하다.
중/고 굴절률층들의 두께는 5 ㎚ 내지 100 ㎛ 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게 10 ㎚ 내지 10 ㎛ 범위이며, 가장 바람직하게는 30 ㎚ 내지 1 ㎛ 범위이다.
중/고 굴절률층의 헤이즈는 5% 이하가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 3%이하이며, 기장 바람직하게는 1%이하이다.
중/고 굴절률층은 상대적으로 높은 굴절률을 갖는 중합체를 사용함으로써 형성될 수 있다. 고굴절률을 갖는 중합체의 예로는 환형의(지방족 고리의 또는 방향족의) 이소시아네이트 및 폴리올의 반응에 의해 얻어지는 폴리스티렌, 스티렌 공중합체, 폴리카보네이트, 멜라민 수지, 석탄산 수지, 에폭시 수지와 폴리우레탄이 있다. 또한, 환형의(방향족의, 헤테로고리식의, 지방족 고리의) 기를 갖는 다른 중합체들과, 치환기로써 플루오르 원자보다 할로겐 원자를 갖는 중합체들은 굴절률이 높다. 중합체들은 이중결합을 도입함으로써 래디컬 경화(RADICAL CURING)를 가능케 한 단량체의 중합반응에 의해 형성될 수 있다.
무기 미세입자들은 더욱 높은 굴절률은 얻기 위하여 폴리머 바인더 내에 분산되어질 수 있다.
무기 미세입자들의 굴절률은 1.80 내지 2.80 범위가 바람직하다. 무기 미세입자들은 금속산화물 또는 금속황화물로 이루어지는 것이 바람직하다. 금속산화물 또는 금속황화물의 예로는 티타늄 이산화물(예를 들어, 금홍석, 금홍석/애너타즈의 혼합된 결정, 애너타즈, 비결정질과 같은 구조), 주석산화물, 인듐산화물, 아연산화물, 지르코늄산화물 및 아연황화물을 들 수 있다. 티타늄산화물, 주석산화물 및 인듐산화물이 특히 바람직하다. 또한, 무기 미세입자들은 주성분으로서 상기 금속산화물 또는 금속황화물과 함께 다른 원소들을 함유할 수 있다. 주성분은 입자들을 구성하는 성분들 중 가장 큰 함유량(wt%)을 갖는 성분이다. 다른 원소들의 예로는 티타늄, 지르코늄, 주석, 안티몬, 구리, 철, 망간, 납, 카드뮴, 비소, 크롬, 수은,아연, 알루미늄, 마그네늄, 규소, 인과 황을 들 수 있다.
또한, 중/고 굴절률층은 필름을 형성할 수 있고 용매 내에서 분산가능한 무기물질, 또는 본질적으로 액체상태인 무기물질과 함께 형성될 수 있으며, 예를 들어, 다양한 종류의 원소들의 알콕시드, 유기산염, 배위 화합물(예를 들어, 킬레이트 화합물)에 결합된 배위 화합물, 활성 무기중합체가 있다.
(전자기파-차폐층 및 적외선-차폐층)
본 발명에서 전자기파-차폐 효과를 갖는 층의 표면저항력은 0.01 내지 500 Ω/? 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 10 Ω/? 범위이다. 전자기파-차폐 효과를 제공하기 위하여, 전면패널의 투과율이 낮아지지 않도록 투명한 전기전도층을 이용하는 것이 바람직하다.
투명한 전기전도층으로써, 금속층, 금속산화물층 및 전기전도 중합체층을 예로 들 수 있다.
투명한 전기전도층을 형성하기 위한 금속으로써, 은, 팔라듐, 금, 백금, 로듐, 알루미늄, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 루테늄, 주석, 텅스텐, 이리듐, 납 및 이러한 금속들의 합금들을 예로 들 수 있으며, 단독으로 은, 팔라듐, 금, 백금, 로듐이 바람직하며 이러한 금속들의 합금이 바람직하다. 팔라듐과 은의 합금이 바람직하며, 은의 성분은 60 내지 99% 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 80 내지 95% 범위이다. 금속층의 두께는 1 내지 100 ㎚ 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 5 내지 40 ㎚ 범위이며, 가장 바람직하게는 10 내지 30 ㎚ 범위이다. 만일 층 두께가 1 ㎚ 이하라면, 전자기파-차폐 효과는 불충분하며, 반면에 만일 층 두께가 100 ㎚를 초과한다면, 가시광선의 투과율이 줄어든다.
투명한 전기전도층을 형성하기 위한 금속산화물로써, 주석산화물, 인듐산화물, 안티몬산화물, 아연산화물, ITO 및 ATO을 예로 들 수 있다. 금속산화물층의 두께는 20 내지 1,000 ㎚ 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 40 내지 100 ㎚ 범위이다. 상기 투명한 전기전도금속층과 투명한 전기전도금속산화물층을 혼합하여 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 동일한 층에 금속 및 전기전도금속산화물을 이용하는 것이 바람직하다.
금속층을 보호하고 생성시 산화열화(OXIDATION DETERIORATION)를 방지하고 가시광선의 투과율을 증가시킬 목적으로, 투명한 산화물층이 라미네이트 될 수 있다. 상기 투명한 산화물층은 전기전도성이거나 아닐 수 있다.
투명한 산화물층으로써, 2가 내지 4가의 금속산화물들의 박막필름, 지르코늄산화물, 티타늄산화물, 마그네슘산화물, 실리콘산화물, 알루미늄산화물 및 금속 알콕시드 화합물을 예로 들 수 있다.
투명한 전기전도층과 투명한 산화물층을 형성하는 방법은 특별하게 한정되지 않으며, 임의의 가공 방법이 이용될 수 있다. 예를 들어, 상응하는 금속 또는 금속산화물의 SPUTTERING 방법, 진공증착방법, 철도금방법, 플라즈마 CVD 또는 PVD 방법 및 초미립자의 코팅과 같은 잘 알려진 기술이 이용될 수 있다.
본 발명에서 적외선-차폐 효과는 800 내지 1,200 ㎚ 범위의 적외선 근접영역에서 선스펙트럼을 차폐하는 기능을 의미한다. 적외선 근접영역에서 선스펙트럼의 차폐특성은 800 ㎚에서 투과율이 15% 이하이고, 850 ㎚에서 5% 이하가 되어야 한다. 적외선-차폐 효과를 제공하기 위하여, 근접 적외선-흡수 화합물을 투명 플라스틱 지지체에 혼합하는 방법이 이용될 수 있다. 이를테면, 적외선-차폐 효과는 구리전자(일본특허 공개번호 제 JP-P-1994-00118228호)를 함유하는 수지혼합물, 구리화합물과 인화합물(PHOSPHORUS COMPOSITION, 일본특허 공개번호 제JP-P-1987-0005190호)을 함유하는 수지혼합물, 구리화합물과 티오요소유도체(일본특허 공개번호 제JP-P-1994-0073197호)를 함유하는 수지혼합물, 텅스텐계 화합물(미국특허 제3,647,729호)을 함유하는 수지혼합물 등을 형성함으로써 용이하게 얻어질 수 있다. 투명 은층(SILVER LAYER)을 형성하는 방법은 저렴하고 전자기파-차폐 효과에 부가하여 적외선-차폐 효과를 제공하는데 바람직하다.
(다른 층들)
본 발명에서 경질코팅층, 윤활층, 오염방지층, 정전기방지층 또는 중간층이 제공될 수 있다.
경질코팅층은 가교결합된 중합체를 함유하는 것이 바람직하다. 경질코팅층은 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계, 실록산계 중합체, 저중합체 또는 단량체(예를 들어, 자외선-경화형 수지)를 사용함으로써 형성가능하다. 실리카계 필터들이 경질코팅층에 부가될 수 있다.
윤활층은 반사방지층의 가장 바깥면상에 제공될 수 있다. 윤활층은 반사방지층의 표면에 슬라이딩특성을 제공하는 기능과 내긁힘성을 향상시키는 기능을 갖는다. 윤활층은 폴리오르갠오실록산(예를 들어, 실리콘 오일), 천연밀납, 석유밀납, 고지방산 금속염, 플루오르계 윤활유 또는 이들의 유도체을 이용하여 형성될 수 있다. 윤활층의 두께는 2 내지 20 ㎚ 범위인 것이 바람직하다.
또한, 오염방지층은 반사방지층의 가장 바깥면상에 제공될 수 있다. 오염방지층은 반사방지층의 표면에너지를 감소시키기 위해 제공되어 친수성(親水性) 또는 소수성(疏水性) 얼룩으로 얼룩지는 것을 어렵게 만든다. 또한, 오염방지층은 플루오르 함유 중합체로 형성되어질 수 있다. 오염방지층의 두께는 2 내지 100 ㎚ 범위이며, 바람직하게는 5 내지 30 ㎚ 범위이다.
본 발명에서 반사방지기능은 표면상에 제공되어질 수 있다(층의 주변 배경이 상기 층의 표면상에 반사되는 것을 방지하기 위하여 표면에서 입사광선을 흩뿌리는 기능). 반사방지 기능은 예를 들어, 투명한 필름의 표면상의 미세한 불균일을 형성하거나, 투명한 필름의 표면상에 반사방지층을 형성하거나, 또는 반사방지층이 첫 번째 위치에 형성하고 돌기가 있는 롤러를 사용하여 표면상에 불균일을 형성하므로써 얻을 수 있다.
반사방지 기능을 갖은 반사방지층은 일반적으로 3 내지 30% 범위의 헤이즈를 갖는다.
반사방지층(저굴절율층), 필터층, 적외선-차폐층과 전자기파-차폐층, 언더코팅층, 경질코팅층, 윤활층, 오염방지층, 정전기방지층 및 다른 층들은 평범한 코팅법에 의해 형성될 수 있다.
코팅법의 예로는 침지 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 커튼 코팅법, 롤러 코팅법, 와이어 바 코팅법, 그라이버 코팅법, 호퍼를 이용한 압출 코팅법(미국특허 제2,681,294호에 개시)을 들 수 있다. 둘 이상의 층이 동시에 코팅될 수도 있다.동시코팅법이 예를 들어, 미국특허 제2,761,791호, 제2,941,898호, 제3,508,947호 및 제3,526,528호 및 유지 하라자키, 코팅 코가쿠(코팅공학), 253쪽, Asakura Shoten Co.(1973년)에 개시되었다.
실시예를 참고하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1 내지 3]
(언더코팅층의 형성)
250 ㎛, 100 ㎛ 및 50 ㎛의 3가지 종류의 다른 두께를 갖는 2축방향으로 신장된 폴리에틸렌 테레프탈레이트 투명필름의 양면을 코로나방전처리로 쬐고 나서, 1.55의 굴절률과 37℃의 유리전이온도를 갖는 스티렌-부타디엔 공중합체 라텍스(LX407C5, Zeon Corporation 제조)가 상기 필름의 양면상에 코팅되어 언터코팅층이 형성된다.
코팅은 상기 필름에 건조 경화후 300 ㎚ 두께를 갖는 필터층이 제공된 일면과, 건조 경화후 150 ㎚ 두께를 갖는 저굴절류층이 제공된 측면을 얻기 위하여 행해진다.
(제 2 언더코팅층의 형성)
아세트산과 글루타알데히드를 함유하고 있는 젤라틴 수용액을 필름의 일면상에 건조 경화후 100 ㎚의 두께로 제공된 언더코팅층 상에 코팅한다. 1.50의 굴절률과 50℃의 유리전이온도를 갖는 아크릴계 라텍스(HA16, Nippon Acryl Co., Ltd. 제조)를 건조 경화후 20 ㎚의 두께로 저굴절률층이 제공된 필름의 일면상의 언더코팅층 상에 코팅하여 제 2 언더코팅층을 형성한다.
(반사방지층으로서의 저굴절률층의 형성)
2.50 g의 플루오르함유 반응중합체(JN-7219, JSR Corporation 제조)에 1.3 g의 t-부타놀을 첨가하여 상온에서 10분 동안 교반하고, 혼합된 수용액을 1 ㎛의 폴리프로필렌 필터로 여과한다.
저굴절률층을 위해 상기 얻어진 함유 코팅용액을 건조 경화된 필름두께가 96 ㎚인 투명지지체(일면상에 150 ㎚의 스티렌-부타디엔 공중합체 라텍스와 20 ㎚의 아크릴 라텍스를 언더코팅층으로써 코팅한다)의 일측상에 바코터를 이용하여 코팅한다. 코팅된 층을 경화하기 위하여 15분 동안 120 ℃에서 건조하여 저굴절률층이 형성된다.
(필터층의 형성)
0.05 g의 염료(c1)와 0.15 g의 염료(a6-1)를 젤라틴 10 wt%의 수용액 180 g 속에 용해한다. 30분 동안 40 ℃에서 교반하고 2 ㎛의 공극지름을 갖는 폴리프로필렌 필터로 여과한다. 필터층을 위해 상기 얻어진 코팅용액을 건조 경화된 필름두께가 3.5 ㎛이 되도록 투명지지체의 저굴절률층이 코팅된 측면의 반대측상의 제 2 언더코팅층 위에 코팅하고, 10분 동안 120 ℃에서 건조하여 필터층을 형성한다. 그리하여 반사방지층이 위에 제공된 지지체와 필터층을 형성한다.
상기 얻어진 3가지 종류의 지지체들 중 각각의 분광 투과율을 측정한다. 이들 각각은 535 ㎚와 595 ㎚에서 흡수 최대점을 갖고, 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 투과율은 69%이고 595 ㎚일 때는 23%이다.
흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 반감폭은 63 ㎚이고 595 ㎚일 때는 30 ㎚이다.
(투명한 유리지지체 상에 전자기파-차폐층과 적외선-차폐층과 반사방지층의 코팅)
은(SILVER)은 3 ㎜의 두께를 갖는 무색투명한 유리판의 표면상에 스퍼터(SPUTTER)되어, 2.5 Ω/㎠의 표면저항과 약 12 ㎚의 두께를 갖는 필름이 제조된다.
상기 광학 필름의 두께(상기 굴절률과 상기 필름 두께의 생성물)가 130 내지 140 ㎚ 범위 내가 되도록 이불화마그네슘, 이산화규소, 이산화티타늄과 이불화마그네슘을 진공증착법으로 상기 코팅된 은필름 위에 순서대로 쌓는다. 반사방지층의 반사율을 측정하였고, 표면 반사율은 0.6% 이었다.
(전면패널의 제조)
아크릴계 접착제를 필터층과 저굴절률층이 제공된 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 필터층의 표면상에 30 ㎛의 두께로 코팅한다. 그리고, 이것을 유리판과 함께 반사방지층이 침적된 면의 반대면상에 접착하여, 본 발명의 전면패널이 제조되었다.
[실시예 4 내지 6]
250 ㎛, 100 ㎛와 50 ㎛의 3가지 종류의 다른 두께를 갖는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 투명필름의 양면에 코로나방전처리를 하고, 1.55의 굴절률과 37 ℃의 유리전이온도를 갖는 스티렌 부타디엔 공중합체로부터 제조된 라텍스(LX407C5, Zeon Corporation 제조)를 필터층이 제공된 면 위에 300 ㎚의 두께로 코팅한다.
그리고, 얻어진 필름의 반대면 상에 1.58의 굴절률과 -10 ℃의 유리전이온도를 갖는 비닐리덴염화물-아크릴산-메틸아크릴레이트 공중합체로부터 제조된 라텍스를 145 ㎚의 두께로 코팅한다. 환언하면, 얻어진 필름의 반대면상에 저굴절률층을 제공한다.
(제 2 언더코팅층의 형성)
제 2 언더코팅층은 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성한다.
(반사방지층으로서의 저굴절률층의 형성)
저굴절률층은 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성한다.
(필터층의 형성)
필터층은 0.15 g 의 염료(a5)를 염료(a6-1) 대신에 이용하는 경우를 제외하고는 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성한다. 따라서, 반사방지층과 필터층이 그 위에 제공된 지지체를 형성한다.
상기에서 얻어진 3가지 종류의 지지체 각각의 분광 투광율을 측정하였다. 이들 각각은 534 ㎚와 594 ㎚에서 흡수 최대점을 갖었고, 흡수 최대점이 534 ㎚일 때의 분광율은 65%이었고, 594 ㎚일 때의 분광율은 21%이었다. 흡수 최대점이 534 ㎚일 때의 반감폭은 78 ㎚이었고, 594 ㎚일 때의 반감폭은 28 ㎚이었다.
(전면패널의 제조)
실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 코팅된 반사방지층과 필터층을 갖는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 코팅된 전자기파-차폐층과 적외선-차폐층과 반사방지층을 갖는 유리투명지지체 상에 접착하여, 전면패널이 제조되었다.
[실시예 7 내지 9]
(언더코팅층의 형성)
언더코팅층은 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성하였다.
(제 2 언더코팅층의 형성)
제 2 언더코팅층은 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성하였다.
(저굴절률층의 형성)
저굴절률층은 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성하였다.
(필터층의 형성)
필터층은 0.05 g의 염료(a1)을 염료(a6-1) 대신에 이용하는 경우를 제외하고는 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성하였다. 따라서, 반사방지층과 필터층을 그 위에 갖는 지지체를 형성하였다.
상기에서 얻어진 3가지 종류의 지지체 각각의 분광 투광율을 측정하였다. 이들 각각은 533 ㎚과 594 ㎚에서 흡수 최대점을 갖었고, 흡수 최대점이 533 ㎚일 때의 분광율은 63%이었고, 594 ㎚일 때의 분광율은 22%이었다. 흡수 최대점이 533 ㎚일 때의 반감폭은 63 ㎚이었고, 594 ㎚일 때의 반감폭은 29 ㎚이었다.
(전면패널의 제조)
실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 코팅된 반사방지층과 필터층을 갖는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 코팅된 전자기파-차폐층과 적외선-차폐층과 반사방지층을 갖는 유리투명지지체 상에 접착하여, 본 발명에 따른 전면패널이 제조되었다.
(필터기능의 평가)
플라즈마 디스플레이 패널(PDS4202J-K, Fujitsu Limited 제조)의 전면패널을 제거하고, 필터층이 플라즈마 디스플레이 패널의 영상디스플레이 표면을 향하도록 실시예 1 내지 9에서 제조한 각각의 전면패널을 상기 본체에 장착하였다. 전자기파-차폐층과 적외선-차폐층은 플라즈마 디스플레이 패널의 후면상의 접지금속판에 연결하였고, 상기 기능은 플라즈마 디스플레이 패널로부터 접지판으로 방사된 전자기파에 의해 전자기파-차폐층과 적외선-차폐층 상에 유도된 전압을 전도함으로서 평가되었다.
평가된 사항은 시각측정에 의하여 전자기파-차폐 성능과 적외선-차폐 성능과, 디스플레이된 영상의 콘트라스트의 측정과 컬러재생특성의 평가였다.
전자기파-차폐 성능은 실시예 1 내지 9에서의 각 예마다 10 내지 200 ㎒ 범위의 주파수에서 최소 9 ㏈ 이상이었다. 따라서, 정보 처리장치 등에서 제한된 전자기파의 누출정도가 얻어졌다. 또한, 근적외선영역에서 선스펙트럼-차폐 성능이 800 ㎚일 때 약 8 %이고, 850 ㎚일 때 약 3 %이하였다. 따라서, 주위에 설치된 적외선 원격제어장치의 방해를 예방할 수 있었다.
실시예 1 내지 9의 모든 실시예에서 시각측정에 의하여 콘트라스트와 컬러재생특성이 분명하게 향상되었다.
전면패널의 교체 전의 콘트라스트는 10:1 이었지만, 모든 실시예에서 15:1로 향상되었다. 전면패널을 교체하기 전의 콘트라스트와 비교하여, 오렌지 빛깔의 빨강색이 순수한 빨강색으로 향상되었고, 초록빛을 띤 파랑색이 맑은 파랑색이 되었으며, 누르스름한 백색이 순수한 백색으로 향상되어 확인되었다.
[실시예 10]
(언더코팅층의 형성)
100 ㎛의 두께를 갖는 투명 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(784 kJ/㎡의 인장충격강도를 갖는)의 양면을 코로나방전처리를 하고, 1.55의 굴절률과 37 ℃의 유리전이온도를 갖는 스티렌 부타디엔 공중합체로부터 제조된 라텍스(LX407C5, Zeon Corporation 제조)를 상기 필름의 양면상에 코팅하여 언더코팅층을 형성하였다. 필름의 필터층이 제공된 면의 두께가 건조 경화후 300 ㎚가 되고, 저굴절률층이 제공된 면의 두께는 150 ㎚가 되도록 코팅을 수행하였다.
(제 2 언더코팅층의 형성)
제 2 언더코팅층은 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성되었다.
(저굴절류층의 형성)
저굴절률층은 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성되었다.
(필터층의 형성)
필터층은 0.05 g의 염료(b13)과 0.15 g의 염료(a11)을 이용하는 경우를 제외하고는 실시예 1 내지 3과 동일한 방법으로 형성하였다. 따라서, 선택적인 흡수필터 A가 형성되었다.
상기에서 필터 A의 분광 투광율을 측정하였다. 필터 A는 535 ㎚와 595 ㎚에서 흡수 최대점을 갖었고, 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 분광율은 69%이었고, 595 ㎚일 때의 분광율은 23%이었다. 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 반감폭은 63 ㎚이었고, 595 ㎚일 때의 반감폭은 30 ㎚이었다. 표면 반사율은 1.2 %이었다.
[실시예 11]
선택적인 흡수 필터 B는 투명지지체로서 50 ㎛의 두께를 갖는 투명 트리아세틸 셀룰로오스 필름(490 kJ/㎡의 인장충격강도를 갖는)을 이용하는 것을 제외하고는 실시예 10과 동일한 공정을 통해 제조된다.
상기 필터 B의 분광 투과율을 측정하였다. 필터 B는 535 ㎚와 595 ㎚에서 흡수 최대점을 갖었고, 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 분광율은 71%이었고, 595 ㎚일 때의 분광율은 22%이었다. 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 반감폭은 64 ㎚이었고, 595 ㎚일 때의 반감폭은 29 ㎚이었다. 표면 반사율은 1.4 %이었다.
[실시예 12]
선택적인 흡수 필터 C는 투명지지체로서 25 ㎛의 두께를 갖는 투명 폴리카보네이트 지지체(804 kJ/㎡의 인장충격강도를 갖는)를 이용하는 것을 제외하고는 실시예 10과 같은 공정을 통해 제조된다.
상기 필터 C의 분광 투과율을 측정하였다. 필터 C는 535 ㎚와 595 ㎚에서 흡수 최대점을 갖었고, 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 분광율은 67%이었고, 595 ㎚일 때의 분광율은 20%이었다. 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 반감폭은 65 ㎚이었고, 595 ㎚일 때의 반감폭은 28 ㎚이었다. 표면 반사율은 1.3 %이었다.
[비교예 1]
선택적인 흡수 필터 D는 투명지지체로서 50 ㎛의 두께를 갖는 투명 폴리스티렌 지지체(206 kJ/㎡의 인장충격강도를 갖는)를 이용하는 것을 제외하고는 실시예 10과 같은 공정을 통해 제조된다.
상기 필터 D의 분광 투과율을 측정하였다. 필터 D는 535 ㎚와 595 ㎚에서 흡수 최대점을 갖었고, 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 분광율은 71%이었고, 595 ㎚일 때의 분광율은 21%이었다. 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 반감폭은 66 ㎚이었고, 595 ㎚일 때의 반감폭은 31 ㎚이었다. 표면 반사율은 1.3 %이었다.
[비교예 2]
선택적인 흡수 필터 E는 투명지지체로서 10 ㎛의 두께를 갖는 투명 트리아세틸 셀룰로오스 필름(147 kJ/㎡의 인장충격강도를 갖는)을 이용하는 것을 제외하고는 실시예 10과 같은 공정을 통해 제조된다.
상기 필터 E의 분광 투과율을 측정하였다. 필터 E는 535 ㎚와 595 ㎚에서 흡수 최대점을 갖었고, 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 분광율은 71%이었고, 595 ㎚일 때의 분광율은 25%이었다. 흡수 최대점이 535 ㎚일 때의 반감폭은 62 ㎚이었고, 595 ㎚일 때의 반감폭은 29 ㎚이었다. 표면 반사율은 1.4 %이었다.
(충격저항 테스트)
접착제와 함께 3 ㎜의 두께를 갖는 강화 유리판(10 ㎠)상에 필터 A 내지 E를 라미네이트하므로써 전면패널을 제조하였다. 상기 전면패널의 50% 파손되는 높이는 JIS K7211 "경화된 플라스틱의 낙하충격테스트의 일반법칙"에 근거하였다. 약 50 ㎜의 지름과 0.5 ㎏의 무게를 갖는 강철구를 시험에 사용하였다. 파손의 기준은 강화 유리판이 부서져서 작은 조각들로 나뉘느냐 그렇지 않으냐 이었다. 얻어진 결과는 하기 표 1에 나타내었다.
< 표 1 >
전면패널 50% 파손된 높이(m)
실시예 10 0.98
실시예 11 0.90
실시예 12 1.1
비교예 1 0.69
비교예 2 0.68
필터없음 0.67
(포장 테스트)
PDP 디스플레이(PDS4202J-H, Fujitsu Limited 제조)의 전면패널을 제거하고 전면패널의 배면필터를 벗겨내고, 그 위에 상기 실시예와 비교예의 필터 A 내지 E를 접착제로 부착시킨다. 각 실시예의 디스플레이의 콘트라스트를 측정하였고, 백광과 적광을 평가하였다. 얻어진 결과는 하기 표 2에 나타내었다.
< 표 2 >
전면패널 콘트라스트 백광 적광
실시예 10 15 : 1 백색(향상된) 빨강(향상된)
실시예 11 15 : 1 백색(향상된) 빨강(향상된)
실시예 12 15 : 1 백색(향상된) 빨강(향상된)
비교예 1 15 : 1 백색(향상된) 빨강(향상된)
비교예 2 15 : 1 백색(향상된) 빨강(향상된)
필터없음 10 : 1 누르스름한 백색 오렌지
실시예들과 비교예들의 결과로부터 분명한 것은 필터층과 반사방지층의 지지체로서 392 kJ/㎡ 이상의 인장충격강도를 갖는 투명 필름을 이용하므로써 전면패널이 충격 저항력을 제공할 수 있다는 것이다.
[실시예 13]
(언더코팅층의 형성)
175 ㎛의 두께를 갖는 2축방향으로 신장된 투명 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 양면을 코로나방전처리를 하고, 1.55의 굴절률과 37 ℃의 유리전이온도를 갖는 스티렌 부타디엔 공중합체으로부터 제조된 라텍스(LX407C5, Zeon Corporation 제조)를 상기 필름의 양면상에 코팅하여 언더코팅층을 형성하였다. 일면의 두께가 건조 경화후 300 ㎚가 되고, 타측면의 두께는 150 ㎚가 되도록 코팅을 수행하였다.
(필터층의 형성)
1N의 수산화나트륨 용액을 젤라틴 10 wt%의 수용액 180 g 속에 용해하여 수소이온지수(pH)를 7로 만든다. 얻어진 용액에 염료(b13)을 임의의 량만큼 첨가하고, 혼합된 용액을 24시간 동안 30 ℃에서 교반하였다. 필터층을 위하여 얻어진 코팅용액은 300 ㎚의 두께를 갖는 언더코팅층이 제공된 투명지지체의 일면상에 염료(b13)의 코팅량이 15 ㎎/㎡이 되도록 코팅되었다. 그리고, 코팅층은 10분 동안 120 ℃에서 건조된다. 상기 제조된 시료 A-1 내지 A-6의 각 필터층의 염료/젤라틴의 중량비는 하기 표 3에 나타내었다.
(반사방지층으로서의 저굴절률층의 형성)
2.5 g의 플루오르 함유 반응중합체(JN-7225, JSR Corporation 제조)에 5.0 g의 MIBK를 첨가하여 10분 동안 상온에서 교반하고, 혼합된 용액을 1 ㎛의 폴리프로필렌 필터로 여과했다. 이렇게 얻어진 코팅용액을 시료 1 내지 6의 필터층이 제공된 면의 반대면상에 바코터를 이용하여 건식코팅으로 96 ㎚ 두께를 갖도록 코팅하였고, 코팅층을 경화시키기위해 120 ℃에서 15분 동안 건조하여 저굴절률층을 형성하였다.
[실시예 14]
시료 B-1 내지 B-6은 염료(b13)을 염료(b16) 대신에 사용하는 경우를 제외하고 시료 A-1 내지 A-6의 제조와 동일한 방법으로 제조되었다.
(필터기능의 평가)
플라즈마 디스플레이 패널(PDS4202J-H, Fujitsu Limited 제조)의 전면패널의 가장 바깥면 필름(상기 도 1(b)에 나타난 플라즈마 디스플레이의 E 면)을 벗겨내고, 그 위에 실시예 13 또는 14에서 제조된 광학 필터(저굴절률층이 제공되지 않은 면)를 접착제로 접착하였다.
광학필터의 크랙킹과 디스플레이된 영상의 백광 및 적광이 시각적으로 평가되었다. 얻어진 결과는 하기 표 3에 나타내었다.
< 표 3 >
시료 번호 염료/젤라틴(중량비) 필터기능 크랙킹
백광 적광
A-1(비교) 1 : 5 오렌지빛을 띤 백색 오렌지빛을 띤 적색
A-2(비교) 1 : 20 오렌지빛깔의 백색 오렌지빛을 띤 적색
A-3(발명) 1 : 50 백색(향상된) 적색(향상된)
A-4(발명) 1 : 500 백색(향상된) 적색(향상된)
A-5(비교) 1 : 2,000 백색(향상된) 적색(향상된)
A-6(비교) 1 : 3,000 백색(향상된) 적색(향상된) ×
B-1(비교) 1 : 5 오렌지빛을 띤 백색 오렌지빛을 띤 적색
B-2(비교) 1 : 20 오렌지빛을 띤 백색 오렌지빛을 띤 적색
B-3(발명) 1 : 50 백색(향상된) 적색(향상된)
B-4(발명) 1 : 500 백색(향상된) 적색(향상된)
B-5(비교) 1 : 2,000 백색(향상된) 적색(향상된)
B-6(비교) 1 : 3,000 백색(향상된) 적색(향상된) ×
필터 없음 - 초록빛을 띤 백색 오렌지빛을 띤 적색 -
상기 결과로부터 분명한 것은 크랙킹을 갖지 않고 PDP의 컬러밸런스를 보정할 수 있는 필터들은 염료/바인더의 비율이 1 : 50 내지 1 : 2,000 범위 내에 있는 필터층에 의해 얻어질 수 있다는 것이다. 또한, 도 1(b)에서 시료가 붙어있는 면이 단지 E면 뿐만 아니라 F면과 G면일 때, 동일한 결과들을 얻을 수 있다.
본 발명에 따른 전면패널은 액정표시장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전기장발광 디스플레이(ELD), 음극선관(CRT) 등과 같은 영상디스플레이에 적용될 수 있다. 특히, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)와 음극선관(CRT)의 전면패널로서 이용될 때 현저한 효과를 얻을 수 있다.

Claims (26)

  1. 염료와 폴리머바인더로 이루어지는 필터층이 최소 지지체의 일면상에 제공되는 투명지지체로 이루어진 광학 필터에 있어서,
    필터층이 상기 투명지지체의 일면상에 제공될 때에는 가시광선에 대하여 반사방지 특성을 갖는 반사방지층이 필터층이 제공된 면의 반대면에 제공되어지고, 필터층이 상기 투명지지체의 양면상에 제공될 때에는 반사방지층이 임의의 면에 제공되어지고, 상기 투명지지체는 10 내지 500 ㎛ 범위의 두께를 갖는 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 2축방향으로 신장된 필름의 재료가 폴리에스테르, 폴리카보네이트 또는 폴리아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 상기 투명지지체의 최소 일면상에 유리전이온도가 -20 ℃ 내지 60 ℃ 범위를 갖는 중합체로 이루어지는 언더코팅층이 제공되는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 투명지지체 상에 제공되는 언더코팅층은 스티렌-부타디엔계 공중합체로 이루어진 투명지지체에 접하는 제 1 언더코팅층과, 아크릴계 수지로 이루어진 제 2 언더코팅층으로이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  5. 392 kJ/㎡ 이상의 인장충격강도를 갖고, 그 위에 560 내지 620 ㎚ 범위 내에 흡수 최대점을 갖는 필터층이 그 위에 제공되는 투명지지체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필터층은 염료와 폴리머바인더가 중량비로 1:50 내지 1:2,000 범위로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  7. 염료와 폴리머바인더를 포함하고 있는 필터층이 그 위에 제공된 투명지지체로 이루어지는 광학 필터에 있어서, 상기 필터층은 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 흡수 최대점을 갖고, 상기 염료와 상기 폴리머바인더의 중량비가 1:50 내지 1:2,000 범위인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  8. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명지지체의 적어도 일면상에 -20 ℃ 내지 60 ℃ 범위의 유리전이온도를 갖는 중합체를 포함하는 언더코팅층이 제공되는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 투명지지체 상에 제공되는 언더코팅층은 스티렌-부타디엔계 공중합체를 포함하는 투명지지체와 접하는 제 1 언더코팅층과, 아크릴계 수지를 포함하는 제 2 언더코팅층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  10. 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명지지체는 5 ㎛ 내지 5 ㎝ 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  11. 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명지지체는 10 내지 500 ㎛ 범위의 두께를 갖는 2축방향으로 신장된 필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 2축방향으로 신장된 필름의 재료는 폴리에스테르, 폴리카보네이트 또는 폴리아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필터층은 560 내지 620 ㎚ 범위와 500 내지 550 ㎚ 범위 양쪽 모두에서 흡수 최대점들을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필터층은 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 0.01 내지 80 % 범위의 투과율의 흡수 최대점을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  15. 제 14 항에 있어서, 500 내지 550 ㎚ 범위 내에서 20 내지 85 % 범위의 투과율의 흡수 최대점을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  16. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필터층은 500 내지 550 ㎚ 범위 내에서 40 내지 85% 범위의 투과율의 흡수 최대점과, 560 내지 620 ㎚ 범위 내에서 0.01 내지 40 % 범위의 투과율의 흡수 최대점을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  17. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 560 내지 620 ㎚ 범위 내의 상기 필터층의 흡수 최대점의 반감폭이 50 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  18. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 560 내지 620 ㎚ 범위 내의 상기 필터층의 흡수 최대점의 반감폭이 10 내지 50 ㎚인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필터층은 적어도 옥소놀 염료 또는 시아닌 염료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  20. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필터층에 함유된 폴리머바인더가 젤라틴인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  21. 제 1 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명지지체는 적어도 지지체보다 더 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층으로 이루어진 반사방지층을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  22. 제 1 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명지지체는 1.45 이하의 굴절률을 갖는 반사방지층을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  23. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학필터가 플라즈마 디스플레이용으로 이용되는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  24. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전면패널.
  25. 제 1 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 따른 광학 필터를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널.
  26. 제 24 항에 따른 전면패널을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널.
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