JP2001004825A

JP2001004825A - 光学フィルター

Info

Publication number: JP2001004825A
Application number: JP11171375A
Authority: JP
Inventors: Ryuta Suzuki; 龍太鈴木
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-06-17
Filing date: 1999-06-17
Publication date: 2001-01-12

Abstract

(57)【要約】【課題】色純度を低下させる波長の光を選択的にカット
し、色バランスを補正することのできる光学フィルター
を提供する。【解決手段】光吸収層を有する光学フィルターにおい
て、少なくとも５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの間に光透過率
の極小を有し、光透過率の極小を示す波長での透過率が
０．０１〜９０％である光学フィルターであり、該フィ
ルターに対し３０℃〜８０℃の環境温度において２００
０万Ｌｕｘ・時間の光照射を行った場合に光透過率の極
小を示す波長での透過率が大きくなり、その透過率が
０．０２〜９５％である光学フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体および
フィルター層を有する光学フィルターに関する。特に、
本発明はプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶
表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレ
イのような画像表示装置の表面に、色再現性改良のため
取り付けられる光学フィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲ
Ｔ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画
像表示装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の
組み合わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のた
めの光を理想的な三原色にすることは、非常に難しい
（実質的には不可能である）。例えば、プラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）では、三原色蛍光体からの発光
に余分な光（波長が５００乃至６２０ｎｍの範囲）が含
まれていることが知られている。そこで、表示色の色バ
ランスを補正するため特定の波長の光を吸収するフィル
ターを用いて、色補正を行うことが提案されている。フ
ィルターによる色補正については、特開昭５８−１５３
９０４号、同６１−１８８５０１号、特開平３−２３１
９８８号、同５−２０５６４３号、同９−１４５９１８
号、同９−３０６３６６号、同１０−２６７０４号の各
公報に記載がある。しかしプラズマディスプレイパネル
は使用していくうちに蛍光体が劣化するという問題点が
ある。このとき蛍光体が劣化していない状態で最適化さ
れたフィルターは蛍光体が劣化した状態では透過率が低
すぎて表示を必要以上に暗くし、またカラーバランスを
最適に保つことができない。ＰＤＰで用いられる緑色発
光蛍光体としては、例えば、ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（１９
９７年）Ｎｏ．６、１４９〜１５５頁等に記載のものが
有用であり、その中でも、Zn₂SiO_4:Mn蛍光体を用いるこ
とが好ましい。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色純
度を低下させる波長の光を選択的にカットし、色バラン
スを補正することのできる光学フィルターを提供するこ
と、およびそれを用いた画像表示装置（特に、プラズマ
ディスプレイ）を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記
（１）〜（８）の光学フィルター、前面板、プラズマデ
ィスプレイパネル、プラズマディスプレイ表示装置によ
って達成された。（１）光吸収層を有する光学フィルターにおいて、少
なくとも５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの間に光透過率の極小
を有し、光透過率の極小を示す波長での透過率が０．０
１〜９０％である光学フィルターであり、該フィルター
に対し３０℃〜８０℃の環境温度において２０００万Ｌ
ｕｘ・時間の光照射を行った場合に光透過率の極小を示
す波長での透過率が大きくなり、その透過率が０．０２
〜９５％であることを特徴とする光学フィルター。（２）光吸収層を有する光学フィルターにおいて、少
なくとも５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの間に光透過率の極小
を有する光学フィルターであり、１０万Ｌｕｘ２００時
間の光照射を行った場合に該フィルターの光透過率の極
小を示す波長が０．１〜３０ｎｍ短波長側に移動するこ
とを特徴とする（１）に記載の光学フィルター。（３）光吸収層に色素を含有することを特徴とする
（１）または（２）に記載の光学フィルター。（４）光吸収層に含まれる色素が、少なくともシアニ
ン色素を含むことを特徴とする（１）〜（３）に記載の
光学フィルター。（５）光吸収層が透明支持体上に形成されていること
を特徴とする（１）〜（４）に記載の光学フィルター。（６）（１）〜（５）のいずれかに記載の光学フィル
ターをその構成部分として含むことを特徴とするプラズ
マディスプレイ用前面板。（７）プラズマディスプレイパネルの表面に（１）〜
（５）のいずれかに記載の光学フィルターを有すること
を特徴とするプラズマディスプレイパネル。（８）（６）に記載のプラズマディスプレイ用前面板
および／または（７）に記載のプラズマディスプレイパ
ネルを有することを特徴とするプラズマディスプレイ表
示装置。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明は下記に挙げるいくつかの
例により説明することができるが、特に断らない限りそ
れらの例に限定されるものではない。

【０００６】本発明における光学フィルターとは、５６
０ｎｍ〜６２０ｎｍの間に透過率の極小を有していお
り、その初期状態での透過率は極小の波長において０．
０１％〜９０％の間が好ましく、より好ましくは０．１
％〜７０％の間である。該透過率は光を照射することに
より変化し、変化後の極小の波長での透過率は０．０２
％〜９５％の間、より好ましくは０．２〜８０％の間で
ある。

【０００７】本発明における光学フィルターの光透過率
の極小の波長は５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの間であるが、
５７０〜６００ｎｍの間であることが好ましく、５８０
ｎｍ〜６００ｎｍの間であることがさらに好ましい。該
波長は光を照射することにより移動することも好まし
い。短波長側に移動する場合の大きさとしては０．１ｎ
ｍ〜３０ｎｍの間が好ましく、０．１ｎｍ〜１０ｎｍの
間がさらに好ましく、０．１ｎｍ〜５ｎｍの間が最も好
ましい。長波長側に移動する場合の大きさとしては０．
１〜５０ｎｍの間が好ましく、０．１〜１０ｎｍの間が
さらに好ましい。本発明では短波長側に移動する場合の
方が長波長側に移動する場合よりより好ましい。

【０００８】該光学フィルターは、５６０ｎｍ〜６２０
ｎｍの透過率の極小に加えて、５００ｎｍ〜５５０ｎｍ
に透過率の極小を持たせることもできる。５００ｎｍ〜
５５０ｎｍの範囲の透過率は２０％〜８５％の範囲であ
ることが好ましい。波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範
囲の透過率の極小は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強
度を調整するために設定される。緑の蛍光体の発光域
は、なだらかにカットすることが好ましい。透過率の極
小は吸収の極大としても表現できる。波長が５００ｎｍ
〜５５０ｎｍの範囲の吸収極大での半値幅（吸収極大で
の吸光度の半分の吸光度を示す波長領域の幅）は、３０
ｎｍ〜３００ｎｍであることが望ましく、４０ｎｍ〜３
００ｎｍであることがより好ましく、５０ｎｍ〜１５０
ｎｍであることがさらに好ましく、６０ｎｍ〜１５０ｎ
ｍであることが最も好ましい。

【０００９】波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲の透
過率の極小は、なるべく緑の蛍光体の発光に影響を与え
ないよう選択的に光をカットするために吸収スペクトル
のピークをシャープにすることが好ましい。具体的に
は、波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲の吸収極大で
の半値幅は、５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好まし
く、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、
１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが最も好ましい。

【００１０】本発明において上記の吸収スペクトルを付
与するために、色素（染料または顔料）を用いて、フィ
ルターを形成することが好ましい。波長が５００ｎｍ〜
５５０ｎｍの範囲に透過率の極小を持つ色素としては、
スクアリリウム系、アゾメチン系、シアニン系、オキソ
ノール系、アントラキノン系、アゾ系またはベンジリデ
ン系の化合物が好ましく用いられる。アゾ染料として
は、ＧＢ５３９７０３号、同５７５６９１号、ＵＳ２９
５６８７９号および堀口博著「総説合成染料」三共
出版などに記載の多くのアゾ染料を使用することができ
る。波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲に透過率の極
小を持つ色素の例を以下に示す。

【００１１】

【化１】

【００１２】

【化２】

【００１３】

【化３】

【００１４】

【化４】

【００１５】

【化５】

【００１６】

【化６】

【００１７】

【化７】

【００１８】

【化８】

【００１９】

【化９】

【００２０】

【化１０】

【００２１】

【化１１】

【００２２】波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲に透
過率の極小を持つ色素としては、シアニン系、スクアリ
リウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール
系またはアゾ系の化合物が好ましく用いられる。波長が
５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲に透過率の極小を持つ色
素の例を以下に示す。好ましくはシアニン系色素であ
る。

【００２３】

【化１２】

【００２４】

【化１３】

【００２５】

【化１４】

【００２６】

【化１５】

【００２７】

【化１６】

【００２８】

【化１７】

【００２９】

【化１８】

【００３０】

【化１９】

【００３１】

【化２０】

【００３２】

【化２１】

【００３３】

【化２２】

【００３４】

【化２３】

【００３５】

【化２４】

【００３６】

【化２５】

【００３７】フィルターには、以上のような２種類以上
の色素を組み合わせて用いることができる。また、波長
が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲と波長が５６０ｎｍ〜
６２０ｎｍの範囲の両方に透過率の極小を持つ色素をフ
ィルターに用いることもできる。例えば、色素を微粒子
分散物のような会合体の状態にすると、一般に波長が長
波長側にシフトして、ピークがシャープになる。そのた
め、波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲に透過率の極
小を持つ色素には、その会合体が５６０ｎｍ〜６２０ｎ
ｍの範囲に透過率の極小を持つものもある。そのような
色素が部分的に会合体を形成した状態で使用すると、波
長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲と波長が５６０ｎｍ
〜６２０ｎｍの範囲の両方に透過率の極小を得ることが
できる。そのような色素の例は上記（ｂ１２）及び（ｂ
１３）である。

【００３８】本発明に用いることのできる光学フィルタ
ー（波長選択吸収フィルター）の厚さは０．１μｍ乃至
５ｃｍであることが好ましく、０．５μｍ乃至１００μ
ｍであることがさらに好ましい。

【００３９】フィルターは、さらにポリマーバインダー
を含むことが好ましい。天然ポリマー（例、ゼラチン、
セルロース誘導体、アルギン酸）または合成ポリマー
（例、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリス
チレン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド）をポリ
マーバインダーとして用いることができる。親水性ポリ
マー（上記天然ポリマー、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルピロリドン、ポビニルアルコール、水溶性ポリア
ミド）が特に好ましい。

【００４０】本発明における光照射の条件とは光学フィ
ルターに対し２０００万Ｌｕｘ・時間の光を照射するこ
とである。このとき光学フィルター周辺の環境温度は３
０℃〜８０℃、であるように保持される。環境湿度は１
０％ＲＨ〜９５％ＲＨの範囲に制御することが好まし
い。ここで環境温度、環境湿度とはサンプルが囲まれる
周囲の環境の温度、湿度であってサンプル本体の温度、
湿度ではない。光照射は間欠であっても連続であっても
構わないが、４時間の光照射状態と１時間の暗状態の繰
り返しである間欠照射が好ましい。また光照射強度は積
算光量を合わせれば特に制限はないが、１００Ｌｕｘ〜
２０万Ｌｕｘで照射することが好ましい。光照射環境の
雰囲気に特に制限はないが、空気、窒素、炭酸ガス、不
活性ガス雰囲気など挙げることができる。この中で空気
が好ましい。また、本発明に用いることのできる光源と
はキセノンランプが好ましい。光照射積算量が２０００
万Ｌｕｘ・時間から増減したとき、また、環境温度、環
境湿度が上記範囲からはずれたときでも本発明の効果の
発現を確認することはできるが、上記条件にて光照射を
行った場合に本発明の効果の確認が容易である。

【００４１】本発明においてプラズマディスプレイパネ
ル（ＰＤＰ）とは、ガス、ガラス基板、電極、電極リー
ド材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラ
ス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚であ
る。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後
面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚の
ガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。前
面板とは該プラズマディスプレイパネルの前面に位置す
る基板のことである。前面板はプラズマディスプレイパ
ネルを保護するために充分な強度を備えていることが好
ましい。前面板はプラズマディスプレイパネルと隙間を
置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ
本体に直貼りして使用することもできる。本発明におけ
るプラズマディスプレイ表示装置とは少なくともプラズ
マディスプレイパネル本体と筐体をふくむ表示装置全体
のことである。前面板を有する場合はこれもプラズマデ
ィスプレイ表示装置に含まれる。プラズマディスプレイ
パネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマデ
ィスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３
号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。

【００４２】本発明で使用することのできる透明支持体
を形成する材料の例には、セルロースエステル（例、ジ
アセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡ
Ｃ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、
アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４
−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチ
レン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカル
ボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリス
チレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリ
オレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
メチルペンテン）、アクリル（ポリメチルメタクリレー
ト）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエー
テルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチ
レンを挙げることができ、トリアセチルセルロース、ポ
リカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチ
レンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが
好ましい。透明支持体の透過率は８０％以上であること
が好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
ヘイズは、２％以下であることが好ましく、１％以下で
あることがさらに好ましい。屈折率は、１．４５乃至
１．７０であることが好ましい。

【００４３】本発明における光吸収層を透明基板上に形
成した光学フィルターとは例えば上記透明基板（支持
体）上に光吸収層を形成したものを言う。光吸収層は、
一般的な塗布方法により形成することができる。塗布方
法の例には、ディップコート法、エアーナイフコート
法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバ
ーコート法、グラビアコート法およびホッパーを使用す
るエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９
４号明細書記載）が含まれる。二以上の層を同時塗布に
より形成してもよい。同時塗布法については、米国特許
２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９
４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次
著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店
発行）に記載がある。また塗布方法以外にも、スパッタ
リング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラ
ズマＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法も適宜選択することがで
きる。この中においてワイヤーバーコート法、グラビア
コート法、エクストルージョンコート法を用いることが
好ましい。塗布液は色素を分散または溶解させた水性、
油性または両親媒性液を用いることが好ましい。該塗布
液中にはポリマーバインダーなどの添加剤、硬化剤、界
面活性剤、ｐＨ調整剤などを好ましく含むことができ
る。

【００４４】透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは紫外
線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、
透明支持体の０．０１乃至２０重量％であることが好ま
しく、０．０５乃至１０重量％であることがさらに好ま
しい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を
透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、Ｓ
ｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＢａＳＯ₄ 、ＣａＣＯ₃ 、タルクお
よびカオリンが含まれる。

【００４５】透明支持体には下塗り層との接着性をより
強固にするために表面処理を施すことが好ましい。表面
処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処
理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放
電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、
およびオゾン酸化処理を挙げることができ、グロー放電
処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火炎処理
が好ましく、コロナ放電処理がさらに好ましい。

【００４６】本発明では、透明支持体に下塗り層を設け
ることができる。下塗り層としては柔らかいポリマーが
好ましい。その厚みは２ｎｍ乃至２０μｍ、好ましくは
５ｎｍ乃至５μｍ、さらに好ましくは５０ｎｍ乃至５μ
ｍである。下塗り層に使用されるポリマーはガラス転移
温度が−６０℃以上６０℃以下のものが好ましい。ガラ
ス転移温度が−６０℃以上６０℃以下のポリマーの例と
しては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブ
タジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニト
リルまたはメチルビニルエーテルの重合または共重合さ
せたものを挙げることができる。また下塗りは複数層設
けることができ２層設けることができる。

【００４７】本発明では反射防止層を設けることができ
る。求める反射率としては正反射率として３．０％以
下、好ましくは１．８％以下である。反射防止層として
は通常低屈折率層を設ける。低屈折率層の屈折率は、そ
の下層の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、
１．２０乃至１．５５であることが好ましく、１．２０
乃至１．５０であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、５０乃至４００ｎｍであることが好ましく、
５０乃至２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈
折率層の例としては、屈折率の低い含フッ素ポリマーか
らなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−１３
０１０３号、同６−１１５０２３号、同８−３１３７０
２号、同７−１６８００４号の各公報記載）、ゾルゲル
法により得られる層（特開平５−２０８８１１号、同６
−２９９０９１号、同７−１６８００３号の各公報記
載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５９２５
０号、特開平５−１３０２１号、同６−５６４７８号、
同７−９２３０６号、同９−２８８２０１号の各公報に
記載）を挙げることができる。微粒子を含む層では、微
粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率
層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層は、
３乃至５０体積％の空隙率を有することが好ましく、５
乃至３５体積％の空隙率を有することがさらに好まし
い。

【００４８】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積
層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６
５乃至２．４０であることが好ましく、１．７０乃至
２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈
折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との
中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率
は、１．５０乃至１．９０であることが好ましい。中・
高屈折率層の厚さは、５ｎｍ乃至１００μｍであること
が好ましく、１０ｎｍ乃至１０μｍであることがさらに
好ましく、３０ｎｍ乃至１μｍであることが最も好まし
い。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが
好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％
以下であることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比
較的高い屈折率を有するポリマーを用いて形成すること
ができる。屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレ
ン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式
または芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で
得られるポリウレタンが含まれる。その他の環状（芳香
族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素
以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、
屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能
にしたモノマーの重合反応によりポリマーを形成しても
よい。

【００４９】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、１．８０乃至２．８０であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、
Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、ＰおよびＳが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物（例、キレート化合物）、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。

【００５０】本発明においては電磁波遮蔽効果を有する
層を設けることができる。電磁波遮蔽効果を有する層の
表面抵抗は０．０１乃至５００Ω／□、より好ましくは
０．０１乃至１０Ω／□である。電磁波遮蔽効果を付与
するには、前面板の透過率を低下させないため透明導電
層を用いることが好ましい。透明導電層としては、金属
層、金属酸化物層、導電性ポリマー層等を挙げるこがで
きる。透明導電層を形成する金属としては、例えば銀、
パラジウム、金、白金、ロジウム、アルミニウム、鉄、
コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、錫、タン
グステン、イリジウム、鉛単独もしくはこれらの２種以
上の合金を挙げることができるが、好ましくは銀、パラ
ジウム、金、白金、ロジウム単独もしくはこれらの合金
である。この中で銀とパラジウムの合金が好ましく、こ
のとき銀の含有率は６０重量％乃至９９重量％が好まし
く、８０重量％乃至９８重量％が更に好ましい。金属層
の膜厚は１〜１００ｎｍが好ましく、５〜４０ｎｍが更
に好ましく、１０〜３０ｎｍが最も好ましい。膜厚が１
ｎｍ未満では電磁波遮蔽効果が乏しく、１００ｎｍを超
えると可視光線の透過率が低下する。透明導電層を形成
する金属酸化物としては、例えば酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ、ＡＴＯなどを
挙げることができる。この膜厚は２０〜１０００ｎｍが
好ましい。さらに好ましくは４０〜１００ｎｍである。
これら金属透導電層と酸化物透明導電層を合わせて用い
るのも好ましい。また、同一層内に金属と導電性金属酸
化物が共存することも好ましい。金属層の保護、酸化劣
化防止および可視光線の透過率を高めるために透明酸化
物層を積層することができる。この透明酸化物層は導電
性があってもなくてもかまわない。透明酸化物層として
は例えば２〜４価金属の酸化物、酸化ジルコニウム、酸
化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミ
ニウムおよび金属アルコキサイド化合物等の薄膜が挙げ
られる。透明導電層、透明酸化物層を形成する方法とし
ては特に制限はなく、任意の加工処理方法を選択するこ
とが可能である。例えばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法あるい
はＰＶＤ法、該当する金属あるいは金属酸化物の超微粒
子の塗布、金属シートの接着等いずれの公知技術も用い
ることが可能である。

【００５１】本発明においては赤外遮蔽効果を有する層
を設けることができる。８００ｎｍから１２００ｎｍま
での赤外線が最も問題であり、この領域に対し遮蔽効果
を有することが好ましい。赤外線遮蔽効果を付与するに
は透明プラスチック支持体に近赤外吸収性化合物を混合
する方法を用いることができる。例えば銅原子を含有す
る樹脂組成物（特開平６−１１８２２８号公報）、銅化
合物、リン化合物を含有する樹脂組成物（特開昭６２−
５１９０号公報）、銅化合物、チオ尿素誘導体を含有す
る樹脂組成物（特開平６−７３１９７号公報）、タング
ステン系化合物を含有する樹脂組成物（ＵＳ３６４７７
２９号公報）などを形成することによって容易に製造で
きる。銀を透明上に成膜する方法が電磁遮蔽に加えて赤
外線遮蔽効果を持たせる方法として安価であり好まし
い。

【００５２】本発明には、ハードコート層、潤滑層、防
汚層、帯電防止層あるいは中間層を設けることもでき
る。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むこ
とが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタ
ン系、エポキシ系、シロキサン系のポリマー、オリゴマ
ーまたはモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）を用いて形
成することができる。シリカ系のフィラーをハードコー
ト層に添加することもできる。反射防止膜の最表面には
潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防止膜表面に
滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑
層は、ポリオルガノシロキサン（例、シリコンオイ
ル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属
塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成する
ことができる。潤滑層の厚さは、２乃至２０ｎｍである
ことが好ましい。または反射防止膜の最表面に防汚層を
設けることもできる。防汚層は反射防止層の表面エネル
ギーを下げ、親水性、親油性の汚れを付きにくくするも
のである。そのほか防汚層は含フッ素ポリマーを用いて
形成することができる。防汚層の厚さは２ｎｍ乃至１０
０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ乃至３０ｎｍである。

【００５３】本発明においては、表面をアンチグレア機
能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面
に移るのを防止する機能）を付与することができる。例
えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そし
てその表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防
止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成
することにより、アンチグレア機能を得ることができ
る。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３
乃至３０％のヘイズを有する。

【００５４】本発明における種々の層、すなわち反射防
止層（低屈折率層）、フィルター層、赤外線や電磁波の
遮蔽層、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、防汚層、
その他の層は、一般的な塗布方法により形成することが
できる。塗布方法の例には、ディップコート法、エアー
ナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびホ
ッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特
許２６８１２９４号明細書記載）が含まれる。二以上の
層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法につい
ては、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８
号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細
書および原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１
９７３年朝倉書店発行）に記載がある。また、本発明に
おける層の形成方法として、スパッタリング法、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法ある
いはＰＶＤ法も適宜選択することができる。

【００５５】本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラ
ズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネ
ッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（Ｃ
ＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明の前
面板は特に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）お
よび陰極管表示装置（ＣＲＴ）の前面板として使用する
と、顕著な効果が得られる。

【００５６】

【実施例】実施例１厚さ１７５μｍの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタ
レートフィルムの両面をコロナ処理した後、両面に屈折
率１．５５、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジ
エンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン（株）
製、ＬＸ４０７Ｃ５）を塗布し、下塗り層を形成した。
乾燥後の膜厚さとして、片面には厚さ３００nm、もう片
面には厚さ１５０nmとなるように塗布した。

【００５７】ゼラチンの１０重量％水溶液１８０ｇにｐ
Ｈが７になるように１規定の水酸化ナトリウム溶液を添
加し、色素ｂ７を添加し、３０℃で２４時間攪拌した。
得られたフィルター層用塗布液を透明支持体の厚さ３０
０ｎｍの下塗り層側に、乾燥膜厚が３．５μｍとなるよ
うに塗布し、１２０℃で１０分間乾燥してフィルター層
を形成した。色素ｂ７の量は５９５ｎｍにおける透過率
が０．０１、２．０、２０、６０、９０、９５％になる
ように調整し、試料Ａ−１〜Ａ−６を作成した。

【００５８】実施例２色素ｂ７を色素ｂ９に変更した以外は試料Ａ−１と同様
に、５８５ｎｍでの透過率が２．０、２０％に成るよう
に色素２の量を調整した試料Ｂ−１、Ｂ−２を作成し
た。

【００５９】実施例３色素ｂ７を色素ｂ１１に変更した以外は試料Ａ−１と同
様に、５８０ｎｍでの透過率が２．０、２０％に成るよ
うに色素ｂ１１の量を調整した試料Ｃ−１、Ｃ−２を作
成した。

【００６０】実施例４色素ｂ７を色素ｂ１４に変更した以外は試料Ａ−１と同
様に、５９５ｎｍでの透過率が２．０、２０％に成るよ
うに色素ｂ１４の量を調整した試料Ｄ−１、Ｄ−２を作
成した。

【００６１】比較例色素ｂ７をオクチル酸ネオジム一水和物に変更した以外
は試料Ａ−１と同様にオクチル酸ネオジム一水和物の量
を５８５ｎｍでの透過率が３０％に成るように調整した
比較用の試料Ｅ−１を作成した。

【００６２】評価概念図（図１）に示されるプラズマディスプレイ表示装
置を用いて本発明の評価を行った。実施例１〜４の試料
Ａ−１〜Ａ−６、Ｂ―１、Ｂ―２、Ｃ―１、Ｃ―２、Ｄ
―１、Ｄ―２、比較例の試料Ｅ−１を図１の概念図に示
されるＤ面に貼り付けて官能評価を行った。その後試料
を剥離し、Ｘｅ照射試験機（アトラス社製、ウエザーＯ
メーターＣｉ６５）により１０万Ｌｕｘ２００時間の光
照射を行った。光源と試料の間にパイレックスガラス製
のフィルターとソーダライムガラス製のフィルターを設
置した。この試料を１００００時間使用し蛍光体の劣化
したプラズマディスプレイ表示装置の該念図に示される
Ｄ面に貼り付けて官能評価を行った。実施例の試料も比
較例の試料も貼り付けない状態では１００００時間使用
したプラズマディスプレイ表示装置は白の発光が使用前
に比較して赤っぽい白に変化していた。光照射後の比較
例の試料を貼り付けた１００００時間使用後のプラズマ
ディスプレイの光照射前の比較例の試料を貼り付けた新
しいプラズマディスプレイ表示装置に対する色の差は、
なにも貼り付けないものと同様であり、白色の発光が赤
っぽい白に変化していた。これに対し本発明の試料Ａ−
１〜Ａ−６、Ｂ―１、Ｂー２、Ｃ―１、Ｃ―２、Ｄ―
１、Ｄ―２を用いたものは各光照射後の試料を１０００
０時間使用後のプラズマディスプレイ表示装置に貼り付
けた際の赤っぽさが低減されていた。この中で特にＡ−
２、Ａ−３、Ａ−４、Ｂ―２、Ｃ―２を用いたものの赤
っぽさの低減効果が大きかった。またプラズマディスプ
レイ表示装置に対する試料の貼付け面をＤ面からＥ面、
Ｃ面に変更した場合でも同様の効果が得られた。実施例１透過率（％Ｔ）極小透過波長（ｎｍ）試料色素光照射前光照射後光照射前光照射後 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― Ａ−１１０．０１０．４５９４．５５８５．５Ａ−２１２．０１０５９４．５５８５．５Ａ−３１２０４０５９４．５５８５．４Ａ−４１６０７５５９４．５５８５．４Ａ−５１９０９３５９４．５５８５．２Ａ−６１９５９５５９４．５５８５．０ ──────────────────────────────────── 実施例２透過率（％Ｔ）極小透過波長（ｎｍ）試料色素光照射前光照射後光照射前光照射後 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― Ｂ−１２２．０２．５５７６．０５７５．９Ｂ−２２２０２２５７６．０５７５．９ ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 実施例３透過率（％Ｔ）極小透過波長（ｎｍ）試料色素光照射前光照射後光照射前光照射後 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― Ｃ−１３２．０３．０６００．２６０４．０Ｃ−２３２０２４６００．２６０４．０ ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 実施例４透過率（％Ｔ）極小透過波長（ｎｍ）試料色素光照射前光照射後光照射前光照射後 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― Ｄ−１１２．０１０５９５．２５６５．６Ｄ−２１２０４０５９５．２５６５．６ ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 比較例透過率（％Ｔ）極小透過波長（ｎｍ）試料光照射前光照射後光照射前光照射後 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― Ｅ−１３０３０５７７．０５７７．０ ――――――――――――――――――――――――――――――――――――

【００６３】

【発明の効果】本発明では例えば、プラズマディスプレ
イパネルの蛍光体の劣化に応じて透過率が大きくなり、
さらにカラーバランスを最適に保つ光学フィルタ−が得
られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマディスプレイ表示装置の概念図であ
る。

【符号の説明】

Ａ前面板ＢプラズマディスプレイパネルＣ前面板の観察側の面Ｄ前面板のプラズマディスプレイパネル側の面Ｅプラズマディスプレイの観察側表面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光吸収層を有する光学フィルターにおい
て、少なくとも５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの間に光透過率
の極小を有し、光透過率の極小を示す波長での透過率が
０．０１〜９０％である光学フィルターであり、該フィ
ルターに対し３０℃〜８０℃の環境温度において２００
０万Ｌｕｘ・時間の光照射を行った場合に光透過率の極
小を示す波長での透過率が大きくなり、その透過率が
０．０２〜９５％であることを特徴とする光学フィルタ
ー。
【請求項２】光吸収層を有する光学フィルターにおい
て、少なくとも５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの間に光透過率
の極小を有する光学フィルターであり、該フィルターに
対し１０万Ｌｕｘ２００時間の光照射を行った場合に光
透過率の極小を示す波長が０．１〜３０ｎｍ移動するこ
とを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項３】光吸収層に色素を含有することを特徴と
する請求項１または２に記載の光学フィルター。
【請求項４】光吸収層に含まれる色素が、少なくとも
シアニン系色素を含むことを特徴とする請求項１〜３に
記載の光学フィルター。
【請求項５】光吸収層が透明支持体上に形成されてい
ることを特徴とする請求項１〜４に記載の光学フィルタ
ー。
【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の光学フ
ィルターをその構成部分として含むことを特徴とするプ
ラズマディスプレイ用前面板。
【請求項７】プラズマディスプレイパネルの表面に請
求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルターを有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】請求項６に記載のプラズマディスプレイ
用前面板および／または請求項７に記載のプラズマディ
スプレイパネルを有することを特徴とするプラズマディ
スプレイ表示装置。