JP2001083316A - 光学フィルターおよび反射防止膜 - Google Patents
光学フィルターおよび反射防止膜Info
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- JP2001083316A JP2001083316A JP25564999A JP25564999A JP2001083316A JP 2001083316 A JP2001083316 A JP 2001083316A JP 25564999 A JP25564999 A JP 25564999A JP 25564999 A JP25564999 A JP 25564999A JP 2001083316 A JP2001083316 A JP 2001083316A
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- Japan
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- refractive index
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 適切な色補正機能を有する光学フィルターを
得る。 【解決手段】 透明支持体上に、560乃至620nm
の波長領域に透過率の極小値を有するフィルター層を、
コレステリック液晶性分子から形成する。
得る。 【解決手段】 透明支持体上に、560乃至620nm
の波長領域に透過率の極小値を有するフィルター層を、
コレステリック液晶性分子から形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、透明支持体およびフィ
ルター層(特定の波長の光を選択的に透過させる層)を
有する光学フィルターに関する。また、本発明は、プラ
ズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネ
ッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(C
RT)、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような
蛍光を利用する画像表示装置の表面に、色再現性改良あ
るいは反射防止のため取り付けられる反射防止膜にも関
する。
ルター層(特定の波長の光を選択的に透過させる層)を
有する光学フィルターに関する。また、本発明は、プラ
ズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネ
ッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(C
RT)、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような
蛍光を利用する画像表示装置の表面に、色再現性改良あ
るいは反射防止のため取り付けられる反射防止膜にも関
する。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(PD
P)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表示管、電界放
射型ディスプレイのような画像表示装置は、原則とし
て、赤、青、緑の三原色の蛍光体の発色によりフルカラ
ー画像を表示する。しかし、蛍光体の発光を理想的な三
原色にすることは、非常に難しい(実質的には不可能で
ある)。例えば、プラズマディスプレイパネル(PD
P)では、三原色蛍光体からの発光に、ネオンからの余
分な光(波長が560乃至620nmの範囲)が含まれ
ている。そこで、表示色の色バランスを補正するため、
特定の波長の光を吸収する光学フィルターを用いて、色
補正を行うことが提案されている。光学フィルターによ
る色補正については、特開昭58−153904号、同
60−118748号、同60−18749号、同61
−188501号、特開平3−231988号、同5−
203804号、同5−205643号、同7−307
133号、同9−145918号、同9−306366
号、同10−26704号の各公報に記載がある。
P)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表示管、電界放
射型ディスプレイのような画像表示装置は、原則とし
て、赤、青、緑の三原色の蛍光体の発色によりフルカラ
ー画像を表示する。しかし、蛍光体の発光を理想的な三
原色にすることは、非常に難しい(実質的には不可能で
ある)。例えば、プラズマディスプレイパネル(PD
P)では、三原色蛍光体からの発光に、ネオンからの余
分な光(波長が560乃至620nmの範囲)が含まれ
ている。そこで、表示色の色バランスを補正するため、
特定の波長の光を吸収する光学フィルターを用いて、色
補正を行うことが提案されている。光学フィルターによ
る色補正については、特開昭58−153904号、同
60−118748号、同60−18749号、同61
−188501号、特開平3−231988号、同5−
203804号、同5−205643号、同7−307
133号、同9−145918号、同9−306366
号、同10−26704号の各公報に記載がある。
【0003】画像表示装置には、色補正に加えて、反射
防止の必要もある。すなわち、画像表示装置には、ディ
スプレイ上に背景が映り込む事でコントラストが低下す
る問題がある。この問題を解決するための手段として、
様々な反射防止膜が提案されている。これまでに提案さ
れた反射防止膜の反射防止機能層は、蒸着層と塗布層に
分類できる。光学的機能の観点では蒸着層の方が優れて
いるが、塗布層には製造が容易であるとの利点がある。
蒸着層は、眼鏡やカメラのレンズ用反射防止膜として古
くから用いられている。蒸着層は、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、CVD法あるい
はPVD法により形成する。塗布層は、一般に、微粒子
およびバインダーの塗布により形成する。塗布層につい
ては、特開昭59−49501号、同59−50401
号、同60−59250号、特開平7−48527号の
各公報に記載がある。
防止の必要もある。すなわち、画像表示装置には、ディ
スプレイ上に背景が映り込む事でコントラストが低下す
る問題がある。この問題を解決するための手段として、
様々な反射防止膜が提案されている。これまでに提案さ
れた反射防止膜の反射防止機能層は、蒸着層と塗布層に
分類できる。光学的機能の観点では蒸着層の方が優れて
いるが、塗布層には製造が容易であるとの利点がある。
蒸着層は、眼鏡やカメラのレンズ用反射防止膜として古
くから用いられている。蒸着層は、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、CVD法あるい
はPVD法により形成する。塗布層は、一般に、微粒子
およびバインダーの塗布により形成する。塗布層につい
ては、特開昭59−49501号、同59−50401
号、同60−59250号、特開平7−48527号の
各公報に記載がある。
【0004】前記の光学フィルターに、反射防止機能を
組み込むことも考えられる。前記の特開昭61−188
501号、特開平5−205643号、同9−1459
18号、同9−306366号、同10−26704号
の各公報は、反射防止機能が組み込まれた光学フィルタ
ーを開示している。特開昭61−188501号、特開
平5−205643号、同9−145918号、同9−
306366号の各公報に記載の光学フィルターでは、
透明支持体に染料または顔料を添加して、支持体をフィ
ルターとして機能させている。特開平10−26704
号公報記載の光学フィルターでは、透明支持体と反射防
止層との間に設けられるハードコート層(表面硬化層)
を着色し、ハードコート層をフィルターとして機能させ
ている。
組み込むことも考えられる。前記の特開昭61−188
501号、特開平5−205643号、同9−1459
18号、同9−306366号、同10−26704号
の各公報は、反射防止機能が組み込まれた光学フィルタ
ーを開示している。特開昭61−188501号、特開
平5−205643号、同9−145918号、同9−
306366号の各公報に記載の光学フィルターでは、
透明支持体に染料または顔料を添加して、支持体をフィ
ルターとして機能させている。特開平10−26704
号公報記載の光学フィルターでは、透明支持体と反射防
止層との間に設けられるハードコート層(表面硬化層)
を着色し、ハードコート層をフィルターとして機能させ
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】透明支持体あるいはハ
ードコート層を着色すれば、透明支持体またはハードコ
ート層がフィルターとして機能する。しかし、透明支持
体やハードコート層に添加できる染料は、種類が非常に
限られる。透明支持体は、プラスチックまたはガラス
(通常はプラスチック)から製造する。透明支持体に添
加する染料または顔料には、支持体の製造時の温度に耐
えられる程度の非常に高い耐熱性が要求される。ハード
コート層は、一般に架橋しているポリマーを含む層であ
る。ポリマーの架橋反応は、層の塗布後に実施する。架
橋のための反応条件では、褪色してしまう染料または顔
料が多い。透明支持体やハードコート層とは異なる層
(フィルター層)を設けて、そこに染料または顔料を添
加することも考えられる。しかし、フィルター層には、
染料または顔料に対する保護機能がないため、染料また
は顔料の安定性(特に耐光性)に問題が生じる。安定な
染料または顔料のみで、画像表示装置に対応する適切な
色補正を行うことは難しい。本発明の目的は、適切な色
補正機能を有する光学フィルターを提供することであ
る。また、本発明の目的は、適切な色補正機能に加え
て、反射防止機能を有する反射防止膜を提供することで
もある。
ードコート層を着色すれば、透明支持体またはハードコ
ート層がフィルターとして機能する。しかし、透明支持
体やハードコート層に添加できる染料は、種類が非常に
限られる。透明支持体は、プラスチックまたはガラス
(通常はプラスチック)から製造する。透明支持体に添
加する染料または顔料には、支持体の製造時の温度に耐
えられる程度の非常に高い耐熱性が要求される。ハード
コート層は、一般に架橋しているポリマーを含む層であ
る。ポリマーの架橋反応は、層の塗布後に実施する。架
橋のための反応条件では、褪色してしまう染料または顔
料が多い。透明支持体やハードコート層とは異なる層
(フィルター層)を設けて、そこに染料または顔料を添
加することも考えられる。しかし、フィルター層には、
染料または顔料に対する保護機能がないため、染料また
は顔料の安定性(特に耐光性)に問題が生じる。安定な
染料または顔料のみで、画像表示装置に対応する適切な
色補正を行うことは難しい。本発明の目的は、適切な色
補正機能を有する光学フィルターを提供することであ
る。また、本発明の目的は、適切な色補正機能に加え
て、反射防止機能を有する反射防止膜を提供することで
もある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(5)の光学フィルターおよび下記(6)の反
射防止膜により達成された。 (1)透明支持体上にコレステリック液晶性分子から形
成したフィルター層を有し、フィルター層が560乃至
620nmの波長領域に透過率の極小値を有することを
特徴とする光学フィルター。 (2)フィルター層の透過率の極小値の半値幅が、15
乃至200nmである(1)に記載の光学フィルター。 (3)フィルター層の透過率の極小値が、0.01乃至
50%である(1)に記載の光学フィルター。 (4)さらに、染料およびポリマーバインダーを含む第
2フィルター層を有し、第2フィルター層が500乃至
550nmの波長領域に吸収極大を有する(1)に記載
の光学フィルター。 (5)プラズマディスプレイパネル用である(1)に記
載の光学フィルター。 (6)コレステリック液晶性分子から形成したフィルタ
ー層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よりも低
い屈折率を有する低屈折率層を有し、フィルター層が5
60乃至620nmの波長領域に透過率の極小値を有す
ることを特徴とする反射防止膜。
(1)〜(5)の光学フィルターおよび下記(6)の反
射防止膜により達成された。 (1)透明支持体上にコレステリック液晶性分子から形
成したフィルター層を有し、フィルター層が560乃至
620nmの波長領域に透過率の極小値を有することを
特徴とする光学フィルター。 (2)フィルター層の透過率の極小値の半値幅が、15
乃至200nmである(1)に記載の光学フィルター。 (3)フィルター層の透過率の極小値が、0.01乃至
50%である(1)に記載の光学フィルター。 (4)さらに、染料およびポリマーバインダーを含む第
2フィルター層を有し、第2フィルター層が500乃至
550nmの波長領域に吸収極大を有する(1)に記載
の光学フィルター。 (5)プラズマディスプレイパネル用である(1)に記
載の光学フィルター。 (6)コレステリック液晶性分子から形成したフィルタ
ー層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よりも低
い屈折率を有する低屈折率層を有し、フィルター層が5
60乃至620nmの波長領域に透過率の極小値を有す
ることを特徴とする反射防止膜。
【0007】
【発明の効果】本発明者の研究の結果、コレステリック
液晶相の選択散乱現象を応用することにより、500乃
至550nmの波長領域に適正な透過率極小値を有する
フィルター層が得られることが判明した。また、コレス
テリック液晶性分子から形成したフィルター層は、染料
または顔料を用いたフィルター層と比較して、熱や光に
対する耐久性が優れている。さらに、コレステリック液
晶性分子の種類や配向状態を調整することにより、画像
表示装置の種類に応じた適正な透過スペクトルを実現で
きる。以上の結果、本発明の光学フィルターや反射防止
膜は、画像表示装置の種類に応じた適切な色補正機能を
有する。
液晶相の選択散乱現象を応用することにより、500乃
至550nmの波長領域に適正な透過率極小値を有する
フィルター層が得られることが判明した。また、コレス
テリック液晶性分子から形成したフィルター層は、染料
または顔料を用いたフィルター層と比較して、熱や光に
対する耐久性が優れている。さらに、コレステリック液
晶性分子の種類や配向状態を調整することにより、画像
表示装置の種類に応じた適正な透過スペクトルを実現で
きる。以上の結果、本発明の光学フィルターや反射防止
膜は、画像表示装置の種類に応じた適切な色補正機能を
有する。
【0008】
【発明の実施の形態】反射防止膜(反射防止層を設けた
光学フィルター)の代表的な層構成を、図面を参照しな
がら説明する。図1は、フィルター層を反射防止層とは
透明支持体の反対の側に設けた反射防止膜の層構成を示
す断面模式図である。図1の(a)に示す態様は、フィ
ルター層(2)、透明支持体(1)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率
層(3)は、以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率 図1の(b)に示す態様は、フィルター層(2)、透明
支持体(1)、ハードコート層(4)、低屈折率層
(3)の順序の層構成を有する。図1の(c)に示す態
様は、フィルター層(2)、透明支持体(1)、ハード
コート層(4)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率
層(3)および高屈折率層(5)は、以下の関係を満足
する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<高屈折率層
の屈折率 図1の(d)に示す態様は、フィルター層(2)、透明
支持体(1)、ハードコート層(4)、中屈折率層
(6)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)の順序の
層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率層
(3)、高屈折率層(5)および中屈折率層(6)は、
以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<中屈折率層
の屈折率<高屈折率層の屈折率
光学フィルター)の代表的な層構成を、図面を参照しな
がら説明する。図1は、フィルター層を反射防止層とは
透明支持体の反対の側に設けた反射防止膜の層構成を示
す断面模式図である。図1の(a)に示す態様は、フィ
ルター層(2)、透明支持体(1)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率
層(3)は、以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率 図1の(b)に示す態様は、フィルター層(2)、透明
支持体(1)、ハードコート層(4)、低屈折率層
(3)の順序の層構成を有する。図1の(c)に示す態
様は、フィルター層(2)、透明支持体(1)、ハード
コート層(4)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率
層(3)および高屈折率層(5)は、以下の関係を満足
する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<高屈折率層
の屈折率 図1の(d)に示す態様は、フィルター層(2)、透明
支持体(1)、ハードコート層(4)、中屈折率層
(6)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)の順序の
層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率層
(3)、高屈折率層(5)および中屈折率層(6)は、
以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<中屈折率層
の屈折率<高屈折率層の屈折率
【0009】図2は、フィルター層と反射防止層とを透
明支持体の同じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断
面模式図である。図2の(a)に示す態様は、透明支持
体(1)、フィルター層(2)、低屈折率層(3)の順
序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率層
(3)の屈折率の関係は、図1の(a)と同様である。
図2の(b)に示す態様は、透明支持体(1)、フィル
ター層(2)、ハードコート層(4)、低屈折率層
(3)の順序の層構成を有する。図2の(c)に示す態
様は、透明支持体(1)、フィルター層(2)、ハード
コート層(4)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率
層(3)および高屈折率層(5)の屈折率の関係は、図
1の(c)と同様である。図2の(d)に示す態様は、
透明支持体(1)、フィルター層(2)、ハードコート
層(4)、中屈折率層(6)、高屈折率層(5)、低屈
折率層(3)の順序の層構成を有する。透明支持体
(1)、低屈折率層(3)、高屈折率層(5)および中
屈折率層(6)の屈折率の関係は、図1の(d)と同様
である。
明支持体の同じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断
面模式図である。図2の(a)に示す態様は、透明支持
体(1)、フィルター層(2)、低屈折率層(3)の順
序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率層
(3)の屈折率の関係は、図1の(a)と同様である。
図2の(b)に示す態様は、透明支持体(1)、フィル
ター層(2)、ハードコート層(4)、低屈折率層
(3)の順序の層構成を有する。図2の(c)に示す態
様は、透明支持体(1)、フィルター層(2)、ハード
コート層(4)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率
層(3)および高屈折率層(5)の屈折率の関係は、図
1の(c)と同様である。図2の(d)に示す態様は、
透明支持体(1)、フィルター層(2)、ハードコート
層(4)、中屈折率層(6)、高屈折率層(5)、低屈
折率層(3)の順序の層構成を有する。透明支持体
(1)、低屈折率層(3)、高屈折率層(5)および中
屈折率層(6)の屈折率の関係は、図1の(d)と同様
である。
【0010】(フィルター層)フィルター層は、560
乃至620nmの波長領域(緑と赤の間)に透過率の極
小値を有することが好ましい。。560乃至620nm
の波長領域では、蛍光体の緑の発光強度を低下させない
ように、不要な光のみを選択的にカットするために、透
過率曲線(波長を横軸、透過率を縦軸とするグラフ)の
極小透過率(グラフの谷)は、シャープであることが好
ましい。具体的には、透過率の極小値の半値幅(透過率
が極小値を示す波長での、極小値の二倍の透過率を示す
波長領域の幅)は、15乃至200nmであることが好
ましく、20乃至100nmであることがより好まし
く、22乃至80nmであることが最も好ましい。透過
率の極小値は0.01乃至50%であることが好まし
く、1乃至50%であることがさらに好ましい。
乃至620nmの波長領域(緑と赤の間)に透過率の極
小値を有することが好ましい。。560乃至620nm
の波長領域では、蛍光体の緑の発光強度を低下させない
ように、不要な光のみを選択的にカットするために、透
過率曲線(波長を横軸、透過率を縦軸とするグラフ)の
極小透過率(グラフの谷)は、シャープであることが好
ましい。具体的には、透過率の極小値の半値幅(透過率
が極小値を示す波長での、極小値の二倍の透過率を示す
波長領域の幅)は、15乃至200nmであることが好
ましく、20乃至100nmであることがより好まし
く、22乃至80nmであることが最も好ましい。透過
率の極小値は0.01乃至50%であることが好まし
く、1乃至50%であることがさらに好ましい。
【0011】本発明では、コレステリック液晶性分子を
用いて、以上の光学的性質を有するフィルター層を形成
できる。コレステリック液晶相の光軸に対して平行な光
線が入射すると、λ=np(n:光軸に垂直な面内の平
均屈折率、p=螺旋のピッチ)で表される波長を中心に
Δλ=Δnpの波長の光を、コレステリック液晶相が選
択的に散乱させる。従って、コレステリック液晶相の透
過光には、この波長領域の光が含まれない。従って、コ
レステリック液晶性分子を用いて形成したフィルター層
は、光を選択吸収する染料または顔料を含むフィルター
層と同じ光学的機能を示す。コレステリック液晶相のピ
ッチは、カットする(透過率を低下させる)波長に応じ
て制御することができる。コレステリック液晶相のピッ
チは、液晶自身の性質(混合物の場合は、さらに混合割
合)、コレステリック液晶相の相転移温度および印可す
る電場により調節できる。ライオトロピック液晶をコレ
ステリック液晶性分子として用いる場合は、溶液の濃度
や溶剤の種類によっても、ピッチを制御することができ
る。
用いて、以上の光学的性質を有するフィルター層を形成
できる。コレステリック液晶相の光軸に対して平行な光
線が入射すると、λ=np(n:光軸に垂直な面内の平
均屈折率、p=螺旋のピッチ)で表される波長を中心に
Δλ=Δnpの波長の光を、コレステリック液晶相が選
択的に散乱させる。従って、コレステリック液晶相の透
過光には、この波長領域の光が含まれない。従って、コ
レステリック液晶性分子を用いて形成したフィルター層
は、光を選択吸収する染料または顔料を含むフィルター
層と同じ光学的機能を示す。コレステリック液晶相のピ
ッチは、カットする(透過率を低下させる)波長に応じ
て制御することができる。コレステリック液晶相のピッ
チは、液晶自身の性質(混合物の場合は、さらに混合割
合)、コレステリック液晶相の相転移温度および印可す
る電場により調節できる。ライオトロピック液晶をコレ
ステリック液晶性分子として用いる場合は、溶液の濃度
や溶剤の種類によっても、ピッチを制御することができ
る。
【0012】本発明では、公知(例えば、中田一郎、堀
文一、向尾昭夫著「液晶入門」に記載)のコレステリッ
ク液晶性分子を用いることができる。コレステリック液
晶性分子は、サーモトロピック液晶とライオトロピック
液晶とに分類できる。サーモトロピック液晶としては、
コレステロール誘導体(例、安息香酸コレステロール、
酢酸コレステロール、パルミチン酸コレステロール、ノ
ナン酸コレステロール、炭酸オレイルコレステロール、
炭酸ノニルフェニルコレステロール、臭化コレステロー
ル)が代表的である。スペーサーを有する自由度の高い
ポリマーからなるサーモトロピック液晶(Kelker
外、Handbook ofLiquid Cryst
als記載)も、コレステリック液晶性分子として用い
ることができる。サーモトロピック液晶は、透明支持体
上に塗布し、加熱した後、ゆっくり冷却してコレステリ
ック液晶相をとらせた後、室温に戻して液晶相を固定化
することで、フィルター層を形成できる。耐久性が必要
な場合には、重合性基を有するサーモトロピック液晶を
用い、コレステリック液晶相をとらせた後、UV照射あ
るいは加熱により重合させて配向状態を固定することが
好ましい。
文一、向尾昭夫著「液晶入門」に記載)のコレステリッ
ク液晶性分子を用いることができる。コレステリック液
晶性分子は、サーモトロピック液晶とライオトロピック
液晶とに分類できる。サーモトロピック液晶としては、
コレステロール誘導体(例、安息香酸コレステロール、
酢酸コレステロール、パルミチン酸コレステロール、ノ
ナン酸コレステロール、炭酸オレイルコレステロール、
炭酸ノニルフェニルコレステロール、臭化コレステロー
ル)が代表的である。スペーサーを有する自由度の高い
ポリマーからなるサーモトロピック液晶(Kelker
外、Handbook ofLiquid Cryst
als記載)も、コレステリック液晶性分子として用い
ることができる。サーモトロピック液晶は、透明支持体
上に塗布し、加熱した後、ゆっくり冷却してコレステリ
ック液晶相をとらせた後、室温に戻して液晶相を固定化
することで、フィルター層を形成できる。耐久性が必要
な場合には、重合性基を有するサーモトロピック液晶を
用い、コレステリック液晶相をとらせた後、UV照射あ
るいは加熱により重合させて配向状態を固定することが
好ましい。
【0013】ライオトロピック液晶としては、セルロー
ス誘導体(例、ヒドロキシプロピルセルロース)や合成
ポリペプチド(例、ポリγ−ブチル−L−グルタメー
ト)が代表的である。共重合体からなるライオトロピッ
ク液晶(H.Finkelmann外、Angew.Ch
em.Int.Ed.17.(1978)、No.12、p
p935記載)も、コレステリック液晶性分子として用
いることができる。ライオトロピック液晶は、重合性モ
ノマーに溶解してコレステリック相を形成させた後、透
明支持体上に塗布し、UV照射あるいは加熱により重合
させて、配向状態を固定すること(筒井哲夫「機能性材
料」1982年10月号25頁に記載の方法)が好まし
い。なお、コレステリック液晶性分子は、フィルター層
を形成後、コレステリック液晶と同様の光学的性質を示
せば、液晶とは異なる状態(例えば、固体状態)となっ
ていてもよい。フィルター層の厚さは、0.1μm乃至
1mmであることが好ましく、0.5μm乃至100μ
mであることがさらに好ましい。フィルター層は、56
0乃至620nmの波長領域(緑と赤の間)の透過率極
小値に加えて、500乃至550nmの波長領域(緑)
にも、透過率極小値を有していてもよい。ただし、50
0乃至550nmの波長領域の透過率極小値は、第2フ
ィルター層(下記)により得ることが好ましい。
ス誘導体(例、ヒドロキシプロピルセルロース)や合成
ポリペプチド(例、ポリγ−ブチル−L−グルタメー
ト)が代表的である。共重合体からなるライオトロピッ
ク液晶(H.Finkelmann外、Angew.Ch
em.Int.Ed.17.(1978)、No.12、p
p935記載)も、コレステリック液晶性分子として用
いることができる。ライオトロピック液晶は、重合性モ
ノマーに溶解してコレステリック相を形成させた後、透
明支持体上に塗布し、UV照射あるいは加熱により重合
させて、配向状態を固定すること(筒井哲夫「機能性材
料」1982年10月号25頁に記載の方法)が好まし
い。なお、コレステリック液晶性分子は、フィルター層
を形成後、コレステリック液晶と同様の光学的性質を示
せば、液晶とは異なる状態(例えば、固体状態)となっ
ていてもよい。フィルター層の厚さは、0.1μm乃至
1mmであることが好ましく、0.5μm乃至100μ
mであることがさらに好ましい。フィルター層は、56
0乃至620nmの波長領域(緑と赤の間)の透過率極
小値に加えて、500乃至550nmの波長領域(緑)
にも、透過率極小値を有していてもよい。ただし、50
0乃至550nmの波長領域の透過率極小値は、第2フ
ィルター層(下記)により得ることが好ましい。
【0014】(相補的フィルター層)相補的フィルター
層は、フィルター層と同様に、コレステリック液晶性分
子から形成する。相補的フィルター層をコレステリック
液晶性分子から形成する場合、相補的フィルター層のコ
レステリック液晶性分子は、フィルター層のコレステリ
ック液晶性分子と同じ大きさの螺旋ピッチを有し、ピッ
チが逆回りであることが好ましい。このような相補的フ
ィルター層を設けることで、極小透過率を大幅に低下さ
せることができる。相補的フィルター層は、フィルター
層と同様に形成できる。
層は、フィルター層と同様に、コレステリック液晶性分
子から形成する。相補的フィルター層をコレステリック
液晶性分子から形成する場合、相補的フィルター層のコ
レステリック液晶性分子は、フィルター層のコレステリ
ック液晶性分子と同じ大きさの螺旋ピッチを有し、ピッ
チが逆回りであることが好ましい。このような相補的フ
ィルター層を設けることで、極小透過率を大幅に低下さ
せることができる。相補的フィルター層は、フィルター
層と同様に形成できる。
【0015】(第2フィルター層)第2フィルター層
は、500乃至550nmの波長領域(緑)に、透過率
極小値を有する層として形成することもできる。透過率
極小値は、20乃至85%であることが好ましく、50
乃至80%であることがさらに好ましい。500乃至5
50nmの波長領域の透過率極小値は、視感度の高い緑
色蛍光体の発色強度を調節する機能を有する。緑色蛍光
体の発光域は、なだらかにカットすることが好ましい。
具体的に500乃至550nmの波長領域の透過率極小
値の半幅値は、30乃至300nmであることが好まし
く、40乃至300nmであることがより好ましく、5
0乃至150nmであることがさらに好ましく、60乃
至150nmであることが最も好ましい。500乃至5
50nmの波長領域における透過率極小値の半値幅は、
560乃至620nmの波長領域における透過率極小値
の半値幅よりも広いことが好ましい。また、500乃至
550nmの波長領域の透過率極小値は、560乃至6
20nmの波長領域の透過率極小値よりも小さいことが
好ましい。
は、500乃至550nmの波長領域(緑)に、透過率
極小値を有する層として形成することもできる。透過率
極小値は、20乃至85%であることが好ましく、50
乃至80%であることがさらに好ましい。500乃至5
50nmの波長領域の透過率極小値は、視感度の高い緑
色蛍光体の発色強度を調節する機能を有する。緑色蛍光
体の発光域は、なだらかにカットすることが好ましい。
具体的に500乃至550nmの波長領域の透過率極小
値の半幅値は、30乃至300nmであることが好まし
く、40乃至300nmであることがより好ましく、5
0乃至150nmであることがさらに好ましく、60乃
至150nmであることが最も好ましい。500乃至5
50nmの波長領域における透過率極小値の半値幅は、
560乃至620nmの波長領域における透過率極小値
の半値幅よりも広いことが好ましい。また、500乃至
550nmの波長領域の透過率極小値は、560乃至6
20nmの波長領域の透過率極小値よりも小さいことが
好ましい。
【0016】第2フィルター層は、500乃至550n
mの波長領域に吸収極大を有する染料とポリマーバイン
ダーとを用いて形成することができる。染料としては、
オキソノール染料、アゾ染料、アゾメチン染料、アント
ラキノン染料、シアニン染料、メロシアニン染料、ベン
ジリデン染料あるいはキサンテン染料を用いることがで
きる。以上述べた波長領域(500〜550nmおよび
560〜620nm)とは異なる波長領域に吸収極大を
有する染料を併用してもよい。そのような染料として
は、近赤外吸収染料を用いることができる。近赤外吸収
染料としては、シアニン染料、金属キレート染料、アミ
ニウム染料、ジイモニウム染料、キノン染料、スクアリ
リウム染料や各種メチン染料を用いることができる。ま
た、他の可視光吸収染料としては、トリフェニルメタン
染料およびフルオレセイン系染料(例、フルオレセイ
ン、ジブロモフルオレセイン、エオシン、ローダミン)
を用いることができる。第2フィルター層のポリマーバ
インダーとしては、天然ポリマー(例、ゼラチン、セル
ロース誘導体、アルギン酸)または合成ポリマー(例、
ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化
ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド)を用いるこ
とができる。親水性ポリマー(上記天然ポリマー、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニル
アルコール、水溶性ポリアミド)が好ましく、ゼラチン
が特に好ましい。
mの波長領域に吸収極大を有する染料とポリマーバイン
ダーとを用いて形成することができる。染料としては、
オキソノール染料、アゾ染料、アゾメチン染料、アント
ラキノン染料、シアニン染料、メロシアニン染料、ベン
ジリデン染料あるいはキサンテン染料を用いることがで
きる。以上述べた波長領域(500〜550nmおよび
560〜620nm)とは異なる波長領域に吸収極大を
有する染料を併用してもよい。そのような染料として
は、近赤外吸収染料を用いることができる。近赤外吸収
染料としては、シアニン染料、金属キレート染料、アミ
ニウム染料、ジイモニウム染料、キノン染料、スクアリ
リウム染料や各種メチン染料を用いることができる。ま
た、他の可視光吸収染料としては、トリフェニルメタン
染料およびフルオレセイン系染料(例、フルオレセイ
ン、ジブロモフルオレセイン、エオシン、ローダミン)
を用いることができる。第2フィルター層のポリマーバ
インダーとしては、天然ポリマー(例、ゼラチン、セル
ロース誘導体、アルギン酸)または合成ポリマー(例、
ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化
ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド)を用いるこ
とができる。親水性ポリマー(上記天然ポリマー、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニル
アルコール、水溶性ポリアミド)が好ましく、ゼラチン
が特に好ましい。
【0017】第2フイルター層に、褪色防止剤や紫外線
吸収剤を添加してもよい。染料の安定化剤として機能す
る褪色防止剤の例には、ハイドロキノン誘導体、ハイド
ロキノンジエーテル誘導体、フェノール誘導体、スピロ
インダンまたはメチレンジオキシベンゼンの誘導体、ク
ロマン、スピロクロマンまたはクマランの誘導体、ハイ
ドロキノンモノエーテルまたはパラアミノフェノールの
誘導体およびビスフェノール誘導体が含まれる。光ある
いは熱に対する染料の安定性を向上させるため、金属錯
体を褪色防止剤として用いてもよい。さらに染料の耐光
性を改良するために、一重項酸素クエンチャーを褪色防
止剤として用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例
には、ニトロソ化合物、ジインモニウム化合物、ニッケ
ル錯体および酸化防止剤が含まれる。第2フイルター層
の厚さは、0.1μm乃至5cmであることが好まし
い。
吸収剤を添加してもよい。染料の安定化剤として機能す
る褪色防止剤の例には、ハイドロキノン誘導体、ハイド
ロキノンジエーテル誘導体、フェノール誘導体、スピロ
インダンまたはメチレンジオキシベンゼンの誘導体、ク
ロマン、スピロクロマンまたはクマランの誘導体、ハイ
ドロキノンモノエーテルまたはパラアミノフェノールの
誘導体およびビスフェノール誘導体が含まれる。光ある
いは熱に対する染料の安定性を向上させるため、金属錯
体を褪色防止剤として用いてもよい。さらに染料の耐光
性を改良するために、一重項酸素クエンチャーを褪色防
止剤として用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例
には、ニトロソ化合物、ジインモニウム化合物、ニッケ
ル錯体および酸化防止剤が含まれる。第2フイルター層
の厚さは、0.1μm乃至5cmであることが好まし
い。
【0018】(透明支持体)透明支持体を形成する材料
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタ
クチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリエーテルス
ルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミドおよ
びポリオキシエチレンが含まれる。トリアセチルセルロ
ース、ポリカーボネートおよびポリエチレンテレフタレ
ートが好ましい。透明支持体の厚さは、5μm乃至5c
mであることが好ましく、25μm乃至1cmであるこ
とがさらに好ましく、80μm乃至1.2mmであるこ
とが最も好ましい。
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタ
クチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリエーテルス
ルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミドおよ
びポリオキシエチレンが含まれる。トリアセチルセルロ
ース、ポリカーボネートおよびポリエチレンテレフタレ
ートが好ましい。透明支持体の厚さは、5μm乃至5c
mであることが好ましく、25μm乃至1cmであるこ
とがさらに好ましく、80μm乃至1.2mmであるこ
とが最も好ましい。
【0019】透明支持体の透過率は80%以上であるこ
とが好ましく、86%以上であることがさらに好まし
い。ヘイズは、2%以下であることが好ましく、1%以
下であることがさらに好ましい。屈折率は、1.45乃
至1.70であることが好ましい。透明支持体に、赤外
線吸収剤または紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線
吸収剤または紫外線吸収剤の添加量は、透明支持体の
0.01乃至20重量%であることが好ましく、0.0
5乃至10重量%であることがさらに好ましい。さらに
滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に
添加してもよい。無機化合物の例には、SiO2 、Ti
O2 、BaSO4 、CaCO3 、タルクおよびカオリン
が含まれる。透明支持体に、表面処理を実施してもよ
い。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ
放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グ
ロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸
処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処
理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が
好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好まし
い。さらに、上層との接着強化のための下塗り層を設置
してもよい。
とが好ましく、86%以上であることがさらに好まし
い。ヘイズは、2%以下であることが好ましく、1%以
下であることがさらに好ましい。屈折率は、1.45乃
至1.70であることが好ましい。透明支持体に、赤外
線吸収剤または紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線
吸収剤または紫外線吸収剤の添加量は、透明支持体の
0.01乃至20重量%であることが好ましく、0.0
5乃至10重量%であることがさらに好ましい。さらに
滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に
添加してもよい。無機化合物の例には、SiO2 、Ti
O2 、BaSO4 、CaCO3 、タルクおよびカオリン
が含まれる。透明支持体に、表面処理を実施してもよ
い。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ
放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グ
ロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸
処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処
理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が
好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好まし
い。さらに、上層との接着強化のための下塗り層を設置
してもよい。
【0020】(下塗り層)透明支持体とフィルター層や
反射防止層との間に、下塗り層を設けることが好まし
い。下塗り層は、ガラス転移温度が−60℃乃至60℃
のポリマーを含む層、表面が粗面である層またはフィル
ター層あるいは反射防止層のポリマーと親和性を有する
ポリマーを含む層として形成する。下塗り層の厚みは、
2nm乃至20μmが好ましく、5nm乃至5μmがさ
らに好ましく、50nm乃至5μmが最も好ましい。
反射防止層との間に、下塗り層を設けることが好まし
い。下塗り層は、ガラス転移温度が−60℃乃至60℃
のポリマーを含む層、表面が粗面である層またはフィル
ター層あるいは反射防止層のポリマーと親和性を有する
ポリマーを含む層として形成する。下塗り層の厚みは、
2nm乃至20μmが好ましく、5nm乃至5μmがさ
らに好ましく、50nm乃至5μmが最も好ましい。
【0021】ガラス転移温度が−60℃乃至60℃のポ
リマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支
持体とフィルター層あるいは反射防止層とを接着する。
ガラス転移温度が25℃以下のポリマーは、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプ
レン(登録商標)、スチレン、クロロプレン、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル
またはメチルビニルエーテルの重合または共重合により
得ることができる。ガラス転移温度は、20℃以下であ
ることが好ましく、15℃以下であることがより好まし
く、10℃以下であることがさらに好ましく、5℃以下
であることがさらにまた好ましく、0℃以下であること
が最も好ましい。表面が粗面である下塗り層は、粗面の
上にフィルター層あるいは反射防止層を形成すること
で、透明支持体とフィルター層あるいは反射防止層とを
接着する。表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテ
ックスの塗布により容易に形成することができる。ラテ
ックスの平均粒径は、0.02乃至3μmであることが
好ましく、0.05乃至1μmであることがさらに好ま
しい。フィルター層あるいは反射防止層のバインダーポ
リマーと親和性を有するポリマーの例には、アクリル樹
脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷ
ん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイロンおよび高分
子ラテックスが含まれる。二以上の下塗り層を設けても
よい。下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マ
ット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を
添加してもよい。
リマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支
持体とフィルター層あるいは反射防止層とを接着する。
ガラス転移温度が25℃以下のポリマーは、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプ
レン(登録商標)、スチレン、クロロプレン、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル
またはメチルビニルエーテルの重合または共重合により
得ることができる。ガラス転移温度は、20℃以下であ
ることが好ましく、15℃以下であることがより好まし
く、10℃以下であることがさらに好ましく、5℃以下
であることがさらにまた好ましく、0℃以下であること
が最も好ましい。表面が粗面である下塗り層は、粗面の
上にフィルター層あるいは反射防止層を形成すること
で、透明支持体とフィルター層あるいは反射防止層とを
接着する。表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテ
ックスの塗布により容易に形成することができる。ラテ
ックスの平均粒径は、0.02乃至3μmであることが
好ましく、0.05乃至1μmであることがさらに好ま
しい。フィルター層あるいは反射防止層のバインダーポ
リマーと親和性を有するポリマーの例には、アクリル樹
脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷ
ん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイロンおよび高分
子ラテックスが含まれる。二以上の下塗り層を設けても
よい。下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マ
ット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を
添加してもよい。
【0022】(反射防止層)反射防止層の反射防止機能
としては、正反射率が3%以下であることが好ましく、
1.8%以下であることがさらに好ましい。反射防止層
を設ける場合は、低屈折率層が必須である。低屈折率層
の屈折率は、透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率
層の屈折率は、1.20乃至1.55であることが好ま
しく、1.30乃至1.55であることがさらに好まし
い。低屈折率層の厚さは、50乃至400nmであるこ
とが好ましく、50乃至200nmであることがさらに
好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマ
ーからなる層(特開昭57−34526号、特開平3−
130103号、同6−115023号、同8−313
702号、同7−168004号の各公報記載)、ゾル
ゲル法により得られる層(特開平5−208811号、
同6−299091号、同7−168003号の各公報
記載)、あるいは微粒子含む層(特公昭60−5925
0号、特開平5−13021号、同6−56478号、
同7−92306号、同9−288201号の各公報に
記載)として形成することができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、3乃至50体積%の空隙率を有することが好まし
く、5乃至35体積%の空隙率を有することがさらに好
ましい。
としては、正反射率が3%以下であることが好ましく、
1.8%以下であることがさらに好ましい。反射防止層
を設ける場合は、低屈折率層が必須である。低屈折率層
の屈折率は、透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率
層の屈折率は、1.20乃至1.55であることが好ま
しく、1.30乃至1.55であることがさらに好まし
い。低屈折率層の厚さは、50乃至400nmであるこ
とが好ましく、50乃至200nmであることがさらに
好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマ
ーからなる層(特開昭57−34526号、特開平3−
130103号、同6−115023号、同8−313
702号、同7−168004号の各公報記載)、ゾル
ゲル法により得られる層(特開平5−208811号、
同6−299091号、同7−168003号の各公報
記載)、あるいは微粒子含む層(特公昭60−5925
0号、特開平5−13021号、同6−56478号、
同7−92306号、同9−288201号の各公報に
記載)として形成することができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、3乃至50体積%の空隙率を有することが好まし
く、5乃至35体積%の空隙率を有することがさらに好
ましい。
【0023】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.50乃至1.9 0であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル重合を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.50乃至1.9 0であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル重合を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。
【0024】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80乃至2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80乃至2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。
【0025】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能)を付与することができる。例え
ば、透明フイルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3乃至
30%のヘイズを有する。
(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能)を付与することができる。例え
ば、透明フイルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3乃至
30%のヘイズを有する。
【0026】(電磁波遮蔽層)電磁波遮蔽効果を有する
層の表面抵抗は、0.1乃至500Ω/m2 であること
が好ましく、0.1乃至10Ω/m2 であることがさら
に好ましい。反射防止膜に設ける層であるため、電磁波
遮蔽層は、透明であることが好ましい。一般に透明導電
性層として知られている層を、電磁波遮蔽層として用い
ることができる。透明導電性層としては、金属薄膜また
は金属酸化物薄膜が好ましく用いられる。金属薄膜の金
属としては、貴金属が好ましく、金、銀、パラジウムま
たはこれらの合金が好ましく、金と銀との合金が特に好
ましい。合金中の銀の含有率は、60重量%以上である
ことが好ましい。金属酸化物薄膜の金属酸化物として
は、SnO2 、ZnO、ITOおよびIn2 O3 が好ま
しい。金属薄膜と金属酸化物薄膜とを積層してもよい。
両者を積層すると、金属酸化物薄膜により金属薄膜を保
護(酸化防止)し、可視光の透過率を高くすることがで
きる。金属薄膜と積層するための金属酸化物としては、
2〜4価の金属酸化物(例、酸化ジルコニウム、酸化チ
タン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛)が好ましい。また、金属アルコキサイド
化合物の薄膜も、金属薄膜と積層することができる。金
属酸化物または金属アルコキサイド化合物の薄膜は、金
属薄膜の両側に積層することができる。金属薄膜の両側
に積層する場合、異なる種類の薄膜を用いてもよい。金
属薄膜の厚さは、4乃至40nmであることが好まし
く、5乃至35nmであることがさらに好ましく、6乃
至30nmであることが最も好ましい。金属酸化物また
は金属アルコキサイド化合物の薄膜の厚さは、20乃至
300nmであることが好ましく、40乃至100nm
であることがさらに好ましい。電磁波遮蔽層は、スパッ
タリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プ
ラズマCVD法、プラズマPVD法あるいは金属または
金属酸化物の掉尾粒子塗布により形成することができ
る。
層の表面抵抗は、0.1乃至500Ω/m2 であること
が好ましく、0.1乃至10Ω/m2 であることがさら
に好ましい。反射防止膜に設ける層であるため、電磁波
遮蔽層は、透明であることが好ましい。一般に透明導電
性層として知られている層を、電磁波遮蔽層として用い
ることができる。透明導電性層としては、金属薄膜また
は金属酸化物薄膜が好ましく用いられる。金属薄膜の金
属としては、貴金属が好ましく、金、銀、パラジウムま
たはこれらの合金が好ましく、金と銀との合金が特に好
ましい。合金中の銀の含有率は、60重量%以上である
ことが好ましい。金属酸化物薄膜の金属酸化物として
は、SnO2 、ZnO、ITOおよびIn2 O3 が好ま
しい。金属薄膜と金属酸化物薄膜とを積層してもよい。
両者を積層すると、金属酸化物薄膜により金属薄膜を保
護(酸化防止)し、可視光の透過率を高くすることがで
きる。金属薄膜と積層するための金属酸化物としては、
2〜4価の金属酸化物(例、酸化ジルコニウム、酸化チ
タン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛)が好ましい。また、金属アルコキサイド
化合物の薄膜も、金属薄膜と積層することができる。金
属酸化物または金属アルコキサイド化合物の薄膜は、金
属薄膜の両側に積層することができる。金属薄膜の両側
に積層する場合、異なる種類の薄膜を用いてもよい。金
属薄膜の厚さは、4乃至40nmであることが好まし
く、5乃至35nmであることがさらに好ましく、6乃
至30nmであることが最も好ましい。金属酸化物また
は金属アルコキサイド化合物の薄膜の厚さは、20乃至
300nmであることが好ましく、40乃至100nm
であることがさらに好ましい。電磁波遮蔽層は、スパッ
タリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プ
ラズマCVD法、プラズマPVD法あるいは金属または
金属酸化物の掉尾粒子塗布により形成することができ
る。
【0027】(赤外線遮蔽層)赤外線遮蔽層は、800
乃至1200nmの波長の近赤外線に対して遮蔽効果を
有することが好ましい。赤外線遮蔽層は、樹脂混合物に
より形成することができる。樹脂混合物中の赤外線遮蔽
性成分としては、銅(特開平6−118228号公報記
載)、銅化合物またはリン化合物(特開昭62−519
0号公報記載)、銅化合物またはチオ尿素化合物(特開
平6−73197号公報記載)あるいはタングステン化
合物(米国特許3647772号明細書記載)を用いる
ことができる。赤外線遮蔽層を設ける代わりに、樹脂混
合物を透明支持体に添加してもよい。なお、電磁波遮蔽
層として説明した銀薄膜は、赤外線遮蔽効果も有する。
乃至1200nmの波長の近赤外線に対して遮蔽効果を
有することが好ましい。赤外線遮蔽層は、樹脂混合物に
より形成することができる。樹脂混合物中の赤外線遮蔽
性成分としては、銅(特開平6−118228号公報記
載)、銅化合物またはリン化合物(特開昭62−519
0号公報記載)、銅化合物またはチオ尿素化合物(特開
平6−73197号公報記載)あるいはタングステン化
合物(米国特許3647772号明細書記載)を用いる
ことができる。赤外線遮蔽層を設ける代わりに、樹脂混
合物を透明支持体に添加してもよい。なお、電磁波遮蔽
層として説明した銀薄膜は、赤外線遮蔽効果も有する。
【0028】(粘着剤層)光学フィルターは、反射防止
層と反対側に粘着剤層を設け、粘着剤層により画像表示
装置あるいは装置の前面板に貼合わせることが好まし
い。粘着剤層に用いる粘着剤としては、天然ゴム、SB
R(例、スチレン−ブタジエンのランダムコポリマー、
スチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマ
ー)、ブチルゴム、再生ゴム、アクリル系ポリマー
(例、ポリアクリル酸ブチル、ポリアクリル酸2−エチ
ルヘキシル、ポリアクリル酸)、ポリイソブチレン、シ
リコーンゴム、ポリビニルブチルエーテルが好ましく用
いられる。アクリル系ポリマーが特に好ましい。粘着剤
に関しては、木村馨、砂川誠ほか著、高分子学会編集
「高機能接着剤・粘着剤」に記載がある。粘着剤層は、
粘着剤を水または溶剤に、溶解あるいは分散した塗布液
を、反射防止膜の反射防止層とは反対側に直接塗布、乾
燥することですることができる。また、剥離性の良好な
支持体(例、PETフイルム)上に粘着剤層を予め設
け、これを反射防止膜にラミネートして粘着剤層を反射
防止膜に転写することもできる。
層と反対側に粘着剤層を設け、粘着剤層により画像表示
装置あるいは装置の前面板に貼合わせることが好まし
い。粘着剤層に用いる粘着剤としては、天然ゴム、SB
R(例、スチレン−ブタジエンのランダムコポリマー、
スチレン−イソプレン−スチレンのブロックコポリマ
ー)、ブチルゴム、再生ゴム、アクリル系ポリマー
(例、ポリアクリル酸ブチル、ポリアクリル酸2−エチ
ルヘキシル、ポリアクリル酸)、ポリイソブチレン、シ
リコーンゴム、ポリビニルブチルエーテルが好ましく用
いられる。アクリル系ポリマーが特に好ましい。粘着剤
に関しては、木村馨、砂川誠ほか著、高分子学会編集
「高機能接着剤・粘着剤」に記載がある。粘着剤層は、
粘着剤を水または溶剤に、溶解あるいは分散した塗布液
を、反射防止膜の反射防止層とは反対側に直接塗布、乾
燥することですることができる。また、剥離性の良好な
支持体(例、PETフイルム)上に粘着剤層を予め設
け、これを反射防止膜にラミネートして粘着剤層を反射
防止膜に転写することもできる。
【0029】(その他の層)光学フィルターには、ハー
ドコート層、潤滑層、防汚層、帯電防止層、紫外線吸収
層あるいは中間層を設けることもできる。ハードコート
層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハ
ードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系
のポリマー、オリゴマーまたはモノマー(例、紫外線硬
化型樹脂)を用いて形成することができる。シリカ系材
料からハードコート層を形成することもできる。反射防
止膜の最表面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反
射防止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能
を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン(例、シ
リコンオイル)、天然ワックス、石油ワックス、高級脂
肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて
形成することができる。潤滑層の厚さは、2乃至20n
mであることが好ましい。防汚層は、含フッ素ポリマー
を用いて形成することができる。防汚層の厚さは、2乃
至100nmであることが好ましく、5乃至30nmで
あることがさらに好ましい。
ドコート層、潤滑層、防汚層、帯電防止層、紫外線吸収
層あるいは中間層を設けることもできる。ハードコート
層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハ
ードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系
のポリマー、オリゴマーまたはモノマー(例、紫外線硬
化型樹脂)を用いて形成することができる。シリカ系材
料からハードコート層を形成することもできる。反射防
止膜の最表面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反
射防止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能
を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン(例、シ
リコンオイル)、天然ワックス、石油ワックス、高級脂
肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて
形成することができる。潤滑層の厚さは、2乃至20n
mであることが好ましい。防汚層は、含フッ素ポリマー
を用いて形成することができる。防汚層の厚さは、2乃
至100nmであることが好ましく、5乃至30nmで
あることがさらに好ましい。
【0030】反射防止層(中屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層)、フィルター層、第2フィルター層、下塗り
層、ハードコート層、潤滑層、その他の層は、一般的な
塗布方法により形成することができる。塗布方法の例に
は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテ
ンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート
法、グラビアコート法およびホッパーを使用するエクス
トルージョンコート法(米国特許2681294号明細
書記載)が含まれる。二以上の層を同時塗布により形成
してもよい。同時塗布法については、米国特許2761
791号、同2941898号、同3508947号、
同3526528号の各明細書および原崎勇次著「コー
ティング工学」253頁(1973年朝倉書店発行)に
記載がある。
屈折率層)、フィルター層、第2フィルター層、下塗り
層、ハードコート層、潤滑層、その他の層は、一般的な
塗布方法により形成することができる。塗布方法の例に
は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテ
ンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート
法、グラビアコート法およびホッパーを使用するエクス
トルージョンコート法(米国特許2681294号明細
書記載)が含まれる。二以上の層を同時塗布により形成
してもよい。同時塗布法については、米国特許2761
791号、同2941898号、同3508947号、
同3526528号の各明細書および原崎勇次著「コー
ティング工学」253頁(1973年朝倉書店発行)に
記載がある。
【0031】(光学フィルターの用途)光学フィルター
は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像
表示装置に適用する。反射防止層を設ける場合は、低屈
折率層が設けられていない側の面が画像表示装置の画像
表示面と対向するように配置する。本発明の光学フィル
ターは、プラズマディスプレイパネル(PDP)の反射
防止フィルターとして使用すると、特に顕著な効果が得
られる。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、ガ
ス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料
および蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガ
ラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス
基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板に
は、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組
み立てて、その間にガスを封入する。前面板とは、プラ
ズマディスプレイパネルの前面に位置するる。前面板は
プラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強
度を備えていることが好ましい。前面板はプラズマディ
スプレイパネルと隙間を置いて使用することもできる
し、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用するこ
ともできる。本発明の反射防止膜は、プラズマディスプ
レイパネル本体ではなく、この前面板に取り付けること
もできる。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、
既に市販されている。プラズマディスプレイパネルにつ
いては、特開平5−205643号、同9−30636
6号の各公報に記載がある。
は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像
表示装置に適用する。反射防止層を設ける場合は、低屈
折率層が設けられていない側の面が画像表示装置の画像
表示面と対向するように配置する。本発明の光学フィル
ターは、プラズマディスプレイパネル(PDP)の反射
防止フィルターとして使用すると、特に顕著な効果が得
られる。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、ガ
ス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料
および蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガ
ラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス
基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板に
は、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組
み立てて、その間にガスを封入する。前面板とは、プラ
ズマディスプレイパネルの前面に位置するる。前面板は
プラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強
度を備えていることが好ましい。前面板はプラズマディ
スプレイパネルと隙間を置いて使用することもできる
し、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用するこ
ともできる。本発明の反射防止膜は、プラズマディスプ
レイパネル本体ではなく、この前面板に取り付けること
もできる。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、
既に市販されている。プラズマディスプレイパネルにつ
いては、特開平5−205643号、同9−30636
6号の各公報に記載がある。
【0032】
【実施例】[実施例1] (下塗り層の形成)厚さ175μmの透明な2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理
した後、両面に屈折率1.55、ガラス転移温度37℃
のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス
(LX407C5、日本ゼオン(株)製)を、バーコー
ターを用いて、乾燥後の膜厚が、160nmとなるよう
に塗布し、140℃で乾燥し、両面に下塗り層を形成し
た。
リエチレンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理
した後、両面に屈折率1.55、ガラス転移温度37℃
のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス
(LX407C5、日本ゼオン(株)製)を、バーコー
ターを用いて、乾燥後の膜厚が、160nmとなるよう
に塗布し、140℃で乾燥し、両面に下塗り層を形成し
た。
【0033】(第2下塗り層の形成)屈折率1.50、
ガラス転移温度50℃のアクリル系ラテックス(HA1
6、日本アクリル(株)製)を、バーコーターを用い
て、乾燥後の膜厚が20nmとなるように、両側の第一
下塗り層上に塗布し、140℃で乾燥し、両面に第2下
塗り層を形成した。
ガラス転移温度50℃のアクリル系ラテックス(HA1
6、日本アクリル(株)製)を、バーコーターを用い
て、乾燥後の膜厚が20nmとなるように、両側の第一
下塗り層上に塗布し、140℃で乾燥し、両面に第2下
塗り層を形成した。
【0034】(フィルター層の形成)下記のコレステリ
ック液晶性コポリマー(共重合比:モル%、H.Fin
kelmann et.al.Angew.Chem.
Int.Ed.Engl.17(1978)に記載)を
アセトンに溶解し、#3バーを用いて、一方の面の第2
下塗り層上に塗布し、乾燥後80℃に加熱してコレステ
リック液晶相をとらせ、その後ゆっくりと室温に戻して
フィルター層を形成した。
ック液晶性コポリマー(共重合比:モル%、H.Fin
kelmann et.al.Angew.Chem.
Int.Ed.Engl.17(1978)に記載)を
アセトンに溶解し、#3バーを用いて、一方の面の第2
下塗り層上に塗布し、乾燥後80℃に加熱してコレステ
リック液晶相をとらせ、その後ゆっくりと室温に戻して
フィルター層を形成した。
【0035】
【化1】
【0036】(低屈折率層の形成)反応性フッ素ポリマ
ー(JN−7219、JSR(株)製)2.50gに、
メチルエチルケトン1.3gを加え、室温で10分間攪
拌し、1μmのポリプロピレンフィルターでろ過した。
得られた塗布液をもう一方の第2下塗り層上に、バーコ
ーターを用いて乾燥膜厚が96nmとなるように塗布
し、120℃で15分間乾燥して硬化させ、低屈折率層
を形成し、本発明に従う光学フィルターを作製した。
ー(JN−7219、JSR(株)製)2.50gに、
メチルエチルケトン1.3gを加え、室温で10分間攪
拌し、1μmのポリプロピレンフィルターでろ過した。
得られた塗布液をもう一方の第2下塗り層上に、バーコ
ーターを用いて乾燥膜厚が96nmとなるように塗布
し、120℃で15分間乾燥して硬化させ、低屈折率層
を形成し、本発明に従う光学フィルターを作製した。
【0037】(粘着剤層の形成)厚さ38μmのポリエ
チレンテレフタレートフイルム上に、弱いアクリル系の
粘着剤と塗布して粘着剤層を設けた。これを、低屈折率
層の上にラミネートし、反射防止層上に保護フイルム
(ポリエチレンテレフタレートフイルム)を設けた。次
に、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフイル
ムに、アクリル系粘着剤を塗布して厚さ25μmの粘着
剤層を設けた。これを、フィルター層の上にラミネート
して、フィルター層上に粘着剤層および離型フイルム
(ポリエチレンテレフタレートフイルム)を設けた。
チレンテレフタレートフイルム上に、弱いアクリル系の
粘着剤と塗布して粘着剤層を設けた。これを、低屈折率
層の上にラミネートし、反射防止層上に保護フイルム
(ポリエチレンテレフタレートフイルム)を設けた。次
に、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフイル
ムに、アクリル系粘着剤を塗布して厚さ25μmの粘着
剤層を設けた。これを、フィルター層の上にラミネート
して、フィルター層上に粘着剤層および離型フイルム
(ポリエチレンテレフタレートフイルム)を設けた。
【0038】(前面板の作製)フィルター層の上の離型
フイルムを剥がし、粘着剤により青板ガラスに貼付け
た。さらに、保護フイルムを剥がして、反射防止膜を有
する前面板を作製した。前面板の分光透過率を調べたと
ころ、593nmに極小透過率を有し、極小透過率は4
6.5%であり、極小透過率の半値幅は40nmであっ
た。
フイルムを剥がし、粘着剤により青板ガラスに貼付け
た。さらに、保護フイルムを剥がして、反射防止膜を有
する前面板を作製した。前面板の分光透過率を調べたと
ころ、593nmに極小透過率を有し、極小透過率は4
6.5%であり、極小透過率の半値幅は40nmであっ
た。
【0039】(光学フィルターの評価)プラズマディス
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し、作製した前面板を、フィルタ
ー層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向く
ように本体に取り付けた。画像のコントラストの測定お
よび目視による色再現性の評価を行った。コントラスト
および目視による色再現性(特に赤色の再現性)は、著
しく改善された。コントラストは前面板を交換する前は
10:1であったが、光学フィルターを取り付けた前面
板では13:1に改善された。前面板を10万ルクスの
キセノンランプで200時間照射した後、593nmの
透過率を測定し、照射前の透過率で割って残存率を求め
たところ、72%以上であった。
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し、作製した前面板を、フィルタ
ー層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向く
ように本体に取り付けた。画像のコントラストの測定お
よび目視による色再現性の評価を行った。コントラスト
および目視による色再現性(特に赤色の再現性)は、著
しく改善された。コントラストは前面板を交換する前は
10:1であったが、光学フィルターを取り付けた前面
板では13:1に改善された。前面板を10万ルクスの
キセノンランプで200時間照射した後、593nmの
透過率を測定し、照射前の透過率で割って残存率を求め
たところ、72%以上であった。
【0040】[実施例2] (電磁波および赤外線遮蔽層の形成)厚さ175μmの
透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルムの
表面に、スパッターによりZnO/Ag/ZnOの三層
薄膜(電磁波および赤外線遮蔽層)を設けた。この三層
薄膜を設けたフイルムの表面抵抗は、5Ω/cm2 、8
00nm以上の赤外線透過率は20%以下であった。
透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルムの
表面に、スパッターによりZnO/Ag/ZnOの三層
薄膜(電磁波および赤外線遮蔽層)を設けた。この三層
薄膜を設けたフイルムの表面抵抗は、5Ω/cm2 、8
00nm以上の赤外線透過率は20%以下であった。
【0041】(下塗り層の形成)2軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフイルムの電磁波および赤外線遮蔽層と
は反対側の面を、コロナ放電処理した。処理面に、屈折
率が1.55、ガラス転移温度が37℃のスチレン−ブ
タジエンコポリマーからなるラテックス(LX407C
5、日本ゼオン(株)製)を、バーコーターを用いて乾
燥後の膜厚が、300nmとなるように塗布し、140
℃で乾燥し、下塗り層を形成した。
テレフタレートフイルムの電磁波および赤外線遮蔽層と
は反対側の面を、コロナ放電処理した。処理面に、屈折
率が1.55、ガラス転移温度が37℃のスチレン−ブ
タジエンコポリマーからなるラテックス(LX407C
5、日本ゼオン(株)製)を、バーコーターを用いて乾
燥後の膜厚が、300nmとなるように塗布し、140
℃で乾燥し、下塗り層を形成した。
【0042】(フィルター層の形成)下塗り層の上に、
実施例1と同様にフィルター層を形成した。
実施例1と同様にフィルター層を形成した。
【0043】(低屈折率層の形成)多官能アクリルモノ
マー(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)お
よび光重合開始剤(イルガキュアー907、チバガイギ
ー(株)製)、および溶剤(メチルエチルケトンと三級
ブタノールとの混合溶媒)からなる塗布液を、電磁波お
よび赤外線遮蔽層の上に、乾燥後の膜厚が60nmとな
るように塗布した。乾燥後紫外線照射により重合架橋し
て層を硬化し、低屈折率層を形成して、本発明に従う光
学フィルターを作製した。
マー(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)お
よび光重合開始剤(イルガキュアー907、チバガイギ
ー(株)製)、および溶剤(メチルエチルケトンと三級
ブタノールとの混合溶媒)からなる塗布液を、電磁波お
よび赤外線遮蔽層の上に、乾燥後の膜厚が60nmとな
るように塗布した。乾燥後紫外線照射により重合架橋し
て層を硬化し、低屈折率層を形成して、本発明に従う光
学フィルターを作製した。
【0044】(粘着剤層の形成)実施例1と同様にし
て、低屈折率層側に保護フイルム、フィルター層側に粘
着剤層と離型フイルムとを設けた。
て、低屈折率層側に保護フイルム、フィルター層側に粘
着剤層と離型フイルムとを設けた。
【0045】(前面板の作成)フィルター層の上の離型
フイルムを剥がし、粘着剤により青板ガラスに貼付け
た。さらに、保護フイルムを剥がして、反射防止膜を有
する前面板を作製した。前面板の分光透過率を調べたと
ころ、593nmに極小透過率を有し、極小透過率は2
1%であり、極小透過率の半値幅は55nmであった。
フイルムを剥がし、粘着剤により青板ガラスに貼付け
た。さらに、保護フイルムを剥がして、反射防止膜を有
する前面板を作製した。前面板の分光透過率を調べたと
ころ、593nmに極小透過率を有し、極小透過率は2
1%であり、極小透過率の半値幅は55nmであった。
【0046】(光学フィルターの評価)プラズマディス
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し作製した前面板を、フィルター
層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向くよ
うに本体に取り付けた。電磁波および赤外線遮蔽層をプ
ラズマディスプレイパネルの背面の金属部アースに接続
し、プラズマディスプレイパネルより放射される電磁波
により誘起される電圧をアースに導通し、機能の評価を
実施した。評価項目として、電磁波および赤外線遮へい
能、表示される画像のコントラストの測定および目視に
よる色再現性の評価を行った。電磁波遮蔽機能は、周波
数10MHz〜200MHzの範囲で最低9デシベル以
上が得られ、情報処理装置等で規制されている電磁波の
外部漏洩レベルを達成した。また、赤外線領域の遮蔽機
能は透過率の低さで評価でき、800nmで約8%、8
50nmでは3%以下となり、周辺に設置される赤外線
リモートコントロール装置に対する妨害を防止できた。
コントラストおよび目視による色再現性(特に赤色の再
現性)は、著しく改善された。コントラストは前面板を
交換する前は10:1であったが、光学フィルターを取
り付けた前面板では13:1に改善された。前面板を1
0万ルクスのキセノンランプで200時間照射した後、
593nmの透過率を測定し、照射前の透過率で割って
残存率を求めたところ、72%以上であった。
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し作製した前面板を、フィルター
層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向くよ
うに本体に取り付けた。電磁波および赤外線遮蔽層をプ
ラズマディスプレイパネルの背面の金属部アースに接続
し、プラズマディスプレイパネルより放射される電磁波
により誘起される電圧をアースに導通し、機能の評価を
実施した。評価項目として、電磁波および赤外線遮へい
能、表示される画像のコントラストの測定および目視に
よる色再現性の評価を行った。電磁波遮蔽機能は、周波
数10MHz〜200MHzの範囲で最低9デシベル以
上が得られ、情報処理装置等で規制されている電磁波の
外部漏洩レベルを達成した。また、赤外線領域の遮蔽機
能は透過率の低さで評価でき、800nmで約8%、8
50nmでは3%以下となり、周辺に設置される赤外線
リモートコントロール装置に対する妨害を防止できた。
コントラストおよび目視による色再現性(特に赤色の再
現性)は、著しく改善された。コントラストは前面板を
交換する前は10:1であったが、光学フィルターを取
り付けた前面板では13:1に改善された。前面板を1
0万ルクスのキセノンランプで200時間照射した後、
593nmの透過率を測定し、照射前の透過率で割って
残存率を求めたところ、72%以上であった。
【0047】[実施例3] (相補的フィルター層の形成)実施例1で示した文献に
記載されている方法に従い、原材料として(―)―1―
フェニルエチルアミンの代わりに(+)―1―フェニル
エチルアミンを用いて合成したモノマーを用いる以外は
全く実施例1と同じ方法により、螺旋ピッチが逆回りの
コレステリック液晶相を有するポリマーを作成し、実施
例1で作製した下塗り層および第1下塗り層を両面に有
するフイルムの片側に、相補的フィルター層を形成し
た。
記載されている方法に従い、原材料として(―)―1―
フェニルエチルアミンの代わりに(+)―1―フェニル
エチルアミンを用いて合成したモノマーを用いる以外は
全く実施例1と同じ方法により、螺旋ピッチが逆回りの
コレステリック液晶相を有するポリマーを作成し、実施
例1で作製した下塗り層および第1下塗り層を両面に有
するフイルムの片側に、相補的フィルター層を形成し
た。
【0048】(粘着剤層の形成)実施例1と同様にし
て、相補的フィルター層の上に保護フイルム、第2下塗
り層の上に粘着剤層と離型フイルムとを設けた。
て、相補的フィルター層の上に保護フイルム、第2下塗
り層の上に粘着剤層と離型フイルムとを設けた。
【0049】(光学フィルターの形成)実施例1で作製
した反射防止膜の離型フイルムを剥がし、相補的フィル
ター層の保護フイルムを剥がし、互いにラミネートする
ことにより、螺旋ピッチの大きさがほとんどど同じで、
ピッチが逆回りの関係にある、コレステリック液晶性分
子から形成したフィルター層および相補的フィルター層
と低屈折率層とを有する本発明に従う光学フィルターを
作成した。
した反射防止膜の離型フイルムを剥がし、相補的フィル
ター層の保護フイルムを剥がし、互いにラミネートする
ことにより、螺旋ピッチの大きさがほとんどど同じで、
ピッチが逆回りの関係にある、コレステリック液晶性分
子から形成したフィルター層および相補的フィルター層
と低屈折率層とを有する本発明に従う光学フィルターを
作成した。
【0050】(前面板の作成)フィルター層の上の離型
フイルムを剥がし、粘着剤により青板ガラスに貼付け
た。さらに、保護フイルムを剥がして、反射防止膜を有
する前面板を作製した。前面板の分光透過率を調べたと
ころ、593nmに極小透過率を有し、極小透過率は4
%であり、極小透過率の半値幅は55nmであった。
フイルムを剥がし、粘着剤により青板ガラスに貼付け
た。さらに、保護フイルムを剥がして、反射防止膜を有
する前面板を作製した。前面板の分光透過率を調べたと
ころ、593nmに極小透過率を有し、極小透過率は4
%であり、極小透過率の半値幅は55nmであった。
【0051】(光学フィルターの評価)プラズマディス
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し、作製した前面板を、フィルタ
ー層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向く
ように本体に取り付けた。画像のコントラストの測定お
よび目視による色再現性の評価を行った。コントラスト
および目視による色再現性(特に赤色の再現性)は、著
しく改善された。コントラストは前面板を交換する前は
10:1であったが、光学フィルターを取り付けた前面
板では15:1に改善された。前面板を10万ルクスの
キセノンランプで200時間照射した後、593nmの
透過率を測定し、照射前の透過率で割って残存率を求め
たところ、72%以上であった。
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し、作製した前面板を、フィルタ
ー層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向く
ように本体に取り付けた。画像のコントラストの測定お
よび目視による色再現性の評価を行った。コントラスト
および目視による色再現性(特に赤色の再現性)は、著
しく改善された。コントラストは前面板を交換する前は
10:1であったが、光学フィルターを取り付けた前面
板では15:1に改善された。前面板を10万ルクスの
キセノンランプで200時間照射した後、593nmの
透過率を測定し、照射前の透過率で割って残存率を求め
たところ、72%以上であった。
【0052】[実施例4] (第2フイルター層の形成)ゼラチン(#810、新田
ゼラチン(株)製)の10重量%水溶液180gに、下
記のオキソノール染料0.05gを溶解させ、30℃で
30分間撹拌した後、10μmのポリプロピレンフィル
ターで濾過した。得られた塗布液を30℃で保温した。
塗布液を、実施例3の相補的フィルター層を設けていな
い第2下塗り層の上に、乾燥膜厚が3.5μmとなるよ
うにワイヤーバーで塗布し、120℃で15分乾燥して
第2フイルター層を形成した。
ゼラチン(株)製)の10重量%水溶液180gに、下
記のオキソノール染料0.05gを溶解させ、30℃で
30分間撹拌した後、10μmのポリプロピレンフィル
ターで濾過した。得られた塗布液を30℃で保温した。
塗布液を、実施例3の相補的フィルター層を設けていな
い第2下塗り層の上に、乾燥膜厚が3.5μmとなるよ
うにワイヤーバーで塗布し、120℃で15分乾燥して
第2フイルター層を形成した。
【0053】
【化2】
【0054】(粘着剤層の形成)実施例1と同様に、フ
ィルター層側に保護フイルム、第2フイルター層側に粘
着剤および離型フイルムをラミネートにより設けた。実
施例1の反射防止膜の離型フイルムを剥がし、相補的フ
ィルター層の保護フイルムを剥がして、互いにラミネー
トすることにより、螺旋ピッチの大きさがほとんどど同
じで、ピッチが逆回りの関係にある、コレステリック液
晶性分子から形成したフィルター層および相補的フィル
ター層、染料を含む第2フイルター層と低屈折率層とを
有する本発明に従う反射防止膜を作成した。
ィルター層側に保護フイルム、第2フイルター層側に粘
着剤および離型フイルムをラミネートにより設けた。実
施例1の反射防止膜の離型フイルムを剥がし、相補的フ
ィルター層の保護フイルムを剥がして、互いにラミネー
トすることにより、螺旋ピッチの大きさがほとんどど同
じで、ピッチが逆回りの関係にある、コレステリック液
晶性分子から形成したフィルター層および相補的フィル
ター層、染料を含む第2フイルター層と低屈折率層とを
有する本発明に従う反射防止膜を作成した。
【0055】(前面板の作製)フィルター層の上の離型
フイルムを剥がし、粘着剤により青板ガラスに貼付け
た。さらに、保護フイルムを剥がして、反射防止膜を有
する前面板を作製した。前面板の分光透過率を調べたと
ころ、593nmに極小透過率を有し、極小透過率は
3.5%であり、極小透過率の半値幅は55nmであっ
た。また、540nmにも極大吸収があり、吸収極大で
の透過率は50%であった。
フイルムを剥がし、粘着剤により青板ガラスに貼付け
た。さらに、保護フイルムを剥がして、反射防止膜を有
する前面板を作製した。前面板の分光透過率を調べたと
ころ、593nmに極小透過率を有し、極小透過率は
3.5%であり、極小透過率の半値幅は55nmであっ
た。また、540nmにも極大吸収があり、吸収極大で
の透過率は50%であった。
【0056】(光学フィルターの評価)プラズマディス
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し、作製した前面板を、フィルタ
ー層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向く
ように本体に取り付けたた。画像のコントラストの測定
および目視による色再現性の評価を行った。コントラス
トおよび目視による色再現性(特に赤色の再現性)は、
著しく改善された。コントラストは前面板を交換する前
は10:1であったが、光学フィルターを取り付けた前
面板では15:1に改善された。また、前面板の交換前
に比べて、オレンジ色の入った赤が純赤に、緑がかった
青が鮮やかな青に、また黄ばんだ感じの白が純白に改良
されていることを確認した。光学フィルターを10万ル
クスのキセノンランプで200時間照射した後、593
nmの透過率を測定し、照射前の透過率で割って残存率
を求めたところ、72%以上であった。
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し、作製した前面板を、フィルタ
ー層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向く
ように本体に取り付けたた。画像のコントラストの測定
および目視による色再現性の評価を行った。コントラス
トおよび目視による色再現性(特に赤色の再現性)は、
著しく改善された。コントラストは前面板を交換する前
は10:1であったが、光学フィルターを取り付けた前
面板では15:1に改善された。また、前面板の交換前
に比べて、オレンジ色の入った赤が純赤に、緑がかった
青が鮮やかな青に、また黄ばんだ感じの白が純白に改良
されていることを確認した。光学フィルターを10万ル
クスのキセノンランプで200時間照射した後、593
nmの透過率を測定し、照射前の透過率で割って残存率
を求めたところ、72%以上であった。
【図1】フィルター層を反射防止層とは透明支持体の反
対の側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図で
ある。
対の側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図で
ある。
【図2】フィルター層と反射防止層とを透明支持体の同
じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図であ
る。 1 透明支持体 2 フィルター層 3 低屈折率層 4 ハードコート層 5 高屈折率層 6 中屈折率層
じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図であ
る。 1 透明支持体 2 フィルター層 3 低屈折率層 4 ハードコート層 5 高屈折率層 6 中屈折率層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 CA04 CA09 CA14 CA19 CA29 GA05 GA11 GA24 GA35 GA46 2K009 AA04 AA05 AA06 AA12 AA15 BB13 BB24 BB28 CC02 CC03 CC23 CC26 CC34 CC35 DD02 DD08 EE03 EE05 5C058 AA01 AA11 AA12 AB05 BA35 5G435 AA01 AA04 BB01 BB02 BB03 BB05 BB06 BB12 FF01 FF02 GG11 HH02 HH03 KK07
Claims (6)
- 【請求項1】 透明支持体上にコレステリック液晶性分
子から形成したフィルター層を有し、フィルター層が5
60乃至620nmの波長領域に透過率の極小値を有す
ることを特徴とする光学フィルター。 - 【請求項2】 フィルター層の透過率の極小値の半値幅
が、15乃至200nmである請求項1に記載の光学フ
ィルター。 - 【請求項3】 フィルター層の透過率の極小値が、0.
01乃至50%である請求項1に記載の光学フィルタ
ー。 - 【請求項4】 さらに、染料およびポリマーバインダー
を含む第2フィルター層を有し、第2フィルター層が5
00乃至550nmの波長領域に吸収極大を有する請求
項1に記載の光学フィルター。 - 【請求項5】 プラズマディスプレイパネル用である請
求項1に記載の光学フィルター。 - 【請求項6】 コレステリック液晶性分子から形成した
フィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率
よりも低い屈折率を有する低屈折率層を有し、フィルタ
ー層が560乃至620nmの波長領域に透過率の極小
値を有することを特徴とする反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25564999A JP2001083316A (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 光学フィルターおよび反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25564999A JP2001083316A (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 光学フィルターおよび反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001083316A true JP2001083316A (ja) | 2001-03-30 |
Family
ID=17281695
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25564999A Withdrawn JP2001083316A (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 光学フィルターおよび反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001083316A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009544491A (ja) * | 2006-07-28 | 2009-12-17 | イルフォード イメージング スウィツアランド ゲーエムベーハー | 光学用途用柔軟材料 |
WO2010038175A2 (en) * | 2008-10-02 | 2010-04-08 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Spectral detector |
WO2012066841A1 (ja) * | 2010-11-15 | 2012-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 熱線遮蔽材 |
-
1999
- 1999-09-09 JP JP25564999A patent/JP2001083316A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009544491A (ja) * | 2006-07-28 | 2009-12-17 | イルフォード イメージング スウィツアランド ゲーエムベーハー | 光学用途用柔軟材料 |
WO2010038175A2 (en) * | 2008-10-02 | 2010-04-08 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Spectral detector |
WO2010038175A3 (en) * | 2008-10-02 | 2010-05-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Spectral detector comprising a cholesteric liquid crystal mixture |
CN102171544A (zh) * | 2008-10-02 | 2011-08-31 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 包含胆甾型液晶混合物的光谱检测器 |
WO2012066841A1 (ja) * | 2010-11-15 | 2012-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 熱線遮蔽材 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061205 |