JP2001013317A

JP2001013317A - 画像表示装置用フィルター

Info

Publication number: JP2001013317A
Application number: JP11184005A
Authority: JP
Inventors: Taku Nakamura; 卓中村
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-06-29
Filing date: 1999-06-29
Publication date: 2001-01-19

Abstract

(57)【要約】【課題】ＰＤＰ等の画像表示装置または前面板に貼合わ
せるだけで、画像の色再現性、コントラストを改良し、
放射される有害な電磁波、赤外線をカットしうる低コス
トの画像表示装置用フィルターを提供すること。【解決手段】透明支持体の少なくとも片側に色素および
ポリマーバインダーを含む選択吸収フィルター層を有
し、片側だけに選択フィルター層を有する場合には選択
フィルター層とは反対側の最上層に、両側に選択フィル
ター層を有する場合にはどちらか一方の側の最上層に反
射防止層を設け、該反射防止層とは反対側に粘着剤層を
設けたことを特徴とする画像表示装置用フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体、選択
吸収フィルター層を有し、表面に反射防止層、反対面に
粘着剤を有する画像表示装置用のフィルターに関する。
特に、本発明はＣＲＴ、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ
（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、
電界放射型ディスプレイのような蛍光を利用する画像表
示装置の、色再現性改良、反射防止、赤外線遮断、さら
には電磁波遮断のために、画像装置または前面板に貼合
わされるフィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放
射型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置において
は、赤、青、緑の三原色蛍光体の発色により、フルカラ
ー表示を行っている。しかし蛍光体によるこれら三原色
の発光スペクトルを理想的なものにすることは非常に難
しく、またプラズマディスプレイではこれらの三原色の
他に、ネオンからの余分な蛍光（波長が５００乃至６２
０ｎｍの範囲）が加わり、理想的な色再現性が得られな
いという問題があった。これを改良するため、特定波長
の光を吸収するフィルターを用いることが、特開昭５８
−１５３９０４号、同６１−１８８５０１号、特開平３
−２３１９８８号、同５−２０５６４３号、同９−１４
５９１８号、同９−３０６３６６号、同１０−２６７０
４号の各公報に記載されている。

【０００３】またこれらの画像表示装置には、背景が映
り込むことでコントラストが低下する問題があり、この
解決のため、蒸着あるいは塗布による反射防止膜が提案
されている。蒸着は反射防止の点で優れているが、塗布
には製造が容易で低コストと言う利点がある。蒸着は眼
鏡やカメラのレンズの反射防止膜として古くから用いら
れている方法であり、例えば、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法あるいはＰ
ＶＤ法等を挙げることができる。塗布は微粒子およびバ
インダーを含む塗布液を支持体に塗布する方法であり、
特開昭５９−４９５０１号，同５９−５０４０１号、同
６０−５９２５０号、特開平７−４８５２７号の各公報
に記載されている。

【０００４】前記の特定の波長の光を吸収するフィルタ
ーに、反射防止機能を組み込むことも考えられる。例え
ば特開昭６１−１８８５０１号、特開平５−２０５６４
３号、同９−１４５９１８号、同９−３０６３６６号、
同１０−２６７０４号の各公報には、反射防止機能が組
み込まれた光学フィルターが開示されている。特開昭６
１−１８８５０１号、特開平５−２０５６４３号、同９
−１４５９１８号、同９−３０６３６６号の各公報に記
載の光学フィルターでは、透明支持体に染料または顔料
を添加して、支持体をフィルターとして機能させてい
る。特開平１０−２６７０４号公報記載の光学フィルタ
ーでは、透明支持体と反射防止層との間に設けられるハ
ードコート層（表面硬化層）を着色し、ハードコート層
をフィルターとして機能させている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】反射防止膜の透明支持
体あるいはハードコート層を着色すれば、透明支持体ま
たはハードコート層がフィルターとして機能する。しか
し、透明支持体やハードコート層に添加できる染料や顔
料は、種類が非常に限られる。透明支持体は、プラスチ
ックまたはガラス（通常はプラスチック）から製造す
る。透明支持体に添加する染料や顔料には、支持体製造
時の温度に耐えられる耐熱性が要求される。色再現性改
良に使用する染料または顔料には、画像表示装置の種類
に応じて、様々な吸収スペクトル特性が要求されるた
め、耐熱性等の他の限定が加えられると、適切な補正に
よる色再現性改良が難しくなる。本発明者は、使用でき
る染料や顔料の種類に制約の多い透明支持体やハードコ
ート層とは異なる層を選択吸収フィルター層として機能
させ、適切な画像表示装置の色補正を行うことを試み
た。本発明の目的は、色再現性改良効果に優れ、反射防
止層を有し、容易に画像表示装置に組み込むことができ
るフィルターを提供することであり、さらには、反射防
止機能に加えて近赤外線遮蔽機能、電磁波遮蔽機能を有
するフィルターを提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
発明により達成された。（１）透明支持体の少なくとも片側に色素（顔料または
染料）およびポリマーバインダーを含む選択吸収フィル
ター層を有し、片側だけに選択フィルター層を有する場
合には選択フィルター層とは反対側の最上層に、両側に
選択フィルター層を有する場合にはどちらか一方の側の
最上層に反射防止層を設け、該反射防止層とは反対側に
粘着剤層を設けたことを特徴とする画像表示装置用フィ
ルター。（２）該選択吸収フィルター層を粘着剤層を設けた側に
有することを特徴とする（１）に記載の画像表示装置用
フィルター。（３）さらに赤外線遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の一方あ
るいは両方の機能を有する遮蔽フィルター層を透明支持
体の少なくとも片側に有することを特徴とする（１）ま
たは（２）に記載の画像表示装置用フィルター。（４）さらに赤外線遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の一方あ
るいは両方の機能を有する遮蔽フィルター層を反射防止
層設けた側に有することを特徴とする（１）〜（３）の
いずれかに記載の画像表示装置用フィルター。（５）該選択吸収フィルター層が、５６０ｎｍから６２
０ｎｍの範囲に透過率が０．０１から８０％の吸収極大
を持つことを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記
載の画像表示装置用フィルター。（６）該選択吸収フィルター層が、５００ｎｍから５５
０ｎｍの範囲に透過率が２０から８５％の極大吸収、お
よび５６０ｎｍから６２０ｎｍの範囲に透過率が０．０
１から８０％の吸収極大を持つことを特徴とする（１）
〜（５）のいずれかに記載の画像表示装置用フィルタ
ー。（７）（１）〜（６）のいずれかに記載のフィルターを
用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用
の前面板。（８）（７）に記載の前面板を用いたプラズマディスプ
レイパネル。

【０００７】本発明者は画像表示装置の色再現性を改良
する選択吸収フィルター層を有し、最表面に反射防止
層、反対面に粘着剤層を有する透明支持体を、プラズマ
ディスプレイ等の画像表示装置自身、あるいは前面板に
貼合わせることを検討した。選択吸収フィルター層を有
する透明支持体を、粘着剤で貼合わせることが可能とな
った結果、様々な種類の染料をフィルター層に使用でき
るようになった。例えば、ハロゲン化銀写真の分野で
は、様々な写真用染料が開発されている。写真用染料の
吸収スペクトル特性も詳細に研究されている。またその
他様々の機能を有する層を積層することができるように
なり、反射防止特性に加えて、近赤外線遮蔽特性、電磁
波遮蔽特性、耐傷性等様々の機能を有する画像表示装置
用のフィルターが可能となり、それを画像表示装置自身
あるいは前面板に貼合わせることで、画像の色再現性お
よび表面反射の減少による視認性の改良が可能となり、
また表示装置から放射される不用な赤外線、電磁波等を
遮断でき、画像表面に傷等が付きにくくなるなどの性能
改良が可能となった。特に、本発明は支持体の一方の側
の最表面に反射防止層を、他方の側に粘着剤層を配置す
る構成をとることにより、特に画像の色再現性、コント
ラストの改善が達成された。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。（プラズマディスプレイ）発明においてプラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）とは、ガス、ガラス基板、電
極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成
される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基
板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を
形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成
する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを
封入する。前面板とは該プラズマディスプレイパネルの
前面に位置する基板のことである。前面板はプラズマデ
ィスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えて
いることが好ましい。前面板はプラズマディスプレイパ
ネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマ
ディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。
本発明におけるプラズマディスプレイ表示装置とは少な
くともプラズマディスプレイパネル本体と筐体をふくむ
表示装置全体のことである。前面板を有する場合はこれ
もプラズマディスプレイ表示装置に含まれる。プラズマ
ディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されてい
る。プラズマディスプレイパネルについては、特開平５
−２０５６４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記
載がある。

【０００９】（選択吸収フィルター層）本発明における
選択吸収フィルター層は、５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの間
に吸収極大を有していることが好ましく、その透過率は
吸収極大波長において０．０１％〜８０％の間であり、
好ましくは０．０１％〜６０％の間であり、特に好まし
くは０．０１〜４０％の間である。波長が５６０ｎｍ〜
６２０ｎｍの範囲の吸収は、なるべく緑の蛍光体の必要
な発光領域に影響を与えないよう選択的に光をカットす
るために、シャープであることが好ましい。具体的に
は、波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲の吸収極大で
の半値幅は、５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好まし
く、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、
１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが最も好ましい。

【００１０】該選択吸収フィルター層は、５６０ｎｍ〜
６２０ｎｍの吸収極大に加えて、５００ｎｍ〜５５０ｎ
ｍに吸収極大を有することが好ましい。５００ｎｍ〜５
５０ｎｍの範囲の透過率は吸収極大波長において２０％
〜８５％の範囲であることが好ましく、４０％〜８５％
であることがより好ましく、５０％から８０％であるこ
とが最も好ましい。波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範
囲の吸収の極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度
をなだらかにカットすることで強度を調整するために設定
されることから、波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲
の吸収極大での半値幅（吸収極大での吸光度の半分の吸
光度を示す波長領域の幅）は、３０ｎｍ〜３００ｎｍで
あることが好ましく、４０ｎｍ〜３００ｎｍであること
がより好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍであることがさ
らに好ましく、６０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが最も
好ましい。

【００１１】（色素：顔料または染料）本発明において
上記の吸収スペクトルを実現するために、選択吸収フィ
ルター層には色素（顔料または染料）が用いられる。波
長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ色
素としては、スクアリリウム系、アゾメチン系、シアニ
ン系、オキソノール系、アントラキノン系、アゾ系また
はベンジリデン系の化合物が好ましく用いられる。アゾ
染料としては、ＧＢ５３９７０３号、同５７５６９１
号、ＵＳ２９５６８７９号および堀口博著「総説合成
染料」三共出版などに記載の多くのアゾ染料を使用する
ことができる。なかでも、下記一般式（ａ６）で表わさ
れるアゾ染料が好ましい。波長が５００ｎｍ〜５５０ｎ
ｍの範囲に吸収極大を持つ色素の例を以下に示す。

【００１２】

【化１】

【００１３】

【化２】

【００１４】

【化３】

【００１５】

【化４】

【００１６】

【化５】

【００１７】

【化６】

【００１８】

【化７】

【００１９】

【化８】

【００２０】

【化９】

【００２１】

【化１０】

【００２２】

【化１１】

【００２３】波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲に吸
収極大を持つ色素としては、シアニン系、スクアリリウ
ム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系ま
たはアゾ系の化合物が好ましく用いられる。波長が５６
０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ色素の例を
以下に示す。

【００２４】

【化１２】

【００２５】

【化１３】

【００２６】

【化１４】

【００２７】

【化１５】

【００２８】

【化１６】

【００２９】

【化１７】

【００３０】

【化１８】

【００３１】

【化１９】

【００３２】

【化２０】

【００３３】

【化２１】

【００３４】

【化２２】

【００３５】本発明における選択吸収フィルター層に
は、以上のような２種類以上の色素を組み合わせて用い
ることができる。また、波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍ
の範囲と波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲の両方に
吸収極大を持つ色素を選択吸収フィルター層に用いるこ
ともできる。例えば、色素を微粒子分散物のような会合
体の状態にすると、一般に波長が長波長側にシフトし
て、ピークがシャープになる。そのため、波長が５００
ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ色素には、そ
の会合体が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を
持つものもある。そのような色素が部分的に会合体を形
成した状態で使用すると、波長が５００ｎｍ〜５５０ｎ
ｍの範囲と波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲の両方
に吸収極大を得ることができる。そのような色素の例を
以下に示す。

【００３６】

【化２３】

【００３７】

【化２４】

【００３８】本発明の選択吸収フィルター層の厚さは
０．１μｍ乃至５ｃｍであることが好ましく、０．５μ
m乃至１００μmであることがさらに好ましい。

【００３９】（ポリマー）本発明の選択吸収フィルター
層には、ポリマーがバインダーとして含まれる。その好
ましい具体例としては天然ポリマー（例、ゼラチン、酸
処理ゼラチン、石灰処理ゼラチン、低分子量ゼラチン、
セルロース誘導体、アルギン酸、ペクチン、カラギーナ
ン、ローカストビーンガム）または合成ポリマー（例、
ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルピロリドン、ポビニルアルコール、ポリ塩化ビ
ニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド）を挙げるこ
とができる。この中で親水性ポリマー（上記天然ポリマ
ー、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポ
ビニルアルコール、水溶性ポリアミド）、および水分散
ポリマーラテックス（スチレンブタジエンラバー、ポリ
塩化ビニリデン）が特に好ましい。

【００４０】（透明支持体）本発明で使用することので
きる好ましい透明支持体の具体例としては、セルロース
エステル（例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセ
ルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリ
ルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニト
ロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリ
エステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、
ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’
−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレー
ト）、ポリアリレート（例、ビスフェノールＡとフタル
酸の縮合物）、ポリスチレン（例、シンジオタクチック
ポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、アクリル（ポ
リメチルメタクリレート）、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド
およびポリオキシエチレンを挙げることができる。この
中でトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレートお
よびポリエチレンナフタレートが特に好ましい。透明支
持体の厚みは５μm以上５ｃｍ以下であることが好まし
く、２５μm以上１ｃｍ以下であることがさらに好まし
く、８０μm以上１．２ｍｍ以下であることが最も好ま
しい。透明支持体の透過率は８０％以上であることが好
ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイ
ズは、２％以下であることが好ましく、１％以下である
ことがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜１．７０
であることが好ましい。

【００４１】透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫
外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量
は、透明支持体の０．０１〜２０重量％であることが好
ましく、０．０５〜１０重量％であることがさらに好ま
しい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を
透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、Ｓ
ｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＢａＳＯ₄、ＣａＣＯ₃、タルクおよび
カオリンが含まれる。

【００４２】透明支持体には下塗り層との接着性をより
強固にするために表面処理を施すことが好ましい。表面
処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処
理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放
電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、
およびオゾン酸化処理を挙げることができ、グロー放電
処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火炎処理
が好ましく、コロナ放電処理がさらに好ましい。

【００４３】（下塗り層）本発明では、今まで述べた選
択吸収フィルター層あるいは後述する他の層をを支持体
上に設ける場合に、支持体に下塗り層を設けることがで
きる。下塗り層としては室温での弾性率が１０００乃至
１ＭＰａ、好ましくは８００乃至５ＭＰａ、さらに好ま
しくは５００乃至１０ＭＰａの柔らかいポリマーが好ま
しい。またその厚みは好ましくは２ｎｍ乃至２０μｍ、
さらに好ましくは５ｎｍ乃至５μｍ、最も好ましくは５
０ｎｍ乃至１μｍである。下塗り層に使用されるポリマ
ーはガラス転移温度が６０℃以下−６０℃以上のものが
好ましい。ガラス転移温度が６０℃以下−６０℃以上の
ポリマーの例としては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロ
ロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、アクリロニトリルまたはメチルビニルエーテルの重
合または共重合させたものを挙げることができる。また
下塗りは複数層設けることができ2層設けることが好ま
しい。

【００４４】（反射防止層）本発明においては可視光に
対する反射防止能を有する反射防止層が設けられる。反
射防止層の反射率は正反射率として３．０％以下が好ま
しく、さらに好ましくは１．８％以下である。反射防止
層としては通常低屈折率層を設ける。低屈折率層の屈折
率は、その下層の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折
率は、１．２〜１．５５であることが好ましく、１．２
０〜１．５０であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、５０ｎｍ〜４００ｎｍであることが好まし
く、５０ｎｍ〜２００ｎｍであることがさらに好まし
い。低屈折率層の例としては、屈折率の低い含フッ素ポ
リマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平
３−１３０１０３号、同６−１１５０２３号、同８−３
１３７０２号、同７−１６８００４号の各公報記載）、
ゾルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１
号、同６−２９９０９１号、同７−１６８００３号の各
公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５
９２５０号、特開平５−１３０２１号、同６−５６４７
８号、同７−９２３０６号、同９−２８８２０１号の各
公報に記載）を挙げることができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、３％〜５０体積％の空隙率を有することが好まし
く、５％〜３５体積％の空隙率を有することがさらに好
ましい。

【００４５】広い波長領域の反射を防止するためには、
屈折率の高い層（中・高屈折率）の上に低屈折率層に、
屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積層することが好
ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０で
あることが好ましく、１．７０〜２．２０であることが
さらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の
屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように
調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．９０
であることが好ましい。中・高屈折率層の厚さは、５ｎ
ｍ〜１００μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０
μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜１μｍで
あることが最も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、
５％以下であることが好ましく、３％以下であることが
さらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマー
を用いて形成することができる。屈折率が高いポリマー
の例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカー
ボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂および環状（脂環式または芳香族）イソシアネートと
ポリオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれ
る。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有
するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基と
して有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入
してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によ
りポリマーを形成してもよい。

【００４６】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、
Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、ＰおよびＳが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物（例、キレート化合物）、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。

【００４７】（粘着剤層）本発明の粘着剤層に用いられ
る粘着剤の好ましい具体例としては、天然ゴム系、ＳＢ
Ｒ系（スチレンーブタジエンのランダム共重合体、スチ
レンーイソプレンースチレンブロックポリマー）、ブチ
ルゴム系、再生ゴム系、アクリル系（ポリアクリル酸ブ
チル、ポリアクリル酸２−エチルヘキシル、ポリアクリ
ル酸）、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニ
ルブチルエーテル等を挙げることができる。その中でも
アクリル系がより好ましい。粘着剤に関しては、木村
馨、砂川誠ほか著、高分子学会編集「高機能接着剤・粘
着剤」等に記載されているものを用いることができる。
粘着剤層は、これらの粘着剤を水または溶剤に、溶解あ
るいは分散した塗布液を、本発明の透明支持体の反射防
止層の反対側に直接塗布、乾燥することで得られるが、
予め剥離性の良好なをＰＥＴ等の支持体上に、粘着剤層
を設けたものを反射防止層の反対側にラミネートして粘
着剤層を設けることもできる。

【００４８】（電磁波遮断層）本発明のフィルターに
は、電磁波遮蔽機能を有する電磁波遮蔽層を設けること
ができる。電磁波遮蔽層の表面抵抗は０．０１〜５００
Ω／□、より好ましくは０．０１〜１０Ω／□である。
電磁波遮蔽層は、透過率を低下させないため透明導電層
であることが好ましい。透明導電層としては、金属層、
金属酸化物層、導電性ポリマー層等を挙げるこができ
る。金属層を形成する金属としては、例えば銀、パラジ
ウム、金、白金、ロジウム、アルミニウム、鉄、コバル
ト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、錫、タングステ
ン、イリジウム、鉛単独もしくはこれらの２種以上の合
金を挙げることができるが、好ましくは銀、パラジウ
ム、金、白金、ロジウム単独もしくはこれらの合金であ
る。この中で銀とパラジウムの合金が好ましく、このと
き銀の含有率は６０重量％乃至９９重量％が好ましく、
８０重量％乃至９８重量％が更に好ましい。金属層の膜
厚は１〜１００ｎｍが好ましく、５〜４０ｎｍが更に好
ましく、１０〜３０ｎｍが最も好ましい。膜厚が１ｎｍ
未満では電磁波遮蔽効果が乏しく、１００ｎｍを超える
と可視光線の透過率が低下する。金属酸化物層を形成す
る金属酸化物としては、例えば酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ、ＡＴＯなどを
挙げることができる。この膜厚は２０〜１０００ｎｍが
好ましい。さらに好ましくは４０〜１００ｎｍである。
これら金属層から成る透明導電層と金属酸化物層から成
る透明導電層とを合わせて用いるのも好ましい。また、
同一層内に金属と金属酸化物が共存することも好まし
い。金属層の保護、酸化劣化防止および可視光線の透過
率を高めるために透明酸化物層を積層することができ
る。この透明酸化物層は導電性があってもなくてもかま
わない。透明酸化物層としては例えば２〜４価金属の酸
化物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウ
ム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび金属アルコキ
サイド化合物等の薄膜が挙げられる。透明導電層、透明
酸化物層を形成する方法としては特に制限はなく、任意
の加工処理方法を選択することが可能である。例えばス
パッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング
法、プラズマＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法、該当する金属
あるいは金属酸化物の超微粒子の塗布、金属シートの接
着等いずれの公知技術も用いることが可能である。

【００４９】本発明においては赤外線遮蔽機能を有する
遮蔽フィルター層を設けることが好ましい。８００ｎｍ
から１２００ｎｍまでの赤外線が最も問題であり、この
領域に対し遮蔽機能を有することが好ましい。赤外線遮
蔽機能を付与するには、透明プラスチック支持体に近赤
外吸収性化合物を混合する方法、あるいはこれらの化合
物の溶液または分散液を塗布する方法等を用いることが
できる。例えば銅原子を含有する樹脂組成物（特開平６
−１１８２２８号公報）、銅化合物、リン化合物を含有
する樹脂組成物（特開昭６２−５１９０号公報）、銅化
合物、チオ尿素誘導体を含有する樹脂組成物（特開平６
−７３１９７号公報）、タングステン系化合物を含有す
る樹脂組成物（ＵＳ３６４７７２９号公報）などを利用
することによって容易に製造できる。銀の薄膜を透明支
持体上に成膜する方法が、電磁波遮蔽機能に加えて赤外
線遮蔽機能を持たせる方法として安価であり特に好まし
い。

【００５０】（その他の層）本発明のフィルターにおい
ては、表面にアンチグレア機能（入射光を表面で散乱さ
せて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能）
を付与することもできる。例えば、表面に微細な凹凸を
形成し、そしてその表面に反射防止層を形成するか、あ
るいは反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面
に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を得る
ことができる。アンチグレア機能を有する反射防止層
は、一般に３〜３０％のヘイズを有する。

【００５１】本発明には、ハードコート層、潤滑層、防
汚層、帯電防止層あるいは中間層を設けることもでき
る。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むこ
とが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタ
ン系、エポキシ系、シロキサン系のポリマー、オリゴマ
ーまたはモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）を用いて形
成することができる。シリカ系のフィラーをハードコー
ト層に添加することもできる。反射防止層の最表面には
潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防止層表面に
滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑
層は、ポリオルガノシロキサン（例、シリコンオイ
ル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属
塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成する
ことができる。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍであるこ
とが好ましい。または反射防止層の最表面に防汚層を設
けることもできる。防汚層は反射防止層の表面エネルギ
ーを下げ、親水性、親油性の汚れを付きにくくするもの
である。そのため防汚層は含フッ素ポリマーを用いて形
成される。防汚層の厚さは２ｎｍ〜１００ｎｍ、好まし
くは５ｎｍ〜３０ｎｍである。

【００５２】本発明における種々の層、すなわち選択吸
収層、反射防止層（低屈折率層）、赤外線や電磁波の遮
蔽フィルター層、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、
防汚層等は、一般的な塗布方法により形成することがで
きる。塗布方法の例には、ディップコート法、エアーナ
イフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、
ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびホッパ
ーを使用するエクストルージョンコート法（米国特許２
６８１２９４号明細書記載）が含まれる。二以上の層を
同時塗布により形成してもよい。同時塗布法について
は、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、
同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書お
よび原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７
３年朝倉書店発行）に記載がある。また、本発明におけ
る層の形成方法として、スパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法あるい
はＰＶＤ法も適宜選択することができる。

【００５３】本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラ
ズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネ
ッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（Ｃ
ＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明のフ
ィルターはプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）およ
びその前面板に使用することで顕著な効果を得ることが
できる。

【００５４】実施例１（下塗り層の形成）厚さ１７５μｍの透明な２軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理
した後、両面に屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃
のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス
（日本ゼオン（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を、バーコー
ターを用いて乾燥後の膜厚が、選択吸収フィルター層を
設ける側は３００ｎｍ、反対面の反射防止層を設ける側
は１６０ｎｍとなるように塗布し、１４０℃で乾燥し、
第一の下塗り層を形成した。さらに反射防止層を設ける
側の第一下塗り層の上に屈折率１．５０、ガラス転位温
度５０℃のアクリル系ラテックス（ＨＡ１６、日本アク
リル（株）製）を、バーコーターを用いて乾燥後の膜厚
が２０ｎｍとなるように塗布し、１４０℃で乾燥し、第
二の下塗り層を形成した。（選択吸収フィルター層の形成）低分子量ゼラチンの
７．４重量％水溶液１８０ｇに、染料（ｂ６）０．０６
６ｇおよび染料（ａ６）０．０８８ｇを添加し、４０℃
で３０分間攪拌した後、２μｍのポりプロピレンフィル
ターでろ過した。得られた選択吸収フィルター層用塗布
液を、上記選択吸収フィルター層側の第一下塗り層上
に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が１．９μｍとなる
ように塗布し、１２０℃で１０分間乾燥して選択吸収フ
ィルター層を形成した。

【００５５】（反射防止層の形成）反応性フッ素ポリマ
ー（ＪＮ−７２１９、日本合成ゴム（株）製）２．５０
ｇにt-ブタノール１．３ｇを加え、室温で１０分間攪拌
し、１μｍのポリプロピレンフィルターでろ過した。得
られた低反射防止層用塗布液を、上記反射防止層側の第
二下塗り層上に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が９６
ｎｍとなるように塗布し、１２０℃で１５分間乾燥して
硬化させ、反射防止層を形成した。（粘着剤層の形成）弱いアクリル系の粘着剤を塗工し
た、３８μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフイルム
の粘着剤面を、反射防止層に密着させてラミネートした
後、２５μｍ厚のアクリル系粘着剤を塗工した同じ厚み
のポリエチレンテレフタレートフイルムの粘着剤面を、
選択吸収フィルター層に密着させてラミネートして、粘
着剤層を有し、表面に保護フイルムをつけた本発明のフ
ィルターを作成した。

【００５６】この本発明のフイルターを、粘着剤により
青板ガラスに貼付け、保護フイルムを剥がして分光透過
率を調べたところ、５４０ｎｍと５９３ｎｍに吸収極大
を有し、吸収極大での透過率は、５４０ｎｍの吸収極大
が６１％、５９３ｎｍの吸収極大が２．３％であった。
吸収極大の半値幅は、５９３ｎｍの吸収極大が２５ｎｍ
であった。

【００５７】実施例２（電磁波および赤外線遮蔽層の形成）厚さ１７５μｍの
透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面に、スパッターによりＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯの三層
薄膜を設けた。この三層薄膜系の表面抵抗は５Ω／平方
ｃｍ、８００ｎｍ以上の赤外線透過率は２０％以下であ
った。（下塗り層の形成）この三層薄膜を有する２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレートフィルムの裏面にコロナ処理し
た後、屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃のスチレ
ン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼ
オン（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を、バーコーターを用
いて乾燥後の膜厚が、３００ｎｍとなるように塗布し、
１４０℃で乾燥し、第一の下塗り層を形成した。（選択吸収フィルター層の形成）低分子量ゼラチンの
７．４重量％水溶液１８０ｇに、染料（ｂ７）０．０６
６ｇおよび染料（ａ６）０．０８８ｇを添加し、４０℃
で３０分間攪拌した後、２μｍのポりプロピレンフィル
ターでろ過した。得られた選択吸収フィルター層用塗布
液を、上記選択吸収フィルター層側の第一下塗り層上
に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が１．９μｍとなる
ように塗布し、１２０℃で１０分間乾燥して選択吸収フ
ィルター層を形成した。

【００５８】（反射防止層の形成）多官能アクリルモノ
マー（ペンタエリスリトールテトラアクリレート）およ
び光重合開始剤(イルガキュアー９０７、チバガイギー
（株）製)、および溶剤（ＭＥＫ・ｔＢｕＯＨ）からな
る反射防止層を先の三層薄膜上に乾燥後の膜厚が６０ｎ
ｍとなるように塗布し、乾燥後紫外線照射して反射防止
層を硬化して、反射防止層を形成した。（粘着剤層の形成）実施例１と同様にして、選択吸収フ
ィルター層、反射防止層、および赤外線遮蔽機能と電磁
波遮蔽機能とを有する遮蔽フィルター層を有するフィル
ターに、保護フイルムおよび粘着剤層を形成させ、本発
明のフィルターを作成した。

【００５９】この本発明のフイルターを、粘着剤により
青板ガラスに貼付け、保護フイルムを剥がして分光透過
率を調べたところ、５４０ｎｍと５９３ｎｍに吸収極大
を有し、吸収極大での透過率は、５４０ｎｍの吸収極大
が６３％、５９３ｎｍの吸収極大が３．２％であった。
吸収極大の半値幅は、５９３ｎｍの吸収極大が２５ｎｍ
であった。

【００６０】実施例３および実施例４（１）（反射防止フイルムの作成）実施例１と同様にして、１７５μｍ厚のポリエチレンテ
レフタレートフイルムの片面に第一下塗り層、第二下塗
り層、ハードコート層、反射防止層をこの順に塗工しそ
の上に保護フイルムをラミネートし、反対面に粘着剤層
を設けた反射防止フイルムを作成した。

【００６１】（２）（電磁波および赤外線遮蔽層の形
成）厚み３．５ｍｍの青板ガラスの表面に、スパッターによ
りＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯの三層薄膜を設けた。この三層
薄膜系の表面抵抗は２Ω／平方ｃｍ、８００ｎｍ以上の
赤外線透過率は２０％以下であった。

【００６２】（３）（前面板の作製）（２）で作成した電磁波および赤外線遮断層を有する青
板ガラスの一方の面に実施例１で作製した本発明のフィ
ルターを貼付け、反対の面に（１）の反射防止フイルム
を貼合わせて、ＰＤＰ用の前面板を作成した。（実施例
３）

【００６３】（２）で作成した電磁波および赤外線遮断
層を有する青板ガラスの一方の面に実施例２で作製した
本発明のフィルターを貼付け、反対の面に（１）の反射
防止フイルムを貼合わせて、ＰＤＰ用の前面板を作製し
た。（実施例４）

【００６４】（４）（フィルター機能の評価）プラズマディスプレイパネル（ＰＤＳ４２０２Ｊ−Ｈ、
富士通（株）製）の前面板を取り外し、（３）で作製し
た前面板を、選択吸収フィルター層がプラズマディスプ
レイパネルの画像表示面に向くように本体に取り付け
て、ＰＤＰ１，２を作製した。また実施例２の本発明の
フィルターを直接ＰＤＰ本体に貼合わせたＰＤＰ３も作
製し、性能評価を行った。電磁波および赤外線遮蔽層を
プラズマディスプレイパネルの背面の金属部アースに接
続し、プラズマディスプレイパネルより放射される電磁
波により誘起される電圧をアースに導通し、機能の評価
を実施した。評価項目として、電磁波および赤外線遮へ
い能、表示される画像のコントラストの測定および目視
による色再現性の評価を行った。電磁波遮蔽機能は、Ｐ
ＤＰ１〜３のいずれにおいても、周波数１０ＭＨｚ〜２
００ＭＨｚの範囲で最低９デシベル以上が得られ、情報
処理装置等で規制されている電磁波の外部漏洩レベルを
達成した。また、赤外線領域の遮蔽機能は透過率の低さ
で評価でき、８００ｎｍで約８％、８５０ｎｍでは３％
以下となり、周辺に設置される赤外線リモートコントロ
ール装置に対する妨害を防止できた。コントラストおよ
び目視による色再現性は実施例１〜３のいずれにおいて
も著しく改善された。コントラストは前面板を交換する
前は１０：１であったが実施例ではいずれも１５：１で
あった。前面板の交換前にくらべて、オレンジ色の入っ
た赤が純赤に、緑がかった青が鮮やかな青に、また黄ば
んだ感じの白が純白に改良されていることを確認した。

【００６５】

【発明の効果】上記の通り、本発明によれば、ＰＤＰ等
の画像表示装置または前面板に貼合わせるだけで、画像
の色再現性、コントラストを改良し、放射される有害な
電磁波、赤外線をカットしうる低コストの画像表示装置
用フィルターを提供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明支持体の少なくとも片側に色素およ
びポリマーバインダーを含む選択吸収フィルター層を有
し、片側だけに選択フィルター層を有する場合には選択
フィルター層とは反対側の最上層に、両側に選択フィル
ター層を有する場合にはどちらか一方の側の最上層に反
射防止層を設け、該反射防止層とは反対側に粘着剤層を
設けたことを特徴とする画像表示装置用フィルター。
【請求項２】該選択吸収フィルター層を粘着剤層を設
けた側に有することを特徴とする請求項１に記載の画像
表示装置用フィルター。
【請求項３】さらに赤外線遮蔽機能と電磁波遮蔽機能
の一方あるいは両方の機能を有する遮蔽フィルター層を
透明支持体の少なくとも片側に有することを特徴とする
請求項１または請求項２に記載の画像表示装置用フィル
ター。
【請求項４】さらに赤外線遮蔽機能と電磁波遮蔽機能
の一方あるいは両方の機能を有する遮蔽フィルター層を
反射防止層設けた側に有することを特徴とする請求項１
〜３のいずれかに記載の画像表示装置用フィルター。
【請求項５】該選択吸収フィルター層が、５６０ｎｍ
から６２０ｎｍの範囲に透過率が０．０１から８０％の
吸収極大を持つことを特徴とする請求項１〜４のいずれ
かに記載の画像表示装置用フィルター。
【請求項６】該選択吸収フィルター層が、５００ｎｍ
から５５０ｎｍの範囲に透過率が２０から８５％の極大
吸収、および５６０ｎｍから６２０ｎｍの範囲に透過率
が０．０１から８０％の吸収極大を持つことを特徴とす
る請求項１〜５のいずれかに記載の画像表示装置用フィ
ルター。
【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載のフィル
ターを用いることを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネル用の前面板。
【請求項８】請求項７に記載の前面板を用いたプラズ
マディスプレイパネル。