JP2001013317A - Filter for image display device - Google Patents
Filter for image display deviceInfo
- Publication number
- JP2001013317A JP2001013317A JP11184005A JP18400599A JP2001013317A JP 2001013317 A JP2001013317 A JP 2001013317A JP 11184005 A JP11184005 A JP 11184005A JP 18400599 A JP18400599 A JP 18400599A JP 2001013317 A JP2001013317 A JP 2001013317A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- filter
- display device
- image display
- selective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体、選択
吸収フィルター層を有し、表面に反射防止層、反対面に
粘着剤を有する画像表示装置用のフィルターに関する。
特に、本発明はCRT、プラズマディスプレイパネル
(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ
(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表示管、
電界放射型ディスプレイのような蛍光を利用する画像表
示装置の、色再現性改良、反射防止、赤外線遮断、さら
には電磁波遮断のために、画像装置または前面板に貼合
わされるフィルターに関する。The present invention relates to a filter for an image display device having a transparent support, a selective absorption filter layer, an antireflection layer on the surface, and an adhesive on the opposite surface.
In particular, the present invention relates to a CRT, a plasma display panel (PDP), an electroluminescent display (ELD), a cathode ray tube display (CRT), a fluorescent display tube,
The present invention relates to a filter attached to an image device or a front plate for improving color reproducibility, preventing reflection, blocking infrared rays, and blocking electromagnetic waves of an image display device using fluorescence such as a field emission display.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来プラズマディスプレイパネル(PD
P)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表示管、電界放
射型ディスプレイ(FED)等の画像表示装置において
は、赤、青、緑の三原色蛍光体の発色により、フルカラ
ー表示を行っている。しかし蛍光体によるこれら三原色
の発光スペクトルを理想的なものにすることは非常に難
しく、またプラズマディスプレイではこれらの三原色の
他に、ネオンからの余分な蛍光(波長が500乃至62
0nmの範囲)が加わり、理想的な色再現性が得られな
いという問題があった。これを改良するため、特定波長
の光を吸収するフィルターを用いることが、特開昭58
−153904号、同61−188501号、特開平3
−231988号、同5−205643号、同9−14
5918号、同9−306366号、同10−2670
4号の各公報に記載されている。2. Description of the Related Art Conventional plasma display panels (PDs)
P), a cathode ray tube display (CRT), a fluorescent display tube, and a field emission display (FED), etc., perform full-color display by using three primary color phosphors of red, blue, and green. However, it is very difficult to make the emission spectrum of these three primary colors by a phosphor ideal. Further, in a plasma display, in addition to these three primary colors, extra fluorescence from neon (wavelength of 500 to 62) is used.
(A range of 0 nm), and there is a problem that ideal color reproducibility cannot be obtained. In order to improve this, a filter that absorbs light of a specific wavelength is used.
Nos. 153904 and 61-188501,
-231988, 5-205564, 9-14
No. 5918, No. 9-306366, No. 10-2670
No. 4 is described in each gazette.
【0003】またこれらの画像表示装置には、背景が映
り込むことでコントラストが低下する問題があり、この
解決のため、蒸着あるいは塗布による反射防止膜が提案
されている。蒸着は反射防止の点で優れているが、塗布
には製造が容易で低コストと言う利点がある。蒸着は眼
鏡やカメラのレンズの反射防止膜として古くから用いら
れている方法であり、例えば、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法、CVD法あるいはP
VD法等を挙げることができる。塗布は微粒子およびバ
インダーを含む塗布液を支持体に塗布する方法であり、
特開昭59−49501号,同59−50401号、同
60−59250号、特開平7−48527号の各公報
に記載されている。[0003] Further, these image display devices have a problem that the background is reflected and the contrast is reduced. To solve this problem, an antireflection film formed by vapor deposition or coating has been proposed. Although vapor deposition is excellent in terms of antireflection, coating has the advantages of easy production and low cost. Vapor deposition is a method that has long been used as an antireflection film for glasses and camera lenses. For example, vacuum deposition, sputtering, ion plating, CVD, or P
VD method and the like can be mentioned. Coating is a method of applying a coating solution containing fine particles and a binder to a support,
These are described in JP-A-59-49501, JP-A-59-50401, JP-A-60-59250 and JP-A-7-48527.
【0004】前記の特定の波長の光を吸収するフィルタ
ーに、反射防止機能を組み込むことも考えられる。例え
ば特開昭61−188501号、特開平5−20564
3号、同9−145918号、同9−306366号、
同10−26704号の各公報には、反射防止機能が組
み込まれた光学フィルターが開示されている。特開昭6
1−188501号、特開平5−205643号、同9
−145918号、同9−306366号の各公報に記
載の光学フィルターでは、透明支持体に染料または顔料
を添加して、支持体をフィルターとして機能させてい
る。特開平10−26704号公報記載の光学フィルタ
ーでは、透明支持体と反射防止層との間に設けられるハ
ードコート層(表面硬化層)を着色し、ハードコート層
をフィルターとして機能させている。[0004] It is conceivable to incorporate an anti-reflection function into a filter that absorbs light of the above-mentioned specific wavelength. For example, JP-A-61-188501, JP-A-5-20564
No. 3, 9-145918, 9-306366,
Each publication of JP-A-10-26704 discloses an optical filter having an antireflection function incorporated therein. JP 6
1-188501, JP-A-5-205643, 9
In the optical filters described in JP-A-145918 and JP-A-9-306366, a dye or a pigment is added to a transparent support so that the support functions as a filter. In the optical filter described in JP-A-10-26704, a hard coat layer (surface hardened layer) provided between a transparent support and an antireflection layer is colored, and the hard coat layer functions as a filter.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】反射防止膜の透明支持
体あるいはハードコート層を着色すれば、透明支持体ま
たはハードコート層がフィルターとして機能する。しか
し、透明支持体やハードコート層に添加できる染料や顔
料は、種類が非常に限られる。透明支持体は、プラスチ
ックまたはガラス(通常はプラスチック)から製造す
る。透明支持体に添加する染料や顔料には、支持体製造
時の温度に耐えられる耐熱性が要求される。色再現性改
良に使用する染料または顔料には、画像表示装置の種類
に応じて、様々な吸収スペクトル特性が要求されるた
め、耐熱性等の他の限定が加えられると、適切な補正に
よる色再現性改良が難しくなる。本発明者は、使用でき
る染料や顔料の種類に制約の多い透明支持体やハードコ
ート層とは異なる層を選択吸収フィルター層として機能
させ、適切な画像表示装置の色補正を行うことを試み
た。本発明の目的は、色再現性改良効果に優れ、反射防
止層を有し、容易に画像表示装置に組み込むことができ
るフィルターを提供することであり、さらには、反射防
止機能に加えて近赤外線遮蔽機能、電磁波遮蔽機能を有
するフィルターを提供することである。If the transparent support or the hard coat layer of the antireflection film is colored, the transparent support or the hard coat layer functions as a filter. However, the types of dyes and pigments that can be added to the transparent support and the hard coat layer are very limited. The transparent support is made from plastic or glass (usually plastic). Dyes and pigments added to the transparent support are required to have heat resistance that can withstand the temperature during the production of the support. Dyes or pigments used for improving color reproducibility are required to have various absorption spectrum characteristics depending on the type of the image display device. It is difficult to improve reproducibility. The present inventors have tried to make a layer different from a transparent support or a hard coat layer, which has many restrictions on the types of dyes and pigments that can be used, function as a selective absorption filter layer and perform appropriate color correction of an image display device. . An object of the present invention is to provide a filter which has an excellent effect of improving color reproducibility, has an anti-reflection layer, and can be easily incorporated into an image display device. An object of the present invention is to provide a filter having a shielding function and an electromagnetic wave shielding function.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
発明により達成された。 (1)透明支持体の少なくとも片側に色素(顔料または
染料)およびポリマーバインダーを含む選択吸収フィル
ター層を有し、片側だけに選択フィルター層を有する場
合には選択フィルター層とは反対側の最上層に、両側に
選択フィルター層を有する場合にはどちらか一方の側の
最上層に反射防止層を設け、該反射防止層とは反対側に
粘着剤層を設けたことを特徴とする画像表示装置用フィ
ルター。 (2)該選択吸収フィルター層を粘着剤層を設けた側に
有することを特徴とする(1)に記載の画像表示装置用
フィルター。 (3)さらに赤外線遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の一方あ
るいは両方の機能を有する遮蔽フィルター層を透明支持
体の少なくとも片側に有することを特徴とする(1)ま
たは(2)に記載の画像表示装置用フィルター。 (4)さらに赤外線遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の一方あ
るいは両方の機能を有する遮蔽フィルター層を反射防止
層設けた側に有することを特徴とする(1)〜(3)の
いずれかに記載の画像表示装置用フィルター。 (5)該選択吸収フィルター層が、560nmから62
0nmの範囲に透過率が0.01から80%の吸収極大
を持つことを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記
載の画像表示装置用フィルター。 (6)該選択吸収フィルター層が、500nmから55
0nmの範囲に透過率が20から85%の極大吸収、お
よび560nmから620nmの範囲に透過率が0.0
1から80%の吸収極大を持つことを特徴とする(1)
〜(5)のいずれかに記載の画像表示装置用フィルタ
ー。 (7)(1)〜(6)のいずれかに記載のフィルターを
用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用
の前面板。 (8)(7)に記載の前面板を用いたプラズマディスプ
レイパネル。The object of the present invention has been attained by the following inventions. (1) At least one side of the transparent support has a selective absorption filter layer containing a dye (pigment or dye) and a polymer binder, and when only one side has a selective filter layer, the uppermost layer opposite to the selective filter layer An image display device characterized in that, when a selective filter layer is provided on both sides, an antireflection layer is provided on the uppermost layer on one side, and an adhesive layer is provided on the side opposite to the antireflection layer. Filter. (2) The filter for an image display device according to (1), wherein the selective absorption filter layer is provided on the side provided with the pressure-sensitive adhesive layer. (3) The image display device according to (1) or (2), further including a shielding filter layer having one or both of an infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function on at least one side of the transparent support. filter. (4) The image according to any one of (1) to (3), further including a shielding filter layer having one or both of an infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function on the side where the antireflection layer is provided. Filter for display device. (5) The selective absorption filter layer has a wavelength of 560 nm to 62 nm.
The image display device filter according to any one of (1) to (4), wherein the filter has an absorption maximum having a transmittance of 0.01 to 80% in a range of 0 nm. (6) The selective absorption filter layer has a thickness of 500 nm to 55 nm.
A maximum absorption having a transmittance of 20 to 85% in a range of 0 nm and a transmittance of 0.0 in a range of 560 nm to 620 nm.
(1) characterized by having an absorption maximum of 1 to 80%
The filter for an image display device according to any one of (1) to (5). (7) A front plate for a plasma display panel, wherein the filter according to any one of (1) to (6) is used. (8) A plasma display panel using the front plate according to (7).
【0007】本発明者は画像表示装置の色再現性を改良
する選択吸収フィルター層を有し、最表面に反射防止
層、反対面に粘着剤層を有する透明支持体を、プラズマ
ディスプレイ等の画像表示装置自身、あるいは前面板に
貼合わせることを検討した。選択吸収フィルター層を有
する透明支持体を、粘着剤で貼合わせることが可能とな
った結果、様々な種類の染料をフィルター層に使用でき
るようになった。例えば、ハロゲン化銀写真の分野で
は、様々な写真用染料が開発されている。写真用染料の
吸収スペクトル特性も詳細に研究されている。またその
他様々の機能を有する層を積層することができるように
なり、反射防止特性に加えて、近赤外線遮蔽特性、電磁
波遮蔽特性、耐傷性等様々の機能を有する画像表示装置
用のフィルターが可能となり、それを画像表示装置自身
あるいは前面板に貼合わせることで、画像の色再現性お
よび表面反射の減少による視認性の改良が可能となり、
また表示装置から放射される不用な赤外線、電磁波等を
遮断でき、画像表面に傷等が付きにくくなるなどの性能
改良が可能となった。特に、本発明は支持体の一方の側
の最表面に反射防止層を、他方の側に粘着剤層を配置す
る構成をとることにより、特に画像の色再現性、コント
ラストの改善が達成された。The present inventor has proposed a transparent support having a selective absorption filter layer for improving the color reproducibility of an image display device, an anti-reflection layer on the outermost surface, and an adhesive layer on the opposite surface. We considered attaching it to the display device itself or to the front panel. As a result that the transparent support having the selective absorption filter layer can be bonded with an adhesive, various types of dyes can be used for the filter layer. For example, in the field of silver halide photography, various photographic dyes have been developed. The absorption spectral properties of photographic dyes have also been studied in detail. In addition, layers with various other functions can be laminated, and in addition to anti-reflection properties, filters for image display devices that have various functions such as near-infrared shielding properties, electromagnetic shielding properties, and scratch resistance are possible. By attaching it to the image display device itself or the front panel, it becomes possible to improve the color reproducibility of the image and the visibility by reducing the surface reflection,
Further, it is possible to block unnecessary infrared rays, electromagnetic waves, and the like radiated from the display device, and to improve the performance such that the image surface is hardly damaged. In particular, the present invention has a structure in which an anti-reflection layer is disposed on the outermost surface on one side of the support, and an adhesive layer is disposed on the other side, and particularly, color reproducibility of an image and improvement in contrast have been achieved. .
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。 (プラズマディスプレイ)発明においてプラズマディス
プレイパネル(PDP)とは、ガス、ガラス基板、電
極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成
される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基
板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を
形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成
する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを
封入する。前面板とは該プラズマディスプレイパネルの
前面に位置する基板のことである。前面板はプラズマデ
ィスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えて
いることが好ましい。前面板はプラズマディスプレイパ
ネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマ
ディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。
本発明におけるプラズマディスプレイ表示装置とは少な
くともプラズマディスプレイパネル本体と筐体をふくむ
表示装置全体のことである。前面板を有する場合はこれ
もプラズマディスプレイ表示装置に含まれる。プラズマ
ディスプレイパネル(PDP)は、既に市販されてい
る。プラズマディスプレイパネルについては、特開平5
−205643号、同9−306366号の各公報に記
載がある。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. (Plasma Display) In the invention, a plasma display panel (PDP) is composed of a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. The front plate is a substrate located in front of the plasma display panel. The front plate preferably has sufficient strength to protect the plasma display panel. The front panel can be used with a gap from the plasma display panel, or can be used directly attached to the plasma display body.
The plasma display device according to the present invention is an entire display device including at least a plasma display panel main body and a housing. If it has a front panel, this is also included in the plasma display device. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. Regarding the plasma display panel, see
JP-A-205643 and JP-A-9-306366.
【0009】(選択吸収フィルター層)本発明における
選択吸収フィルター層は、560nm〜620nmの間
に吸収極大を有していることが好ましく、その透過率は
吸収極大波長において0.01%〜80%の間であり、
好ましくは0.01%〜60%の間であり、特に好まし
くは0.01〜40%の間である。波長が560nm〜
620nmの範囲の吸収は、なるべく緑の蛍光体の必要
な発光領域に影響を与えないよう選択的に光をカットす
るために、シャープであることが好ましい。具体的に
は、波長が560nm〜620nmの範囲の吸収極大で
の半値幅は、5nm〜200nmであることが好まし
く、10nm〜100nmであることがより好ましく、
10nm〜50nmであることが最も好ましい。(Selective Absorption Filter Layer) The selective absorption filter layer of the present invention preferably has an absorption maximum between 560 nm and 620 nm, and its transmittance is 0.01% to 80% at the absorption maximum wavelength. Between
It is preferably between 0.01% and 60%, particularly preferably between 0.01 and 40%. Wavelength is 560nm ~
The absorption in the range of 620 nm is preferably sharp in order to selectively cut off the light so as not to affect the necessary emission region of the green phosphor as much as possible. Specifically, the half-width at the absorption maximum in the wavelength range of 560 nm to 620 nm is preferably 5 nm to 200 nm, more preferably 10 nm to 100 nm,
Most preferably, it is 10 nm to 50 nm.
【0010】該選択吸収フィルター層は、560nm〜
620nmの吸収極大に加えて、500nm〜550n
mに吸収極大を有することが好ましい。500nm〜5
50nmの範囲の透過率は吸収極大波長において20%
〜85%の範囲であることが好ましく、40%〜85%
であることがより好ましく、50%から80%であるこ
とが最も好ましい。波長が500nm〜550nmの範
囲の吸収の極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度
をなだらかにカットすることで強度を調整するために設定
されることから、波長が500nm〜550nmの範囲
の吸収極大での半値幅(吸収極大での吸光度の半分の吸
光度を示す波長領域の幅)は、30nm〜300nmで
あることが好ましく、40nm〜300nmであること
がより好ましく、50nm〜150nmであることがさ
らに好ましく、60nm〜150nmであることが最も
好ましい。The selective absorption filter layer has a wavelength of 560 nm or more.
500 nm to 550 n in addition to the absorption maximum at 620 nm
It is preferred that m has an absorption maximum. 500 nm-5
The transmittance in the range of 50 nm is 20% at the maximum absorption wavelength.
To 85%, preferably 40% to 85%.
Is more preferable, and most preferably 50% to 80%. Since the absorption maximum in the wavelength range of 500 nm to 550 nm is set to adjust the intensity by gently cutting the emission intensity of the green phosphor with high visibility, the wavelength is in the range of 500 nm to 550 nm. The half width at the absorption maximum (width of the wavelength region showing half the absorbance at the absorption maximum) is preferably 30 nm to 300 nm, more preferably 40 nm to 300 nm, and more preferably 50 nm to 150 nm. More preferably, it is most preferably from 60 nm to 150 nm.
【0011】(色素:顔料または染料)本発明において
上記の吸収スペクトルを実現するために、選択吸収フィ
ルター層には色素(顔料または染料)が用いられる。波
長が500nm〜550nmの範囲に吸収極大を持つ色
素としては、スクアリリウム系、アゾメチン系、シアニ
ン系、オキソノール系、アントラキノン系、アゾ系また
はベンジリデン系の化合物が好ましく用いられる。アゾ
染料としては、GB539703号、同575691
号、US2956879号および堀口博著「総説 合成
染料」三共出版などに記載の多くのアゾ染料を使用する
ことができる。なかでも、下記一般式(a6)で表わさ
れるアゾ染料が好ましい。波長が500nm〜550n
mの範囲に吸収極大を持つ色素の例を以下に示す。(Dye: Pigment or Dye) In the present invention, a dye (pigment or dye) is used in the selective absorption filter layer in order to realize the above absorption spectrum. As the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 500 nm to 550 nm, a squarylium-based, azomethine-based, cyanine-based, oxonol-based, anthraquinone-based, azo- or benzylidene-based compound is preferably used. Examples of azo dyes include GB 593,703 and 575,691.
Many azo dyes described in U.S. Pat. No. 2,956,879 and Hiroshi Horiguchi, "Reviews Synthetic Dyes", published by Sankyo Publishing Co., Ltd. can be used. Among them, azo dyes represented by the following general formula (a6) are preferred. Wavelength is 500nm ~ 550n
Examples of the dye having an absorption maximum in the range of m are shown below.
【0012】[0012]
【化1】 Embedded image
【0013】[0013]
【化2】 Embedded image
【0014】[0014]
【化3】 Embedded image
【0015】[0015]
【化4】 Embedded image
【0016】[0016]
【化5】 Embedded image
【0017】[0017]
【化6】 Embedded image
【0018】[0018]
【化7】 Embedded image
【0019】[0019]
【化8】 Embedded image
【0020】[0020]
【化9】 Embedded image
【0021】[0021]
【化10】 Embedded image
【0022】[0022]
【化11】 Embedded image
【0023】波長が560nm〜620nmの範囲に吸
収極大を持つ色素としては、シアニン系、スクアリリウ
ム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系ま
たはアゾ系の化合物が好ましく用いられる。波長が56
0nm〜620nmの範囲に吸収極大を持つ色素の例を
以下に示す。As the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 560 nm to 620 nm, cyanine, squarylium, azomethine, xanthene, oxonol and azo compounds are preferably used. Wavelength is 56
Examples of the dye having an absorption maximum in the range of 0 nm to 620 nm are shown below.
【0024】[0024]
【化12】 Embedded image
【0025】[0025]
【化13】 Embedded image
【0026】[0026]
【化14】 Embedded image
【0027】[0027]
【化15】 Embedded image
【0028】[0028]
【化16】 Embedded image
【0029】[0029]
【化17】 Embedded image
【0030】[0030]
【化18】 Embedded image
【0031】[0031]
【化19】 Embedded image
【0032】[0032]
【化20】 Embedded image
【0033】[0033]
【化21】 Embedded image
【0034】[0034]
【化22】 Embedded image
【0035】本発明における選択吸収フィルター層に
は、以上のような2種類以上の色素を組み合わせて用い
ることができる。また、波長が500nm〜550nm
の範囲と波長が560nm〜620nmの範囲の両方に
吸収極大を持つ色素を選択吸収フィルター層に用いるこ
ともできる。例えば、色素を微粒子分散物のような会合
体の状態にすると、一般に波長が長波長側にシフトし
て、ピークがシャープになる。そのため、波長が500
nm〜550nmの範囲に吸収極大を持つ色素には、そ
の会合体が560nm〜620nmの範囲に吸収極大を
持つものもある。そのような色素が部分的に会合体を形
成した状態で使用すると、波長が500nm〜550n
mの範囲と波長が560nm〜620nmの範囲の両方
に吸収極大を得ることができる。そのような色素の例を
以下に示す。In the selective absorption filter layer of the present invention, two or more kinds of dyes as described above can be used in combination. Further, the wavelength is 500 nm to 550 nm.
And a dye having an absorption maximum in both the range of 560 nm to 620 nm can be used in the selective absorption filter layer. For example, when the pigment is in an aggregated state such as a fine particle dispersion, the wavelength generally shifts to a longer wavelength side, and the peak becomes sharp. Therefore, if the wavelength is 500
Some dyes having an absorption maximum in the range of nm to 550 nm have an aggregate having an absorption maximum in the range of 560 nm to 620 nm. When used in a state where such a dye is partially formed into an aggregate, the wavelength is 500 nm to 550 n.
The absorption maximum can be obtained both in the range of m and in the range of 560 nm to 620 nm. Examples of such dyes are shown below.
【0036】[0036]
【化23】 Embedded image
【0037】[0037]
【化24】 Embedded image
【0038】本発明の選択吸収フィルター層の厚さは
0.1μm乃至5cmであることが好ましく、0.5μ
m乃至100μmであることがさらに好ましい。The thickness of the selective absorption filter layer of the present invention is preferably 0.1 μm to 5 cm, and 0.5 μm to 5 μm.
More preferably, the thickness is from m to 100 μm.
【0039】(ポリマー)本発明の選択吸収フィルター
層には、ポリマーがバインダーとして含まれる。その好
ましい具体例としては天然ポリマー(例、ゼラチン、酸
処理ゼラチン、石灰処理ゼラチン、低分子量ゼラチン、
セルロース誘導体、アルギン酸、ペクチン、カラギーナ
ン、ローカストビーンガム)または合成ポリマー(例、
ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルピロリドン、ポビニルアルコール、ポリ塩化ビ
ニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド)を挙げるこ
とができる。この中で親水性ポリマー(上記天然ポリマ
ー、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポ
ビニルアルコール、水溶性ポリアミド)、および水分散
ポリマーラテックス(スチレンブタジエンラバー、ポリ
塩化ビニリデン)が特に好ましい。(Polymer) The selective absorption filter layer of the present invention contains a polymer as a binder. Preferred specific examples thereof include natural polymers (eg, gelatin, acid-treated gelatin, lime-treated gelatin, low molecular weight gelatin,
Cellulose derivatives, alginic acid, pectin, carrageenan, locust bean gum) or synthetic polymers (eg,
Polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, and water-soluble polyamide). Among them, hydrophilic polymers (the above-mentioned natural polymers, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, and water-soluble polyamide) and water-dispersed polymer latex (styrene butadiene rubber, polyvinylidene chloride) are particularly preferable.
【0040】(透明支持体)本発明で使用することので
きる好ましい透明支持体の具体例としては、セルロース
エステル(例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセ
ルロース(TAC)、プロピオニルセルロース、ブチリ
ルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニト
ロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリ
エステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、
ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’
−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレー
ト)、ポリアリレート(例、ビスフェノールAとフタル
酸の縮合物)、ポリスチレン(例、シンジオタクチック
ポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、アクリル(ポ
リメチルメタクリレート)、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド
およびポリオキシエチレンを挙げることができる。この
中でトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレートお
よびポリエチレンナフタレートが特に好ましい。透明支
持体の厚みは5μm以上5cm以下であることが好まし
く、25μm以上1cm以下であることがさらに好まし
く、80μm以上1.2mm以下であることが最も好ま
しい。透明支持体の透過率は80%以上であることが好
ましく、86%以上であることがさらに好ましい。ヘイ
ズは、2%以下であることが好ましく、1%以下である
ことがさらに好ましい。屈折率は、1.45〜1.70
であることが好ましい。(Transparent Support) Specific examples of preferred transparent supports that can be used in the present invention include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl). Cellulose, nitrocellulose), polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate,
Polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4 '
-Dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polyarylate (eg, condensate of bisphenol A and phthalic acid), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene,
Polypropylene, polymethylpentene), acrylic (polymethylmethacrylate), polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene. Among them, triacetyl cellulose, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferred. The thickness of the transparent support is preferably 5 μm or more and 5 cm or less, more preferably 25 μm or more and 1 cm or less, and most preferably 80 μm or more and 1.2 mm or less. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze is preferably at most 2%, more preferably at most 1%. Refractive index is 1.45 to 1.70
It is preferable that
【0041】透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫
外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量
は、透明支持体の0.01〜20重量%であることが好
ましく、0.05〜10重量%であることがさらに好ま
しい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を
透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、S
iO2、TiO2、BaSO4、CaCO3、タルクおよび
カオリンが含まれる。An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of the infrared absorber added is preferably 0.01 to 20% by weight of the transparent support, more preferably 0.05 to 10% by weight. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of inorganic compounds include S
iO 2, TiO 2, BaSO 4 , CaCO 3, talc and kaolin.
【0042】透明支持体には下塗り層との接着性をより
強固にするために表面処理を施すことが好ましい。表面
処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処
理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放
電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、
およびオゾン酸化処理を挙げることができ、グロー放電
処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火炎処理
が好ましく、コロナ放電処理がさらに好ましい。The transparent support is preferably subjected to a surface treatment in order to further enhance the adhesiveness with the undercoat layer. Examples of surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment,
Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferable, and corona discharge treatment is more preferable.
【0043】(下塗り層)本発明では、今まで述べた選
択吸収フィルター層あるいは後述する他の層をを支持体
上に設ける場合に、支持体に下塗り層を設けることがで
きる。下塗り層としては室温での弾性率が1000乃至
1MPa、好ましくは800乃至5MPa、さらに好ま
しくは500乃至10MPaの柔らかいポリマーが好ま
しい。またその厚みは好ましくは2nm乃至20μm、
さらに好ましくは5nm乃至5μm、最も好ましくは5
0nm乃至1μmである。下塗り層に使用されるポリマ
ーはガラス転移温度が60℃以下−60℃以上のものが
好ましい。ガラス転移温度が60℃以下−60℃以上の
ポリマーの例としては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロ
ロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、アクリロニトリルまたはメチルビニルエーテルの重
合または共重合させたものを挙げることができる。また
下塗りは複数層設けることができ2層設けることが好ま
しい。(Undercoat Layer) In the present invention, when the above-described selective absorption filter layer or another layer described later is provided on the support, an undercoat layer can be provided on the support. As the undercoat layer, a soft polymer having an elastic modulus at room temperature of 1,000 to 1 MPa, preferably 800 to 5 MPa, more preferably 500 to 10 MPa is preferable. The thickness is preferably 2 nm to 20 μm,
More preferably 5 nm to 5 μm, most preferably 5 nm
It is 0 nm to 1 μm. The polymer used in the undercoat layer preferably has a glass transition temperature of 60C or lower and -60C or higher. Examples of the polymer having a glass transition temperature of 60 ° C. or lower and −60 ° C. or higher include vinyl chloride, vinylidene chloride,
Examples thereof include those obtained by polymerization or copolymerization of vinyl acetate, butadiene, neoprene, styrene, chloroprene, acrylate, methacrylate, acrylonitrile or methyl vinyl ether. The undercoating can be provided in a plurality of layers, and is preferably provided in two layers.
【0044】(反射防止層)本発明においては可視光に
対する反射防止能を有する反射防止層が設けられる。反
射防止層の反射率は正反射率として3.0%以下が好ま
しく、さらに好ましくは1.8%以下である。反射防止
層としては通常低屈折率層を設ける。低屈折率層の屈折
率は、その下層の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折
率は、1.2〜1.55であることが好ましく、1.2
0〜1.50であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、50nm〜400nmであることが好まし
く、50nm〜200nmであることがさらに好まし
い。低屈折率層の例としては、屈折率の低い含フッ素ポ
リマーからなる層(特開昭57−34526号、特開平
3−130103号、同6−115023号、同8−3
13702号、同7−168004号の各公報記載)、
ゾルゲル法により得られる層(特開平5−208811
号、同6−299091号、同7−168003号の各
公報記載)、あるいは微粒子を含む層(特公昭60−5
9250号、特開平5−13021号、同6−5647
8号、同7−92306号、同9−288201号の各
公報に記載)を挙げることができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、3%〜50体積%の空隙率を有することが好まし
く、5%〜35体積%の空隙率を有することがさらに好
ましい。(Anti-reflection layer) In the present invention, an anti-reflection layer having an anti-reflection function for visible light is provided. The reflectance of the antireflection layer is preferably 3.0% or less, more preferably 1.8% or less, as a regular reflectance. Usually, a low refractive index layer is provided as an antireflection layer. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the lower layer. The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.2 to 1.55, and
More preferably, it is 0 to 1.50. The thickness of the low refractive index layer is preferably from 50 nm to 400 nm, and more preferably from 50 nm to 200 nm. Examples of the low refractive index layer include layers made of a fluoropolymer having a low refractive index (JP-A-57-34526, JP-A-3-130103, JP-A-6-115023, and JP-A-8-15023).
Nos. 13702, 7-168004).
Layer Obtained by Sol-Gel Method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-2088811)
Nos. 6-299091 and 7-168003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-5).
No. 9250, JP-A-5-13021 and JP-A-6-5647.
No. 8, No. 7-92306, and No. 9-288201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing the fine particles preferably has a porosity of 3% to 50% by volume, and more preferably 5% to 35% by volume.
【0045】広い波長領域の反射を防止するためには、
屈折率の高い層(中・高屈折率)の上に低屈折率層に、
屈折率の高い層(中・高屈折率層)を積層することが好
ましい。高屈折率層の屈折率は、1.65〜2.40で
あることが好ましく、1.70〜2.20であることが
さらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の
屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように
調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.90
であることが好ましい。中・高屈折率層の厚さは、5n
m〜100μmであることが好ましく、10nm〜10
μmであることがさらに好ましく、30nm〜1μmで
あることが最も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、
5%以下であることが好ましく、3%以下であることが
さらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。
中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマー
を用いて形成することができる。屈折率が高いポリマー
の例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカー
ボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートと
ポリオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれ
る。その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有
するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基と
して有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入
してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によ
りポリマーを形成してもよい。In order to prevent reflection in a wide wavelength range,
On the low refractive index layer on the high refractive index layer (medium / high refractive index),
It is preferable to stack layers having a high refractive index (medium / high refractive index layers). The refractive index of the high refractive index layer is preferably from 1.65 to 2.40, and more preferably from 1.70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is 1.50 to 1.90.
It is preferable that The thickness of the middle / high refractive index layer is 5n
m to 100 μm, preferably 10 nm to 10 μm.
μm, more preferably 30 nm to 1 μm. The haze of the middle / high refractive index layer is
It is preferably at most 5%, more preferably at most 3%, most preferably at most 1%.
The middle / high refractive index layer can be formed using a polymer having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. . Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.
【0046】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80〜2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) of the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn,
Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, S
i, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in solvents or are themselves liquid, such as alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) combined with coordination compounds, activity The middle / high refractive index layer can be formed using an inorganic polymer.
【0047】(粘着剤層)本発明の粘着剤層に用いられ
る粘着剤の好ましい具体例としては、天然ゴム系、SB
R系(スチレンーブタジエンのランダム共重合体、スチ
レンーイソプレンースチレンブロックポリマー)、ブチ
ルゴム系、再生ゴム系、アクリル系(ポリアクリル酸ブ
チル、ポリアクリル酸2−エチルヘキシル、ポリアクリ
ル酸)、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニ
ルブチルエーテル等を挙げることができる。その中でも
アクリル系がより好ましい。粘着剤に関しては、木村
馨、砂川誠ほか著、高分子学会編集「高機能接着剤・粘
着剤」等に記載されているものを用いることができる。
粘着剤層は、これらの粘着剤を水または溶剤に、溶解あ
るいは分散した塗布液を、本発明の透明支持体の反射防
止層の反対側に直接塗布、乾燥することで得られるが、
予め剥離性の良好なをPET等の支持体上に、粘着剤層
を設けたものを反射防止層の反対側にラミネートして粘
着剤層を設けることもできる。(Adhesive Layer) Preferred examples of the adhesive used in the adhesive layer of the present invention include natural rubber, SB and the like.
R type (random copolymer of styrene butadiene, styrene-isoprene-styrene block polymer), butyl rubber type, recycled rubber type, acrylic type (polybutyl acrylate, polyethyl 2-ethylhexyl, polyacrylic acid), polyisobutylene , Silicone rubber, polyvinyl butyl ether and the like. Among them, acrylic is more preferable. As the pressure-sensitive adhesive, those described in Kaoru Kimura, Makoto Sunagawa et al., Edited by the Society of Polymer Science, "Highly functional adhesives / pressure-sensitive adhesives" can be used.
The pressure-sensitive adhesive layer is obtained by directly applying and drying a coating solution in which these pressure-sensitive adhesives are dissolved or dispersed in water or a solvent, on the opposite side of the antireflection layer of the transparent support of the present invention,
A pressure-sensitive adhesive layer may be provided by previously laminating an adhesive layer having good releasability on a support such as PET on the opposite side of the antireflection layer.
【0048】(電磁波遮断層)本発明のフィルターに
は、電磁波遮蔽機能を有する電磁波遮蔽層を設けること
ができる。電磁波遮蔽層の表面抵抗は0.01〜500
Ω/□、より好ましくは0.01〜10Ω/□である。
電磁波遮蔽層は、透過率を低下させないため透明導電層
であることが好ましい。透明導電層としては、金属層、
金属酸化物層、導電性ポリマー層等を挙げるこができ
る。金属層を形成する金属としては、例えば銀、パラジ
ウム、金、白金、ロジウム、アルミニウム、鉄、コバル
ト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、錫、タングステ
ン、イリジウム、鉛単独もしくはこれらの2種以上の合
金を挙げることができるが、好ましくは銀、パラジウ
ム、金、白金、ロジウム単独もしくはこれらの合金であ
る。この中で銀とパラジウムの合金が好ましく、このと
き銀の含有率は60重量%乃至99重量%が好ましく、
80重量%乃至98重量%が更に好ましい。金属層の膜
厚は1〜100nmが好ましく、5〜40nmが更に好
ましく、10〜30nmが最も好ましい。膜厚が1nm
未満では電磁波遮蔽効果が乏しく、100nmを超える
と可視光線の透過率が低下する。金属酸化物層を形成す
る金属酸化物としては、例えば酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ITO、ATOなどを
挙げることができる。この膜厚は20〜1000nmが
好ましい。さらに好ましくは40〜100nmである。
これら金属層から成る透明導電層と金属酸化物層から成
る透明導電層とを合わせて用いるのも好ましい。また、
同一層内に金属と金属酸化物が共存することも好まし
い。金属層の保護、酸化劣化防止および可視光線の透過
率を高めるために透明酸化物層を積層することができ
る。この透明酸化物層は導電性があってもなくてもかま
わない。透明酸化物層としては例えば2〜4価金属の酸
化物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウ
ム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび金属アルコキ
サイド化合物等の薄膜が挙げられる。透明導電層、透明
酸化物層を形成する方法としては特に制限はなく、任意
の加工処理方法を選択することが可能である。例えばス
パッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング
法、プラズマCVD法あるいはPVD法、該当する金属
あるいは金属酸化物の超微粒子の塗布、金属シートの接
着等いずれの公知技術も用いることが可能である。(Electromagnetic Wave Blocking Layer) The filter of the present invention may be provided with an electromagnetic wave shielding layer having an electromagnetic wave shielding function. The surface resistance of the electromagnetic wave shielding layer is 0.01 to 500
Ω / □, more preferably 0.01 to 10 Ω / □.
The electromagnetic wave shielding layer is preferably a transparent conductive layer so as not to lower the transmittance. As the transparent conductive layer, a metal layer,
Examples include a metal oxide layer and a conductive polymer layer. Examples of the metal forming the metal layer include silver, palladium, gold, platinum, rhodium, aluminum, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, ruthenium, tin, tungsten, iridium, and lead alone or an alloy of two or more of these. Among them, silver, palladium, gold, platinum, rhodium alone or an alloy thereof is preferable. Among them, an alloy of silver and palladium is preferable, and the content of silver is preferably 60% by weight to 99% by weight.
More preferably, it is 80 to 98% by weight. The thickness of the metal layer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 40 nm, and most preferably 10 to 30 nm. 1nm thick
If it is less than 100 nm, the electromagnetic wave shielding effect is poor, and if it exceeds 100 nm, the transmittance of visible light decreases. Examples of the metal oxide forming the metal oxide layer include tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO, and ATO. This film thickness is preferably from 20 to 1000 nm. More preferably, it is 40 to 100 nm.
It is also preferable to use a combination of the transparent conductive layer composed of the metal layer and the transparent conductive layer composed of the metal oxide layer. Also,
It is also preferable that a metal and a metal oxide coexist in the same layer. A transparent oxide layer can be laminated to protect the metal layer, prevent oxidative deterioration, and increase visible light transmittance. This transparent oxide layer may or may not be conductive. Examples of the transparent oxide layer include thin films of oxides of divalent to tetravalent metals, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and metal alkoxide compounds. The method for forming the transparent conductive layer and the transparent oxide layer is not particularly limited, and any processing method can be selected. For example, any known technique such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, plasma CVD or PVD, application of ultrafine particles of a corresponding metal or metal oxide, and adhesion of a metal sheet can be used.
【0049】本発明においては赤外線遮蔽機能を有する
遮蔽フィルター層を設けることが好ましい。800nm
から1200nmまでの赤外線が最も問題であり、この
領域に対し遮蔽機能を有することが好ましい。赤外線遮
蔽機能を付与するには、透明プラスチック支持体に近赤
外吸収性化合物を混合する方法、あるいはこれらの化合
物の溶液または分散液を塗布する方法等を用いることが
できる。例えば銅原子を含有する樹脂組成物(特開平6
−118228号公報)、銅化合物、リン化合物を含有
する樹脂組成物(特開昭62−5190号公報)、銅化
合物、チオ尿素誘導体を含有する樹脂組成物(特開平6
−73197号公報)、タングステン系化合物を含有す
る樹脂組成物(US3647729号公報)などを利用
することによって容易に製造できる。銀の薄膜を透明支
持体上に成膜する方法が、電磁波遮蔽機能に加えて赤外
線遮蔽機能を持たせる方法として安価であり特に好まし
い。In the present invention, it is preferable to provide a shielding filter layer having an infrared shielding function. 800 nm
Is the most problematic, and preferably has a shielding function for this region. To impart an infrared shielding function, a method of mixing a near-infrared absorbing compound with a transparent plastic support, a method of applying a solution or dispersion of these compounds, or the like can be used. For example, a resin composition containing a copper atom (Japanese Unexamined Patent Publication No.
-118228), a resin composition containing a copper compound and a phosphorus compound (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-5190), and a resin composition containing a copper compound and a thiourea derivative (Japanese Patent Application Laid-Open No.
-73197), and a resin composition containing a tungsten-based compound (US Pat. No. 3,647,729) can be easily produced. A method of forming a silver thin film on a transparent support is inexpensive and particularly preferable as a method of providing an infrared ray shielding function in addition to an electromagnetic wave shielding function.
【0050】(その他の層)本発明のフィルターにおい
ては、表面にアンチグレア機能(入射光を表面で散乱さ
せて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能)
を付与することもできる。例えば、表面に微細な凹凸を
形成し、そしてその表面に反射防止層を形成するか、あ
るいは反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面
に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を得る
ことができる。アンチグレア機能を有する反射防止層
は、一般に3〜30%のヘイズを有する。(Other Layers) In the filter of the present invention, the surface has an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface).
Can also be given. For example, an anti-glare function can be obtained by forming fine irregularities on the surface and forming an anti-reflection layer on the surface or forming the anti-reflection layer and then forming the irregularities on the surface with an embossing roll. . An antireflection layer having an antiglare function generally has a haze of 3 to 30%.
【0051】本発明には、ハードコート層、潤滑層、防
汚層、帯電防止層あるいは中間層を設けることもでき
る。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むこ
とが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタ
ン系、エポキシ系、シロキサン系のポリマー、オリゴマ
ーまたはモノマー(例、紫外線硬化型樹脂)を用いて形
成することができる。シリカ系のフィラーをハードコー
ト層に添加することもできる。反射防止層の最表面には
潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防止層表面に
滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑
層は、ポリオルガノシロキサン(例、シリコンオイ
ル)、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属
塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成する
ことができる。潤滑層の厚さは、2〜20nmであるこ
とが好ましい。または反射防止層の最表面に防汚層を設
けることもできる。防汚層は反射防止層の表面エネルギ
ーを下げ、親水性、親油性の汚れを付きにくくするもの
である。そのため防汚層は含フッ素ポリマーを用いて形
成される。防汚層の厚さは2nm〜100nm、好まし
くは5nm〜30nmである。In the present invention, a hard coat layer, a lubricating layer, an antifouling layer, an antistatic layer or an intermediate layer may be provided. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer can be formed using an acrylic, urethane, epoxy, or siloxane-based polymer, oligomer, or monomer (eg, an ultraviolet curable resin). A silica-based filler can be added to the hard coat layer. A lubrication layer may be formed on the outermost surface of the antireflection layer. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection layer and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubricating layer is preferably from 2 to 20 nm. Alternatively, an antifouling layer can be provided on the outermost surface of the antireflection layer. The antifouling layer lowers the surface energy of the antireflection layer and makes it difficult to adhere to hydrophilic and lipophilic stains. Therefore, the antifouling layer is formed using a fluoropolymer. The thickness of the antifouling layer is 2 nm to 100 nm, preferably 5 nm to 30 nm.
【0052】本発明における種々の層、すなわち選択吸
収層、反射防止層(低屈折率層)、赤外線や電磁波の遮
蔽フィルター層、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、
防汚層等は、一般的な塗布方法により形成することがで
きる。塗布方法の例には、ディップコート法、エアーナ
イフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、
ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびホッパ
ーを使用するエクストルージョンコート法(米国特許2
681294号明細書記載)が含まれる。二以上の層を
同時塗布により形成してもよい。同時塗布法について
は、米国特許2761791号、同2941898号、
同3508947号、同3526528号の各明細書お
よび原崎勇次著「コーティング工学」253頁(197
3年朝倉書店発行)に記載がある。また、本発明におけ
る層の形成方法として、スパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法あるい
はPVD法も適宜選択することができる。Various layers in the present invention, that is, a selective absorption layer, an antireflection layer (low refractive index layer), a filter layer for shielding infrared rays and electromagnetic waves, an undercoat layer, a hard coat layer, a lubrication layer,
The antifouling layer and the like can be formed by a general coating method. Examples of application methods include dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating,
Wire bar coating, gravure coating, and extrusion coating using a hopper (US Pat.
681294). Two or more layers may be formed by simultaneous coating. Regarding the simultaneous coating method, U.S. Pat.
Nos. 3,508,947 and 3,526,528, and Yuji Harazaki, “Coating Engineering,” p. 253 (197)
3rd year Asakura Shoten). In addition, as a method for forming a layer in the present invention, a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a plasma CVD method, or a PVD method can be appropriately selected.
【0053】本発明は、液晶表示装置(LCD)、プラ
ズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネ
ッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(C
RT)のような画像表示装置に用いられる。本発明のフ
ィルターはプラズマディスプレイパネル(PDP)およ
びその前面板に使用することで顕著な効果を得ることが
できる。The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD) and a cathode ray tube display (C).
RT). A remarkable effect can be obtained by using the filter of the present invention for a plasma display panel (PDP) and its front panel.
【0054】実施例1 (下塗り層の形成)厚さ175μmの透明な2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理
した後、両面に屈折率1.55、ガラス転移温度37℃
のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス
(日本ゼオン(株)製、LX407C5)を、バーコー
ターを用いて乾燥後の膜厚が、選択吸収フィルター層を
設ける側は300nm、反対面の反射防止層を設ける側
は160nmとなるように塗布し、140℃で乾燥し、
第一の下塗り層を形成した。さらに反射防止層を設ける
側の第一下塗り層の上に屈折率1.50、ガラス転位温
度50℃のアクリル系ラテックス(HA16、日本アク
リル(株)製)を、バーコーターを用いて乾燥後の膜厚
が20nmとなるように塗布し、140℃で乾燥し、第
二の下塗り層を形成した。 (選択吸収フィルター層の形成)低分子量ゼラチンの
7.4重量%水溶液180gに、染料(b6)0.06
6gおよび染料(a6)0.088gを添加し、40℃
で30分間攪拌した後、2μmのポりプロピレンフィル
ターでろ過した。得られた選択吸収フィルター層用塗布
液を、上記選択吸収フィルター層側の第一下塗り層上
に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が1.9μmとなる
ように塗布し、120℃で10分間乾燥して選択吸収フ
ィルター層を形成した。Example 1 (Formation of an undercoat layer) After a corona treatment was applied to both sides of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm, both sides had a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C.
(LX407C5, manufactured by Zeon Corporation) having a thickness of 300 nm after drying with a bar coater on the side on which the selective absorption filter layer is provided, and an antireflection layer on the opposite side. The side is applied so as to have a thickness of 160 nm, and dried at 140 ° C.
A first undercoat layer was formed. Further, an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) having a refractive index of 1.50 and a glass transition temperature of 50 ° C. is dried on the first undercoat layer on the side on which the antireflection layer is provided using a bar coater. Was applied to a thickness of 20 nm and dried at 140 ° C. to form a second undercoat layer. (Formation of selective absorption filter layer) Dye (b6) 0.06 was added to 180 g of a 7.4% by weight aqueous solution of low molecular weight gelatin.
6 g and 0.088 g of dye (a6) were added.
And then filtered with a 2 μm polypropylene filter. The obtained coating solution for a selective absorption filter layer was applied onto the first undercoat layer on the side of the selective absorption filter layer using a bar coater so that the dry film thickness was 1.9 μm. After drying for a minute, a selective absorption filter layer was formed.
【0055】(反射防止層の形成)反応性フッ素ポリマ
ー(JN−7219、日本合成ゴム(株)製)2.50
gにt-ブタノール1.3gを加え、室温で10分間攪拌
し、1μmのポリプロピレンフィルターでろ過した。得
られた低反射防止層用塗布液を、上記反射防止層側の第
二下塗り層上に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が96
nmとなるように塗布し、120℃で15分間乾燥して
硬化させ、反射防止層を形成した。 (粘着剤層の形成)弱いアクリル系の粘着剤を塗工し
た、38μm厚のポリエチレンテレフタレートフイルム
の粘着剤面を、反射防止層に密着させてラミネートした
後、25μm厚のアクリル系粘着剤を塗工した同じ厚み
のポリエチレンテレフタレートフイルムの粘着剤面を、
選択吸収フィルター層に密着させてラミネートして、粘
着剤層を有し、表面に保護フイルムをつけた本発明のフ
ィルターを作成した。(Formation of Antireflection Layer) Reactive Fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 2.50
1.3 g of t-butanol was added to the resulting mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and filtered with a 1 μm polypropylene filter. The obtained low anti-reflection layer coating solution was applied onto the second undercoat layer on the anti-reflection layer side using a bar coater to obtain a dry film thickness of 96.
nm, and dried and cured at 120 ° C. for 15 minutes to form an antireflection layer. (Formation of pressure-sensitive adhesive layer) The pressure-sensitive adhesive surface of a 38 μm-thick polyethylene terephthalate film coated with a weak acrylic pressure-sensitive adhesive was closely adhered to the antireflection layer, and then laminated with a 25 μm-thick acrylic pressure-sensitive adhesive. The adhesive surface of polyethylene terephthalate film of the same thickness
The filter of the present invention having an adhesive layer and having a protective film on the surface was prepared by adhering and laminating the filter on the selective absorption filter layer.
【0056】この本発明のフイルターを、粘着剤により
青板ガラスに貼付け、保護フイルムを剥がして分光透過
率を調べたところ、540nmと593nmに吸収極大
を有し、吸収極大での透過率は、540nmの吸収極大
が61%、593nmの吸収極大が2.3%であった。
吸収極大の半値幅は、593nmの吸収極大が25nm
であった。The filter of the present invention was adhered to a soda lime glass sheet with an adhesive, and the protective film was peeled off. The spectral transmittance was examined. As a result, the filter had absorption maximums at 540 nm and 593 nm, and the transmittance at the absorption maximum was 540 nm. Was 61% and the absorption maximum at 593 nm was 2.3%.
The half width of the absorption maximum is such that the absorption maximum at 593 nm is 25 nm.
Met.
【0057】実施例2 (電磁波および赤外線遮蔽層の形成)厚さ175μmの
透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面に、スパッターによりZnO/Ag/ZnOの三層
薄膜を設けた。この三層薄膜系の表面抵抗は5Ω/平方
cm、800nm以上の赤外線透過率は20%以下であ
った。 (下塗り層の形成)この三層薄膜を有する2軸延伸ポリ
エチレンテレフタレートフィルムの裏面にコロナ処理し
た後、屈折率1.55、ガラス転移温度37℃のスチレ
ン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス(日本ゼ
オン(株)製、LX407C5)を、バーコーターを用
いて乾燥後の膜厚が、300nmとなるように塗布し、
140℃で乾燥し、第一の下塗り層を形成した。 (選択吸収フィルター層の形成)低分子量ゼラチンの
7.4重量%水溶液180gに、染料(b7)0.06
6gおよび染料(a6)0.088gを添加し、40℃
で30分間攪拌した後、2μmのポりプロピレンフィル
ターでろ過した。得られた選択吸収フィルター層用塗布
液を、上記選択吸収フィルター層側の第一下塗り層上
に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が1.9μmとなる
ように塗布し、120℃で10分間乾燥して選択吸収フ
ィルター層を形成した。Example 2 (Formation of Electromagnetic Wave and Infrared Shielding Layer) A three-layer thin film of ZnO / Ag / ZnO was provided on the surface of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm by sputtering. The surface resistance of this three-layer thin film system was 5 Ω / square cm, and the transmittance of infrared light of 800 nm or more was 20% or less. (Formation of Undercoat Layer) After a corona treatment is applied to the back surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having the three-layer thin film, a latex made of a styrene-butadiene copolymer having a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C. (Nihon Zeon Co., Ltd. LX407C5) was applied using a bar coater so that the film thickness after drying was 300 nm.
After drying at 140 ° C., a first undercoat layer was formed. (Formation of selective absorption filter layer) Dye (b7) 0.06 was added to 180 g of a 7.4% by weight aqueous solution of low molecular weight gelatin.
6 g and 0.088 g of dye (a6) were added.
And then filtered with a 2 μm polypropylene filter. The obtained coating solution for a selective absorption filter layer was applied onto the first undercoat layer on the side of the selective absorption filter layer using a bar coater so that the dry film thickness was 1.9 μm. After drying for minutes, a selective absorption filter layer was formed.
【0058】(反射防止層の形成)多官能アクリルモノ
マー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート)およ
び光重合開始剤(イルガキュアー907、チバガイギー
(株)製)、および溶剤(MEK・tBuOH)からな
る反射防止層を先の三層薄膜上に乾燥後の膜厚が60n
mとなるように塗布し、乾燥後紫外線照射して反射防止
層を硬化して、反射防止層を形成した。 (粘着剤層の形成)実施例1と同様にして、選択吸収フ
ィルター層、反射防止層、および赤外線遮蔽機能と電磁
波遮蔽機能とを有する遮蔽フィルター層を有するフィル
ターに、保護フイルムおよび粘着剤層を形成させ、本発
明のフィルターを作成した。(Formation of Antireflection Layer) An antireflection layer comprising a polyfunctional acrylic monomer (pentaerythritol tetraacrylate), a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.), and a solvent (MEK.tBuOH) was used. The film thickness after drying is 60 n on the three-layer thin film.
m, dried and then irradiated with ultraviolet rays to cure the antireflection layer, thereby forming an antireflection layer. (Formation of Pressure-Sensitive Adhesive Layer) In the same manner as in Example 1, a protective film and a pressure-sensitive adhesive layer were added to a filter having a selective absorption filter layer, an anti-reflection layer, and a shielding filter layer having an infrared ray shielding function and an electromagnetic wave shielding function. To form a filter of the present invention.
【0059】この本発明のフイルターを、粘着剤により
青板ガラスに貼付け、保護フイルムを剥がして分光透過
率を調べたところ、540nmと593nmに吸収極大
を有し、吸収極大での透過率は、540nmの吸収極大
が63%、593nmの吸収極大が3.2%であった。
吸収極大の半値幅は、593nmの吸収極大が25nm
であった。The filter of the present invention was affixed to a soda lime glass with an adhesive, and the protective film was peeled off to examine the spectral transmittance. The transmittance at 540 nm and 593 nm was found to be maximum, and the transmittance at the absorption maximum was 540 nm. Was 63% and the absorption maximum at 593 nm was 3.2%.
The half width of the absorption maximum is such that the absorption maximum at 593 nm is 25 nm.
Met.
【0060】実施例3および実施例4 (1)(反射防止フイルムの作成) 実施例1と同様にして、175μm厚のポリエチレンテ
レフタレートフイルムの片面に第一下塗り層、第二下塗
り層、ハードコート層、反射防止層をこの順に塗工しそ
の上に保護フイルムをラミネートし、反対面に粘着剤層
を設けた反射防止フイルムを作成した。Examples 3 and 4 (1) (Preparation of antireflection film) In the same manner as in Example 1, a first undercoat layer, a second undercoat layer, and a hard coat were formed on one side of a 175 μm-thick polyethylene terephthalate film. A layer and an antireflection layer were applied in this order, a protective film was laminated thereon, and an antireflection film provided with an adhesive layer on the opposite surface was prepared.
【0061】(2)(電磁波および赤外線遮蔽層の形
成) 厚み3.5mmの青板ガラスの表面に、スパッターによ
りZnO/Ag/ZnOの三層薄膜を設けた。この三層
薄膜系の表面抵抗は2Ω/平方cm、800nm以上の
赤外線透過率は20%以下であった。(2) (Formation of Electromagnetic Wave and Infrared Shielding Layer) A three-layer thin film of ZnO / Ag / ZnO was provided by sputtering on the surface of a 3.5 mm thick soda lime glass. The surface resistance of the three-layer thin film system was 2 Ω / square cm, and the infrared transmittance at 800 nm or more was 20% or less.
【0062】(3)(前面板の作製) (2)で作成した電磁波および赤外線遮断層を有する青
板ガラスの一方の面に実施例1で作製した本発明のフィ
ルターを貼付け、反対の面に(1)の反射防止フイルム
を貼合わせて、PDP用の前面板を作成した。(実施例
3)(3) (Preparation of Front Plate) The filter of the present invention prepared in Example 1 was attached to one surface of the blue plate glass having the electromagnetic wave and infrared ray shielding layer prepared in (2), and ( The antireflection film of 1) was attached to prepare a front panel for PDP. (Example 3)
【0063】(2)で作成した電磁波および赤外線遮断
層を有する青板ガラスの一方の面に実施例2で作製した
本発明のフィルターを貼付け、反対の面に(1)の反射
防止フイルムを貼合わせて、PDP用の前面板を作製し
た。(実施例4)The filter of the present invention prepared in Example 2 is adhered to one surface of the soda lime glass having an electromagnetic wave and infrared ray shielding layer produced in (2), and the antireflection film of (1) is adhered to the other surface. Thus, a front panel for a PDP was manufactured. (Example 4)
【0064】(4)(フィルター機能の評価) プラズマディスプレイパネル(PDS4202J−H、
富士通(株)製)の前面板を取り外し、(3)で作製し
た前面板を、選択吸収フィルター層がプラズマディスプ
レイパネルの画像表示面に向くように本体に取り付け
て、PDP1,2を作製した。また実施例2の本発明の
フィルターを直接PDP本体に貼合わせたPDP3も作
製し、性能評価を行った。電磁波および赤外線遮蔽層を
プラズマディスプレイパネルの背面の金属部アースに接
続し、プラズマディスプレイパネルより放射される電磁
波により誘起される電圧をアースに導通し、機能の評価
を実施した。評価項目として、電磁波および赤外線遮へ
い能、表示される画像のコントラストの測定および目視
による色再現性の評価を行った。電磁波遮蔽機能は、P
DP1〜3のいずれにおいても、周波数10MHz〜2
00MHzの範囲で最低9デシベル以上が得られ、情報
処理装置等で規制されている電磁波の外部漏洩レベルを
達成した。また、赤外線領域の遮蔽機能は透過率の低さ
で評価でき、800nmで約8%、850nmでは3%
以下となり、周辺に設置される赤外線リモートコントロ
ール装置に対する妨害を防止できた。コントラストおよ
び目視による色再現性は実施例1〜3のいずれにおいて
も著しく改善された。コントラストは前面板を交換する
前は10:1であったが実施例ではいずれも15:1で
あった。前面板の交換前にくらべて、オレンジ色の入っ
た赤が純赤に、緑がかった青が鮮やかな青に、また黄ば
んだ感じの白が純白に改良されていることを確認した。(4) (Evaluation of filter function) Plasma display panel (PDS4202J-H,
The front plate manufactured by Fujitsu Ltd. was removed, and the front plate prepared in (3) was attached to the main body so that the selective absorption filter layer faced the image display surface of the plasma display panel, thereby producing PDPs 1 and 2. Further, PDP3 in which the filter of the present invention of Example 2 was directly adhered to the PDP body was also manufactured, and its performance was evaluated. The electromagnetic wave and infrared shielding layer were connected to the metal ground on the back of the plasma display panel, and the voltage induced by the electromagnetic wave radiated from the plasma display panel was conducted to the ground to evaluate the function. As evaluation items, measurement of electromagnetic wave and infrared shielding ability, contrast of a displayed image, and evaluation of color reproducibility by visual observation were performed. The electromagnetic wave shielding function is P
In any of DP1 to 3, the frequency is 10 MHz to 2
A minimum of 9 dB or more was obtained in the range of 00 MHz, and the external leakage level of electromagnetic waves regulated by information processing devices and the like was achieved. In addition, the shielding function in the infrared region can be evaluated based on the low transmittance, and about 8% at 800 nm and 3% at 850 nm.
As shown below, it was possible to prevent interference with the infrared remote control device installed in the vicinity. Contrast and visual color reproducibility were significantly improved in all of Examples 1 to 3. The contrast was 10: 1 before the front plate was replaced, but was 15: 1 in each of the examples. Before replacing the front panel, it was confirmed that red with orange was improved to pure red, greenish blue to vivid blue, and yellowish white to pure white.
【0065】[0065]
【発明の効果】上記の通り、本発明によれば、PDP等
の画像表示装置または前面板に貼合わせるだけで、画像
の色再現性、コントラストを改良し、放射される有害な
電磁波、赤外線をカットしうる低コストの画像表示装置
用フィルターを提供することができる。As described above, according to the present invention, the color reproducibility and contrast of an image can be improved only by sticking to an image display device such as a PDP or a front panel, and harmful electromagnetic waves and infrared rays emitted can be reduced. A low-cost image display device filter that can be cut can be provided.
Claims (8)
びポリマーバインダーを含む選択吸収フィルター層を有
し、片側だけに選択フィルター層を有する場合には選択
フィルター層とは反対側の最上層に、両側に選択フィル
ター層を有する場合にはどちらか一方の側の最上層に反
射防止層を設け、該反射防止層とは反対側に粘着剤層を
設けたことを特徴とする画像表示装置用フィルター。1. A transparent support having a selective absorption filter layer containing a dye and a polymer binder on at least one side of the transparent support, and having a selective filter layer on only one side, the uppermost layer on the opposite side to the selective filter layer has two sides. Wherein an anti-reflection layer is provided on the uppermost layer on one side and an adhesive layer is provided on the side opposite to the anti-reflection layer.
けた側に有することを特徴とする請求項1に記載の画像
表示装置用フィルター。2. The filter for an image display device according to claim 1, wherein said selective absorption filter layer is provided on a side provided with an adhesive layer.
の一方あるいは両方の機能を有する遮蔽フィルター層を
透明支持体の少なくとも片側に有することを特徴とする
請求項1または請求項2に記載の画像表示装置用フィル
ター。3. The image display according to claim 1, further comprising a shielding filter layer having at least one of an infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function on at least one side of the transparent support. Equipment filter.
の一方あるいは両方の機能を有する遮蔽フィルター層を
反射防止層設けた側に有することを特徴とする請求項1
〜3のいずれかに記載の画像表示装置用フィルター。4. The apparatus according to claim 1, further comprising a shielding filter layer having one or both of an infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function on the side where the antireflection layer is provided.
4. The filter for an image display device according to any one of items 1 to 3.
から620nmの範囲に透過率が0.01から80%の
吸収極大を持つことを特徴とする請求項1〜4のいずれ
かに記載の画像表示装置用フィルター。5. The method according to claim 1, wherein the selective absorption filter layer has a wavelength of 560 nm.
The filter for an image display device according to any one of claims 1 to 4, wherein the filter has an absorption maximum having a transmittance of 0.01 to 80% in a range from 1 to 620 nm.
から550nmの範囲に透過率が20から85%の極大
吸収、および560nmから620nmの範囲に透過率
が0.01から80%の吸収極大を持つことを特徴とす
る請求項1〜5のいずれかに記載の画像表示装置用フィ
ルター。6. The method according to claim 1, wherein the selective absorption filter layer has a thickness of 500 nm.
6. A maximum absorption having a transmittance of 20 to 85% in a range of from 550 to 550 nm and an absorption maximum of 0.01 to 80% in a range of from 560 to 620 nm. 3. The filter for an image display device according to item 1.
ターを用いることを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネル用の前面板。7. A front plate for a plasma display panel, wherein the filter according to claim 1 is used.
マディスプレイパネル。8. A plasma display panel using the front plate according to claim 7.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11184005A JP2001013317A (en) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | Filter for image display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11184005A JP2001013317A (en) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | Filter for image display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001013317A true JP2001013317A (en) | 2001-01-19 |
Family
ID=16145668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11184005A Pending JP2001013317A (en) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | Filter for image display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001013317A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6866927B2 (en) | 2001-05-14 | 2005-03-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Filter for image display device |
US6902791B2 (en) | 2001-06-25 | 2005-06-07 | Asahi Glass Company, Limited | Optical film |
CN103003727A (en) * | 2010-07-24 | 2013-03-27 | 柯尼卡美能达控股株式会社 | Near-infrared reflective film and near-infrared reflector provided with same |
-
1999
- 1999-06-29 JP JP11184005A patent/JP2001013317A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6866927B2 (en) | 2001-05-14 | 2005-03-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Filter for image display device |
KR100845726B1 (en) * | 2001-05-14 | 2008-07-11 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Filter for image display device |
US6902791B2 (en) | 2001-06-25 | 2005-06-07 | Asahi Glass Company, Limited | Optical film |
CN103003727A (en) * | 2010-07-24 | 2013-03-27 | 柯尼卡美能达控股株式会社 | Near-infrared reflective film and near-infrared reflector provided with same |
EP2597495A1 (en) * | 2010-07-24 | 2013-05-29 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Near-infrared reflective film and near-infrared reflector provided with same |
EP2597495A4 (en) * | 2010-07-24 | 2013-12-11 | Konica Minolta Holdings Inc | Near-infrared reflective film and near-infrared reflector provided with same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4854892B2 (en) | Image display device with optical filter | |
JP2001194524A (en) | Optical filter, front plate and picture display device using same | |
US6597525B2 (en) | Optical filter and image display | |
JP2002071940A (en) | Optical filter, front plate and picture display device using the same | |
JP2000250420A (en) | Front plate for image display device | |
JP2002055225A (en) | Optical filter, front plate and picture display device using the same | |
JP2000193820A (en) | Optical filter | |
JP2000121806A (en) | Antireflection film | |
JP2000266930A (en) | Optical selective filter | |
JP2001013317A (en) | Filter for image display device | |
JP2002372617A (en) | Optical filter and image display device | |
JP2002328219A (en) | Optical filter and image display device | |
JP2001281442A (en) | Optical filter, front plate and image display device using the same | |
JP2002072897A (en) | Electromagnetic wave shieldable transparent film | |
JP2001272532A (en) | Optical filter, front plate using the same and picture display device | |
JP2001013318A (en) | Selective absorption filter with antireflection layer | |
JP2001083316A (en) | Optical filter and antireflection film | |
JP2002196128A (en) | Optical filter and image display device | |
JP2000338325A (en) | Optical filter and antireflection film | |
JP2001083317A (en) | Optical filter and picture display device using the same | |
JP2001201629A (en) | Optical filter and front face plate and image display device using the same | |
JP2001141923A (en) | Optical filter and front plate and image display device using optical filter | |
JP2002228828A (en) | Optical filter, front plate and image display device | |
JP2002311233A (en) | Optical filter and picture display device | |
JP4044235B2 (en) | Optical selective absorption filter |