JP2000338325A - Optical filter and antireflection film - Google Patents

Optical filter and antireflection film

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JP2000338325A
JP2000338325A JP11152824A JP15282499A JP2000338325A JP 2000338325 A JP2000338325 A JP 2000338325A JP 11152824 A JP11152824 A JP 11152824A JP 15282499 A JP15282499 A JP 15282499A JP 2000338325 A JP2000338325 A JP 2000338325A
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JP
Japan
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layer
refractive index
dye
fine particles
filter
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP11152824A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiharu Yabuki
嘉治 矢吹
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a filter having a proper color compensation function by constituting a filter layer containing fine particles and incorporating a dye as adsorbed on the surface of the fine particles into the filter layer. SOLUTION: The filter has a filter layer containing a dye and a polymer binder on a transparent supporting body, and the filter layer contains fine particles and a dye as adsorbed on the surface of the fine particles. For example, an antireflection film (an optical filter having an antireflection layer) has a layer structure in the order of a filter layer 2, a transparent supporting body 1 and a low refractive index layer 3. In this case, the layers satisfy the relation of (refractive index of the low refractive index layer 3) < (refractive index of the transparent supporting body 1). Or, the filter has a layer structure in the order of a filter layer 2, a transparent supporting body 1, a hard coating layer 4, a medium refractive index layer 6, a high refractive index layer 5, and a low refractive index layer 3. In this case, the layers satisfy the relation of refractive indices of the layers s satisfy the relation of (refractive index of the low refractive index layer 3) < (refractive index of the transparent supporting body 1) < (refractive index of the medium refractive index layer 6) < (refractive index of the high refractive index layer 5).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体および
フィルター層を有する光学フィルターに関する。また、
本発明は液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレ
イパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表
示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置の
表面に、反射防止あるいは色再現性改良のため取り付け
られる反射防止膜にも関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical filter having a transparent support and a filter layer. Also,
The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT), a fluorescent display tube, and a surface of an image display device such as a field emission display. The present invention also relates to an antireflection film attached for antireflection or improving color reproducibility.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置(LCD)、プラズマディ
スプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組み合
わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のための光
を理想的な三原色にすることは、非常に難しい(実質的
には不可能である)。例えば、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)では、三原色蛍光体からの発光に余分な
光(波長が560乃至620nmの範囲)が含まれてい
ることが知られている。そこで、表示色の色バランスを
補正するため特定の波長の光を吸収する光学フィルター
を用いて、色補正を行うことが提案されている。光学フ
ィルターによる色補正については、特開昭58−153
904号、同60−118748号、同60−1874
9号、同61−188501号、特開平3−23198
8号、同5−203804号、同5−205643号、
同7−307133号、同9−145918号、同9−
306366号、同10−26704号の各公報に記載
がある。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT),
2. Description of the Related Art An image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display displays a color image by a combination of light of three primary colors of red, blue and green in principle. However, it is very difficult (practically impossible) to make light for display ideal three primary colors. For example, in a plasma display panel (PDP), it is known that extra light (wavelength in the range of 560 to 620 nm) is included in light emission from the three primary color phosphors. Therefore, it has been proposed to perform color correction using an optical filter that absorbs light of a specific wavelength in order to correct the color balance of display colors. Japanese Patent Laid-Open No. 58-153 discloses color correction using an optical filter.
No. 904, No. 60-118748, No. 60-1874
No. 9, No. 61-188501, JP-A-3-23198
No. 8, No. 5-203804, No. 5-205564,
No. 7-307133, No. 9-145918, No. 9-
These are described in JP-A Nos. 306366 and 10-26704.

【0003】画像表示装置には、色補正に加えて、反射
防止の必要もある。すなわち、画像表示装置には、ディ
スプレイ上に背景が映り込む事でコントラストが低下す
る問題がある。この問題を解決するための手段として、
様々な反射防止膜が提案されている。これまでに提案さ
れた反射防止膜の反射防止機能層は、蒸着層と塗布層に
分類できる。光学的機能の観点では蒸着層の方が優れて
いるが、塗布層には製造が容易であるとの利点がある。
蒸着層は、眼鏡やカメラのようなレンズの反射防止膜と
して古くから用いられている。蒸着層は、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法
あるいはPVD法により形成する。塗布層は、一般に、
微粒子およびバインダーの塗布により形成する。塗布層
については、特開昭59−49501号、同59−50
401号、同60−59250号、特開平7−4852
7号の各公報に記載がある。
[0003] In addition to the color correction, the image display device also needs to prevent reflection. That is, the image display device has a problem that the contrast is reduced due to the background being reflected on the display. As a solution to this problem,
Various antireflection films have been proposed. The antireflection functional layers of the antireflection films proposed so far can be classified into vapor deposition layers and coating layers. Although the vapor deposition layer is superior from the viewpoint of optical functions, the coating layer has an advantage that it is easy to manufacture.
The vapor deposition layer has been used for a long time as an antireflection film for lenses such as glasses and cameras. The deposition layer is a vacuum deposition method,
It is formed by a sputtering method, an ion plating method, a CVD method or a PVD method. The coating layer is generally
It is formed by applying fine particles and a binder. Coating layers are described in JP-A-59-49501 and JP-A-59-50.
No. 401, 60-59250, JP-A-7-4852
No. 7 describes each.

【0004】前記の光学フィルターに、反射防止機能を
組み込むことも考えられる。前記の特開昭61−188
501号、特開平5−205643号、同9−1459
18号、同9−306366号、同10−26704号
の各公報は、反射防止機能が組み込まれた光学フィルタ
ーを開示している。特開昭61−188501号、特開
平5−205643号、同9−145918号、同9−
306366号の各公報に記載の光学フィルターでは、
透明支持体に染料または顔料を添加して、支持体をフィ
ルターとして機能させている。特開平10−26704
号公報記載の光学フィルターでは、透明支持体と反射防
止層との間に設けられるハードコート層(表面硬化層)
を着色し、ハードコート層をフィルターとして機能させ
ている。
It is also conceivable to incorporate an antireflection function into the optical filter. The above-mentioned JP-A-61-188.
No. 501, JP-A-5-205643 and 9-1459
No. 18, No. 9-306366, and No. 10-26704 disclose optical filters having an antireflection function incorporated therein. JP-A-61-188501, JP-A-5-205643, JP-A-9-145918 and JP-A-9-145918
In the optical filter described in each publication of 306366,
A dye or a pigment is added to the transparent support so that the support functions as a filter. JP-A-10-26704
In the optical filter described in the publication, a hard coat layer (surface hardened layer) provided between the transparent support and the antireflection layer
And the hard coat layer functions as a filter.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】透明支持体あるいはハ
ードコート層を着色すれば、透明支持体またはハードコ
ート層がフィルターとして機能する。しかし、透明支持
体やハードコート層に添加できる染料は、種類が非常に
限られる。透明支持体は、プラスチックまたはガラス
(通常はプラスチック)から製造する。透明支持体に添
加する染料には、支持体の製造時の温度に耐えられる程
度の非常に高い耐熱性が要求される。ハードコート層
は、一般に架橋しているポリマーを含む層である。ポリ
マーの架橋反応は、層の塗布後に実施する。架橋のため
の反応条件では、褪色してしまう染料が多い。透明支持
体やハードコート層に添加できる染料は、吸収極大にお
けるピークがブロードで(半値幅が広く)、画像表示装
置に対応する適切な色補正を行うことが難しい。ハロゲ
ン化銀写真の技術分野で開発されたメチン染料は、様々
な吸収スペクトル特性を有する化合物である。メチン染
料を会合状態で使用すると、半値幅が狭くなることが知
られている。しかし、メチン染料は、ハロゲン化銀写真
材料の層に添加することを前提に開発されており、メチ
ン染料を透明支持体やハードコート層に添加すると、褪
色の問題が生じる。
If the transparent support or the hard coat layer is colored, the transparent support or the hard coat layer functions as a filter. However, the types of dyes that can be added to the transparent support and the hard coat layer are very limited. The transparent support is made from plastic or glass (usually plastic). The dye to be added to the transparent support is required to have a very high heat resistance enough to withstand the temperature during the production of the support. The hard coat layer is generally a layer containing a crosslinked polymer. The crosslinking reaction of the polymer is carried out after the application of the layer. Under the reaction conditions for crosslinking, there are many dyes that fade. The dye which can be added to the transparent support or the hard coat layer has a broad peak at the absorption maximum (broad half width), and it is difficult to perform appropriate color correction corresponding to the image display device. Methine dyes developed in the field of silver halide photography are compounds having various absorption spectral properties. It is known that the use of a methine dye in an associated state reduces the half width. However, methine dyes have been developed on the premise that they are added to a layer of a silver halide photographic material, and when a methine dye is added to a transparent support or a hard coat layer, a problem of fading occurs.

【0006】本発明者は、使用できる染料の種類に制約
が多い透明支持体やハードコート層ではなく、穏和な条
件で形成できるポリマー層に染料の会合体を添加し、ポ
リマー層をフィルター層として機能させることを検討し
た。しかし、ポリマー層は、透明支持体やハードコート
層と比較して、染料の保護機能が弱い。ポリマー層に染
料を添加するためには、染料の会合体の安定性や耐久性
(特に光堅牢性)を改善する必要がある。また、染料に
は、容易に会合体を形成しない化合物もある。本発明の
目的は、適切な色補正機能を有する光学フィルターを提
供することである。また、本発明の目的は、反射防止機
能に加えて、適切な色補正機能を有する反射防止膜を提
供することでもある。
The inventor of the present invention added a dye aggregate to a polymer layer that can be formed under mild conditions, instead of a transparent support or a hard coat layer, which has many restrictions on the types of dyes that can be used, and uses the polymer layer as a filter layer. We considered making it work. However, the polymer layer has a weaker dye protection function than the transparent support or the hard coat layer. In order to add a dye to the polymer layer, it is necessary to improve the stability and durability (particularly, light fastness) of the aggregate of the dye. Some dyes do not readily form an aggregate. An object of the present invention is to provide an optical filter having an appropriate color correction function. Another object of the present invention is to provide an antireflection film having an appropriate color correction function in addition to the antireflection function.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(4)の光学フィルターおよび下記(5)〜
(12)の反射防止膜により達成された。 (1)透明支持体上に染料およびポリマーバインダーを
含むフィルター層を有する光学フィルターであって、フ
ィルター層がさらに微粒子を含み、染料が微粒子の表面
に吸着している状態でフィルター層に含まれていること
を特徴とする光学フィルター。 (2)プラズマディスプレイパネル用である(1)に記
載の光学フィルター。 (3)微粒子が、平均粒径が0.005乃至20μmの
無機微粒子である(1)に記載の光学フィルター。 (4)微粒子の表面に吸着している染料が、560乃至
620nmの波長領域に吸収極大を有する(1)に記載
の光学フィルター。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide the following optical filters (1) to (4) and the following (5) to (5).
This was achieved by the antireflection film of (12). (1) An optical filter having a filter layer containing a dye and a polymer binder on a transparent support, wherein the filter layer further contains fine particles, and the dye is contained in the filter layer in a state where the dye is adsorbed on the surface of the fine particles. An optical filter, comprising: (2) The optical filter according to (1), which is for a plasma display panel. (3) The optical filter according to (1), wherein the fine particles are inorganic fine particles having an average particle size of 0.005 to 20 μm. (4) The optical filter according to (1), wherein the dye adsorbed on the surface of the fine particles has an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm.

【0008】(5)染料およびポリマーバインダーを含
むフィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折
率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積
層されている反射防止膜であって、フィルター層がさら
に微粒子を含み、染料が微粒子の表面に吸着している状
態でフィルター層に含まれていることを特徴とする反射
防止膜。 (6)プラズマディスプレイパネル用である(5)に記
載の反射防止膜。 (7)微粒子が、平均粒径が0.005乃至20μmの
無機微粒子である(5)に記載の反射防止膜。 (8)微粒子の表面に吸着している染料が、560乃至
620nmの波長領域に吸収極大を有する(5)に記載
の反射防止膜。
(5) A filter layer containing a dye and a polymer binder, a transparent support, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are the antireflection films laminated in this order. An antireflection film, wherein the filter layer further contains fine particles, and the dye is contained in the filter layer in a state where the dye is adsorbed on the surface of the fine particles. (6) The antireflection film according to (5), which is for a plasma display panel. (7) The antireflection film according to (5), wherein the fine particles are inorganic fine particles having an average particle size of 0.005 to 20 μm. (8) The antireflection film according to (5), wherein the dye adsorbed on the surface of the fine particles has an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm.

【0009】(9)透明支持体、染料およびポリマーバ
インダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折
率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積
層されている反射防止膜であって、フィルター層がさら
に微粒子を含み、染料が微粒子の表面に吸着している状
態でフィルター層に含まれていることを特徴とする反射
防止膜。 (10)プラズマディスプレイパネル用である(9)に
記載の反射防止膜。 (11)微粒子が、平均粒径が0.005乃至20μm
の無機微粒子である(9)に記載の反射防止膜。 (12)微粒子の表面に吸着している染料が、560乃
至620nmの波長領域に吸収極大を有する(9)に記
載の反射防止膜。
(9) An anti-reflection film in which a transparent support, a filter layer containing a dye and a polymer binder, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are laminated in this order. An antireflection film, wherein the filter layer further contains fine particles, and the dye is contained in the filter layer in a state where the dye is adsorbed on the surface of the fine particles. (10) The antireflection film according to (9), which is for a plasma display panel. (11) The fine particles have an average particle size of 0.005 to 20 μm
The antireflection film according to (9), which is an inorganic fine particle. (12) The antireflection film according to (9), wherein the dye adsorbed on the surface of the fine particles has an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm.

【0010】[0010]

【発明の効果】会合状態の染料を使用すると、染料の吸
収極大を容易に調整でき、画像表示装置に合わせた半値
幅の狭い吸収特性を得ることができる。しかし、フィル
ター層に添加した会合状態の染料は、一般に安定性(特
に耐光性)についての問題がある。また、容易に会合体
を形成しない染料もある。本発明者は研究の結果、染料
を微粒子の表面に吸着させることで、会合状態の染料と
同様の効果、すなわち、吸収極大におけるピークがシャ
ープな(半値幅が狭い)吸収特性を得ることに成功し
た。微粒子の表面に吸着している染料は、会合状態の染
料よりも安定性がある。また、会合状態を形成しない染
料であっても、比較的容易に微粒子表面に吸着させるこ
とができる。従って、本発明の光学フィルターでは、必
要とされる吸収極性を有する染料を特別な制限なく使用
することができる。以上の結果、本発明の光学フィルタ
ーや反射防止膜は、画像表示装置の種類に応じた適切な
色補正機能を有する。
When the dye in the associated state is used, the absorption maximum of the dye can be easily adjusted, and an absorption characteristic with a narrow half width suitable for an image display device can be obtained. However, dyes in an associated state added to the filter layer generally have a problem in stability (particularly light resistance). Some dyes do not readily form an aggregate. As a result of research, the present inventor has succeeded in obtaining an effect similar to that of a dye in an associated state, that is, an absorption characteristic in which a peak at an absorption maximum is sharp (a half width is narrow) by adsorbing the dye on the surface of the fine particles. did. The dye adsorbed on the surface of the fine particles is more stable than the dye in the associated state. Even dyes that do not form an association state can be relatively easily adsorbed on the surface of the fine particles. Therefore, in the optical filter of the present invention, a dye having a required absorption polarity can be used without any particular limitation. As a result, the optical filter and the antireflection film of the invention have an appropriate color correction function according to the type of the image display device.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】反射防止膜(反射防止層を設けた
光学フィルター)の代表的な層構成を、図面を参照しな
がら説明する。図1は、フィルター層を反射防止層とは
透明支持体の反対の側に設けた反射防止膜の層構成を示
す断面模式図である。図1の(a)に示す態様は、フィ
ルター層(2)、透明支持体(1)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率
層(3)は、以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A typical layer structure of an antireflection film (optical filter provided with an antireflection layer) will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer is provided on the side opposite to the transparent support from the antireflection layer. The embodiment shown in FIG. 1A includes a filter layer (2), a transparent support (1), and a low refractive index layer (3).
In the following order. The transparent support (1) and the low refractive index layer (3) have a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support

【0012】図1の(b)に示す態様は、フィルター層
(2)、透明支持体(1)、ハードコート層(4)、低
屈折率層(3)の順序の層構成を有する。図1の(c)
に示す態様は、フィルター層(2)、透明支持体
(1)、ハードコート層(4)、高屈折率層(5)、低
屈折率層(3)の順序の層構成を有する。透明支持体
(1)、低屈折率層(3)および高屈折率層(5)は、
以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<高屈折率層
の屈折率 図1の(d)に示す態様は、フィルター層(2)、透明
支持体(1)、ハードコート層(4)、中屈折率層
(6)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)の順序の
層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率層
(3)、高屈折率層(5)および中屈折率層(6)は、
以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<中屈折率層
の屈折率<高屈折率層の屈折率
The embodiment shown in FIG. 1B has a layer structure in the order of a filter layer (2), a transparent support (1), a hard coat layer (4), and a low refractive index layer (3). FIG. 1 (c)
Has a layer structure of a filter layer (2), a transparent support (1), a hard coat layer (4), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3). The transparent support (1), the low refractive index layer (3) and the high refractive index layer (5)
It has a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support <the refractive index of the high refractive index layer In the embodiment shown in FIG. 1D, the filter layer (2), the transparent support (1), and the hard coat layer ( 4), a middle refractive index layer (6), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3). The transparent support (1), the low refractive index layer (3), the high refractive index layer (5) and the medium refractive index layer (6)
It has a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support <refractive index of medium refractive index layer <refractive index of high refractive index layer

【0013】図2は、フィルター層と反射防止層とを透
明支持体の同じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断
面模式図である。図2の(a)に示す態様は、透明支持
体(1)、フィルター層(2)、低屈折率層(3)の順
序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率層
(3)の屈折率の関係は、図1の(a)と同様である。
図2の(b)に示す態様は、透明支持体(1)、フィル
ター層(2)、ハードコート層(4)、低屈折率層
(3)の順序の層構成を有する。図2の(c)に示す態
様は、透明支持体(1)、フィルター層(2)、ハード
コート層(4)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率
層(3)および高屈折率層(5)の屈折率の関係は、図
1の(c)と同様である。図2の(d)に示す態様は、
透明支持体(1)、フィルター層(2)、ハードコート
層(4)、中屈折率層(6)、高屈折率層(5)、低屈
折率層(3)の順序の層構成を有する。透明支持体
(1)、低屈折率層(3)、高屈折率層(5)および中
屈折率層(6)の屈折率の関係は、図1の(d)と同様
である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a layer structure of an antireflection film in which a filter layer and an antireflection layer are provided on the same side of a transparent support. The embodiment shown in FIG. 2A has a layer structure in the order of the transparent support (1), the filter layer (2), and the low refractive index layer (3). The relationship between the refractive index of the transparent support (1) and the refractive index of the low refractive index layer (3) is the same as that of FIG.
The embodiment shown in FIG. 2B has a layer structure in the order of the transparent support (1), the filter layer (2), the hard coat layer (4), and the low refractive index layer (3). The mode shown in FIG. 2C is a transparent support (1), a filter layer (2), a hard coat layer (4), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3).
In the following order. The relationship between the refractive indices of the transparent support (1), the low refractive index layer (3) and the high refractive index layer (5) is the same as that in FIG. The mode shown in FIG.
The transparent support (1), the filter layer (2), the hard coat layer (4), the medium refractive index layer (6), the high refractive index layer (5), and the low refractive index layer (3) have a layer structure in this order. . The relationship among the refractive indices of the transparent support (1), the low refractive index layer (3), the high refractive index layer (5) and the middle refractive index layer (6) is the same as that in FIG.

【0014】(透明支持体)透明支持体を形成する材料
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタ
クチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ
メチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレ
ンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネ
ートおよびポリエチレンテレフタレートが好ましい。透
明支持体の透過率は80%以上であることが好ましく、
86%以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、2
%以下であることが好ましく、1%以下であることがさ
らに好ましい。屈折率は、1.45乃至1.70である
ことが好ましい。
(Transparent Support) Examples of materials for forming the transparent support include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), Polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, poly Butylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene), polymethylmethacrylate , Syndiotactic polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more,
More preferably, it is 86% or more. Haze is 2
%, More preferably 1% or less. The refractive index is preferably from 1.45 to 1.70.

【0015】透明支持体に、赤外線吸収剤または紫外線
吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤または紫外線吸
収剤の添加量は、透明支持体の0.01乃至20重量%
であることが好ましく、0.05乃至10重量%である
ことがさらに好ましい。さらに滑り剤として、不活性無
機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化
合物の例には、SiO2 、TiO2 、BaSO4 、Ca
CO3 、タルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体
に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬
品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外
線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズ
マ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理
が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ
放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と
紫外線処理がさらに好ましい。さらに、上層との接着強
化のための下塗り層を設置してもよい。
An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of the infrared absorbing agent or the ultraviolet absorbing agent is 0.01 to 20% by weight of the transparent support.
And more preferably 0.05 to 10% by weight. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of inorganic compounds include SiO 2 , TiO 2 , BaSO 4 , Ca
Includes CO 3 , talc and kaolin. The transparent support may be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred. Further, an undercoat layer for strengthening the adhesion with the upper layer may be provided.

【0016】(フィルター層)フィルター層の厚さは
0.1μm乃至5cmであることが好ましい。フィルタ
ー層は、560乃至620nmの波長領域(緑と赤の
間)に吸収極大を有することが好ましい。560乃至6
20nmの波長領域の吸収極大でのフィルター層の透過
率は、0.01乃至80%の範囲であることが好まし
く、0.1乃至60%の範囲であることがさらに好まし
い。560乃至620nmの波長領域の吸収極大は、赤
色蛍光体の色純度を低下させているサブバンドを選択的
にカットする機能を有する。プラズマディスプレイパネ
ルでは、ネオンガスの励起によって放出される595n
m付近の不要な発光もカットできる。上記のように吸収
極大を設定することで、緑の蛍光体の色調に悪影響を与
えることなく、選択的に光をカットできる。緑の蛍光体
の色調への影響をさらに低下させるため、560乃至6
20nmの波長領域の吸収極大は、シャープであること
が好ましい。具体的に560乃至620nmの波長領域
の吸収極大では、半幅値(吸収極大の吸光度の半分の吸
光度を示す波長領域の幅)が、10乃至120nmであ
ることが好ましく、15乃至100nmであることがよ
り好ましく、20乃至70nmであることがさらに好ま
しく、30乃至50nmであることが最も好ましい。
(Filter Layer) The thickness of the filter layer is preferably 0.1 μm to 5 cm. The filter layer preferably has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm (between green and red). 560 to 6
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 20 nm is preferably in the range of 0.01 to 80%, more preferably in the range of 0.1 to 60%. The absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm has a function of selectively cutting the sub-band that reduces the color purity of the red phosphor. In a plasma display panel, 595 n emitted by excitation of neon gas
Unnecessary light emission near m can also be cut. By setting the absorption maximum as described above, light can be selectively cut without adversely affecting the color tone of the green phosphor. 560 to 6 to further reduce the effect of the green phosphor on the color tone
The absorption maximum in the wavelength region of 20 nm is preferably sharp. Specifically, at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm, the half width value (width of the wavelength region showing half the absorbance of the absorbance of the absorption maximum) is preferably 10 to 120 nm, and more preferably 15 to 100 nm. More preferably, it is more preferably from 20 to 70 nm, and most preferably from 30 to 50 nm.

【0017】フィルター層は、染料およびポリマーバイ
ンダーを含む。本発明では、染料を微粒子表面に吸着さ
せた状態で用いる。そのためには、染料は、吸着性基
(例、アニオン性基、カチオン性基、極性基)を有する
か、分子内にヘテロ原子(例、窒素、酸素、硫黄)を有
することが好ましい。ただし、染料は、一般に、吸着性
基またはヘテロ原子を有している。従って、本発明で
は、様々な染料を微粒子表面に吸着させて用いることが
できる。染料には、メチン染料、アゾ染料、アゾメチン
染料、アジン染料、ナフトキノン染料、アントラキノン
染料、トリフェニルメタン染料およびジフェニル染料が
含まれる。メチン染料が特に好ましい。
The filter layer contains a dye and a polymer binder. In the present invention, the dye is used in a state of being adsorbed on the surface of the fine particles. For this purpose, the dye preferably has an adsorptive group (eg, anionic group, cationic group, polar group) or a hetero atom (eg, nitrogen, oxygen, sulfur) in the molecule. However, the dye generally has an adsorptive group or a hetero atom. Therefore, in the present invention, various dyes can be used by adsorbing them on the surface of the fine particles. Dyes include methine dyes, azo dyes, azomethine dyes, azine dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes and diphenyl dyes. Methine dyes are particularly preferred.

【0018】メチン染料は、シアニン染料、メロシアニ
ン染料、アリーリデン染料、スチリル染料およびオキソ
ノール染料に分類できる。それぞれのメチン染料を下記
式で定義する。 シアニン染料: Bs=Lo−Bo メロシアニン染料:Bs=Le=Ak アリーリデン染料:Ak=Lo−Ar スチリル染料: Bo−Le−Ar オキソノール染料:Ak=Lo−Ae 式中、Bsは、塩基性核であり;Boは、塩基性核のオ
ニウム体であり;Akは、ケト型酸性核であり;Ae
は、エノール型酸性核であり;Arは、芳香族核であ
り;Loは、奇数個のメチンからなるメチン鎖であり;
そして、Leは、偶数個のメチンからなるメチン鎖であ
る。
[0018] Methine dyes can be classified into cyanine dyes, merocyanine dyes, arylidene dyes, styryl dyes and oxonol dyes. Each methine dye is defined by the following formula. Cyanine dye: Bs = Lo-Bo Merocyanine dye: Bs = Le = Ak arylidene dye: Ak = Lo-Ar styryl dye: Bo-Le-Ar Oxonol dye: Ak = Lo-Ae In the formula, Bs is a basic nucleus. Yes; Bo is an onium of a basic nucleus; Ak is a keto-type acidic nucleus;
Is an enol-type acidic nucleus; Ar is an aromatic nucleus; Lo is a methine chain consisting of an odd number of methines;
Le is a methine chain composed of an even number of methines.

【0019】シアニン染料またはメロシアニン染料を用
いることが好ましく、シアニン染料を用いることが特に
好ましい。メチン染料については、エフ・エム・ハーマ
ー(F.M. Harmer )著「ヘテロサイクリック・コンパウ
ンズ−シアニンダイズ・アンド・リレイテッド・コンパ
ウンズ(Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Re
lated Compounds )」、ジョン・ウィリー・アンド・サ
ンズ(John Wiley and Sons )、ニューヨーク、ロンド
ン、1964年;ディー・エム・スターマー(D.M. Stu
rmer)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズ−スペシ
ャル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック・ケミス
トリー(Heterocyclic Compounds-Special Topics in H
eterocyclicChemistry)」第18章、第14節、482
〜515頁に記載がある。
It is preferable to use a cyanine dye or a merocyanine dye, and it is particularly preferable to use a cyanine dye. For methine dyes, see FM Harmer, Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Reused Compounds.
lated Compounds), John Wiley and Sons, New York, London, 1964; DM Stumer
rmer), Heterocyclic Compounds-Special Topics in H
eterocyclicChemistry) ", Chapter 18, Section 14, 482
On page 515.

【0020】本発明では、染料を微粒子に吸着させて使
用する。微粒子は、無機微粒子であることが好ましい。
無機微粒子の例には、シリカベル粒子、アルミナ粒子、
タルク、ケイ酸カルシウム粒子、珪藻土、ハロゲン化銀
(塩化銀、臭化銀、沃化銀)粒子、アニオン性層状無機
化合物粒子(特開平10−104808号公報記載)、
粘土鉱物(例、ベントナイト、ヘクトナイト、モンモリ
ナイト)、合成雲母および合成スメクタイトが含まれ
る。合成雲母は、膨潤性であることが好ましい。ハロゲ
ン化銀粒子は、非感光性であることが好ましい。非感光
性ハロゲン化銀については、特開平11−65013号
公報に記載がある。非感光性ハロゲン化銀粒子を用いる
ことが特に好ましい。微粒子の平均粒径は、0.005
乃至20μmであることが好ましく、0.005乃至1
μmであることがさらに好ましく、0.005乃至0.
1μmであることが最も好ましい。微粒子の形状につい
ては、特に制限はない。染料と微粒子との割合は、染料
/微粒子の重量比で、2乃至0.001であることが好
ましく、0.5乃至0.001であることがさらに好ま
しく、0.1乃至0.001であることが最も好まし
い。
In the present invention, the dye is used by adsorbing it on fine particles. The fine particles are preferably inorganic fine particles.
Examples of inorganic fine particles include silica bell particles, alumina particles,
Talc, calcium silicate particles, diatomaceous earth, silver halide (silver chloride, silver bromide, silver iodide) particles, anionic layered inorganic compound particles (described in JP-A-10-104808),
Includes clay minerals (eg, bentonite, hectonite, montmorillonite), synthetic mica and synthetic smectite. Preferably, the synthetic mica is swellable. The silver halide grains are preferably non-photosensitive. Non-photosensitive silver halide is described in JP-A-11-65013. It is particularly preferable to use non-photosensitive silver halide grains. The average particle size of the fine particles is 0.005
To 20 μm, preferably 0.005 to 1 μm.
μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm.
Most preferably, it is 1 μm. There is no particular limitation on the shape of the fine particles. The ratio between the dye and the fine particles is preferably from 2 to 0.001, more preferably from 0.5 to 0.001, and more preferably from 0.1 to 0.001, by weight of the dye / fine particles. Is most preferred.

【0021】微粒子に吸着させた染料は、いわゆるJバ
ンドを形成するため、シャープな吸収スペクトルピーク
を示す。染料のJバンドについては、文献(例えば、Ph
otographic Science and Engineering Vol. 18, No. 32
3-335 (1974))に記載がある。Jバンドを形成した染料
では、吸収極大が溶液状態の染料の吸収極大よりも長波
長側に移動する。微粒子に吸着させた染料は、溶液状態
の染料の吸収極大よりも40nm以上長波長側に吸収極
大が移動していることが好ましい。吸収極大の移動は、
45nm以上であることがより好ましく、50nm以上
であることがさらに好ましく、60nm以上であること
が最も好ましい。染料は、比較的容易に微粒子(特に無
機微粒子)の表面に吸着する。微粒子としてハロゲン化
銀粒子を用いる場合は、ハロゲン化銀写真感光材料の技
術分野で研究されている、ハロゲン化銀粒子の表面に分
光増感色素を吸着させる方法を応用することができる。
微粒子に吸着している染料を二種類以上併用してもよ
い。
The dye adsorbed on the fine particles forms a so-called J band and thus shows a sharp absorption spectrum peak. For the J band of the dye, see the literature (eg, Ph.
otographic Science and Engineering Vol. 18, No. 32
3-335 (1974)). In the dye forming the J band, the absorption maximum moves to a longer wavelength side than the absorption maximum of the dye in a solution state. It is preferable that the dye adsorbed on the fine particles has its absorption maximum shifted to a longer wavelength side by 40 nm or more than the absorption maximum of the dye in a solution state. The movement of the absorption maximum is
The thickness is more preferably 45 nm or more, further preferably 50 nm or more, and most preferably 60 nm or more. The dye is relatively easily adsorbed on the surface of the fine particles (particularly, the inorganic fine particles). When silver halide grains are used as fine particles, a method of adsorbing a spectral sensitizing dye on the surface of silver halide grains, which is studied in the technical field of silver halide photographic materials, can be applied.
Two or more dyes adsorbed on the fine particles may be used in combination.

【0022】微粒子に吸着している染料に加えて、他の
染料を併用してもよい。フィルター層は、前述した56
0乃至620nmの波長領域(緑と赤の間)の吸収極大
に加えて、500乃至550nmの波長領域(緑)にも
吸収極大を有することが好ましい。微粒子に吸着してい
る染料と他の染料とを併用する場合は、微粒子に吸着し
ている染料が560乃至620nmの波長領域に吸収極
大を有し、他の染料が500乃至550nmの波長領域
に吸収極大を有することが好ましい。500乃至550
nmの吸収極大における透過率は、30乃至85%であ
ることが好ましい。500乃至550nmの波長領域に
吸収極大を有する染料としては、スクアリリウム染料、
トリフェニルメタン染料、アリーリデン染料、オキソノ
ール染料、アゾ染料、アゾメチン染料、アントラキノン
染料、シアニン染料、メロシアニン染料、ベンジリデン
染料あるいはキサンテン染料が好ましく用いられる。こ
れらの染料については、米国特許2274782号、同
3471293号、同3379533号の各明細書に記
載がある。また、500乃至550nmの波長領域に吸
収極大を有する顔料を用いてもよい。
In addition to the dye adsorbed on the fine particles, another dye may be used in combination. The filter layer is made of 56
In addition to the absorption maximum in the wavelength region of 0 to 620 nm (between green and red), it is preferable to have the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm (green). When the dye adsorbed on the fine particles is used in combination with another dye, the dye adsorbed on the fine particles has an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm, and the other dye has an absorption maximum in a wavelength region of 500 to 550 nm. It preferably has an absorption maximum. 500 to 550
The transmittance at the absorption maximum in nm is preferably 30 to 85%. Examples of the dye having an absorption maximum in a wavelength region of 500 to 550 nm include a squarylium dye,
Triphenylmethane dye, arylidene dye, oxonol dye, azo dye, azomethine dye, anthraquinone dye, cyanine dye, merocyanine dye, benzylidene dye or xanthene dye are preferably used. These dyes are described in the specifications of U.S. Pat. Nos. 2,247,782, 3,471,293 and 3,379,533. Further, a pigment having an absorption maximum in a wavelength region of 500 to 550 nm may be used.

【0023】以上述べた波長領域(500〜550nm
および560〜620nm)とは異なる波長領域に吸収
極大を有する染料を併用してもよい。そのような染料と
しては、近赤外吸収染料を用いることができる。近赤外
吸収染料としては、シアニン染料(特開平9−9689
1号公報記載)、金属キレート染料、アミニウム染料、
ジイモニウム染料、キノン染料、スクアリリウム染料
(特開平9−90547号、同10−204310号の
各公報記載)、各種メチン染料を用いることができる。
近赤外吸収染料については、色材、61[4]215−
226(1988)および化学工業43−53(198
6年5月号)にも記載がある。
The wavelength range described above (500 to 550 nm)
And 560 to 620 nm). As such a dye, a near infrared absorbing dye can be used. As a near-infrared absorbing dye, a cyanine dye (JP-A-9-9689)
No. 1), metal chelate dyes, aminium dyes,
A diimonium dye, a quinone dye, a squarylium dye (described in JP-A-9-90547 and JP-A-10-204310) and various methine dyes can be used.
As for the near infrared absorbing dye, a coloring material, 61 [4] 215-
226 (1988) and Chemical Industries 43-53 (198).
May, 2006).

【0024】フィルター層のポリマーバインダーとして
は、天然ポリマー(例、ゼラチン、セルロース誘導体、
アルギン酸)または合成ポリマー(例、ポリメチルメタ
クリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレ
ン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、水溶性ポリアミド)を用いることができる。親
水性ポリマー(上記天然ポリマー、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、水
溶性ポリアミド)が好ましく、ゼラチンが特に好まし
い。
As the polymer binder for the filter layer, natural polymers (eg, gelatin, cellulose derivatives,
Alginic acid) or a synthetic polymer (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, water-soluble polyamide) can be used. Hydrophilic polymers (the above-mentioned natural polymers, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, and water-soluble polyamide) are preferred, and gelatin is particularly preferred.

【0025】フイルター層に、褪色防止剤を添加しても
よい。染料の安定化剤として機能する褪色防止剤の例に
は、ハイドロキノン誘導体(米国特許3935016
号、同3982944号の各明細書記載)、ハイドロキ
ノンジエーテル誘導体(米国特許4254216号明細
書および特開昭55−21004号公報記載)、フェノ
ール誘導体(特開昭54−145530号公報記載)、
スピロインダンまたはメチレンジオキシベンゼンの誘導
体(英国特許公開2077455号、同2062888
号の各明細書および特開昭61−90155号公報記
載)、クロマン、スピロクロマンまたはクマランの誘導
体(米国特許3432300号、同3573050号、
同3574627号、同3764337号の各明細書お
よび特開昭52−152225号、同53−20327
号、同53−17729号、同61−90156号の各
公報記載)、ハイドロキノンモノエーテルまたはパラア
ミノフェノールの誘導体(英国特許1347556号、
同2066975号の各明細書および特公昭54−12
337号、特開昭55−6321号の各公報記載)およ
びビスフェノール誘導体(米国特許3700455号明
細書および特公昭48−31625号公報記載)が含ま
れる。
An anti-fading agent may be added to the filter layer. Examples of anti-fading agents that function as dye stabilizers include hydroquinone derivatives (US Pat. No. 3,935,016).
Nos. 3,982,944), hydroquinone diether derivatives (described in U.S. Pat. No. 4,254,216 and JP-A-55-21004), phenol derivatives (described in JP-A-54-145530),
Derivatives of spiroindane or methylenedioxybenzene (UK Patent Publications Nos. 2077455 and 2062888)
And the derivatives of chroman, spirochroman or coumaran (U.S. Pat. Nos. 3,432,300 and 3,573,050).
Nos. 3574627 and 3764337 and JP-A Nos. 52-152225 and 53-20327.
Nos. 53-17729 and 61-90156), hydroquinone monoether or paraaminophenol derivatives (UK Patent 1347556,
Nos. 2066975 and JP-B-54-12
337, JP-A-55-6321) and bisphenol derivatives (described in US Pat. No. 3,700,455 and JP-B-48-31625).

【0026】光あるいは熱に対する色素の安定性を向上
させるため、金属錯体(米国特許4245018号明細
書および特開昭60−97353号公報記載)を褪色防
止剤として用いてもよい。さらに色素の耐光性を改良す
るために、一重項酸素クエンチャーを褪色防止剤として
用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例には、ニト
ロソ化合物(特開平2−300288号公報記載)、ジ
インモニウム化合物(米国特許465612号明細書記
載)、ニッケル錯体(特開平4−146189号公報記
載)および酸化防止剤(欧州特許公開820057A1
号明細書記載)が含まれる。
In order to improve the stability of the dye to light or heat, a metal complex (described in US Pat. No. 4,245,018 and JP-A-60-97353) may be used as an anti-fading agent. In order to further improve the light fastness of the dye, a singlet oxygen quencher may be used as an anti-fading agent. Examples of the singlet oxygen quencher include a nitroso compound (described in JP-A-2-300288), a diimmonium compound (described in US Pat. No. 4,656,612), a nickel complex (described in JP-A-4-146189), and antioxidant. Agent (European Patent Publication 820057A1)
Description).

【0027】(下塗り層)透明支持体とフィルター層と
の間に、下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層
は、ガラス転移温度が−60℃乃至60℃のポリマーを
含む層、フィルター層側の表面が粗面である層またはフ
ィルター層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む
層として形成する。なお、フィルター層が設けられてい
ない透明支持体の面に下塗り層を設けて、透明支持体と
その上に設けられる層(例えば、反射防止層、ハードコ
ート層)との接着力を改善してもよい。また、下塗り層
は、反射防止膜と画像形成装置とを接着するための接着
剤と反射防止膜との親和性を改善するために設けてもよ
い。下塗り層の厚みは、2nm乃至20μmが好まし
く、5nm乃至5μmがさらに好ましく、50nm乃至
5μmが最も好ましい。
(Undercoat layer) It is preferable to provide an undercoat layer between the transparent support and the filter layer. The undercoat layer is formed as a layer containing a polymer having a glass transition temperature of −60 ° C. to 60 ° C., a layer having a rough surface on the filter layer side, or a layer containing a polymer having an affinity for the polymer of the filter layer. An undercoat layer is provided on the surface of the transparent support on which the filter layer is not provided to improve the adhesion between the transparent support and a layer provided thereon (for example, an antireflection layer or a hard coat layer). Is also good. The undercoat layer may be provided to improve the affinity between the adhesive for bonding the antireflection film and the image forming apparatus and the antireflection film. The thickness of the undercoat layer is preferably 2 nm to 20 μm, more preferably 5 nm to 5 μm, and most preferably 50 nm to 5 μm.

【0028】ガラス転移温度が−60℃乃至60℃のポ
リマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支
持体とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が2
5℃以下のポリマーは、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロ
ロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、アクリロニトリルまたはメチルビニルエーテルの重
合または共重合により得ることができる。ガラス転移温
度は、20℃以下であることが好ましく、15℃以下で
あることがより好ましく、10℃以下であることがさら
に好ましく、5℃以下であることがさらにまた好まし
く、0℃以下であることが最も好ましい。表面が粗面で
ある下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形成するこ
とで、透明支持体とフィルター層とを接着する。表面が
粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布によ
り容易に形成することができる。ラテックスの平均粒径
は、0.02乃至3μmであることが好ましく、0.0
5乃至1μmであることがさらに好ましい。フィルター
層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーの例
には、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カ
ゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイ
ロンおよび高分子ラテックスが含まれる。二以上の下塗
り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨潤
させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布
助剤や硬膜剤を添加してもよい。
The undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of -60 to 60 ° C. adheres the transparent support and the filter layer due to the tackiness of the polymer. Glass transition temperature 2
Polymers at 5 ° C or lower include vinyl chloride, vinylidene chloride,
It can be obtained by polymerization or copolymerization of vinyl acetate, butadiene, neoprene, styrene, chloroprene, acrylate, methacrylate, acrylonitrile or methyl vinyl ether. The glass transition temperature is preferably 20 ° C. or lower, more preferably 15 ° C. or lower, further preferably 10 ° C. or lower, still more preferably 5 ° C. or lower, and further preferably 0 ° C. or lower. Is most preferred. The undercoat layer having a rough surface adheres the transparent support and the filter layer by forming a filter layer on the rough surface. The undercoat layer having a rough surface can be easily formed by applying a polymer latex. The average particle size of the latex is preferably 0.02 to 3 μm,
More preferably, it is 5 to 1 μm. Examples of polymers having an affinity for the binder polymer of the filter layer include acrylic resins, cellulose derivatives, gelatin, casein, starch, polyvinyl alcohol, soluble nylon, and polymer latex. Two or more undercoat layers may be provided. The undercoat layer may contain a solvent for swelling the transparent support, a matting agent, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid and a hardener.

【0029】(反射防止層)反射防止層の反射防止機能
としては、正反射率が3%以下であることが好ましく、
1.8%以下であることがさらに好ましい。反射防止層
を設ける場合は、低屈折率層が必須である。低屈折率層
の屈折率は、透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率
層の屈折率は、1.20乃至1.55であることが好ま
しく、1.30乃至1.55であることがさらに好まし
い。低屈折率層の厚さは、50乃至400nmであるこ
とが好ましく、50乃至200nmであることがさらに
好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマ
ーからなる層(特開昭57−34526号、特開平3−
130103号、同6−115023号、同8−313
702号、同7−168004号の各公報記載)、ゾル
ゲル法により得られる層(特開平5−208811号、
同6−299091号、同7−168003号の各公報
記載)、あるいは微粒子含む層(特公昭60−5925
0号、特開平5−13021号、同6−56478号、
同7−92306号、同9−288201号の各公報に
記載)として形成することができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、3乃至50体積%の空隙率を有することが好まし
く、5乃至35体積%の空隙率を有することがさらに好
ましい。
(Anti-reflection layer) As an anti-reflection function of the anti-reflection layer, it is preferable that the regular reflectance is 3% or less.
More preferably, it is 1.8% or less. When providing an antireflection layer, a low refractive index layer is essential. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the transparent support. The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.20 to 1.55, more preferably 1.30 to 1.55. The thickness of the low refractive index layer is preferably from 50 to 400 nm, more preferably from 50 to 200 nm. The low refractive index layer is a layer made of a fluorine-containing polymer having a low refractive index (Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-34526,
No. 130103, No. 6-115023, No. 8-313
702, 7-168004), and a layer obtained by a sol-gel method (JP-A-5-208811,
JP-A-6-299091 and JP-A-7-168003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-5925).
No. 0, JP-A-5-13021, JP-A-6-56478,
7-92306 and 9-288201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing the fine particles preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, more preferably 5 to 35% by volume.

【0030】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.50乃至1.9 0であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。
In order to prevent reflection in a wide wavelength range,
It is preferable to laminate a layer having a high refractive index (middle / high refractive index layer) in addition to the low refractive index layer. The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.65 to 2.40.
More preferably, it is 70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably from 1.50 to 1.90. The thickness of the middle / high refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm, and most preferably from 30 nm to 1 μm. The haze of the middle / high refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The middle / high refractive index layer can be formed using a polymer binder having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. .
Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.

【0031】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80乃至2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。
In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn,
Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, S
i, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in solvents or are themselves liquid, such as alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) combined with coordination compounds, activity The middle / high refractive index layer can be formed using an inorganic polymer.

【0032】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能)を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3乃至
30%のヘイズを有する。
The anti-reflection layer can provide the surface with an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface). For example, by forming fine irregularities on the surface of a transparent film, and forming an antireflection layer on the surface, or after forming the antireflection layer, by forming irregularities on the surface with an embossing roll, an anti-glare function is obtained. be able to.
An antireflection layer having an antiglare function generally has a haze of 3 to 30%.

【0033】(電磁波遮蔽層)電磁波遮蔽効果を有する
層の表面抵抗は、0.1乃至500Ω/m2 であること
が好ましく、0.1乃至10Ω/m2 であることがさら
に好ましい。光学フィルターまたは反射防止膜に設ける
層であるため、電磁波遮蔽層は、透明であることが好ま
しい。一般に透明導電性層として知られている層を、電
磁波遮蔽層として用いることができる。透明導電性層と
しては、金属薄膜または金属酸化物薄膜が好ましく用い
られる。金属薄膜の金属としては、貴金属が好ましく、
金、銀、パラジウムまたはこれらの合金が好ましく、金
と銀との合金が特に好ましい。合金中の銀の含有率は、
60重量%以上であることが好ましい。金属酸化物薄膜
の金属酸化物としては、SnO2 、ZnO、ITOおよ
びIn2 3 が好ましい。金属薄膜と金属酸化物薄膜と
を積層してもよい。両者を積層すると、金属酸化物薄膜
により金属薄膜を保護(酸化防止)し、可視光の透過率
を高くすることができる。金属薄膜と積層するための金
属酸化物としては、2〜4価の金属酸化物(例、酸化ジ
ルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ
素、酸化アルミニウム)が好ましい。また、金属アルコ
キサイド化合物の薄膜も、金属薄膜と積層することがで
きる。金属酸化物または金属アルコキサイド化合物の薄
膜は、金属薄膜の両側に積層することができる。金属薄
膜の両側に積層する場合、異なる種類の薄膜を用いても
よい。金属薄膜の厚さは、4乃至40nmであることが
好ましく、5乃至35nmであることがさらに好まし
く、6乃至30nmであることが最も好ましい。金属酸
化物または金属アルコキサイド化合物の薄膜の厚さは、
20乃至300nmであることが好ましく、40乃至1
00nmであることがさらに好ましい。電磁波遮蔽層
は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、プラズマCVD法、プラズマPVD法あるいは
金属または金属酸化物の掉尾粒子塗布により形成するこ
とができる。
The surface resistance of the layer having the (electromagnetic wave shielding layer) electromagnetic wave shielding effect is preferably 0.1 to 500 [Omega / m 2, more preferably in the range of 0.1 to 10 [Omega / m 2. Since it is a layer provided on an optical filter or an antireflection film, the electromagnetic wave shielding layer is preferably transparent. A layer generally known as a transparent conductive layer can be used as the electromagnetic wave shielding layer. As the transparent conductive layer, a metal thin film or a metal oxide thin film is preferably used. As the metal of the metal thin film, a noble metal is preferable,
Gold, silver, palladium or alloys thereof are preferred, and alloys of gold and silver are particularly preferred. The silver content in the alloy is
It is preferably at least 60% by weight. As the metal oxide of the metal oxide thin film, SnO 2 , ZnO, ITO and In 2 O 3 are preferable. A metal thin film and a metal oxide thin film may be stacked. When both are laminated, the metal thin film can be protected (prevented from oxidation) by the metal oxide thin film, and the visible light transmittance can be increased. As the metal oxide to be laminated with the metal thin film, a divalent to tetravalent metal oxide (eg, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide) is preferable. Also, a thin film of a metal alkoxide compound can be laminated with a metal thin film. The metal oxide or metal alkoxide compound thin film can be laminated on both sides of the metal thin film. When laminating on both sides of the metal thin film, different types of thin films may be used. The thickness of the metal thin film is preferably from 4 to 40 nm, more preferably from 5 to 35 nm, and most preferably from 6 to 30 nm. The thickness of the metal oxide or metal alkoxide compound thin film is
It is preferably 20 to 300 nm, and 40 to 1 nm.
More preferably, it is 00 nm. The electromagnetic wave shielding layer can be formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a plasma CVD method, a plasma PVD method, or a coating of particles of a metal or metal oxide.

【0034】(赤外線遮蔽層)赤外線遮蔽層は、800
乃至1200nmの波長の近赤外線に対して遮蔽効果を
有することが好ましい。赤外線遮蔽層は、樹脂混合物に
より形成することができる。樹脂混合物中の赤外線遮蔽
性成分としては、銅(特開平6−118228号公報記
載)、銅化合物またはリン化合物(特開昭62−519
0号公報記載)、銅化合物またはチオ尿素化合物(特開
平6−73197号公報記載)あるいはタングステン化
合物(米国特許3647772号明細書記載)を用いる
ことができる。赤外線遮蔽層を設ける代わりに、樹脂混
合物を透明支持体に添加してもよい。なお、電磁波遮蔽
層として説明した銀薄膜は、赤外線遮蔽効果も有する。
(Infrared ray shielding layer)
It preferably has a shielding effect against near infrared rays having a wavelength of from about 1200 nm to 1200 nm. The infrared shielding layer can be formed of a resin mixture. Examples of the infrared shielding component in the resin mixture include copper (described in JP-A-6-118228), copper compounds and phosphorus compounds (JP-A-62-519).
No. 0), a copper compound or a thiourea compound (described in JP-A-6-73197) or a tungsten compound (described in U.S. Pat. No. 3,647,772). Instead of providing the infrared shielding layer, a resin mixture may be added to the transparent support. Note that the silver thin film described as the electromagnetic wave shielding layer also has an infrared shielding effect.

【0035】(その他の層)光学フィルターには、ハー
ドコート層、潤滑層、防汚層、帯電防止層、紫外線吸収
層あるいは中間層を設けることもできる。ハードコート
層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハ
ードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系
のポリマー、オリゴマーまたはモノマー(例、紫外線硬
化型樹脂)を用いて形成することができる。シリカ系材
料からハードコート層を形成することもできる。光学フ
ィルターの最表面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層
は、反射防止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善す
る機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン
(例、シリコンオイル)、天然ワックス、石油ワック
ス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導
体を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、2
乃至20nmであることが好ましい。防汚層は、含フッ
素ポリマーを用いて形成することができる。防汚層の厚
さは、2乃至100nmであることが好ましく、5乃至
30nmであることがさらに好ましい。
(Other Layers) The optical filter may be provided with a hard coat layer, a lubricating layer, an antifouling layer, an antistatic layer, an ultraviolet absorbing layer or an intermediate layer. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer can be formed using an acrylic, urethane, or epoxy polymer, oligomer, or monomer (eg, an ultraviolet curable resin). The hard coat layer can also be formed from a silica-based material. A lubricating layer may be formed on the outermost surface of the optical filter. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection film and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubrication layer is 2
It is preferably from 20 to 20 nm. The antifouling layer can be formed using a fluorine-containing polymer. The thickness of the antifouling layer is preferably from 2 to 100 nm, more preferably from 5 to 30 nm.

【0036】反射防止層(中屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層)、フィルター層、下塗り層、ハードコート
層、潤滑層、その他の層は、一般的な塗布方法により形
成することができる。塗布方法の例には、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法およびホッパーを使用するエクストルージョンコート
法(米国特許2681294号明細書記載)が含まれ
る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時
塗布法については、米国特許2761791号、同29
41898号、同3508947号、同3526528
号の各明細書および原崎勇次著「コーティング工学」2
53頁(1973年朝倉書店発行)に記載がある。
The antireflection layer (medium-refractive-index layer, high-refractive-index layer, low-refractive-index layer), filter layer, undercoat layer, hard coat layer, lubricating layer, and other layers are formed by a general coating method. Can be. Examples of the coating method include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an extrusion coating method using a hopper (described in US Pat. No. 2,681,294). Is included. Two or more layers may be formed by simultaneous coating. The simultaneous coating method is described in U.S. Pat.
No. 41898, No. 3508947, No. 3526528
Issue specifications and Yuji Harazaki, "Coating Engineering" 2
It is described on page 53 (published by Asakura Shoten in 1973).

【0037】(光学フィルターの用途)光学フィルター
は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像
表示装置に適用する。反射防止層を設ける場合は、低屈
折率層が設けられていない側の面が画像表示装置の画像
表示面と対向するように配置する。本発明の光学フィル
ターは、プラズマディスプレイパネル(PDP)の反射
防止フィルターとして使用すると、特に顕著な効果が得
られる。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、ガ
ス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料
および蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガ
ラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス
基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板に
は、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組
み立てて、その間にガスを封入する。プラズマディスプ
レイパネル(PDP)は、既に市販されている。プラズ
マディスプレイパネルについては、特開平5−2056
43号、同9−306366号の各公報に記載がある。
(Use of Optical Filter) The optical filter is applied to an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). . When the antireflection layer is provided, the antireflection layer is arranged such that the surface on which the low refractive index layer is not provided faces the image display surface of the image display device. When the optical filter of the present invention is used as an antireflection filter of a plasma display panel (PDP), a particularly remarkable effect is obtained. A plasma display panel (PDP) includes a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. Regarding the plasma display panel, Japanese Patent Laid-Open No.
No. 43 and No. 9-306366.

【0038】[0038]

【実施例】[実施例1] (下塗り層の形成)厚さ175μmの透明なポリエチレ
ンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理した後、
片面にスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテッ
クスを厚さ130nmとなるよう塗布し、下塗り層を形
成した。
[Example 1] (Formation of undercoat layer) After corona treatment on both sides of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 µm,
One side was coated with a latex made of a styrene-butadiene copolymer to a thickness of 130 nm to form an undercoat layer.

【0039】(第2下塗り層の形成)下塗り層の上に、
酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、厚
さ50nmとなるよう塗布し、第2下塗り層を形成し
た。
(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer,
A gelatin aqueous solution containing acetic acid and glutaraldehyde was applied to a thickness of 50 nm to form a second undercoat layer.

【0040】(低屈折率層の形成)反応性フッ素ポリマ
ー(JN−7219、日本合成ゴム(株)製)2.50
gにt−ブタノール1.3gを加え、室温で10分間撹
拌し、孔径1μmのポリプロピレンフィルターで濾過し
た。得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の下塗
り面とは反対側の面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚
が110nmとなるように塗布し、120℃で30分間
乾燥して硬化させ低屈折率層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) Reactive Fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 2.50
1.3 g of t-butanol was added to the resulting mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm. The obtained coating solution for a low refractive index layer is applied to the surface opposite to the undercoat surface of the transparent support using a bar coater so that the dry film thickness becomes 110 nm, and dried at 120 ° C. for 30 minutes. And cured to form a low refractive index layer.

【0041】(フイルター層の形成)平均粒径が0.0
18μmの非感光性塩化銀微粒子乳剤の調製(特開平1
1−65013号公報の実施例の微粒子乳剤(1−1)
と同様に調製)において、硝酸銀水溶液および塩化ナト
リウム水溶液の添加と同時に、下記のメチン染料(1)
の水溶液(0.002モル/リットル)を添加し、メチ
ン染料(1)が表面に吸着した塩化銀微粒子を調製し
た。
(Formation of Filter Layer) The average particle size is 0.0
Preparation of non-photosensitive silver chloride fine grain emulsion of 18 μm
Fine grain emulsion of Examples of 1-165013 (1-1)
Methine dye (1) at the same time as adding an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of sodium chloride.
Was added (0.002 mol / L) to prepare silver chloride fine particles having the methine dye (1) adsorbed on the surface.

【0042】[0042]

【化1】 Embedded image

【0043】得られたフィルター層用塗布液を、第2下
塗り層の上に、染料の塗布量が30mg/m2 となるよ
うに塗布し、120℃で10分間乾燥してフィルター層
を形成し、光学フィルターを作製した。
The obtained coating solution for a filter layer was applied onto the second undercoat layer so that the coating amount of the dye was 30 mg / m 2, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a filter layer. The optical filter was produced.

【0044】[実施例2]メチン染料(1)に代えて、
下記のメチン染料(2)を用いた以外は、実施例1と同
様にして光学フィルターを作製した。
Example 2 Instead of the methine dye (1),
An optical filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the following methine dye (2) was used.

【0045】[0045]

【化2】 Embedded image

【0046】[実施例3]メチン染料(1)に代えて、
下記のメチン染料(3)を用いた以外は、実施例1と同
様にして光学フィルターを作製した。
Example 3 Instead of the methine dye (1),
An optical filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the following methine dye (3) was used.

【0047】[0047]

【化3】 Embedded image

【0048】[比較例1]ポリビニルブチラール(PV
B−3000K、電気化学工業(株)製)3.0gをク
ロロホルム80gに溶解し、得られた溶液に下記の比較
染料(a)0.12gを溶解した。混合物を30分攪拌
した後、孔径1μmのポリプロピレンフィルターで濾過
した。得られたフィルター層用塗布液を用いた以外は、
実施例1と同様にして光学フィルターを作製した。
Comparative Example 1 Polyvinyl butyral (PV
3.0 g of B-3000K (manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK) was dissolved in 80 g of chloroform, and 0.12 g of the following comparative dye (a) was dissolved in the obtained solution. After stirring the mixture for 30 minutes, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm. Except using the obtained filter layer coating solution,
An optical filter was produced in the same manner as in Example 1.

【0049】[0049]

【化4】 Embedded image

【0050】[比較例2]部分加水分解したポリ酢酸ビ
ニル3.0gをイソプロピルアルコール80gに溶解
し、得られた溶液に市販の染料(ホスターパームピンク
E)0.3gを溶解した。混合物を30分攪拌した後、
孔径1μmのポリプロピレンフィルターで濾過した。得
られたフィルター層用塗布液を用いた以外は、実施例1
と同様にして光学フィルターを作製した。
Comparative Example 2 3.0 g of partially hydrolyzed polyvinyl acetate was dissolved in 80 g of isopropyl alcohol, and 0.3 g of a commercially available dye (Hoster Palm Pink E) was dissolved in the obtained solution. After stirring the mixture for 30 minutes,
The mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm. Example 1 except that the obtained coating solution for a filter layer was used.
An optical filter was produced in the same manner as described above.

【0051】(吸光度の測定)作製した光学フィルター
について、分光光度計(U−3210、日立製作所
(株)製)を用いて透過スペクトルを測定した。リファ
レンスは、空気で行った。スペクトルから、吸収極大
(λmax)と半値幅を求めた。結果を第1表に示す。
なお、いずれの光学フィルターも、吸収極大における透
過率は、25〜35%の範囲内であった。
(Measurement of Absorbance) The transmission spectrum of the prepared optical filter was measured using a spectrophotometer (U-3210, manufactured by Hitachi, Ltd.). Reference was made with air. From the spectrum, the absorption maximum (λmax) and the half width were determined. The results are shown in Table 1.
In addition, the transmittance | permeability in the absorption maximum of all the optical filters was in the range of 25-35%.

【0052】(耐光性試験)作製した光学フィルター
に、キセノンランプで照度が15万ルクスになるよう
に、フィルター層とは反対側の面から光を照射し、20
0時間照射後の染料の残存量を測定した。残存量は、下
記式に従い計算した。 残存量=100×(100−照射後の透過率)/(10
0−照射前の透過率) 上記透過率は、染料の吸収極大波長で測定した値であ
る。結果を第1表に示す。
(Light fastness test) The prepared optical filter was irradiated with light from the side opposite to the filter layer by a xenon lamp so that the illuminance was 150,000 lux.
The residual amount of the dye after irradiation for 0 hours was measured. The residual amount was calculated according to the following equation. Residual amount = 100 × (100−transmittance after irradiation) / (10
0—Transmittance Before Irradiation) The transmittance is a value measured at the absorption maximum wavelength of the dye. The results are shown in Table 1.

【0053】[0053]

【表1】 第1表 ──────────────────────────────────── 光学フィルター 染料 吸着 λmax 半値幅 耐光性 ──────────────────────────────────── 実施例1 (1) あり 598nm 35nm 83% 実施例2 (2) あり 591nm 40nm 83% 実施例3 (3) あり 588nm 42nm 86% 比較例1 (a) なし 572nm 70nm 0% 比較例2 ホスターハ゜ームヒ゜ンクE なし 570nm 150nm 100% ────────────────────────────────────[Table 1] Table 1 ──────────────────────────────────── Optical filter Dye adsorption λmax Half width Light fastness ──────────────────────────────────── Example 1 (1) Yes 598 nm 35 nm 83% Example 2 (2) Yes 591 nm 40 nm 83% Example 3 (3) Yes 588 nm 42 nm 86% Comparative Example 1 (a) No 572 nm 70 nm 0% Comparative Example 2 Hoster pump E No 570 nm 150 nm 100% ──────────────────────────────

【0054】実施例1〜3の光学フィルターをプラズマ
ディスプレイパネルの表面に取り付けたところ、コント
ラストが良好な画像が得られ、白色光および赤色光の改
善が認められた。
When the optical filters of Examples 1 to 3 were attached to the surface of the plasma display panel, an image having good contrast was obtained, and improvement in white light and red light was recognized.

【0055】[実施例4] (下塗り層の形成)厚さ80μmの透明なトリアセチル
セルロースフイルムの片面に、メタノールとアセトンに
分散したゼラチンを厚さ200nmとなるよう塗布、乾
燥して、下塗り層を形成した。
Example 4 (Formation of Undercoat Layer) On one side of a transparent triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, gelatin dispersed in methanol and acetone was applied so as to have a thickness of 200 nm, and dried. Was formed.

【0056】(ハードコート層の形成)25重量部のジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、
日本化薬(株)製)、25重量部のウレタンアクリレー
トオリゴマー(UV−6300B、日本合成化学工業
(株)製)、2重量部の光重合開始剤(イルガキュアー
907、チバガイギー社製)および0.5重量部の増感
剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)を、5
0重量部のメチルエチルケトンに溶解した。得られた塗
布液を、透明支持体の下塗り層とは反対側の面に、バー
コーターを用いて塗布、乾燥後、紫外線を照射してハー
ドコート層(層厚:6μm)を形成した。
(Formation of Hard Coat Layer) 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,
Nippon Kayaku Co., Ltd.), 25 parts by weight of a urethane acrylate oligomer (UV-6300B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0 5 parts by weight of a sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
It was dissolved in 0 parts by weight of methyl ethyl ketone. The obtained coating solution was applied to the surface opposite to the undercoat layer of the transparent support using a bar coater, dried, and then irradiated with ultraviolet rays to form a hard coat layer (layer thickness: 6 μm).

【0057】(低屈折率層の形成)ハードコート層の上
に、実施例1と同様に、低屈折率層用塗布液を用いて低
屈折率層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) A low refractive index layer was formed on the hard coat layer in the same manner as in Example 1 using a coating liquid for a low refractive index layer.

【0058】(フイルター層の形成)実施例1で用いた
フィルター層用塗布液を、下塗り層の上に、染料の塗布
量が30mg/m2 となるように塗布し、120℃で1
0分間乾燥してフィルター層を形成した。作製した光学
フィルターについて、吸収極大、吸収極大における透過
率と半値幅を測定したところ、実施例1で作製した光学
フィルターと同じ結果が得られた。
(Formation of Filter Layer) The coating solution for the filter layer used in Example 1 was applied onto the undercoat layer so that the coating amount of the dye was 30 mg / m 2 ,
After drying for 0 minutes, a filter layer was formed. For the manufactured optical filter, the absorption maximum, the transmittance at the absorption maximum, and the half width were measured, and the same result as that of the optical filter manufactured in Example 1 was obtained.

【0059】[実施例5] (下塗り層の形成)実施例1と同様に、透明支持体の片
面に下塗り層(a)および第2下塗り層(a)を形成し
た。透明支持体の下塗り層が設けられていない側の面
に、塩化ビニリデン−アクリル酸−メチルアクリレート
コポリマーからなるラテックスを厚さ120nmとなる
よう塗布し、下塗り層(b)を形成した。
Example 5 (Formation of Undercoat Layer) As in Example 1, an undercoat layer (a) and a second undercoat layer (a) were formed on one surface of the transparent support. A latex comprising vinylidene chloride-acrylic acid-methyl acrylate copolymer was applied to a thickness of 120 nm on the side of the transparent support on which the undercoat layer was not provided, to form an undercoat layer (b).

【0060】(第2下塗り層の形成)下塗り層(b)の
上に、アクリル系ラテックス(HA16、日本アクリル
(株)製)を厚さ50nmとなるよう塗布し、第2下塗
り層(b)を形成した。
(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer (b), an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) was applied to a thickness of 50 nm to form a second undercoat layer (b). Was formed.

【0061】(フイルター層の形成)実施例1で用いた
フィルター層用塗布液を、第2下塗り層(b)の上に、
染料の塗布量が30mg/m2 となるように塗布し、1
20℃で10分間乾燥してフィルター層を形成した。
(Formation of Filter Layer) The coating solution for the filter layer used in Example 1 was applied onto the second undercoat layer (b).
Apply so that the coating amount of the dye is 30 mg / m 2 ,
After drying at 20 ° C. for 10 minutes, a filter layer was formed.

【0062】(ハードコート層の形成)フィルター層の
上に、実施例4と同様にして、ハードコート層を形成し
た。
(Formation of Hard Coat Layer) A hard coat layer was formed on the filter layer in the same manner as in Example 4.

【0063】(低屈折率層の形成)ハードコート層の上
に、実施例1と同様に、低屈折率層用塗布液を用いて低
屈折率層を形成し、光学フィルターを作製した。作製し
た光学フィルターについて、吸収極大、吸収極大におけ
る透過率と半値幅を測定したところ、実施例1で作製し
た光学フィルターと同じ結果が得られた。
(Formation of Low Refractive Index Layer) A low refractive index layer was formed on the hard coat layer by using a coating liquid for a low refractive index layer in the same manner as in Example 1, to produce an optical filter. For the manufactured optical filter, the absorption maximum, the transmittance at the absorption maximum, and the half width were measured, and the same result as that of the optical filter manufactured in Example 1 was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】フィルター層を反射防止層とは透明支持体の反
対の側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer is provided on a side opposite to a transparent support from an antireflection layer.

【図2】フィルター層と反射防止層とを透明支持体の同
じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図であ
る。 1 透明支持体 2 フィルター層 3 低屈折率層 4 ハードコート層 5 高屈折率層 6 中屈折率層
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer and an antireflection layer are provided on the same side of a transparent support. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent support 2 Filter layer 3 Low refractive index layer 4 Hard coat layer 5 High refractive index layer 6 Medium refractive index layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 1/11 G02B 1/10 A Fターム(参考) 2H048 CA04 CA14 CA19 CA24 CA26 2K009 AA02 AA15 BB24 CC24 CC26 DD02 DD17 4J002 AB011 AB051 AC081 AD011 BC031 BD041 BE021 BE061 BG061 BJ001 CG001 DD077 DE147 DJ007 DJ017 DJ047 FB087 FD017 FD096 GP00 4J038 BA021 BA171 BA181 CC031 CC041 CD031 CE021 CE071 CG141 CH031 CK031 DE011 HA106 HA216 HA446 HA466 HA536 HA546 HA556 KA08 KA15 KA20 NA19 PB08 PB09 PC08 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 1/11 G02B 1/10 A F-term (Reference) 2H048 CA04 CA14 CA19 CA24 CA26 2K009 AA02 AA15 BB24 CC24 CC26 DD02 DD17 4J002 AB011 AB051 AC081 AD011 BC031 BD041 BE021 BE061 BG061 BJ001 CG001 DD077 DE147 DJ007 DJ017 DJ047 FB087 FD017 FD096 GP00 4J038 BA021 BA171 BA181 CC031 CC041 CD031 CE021 CE071 HA031 HA031KA031

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明支持体上に染料およびポリマーバイ
ンダーを含むフィルター層を有する光学フィルターであ
って、フィルター層がさらに微粒子を含み、染料が微粒
子の表面に吸着している状態でフィルター層に含まれて
いることを特徴とする光学フィルター。
1. An optical filter having a filter layer containing a dye and a polymer binder on a transparent support, wherein the filter layer further contains fine particles, and the dye is contained in the filter layer in a state where the dye is adsorbed on the surface of the fine particles. An optical filter, which is characterized in that:
【請求項2】 プラズマディスプレイパネル用である請
求項1に記載の光学フィルター。
2. The optical filter according to claim 1, which is used for a plasma display panel.
【請求項3】 微粒子が、平均粒径が0.005乃至2
0μmの無機微粒子である請求項1に記載の光学フィル
ター。
3. The fine particles having an average particle size of 0.005 to 2
The optical filter according to claim 1, wherein the optical filter is 0 μm inorganic fine particles.
【請求項4】 微粒子の表面に吸着している染料が、5
60乃至620nmの波長領域に吸収極大を有する請求
項1に記載の光学フィルター。
4. The dye adsorbed on the surface of the fine particles is 5
The optical filter according to claim 1, which has an absorption maximum in a wavelength region of 60 to 620 nm.
【請求項5】 染料およびポリマーバインダーを含むフ
ィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よ
りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
れている反射防止膜であって、フィルター層がさらに微
粒子を含み、染料が微粒子の表面に吸着している状態で
フィルター層に含まれていることを特徴とする反射防止
膜。
5. An antireflection film comprising: a filter layer containing a dye and a polymer binder; a transparent support; and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support. An antireflection film, wherein the filter layer further contains fine particles, and the dye is contained in the filter layer in a state where the dye is adsorbed on the surface of the fine particles.
【請求項6】 プラズマディスプレイパネル用である請
求項5に記載の反射防止膜。
6. The antireflection film according to claim 5, which is used for a plasma display panel.
【請求項7】 微粒子が、平均粒径が0.005乃至2
0μmの無機微粒子である請求項5に記載の反射防止
膜。
7. The fine particles having an average particle diameter of 0.005 to 2
The antireflection film according to claim 5, wherein the antireflection film is inorganic fine particles of 0 µm.
【請求項8】 微粒子の表面に吸着している染料が、5
60乃至620nmの波長領域に吸収極大を有する請求
項5に記載の反射防止膜。
8. The dye adsorbed on the surface of the fine particles is 5
The antireflection film according to claim 5, which has an absorption maximum in a wavelength region of 60 to 620 nm.
【請求項9】 透明支持体、染料およびポリマーバイン
ダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折率よ
りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
れている反射防止膜であって、フィルター層がさらに微
粒子を含み、染料が微粒子の表面に吸着している状態で
フィルター層に含まれていることを特徴とする反射防止
膜。
9. An antireflection film comprising a transparent support, a filter layer containing a dye and a polymer binder, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support, which are laminated in this order. An antireflection film, wherein the filter layer further contains fine particles, and the dye is contained in the filter layer in a state where the dye is adsorbed on the surface of the fine particles.
【請求項10】 プラズマディスプレイパネル用である
請求項9に記載の反射防止膜。
10. The antireflection film according to claim 9, which is for a plasma display panel.
【請求項11】 微粒子が、平均粒径が0.005乃至
20μmの無機微粒子である請求項9に記載の反射防止
膜。
11. The antireflection film according to claim 9, wherein the fine particles are inorganic fine particles having an average particle size of 0.005 to 20 μm.
【請求項12】 微粒子の表面に吸着している染料が、
560乃至620nmの波長領域に吸収極大を有する請
求項9に記載の反射防止膜。
12. The dye adsorbed on the surface of the fine particles,
The antireflection film according to claim 9, which has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm.
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