JP2000043175A - Reflection preventing film and plasma display panel - Google Patents
Reflection preventing film and plasma display panelInfo
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- JP2000043175A JP2000043175A JP10228731A JP22873198A JP2000043175A JP 2000043175 A JP2000043175 A JP 2000043175A JP 10228731 A JP10228731 A JP 10228731A JP 22873198 A JP22873198 A JP 22873198A JP 2000043175 A JP2000043175 A JP 2000043175A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体、染料
含有層および低屈折率層を有する反射防止フイルムに関
する。また、本発明は、プラズマディスプレイパネル、
CRT、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ、液晶デ
ィスプレイのような表示装置のディスプレイ表面に、反
射防止フィルターとして取り付けるための反射防止フイ
ルムにも関する。さらに本発明は、反射防止フィルター
をディスプレイ表面側に設けたプラズマディスプレイパ
ネルにも関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film having a transparent support, a dye-containing layer and a low refractive index layer. Further, the present invention provides a plasma display panel,
The present invention also relates to an antireflection film for mounting as an antireflection filter on a display surface of a display device such as a CRT, a fluorescent display, a field emission display, and a liquid crystal display. Furthermore, the present invention relates to a plasma display panel provided with an antireflection filter on the display surface side.
【0002】[0002]
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル、CRT、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ、液晶ディスプレ
イのような表示装置には、ディスプレイ表面での外部光
の写り込みにより表示コントラストが低下する問題があ
る。対策としては、微細な凹凸を有する防眩膜や高屈折
率材料と低屈折率材料とを組み合わせた多層構造の反射
防止層をディスプレイ表面に形成することが行われてい
る。プラズマディスプレイパネル、CRT、蛍光表示
管、電界放射型ディスプレイのような蛍光体を用いる表
示装置では、塗布した蛍光体に電子線や紫外線を照射し
て、蛍光体を発光させ、蛍光面を透過あるいは反射した
光により表示を行う。蛍光体は一般に白色で反射率が高
いため、蛍光面での外部光の反射が多い。そのため、外
部光の写り込みによる表示コントラストの低下問題は、
蛍光体を用いる表示装置において、特に深刻である。蛍
光体の方の改良によって、蛍光面での反射を防止するこ
とは技術的に難しい。上記の防眩膜や多層構造の反射防
止層による対策は、蛍光体を用いる表示装置では不充分
である場合が多い。蛍光体を用いる表示装置では、さら
に別の対策として反射光を吸収するために、ニュートラ
ルグレーのフィルターをディスプレイ前面に設置するこ
とが行われることがある。ニュートラルグレーのフィル
ターは、NDフィルターとも呼ばれ、その透過率は一般
に40乃至80%である。2. Description of the Related Art Plasma display panels, CRTs,
Display devices such as a fluorescent display tube, a field emission display, and a liquid crystal display have a problem that display contrast is reduced due to reflection of external light on the display surface. As a countermeasure, an antiglare film having fine irregularities or an antireflection layer having a multilayer structure in which a high refractive index material and a low refractive index material are combined is formed on the display surface. 2. Description of the Related Art In a display device using a phosphor such as a plasma display panel, a CRT, a fluorescent display tube, and a field emission display, the applied phosphor is irradiated with an electron beam or an ultraviolet ray to cause the phosphor to emit light and transmit through a phosphor screen or Display is performed by the reflected light. Phosphors are generally white and have high reflectivity, so that external light is often reflected on the phosphor screen. Therefore, the problem of lowering the display contrast due to reflection of external light,
This is particularly serious in a display device using a phosphor. It is technically difficult to prevent reflection on the phosphor screen by improving the phosphor. The above countermeasures using an antiglare film or a multilayered antireflection layer are often insufficient for a display device using a phosphor. In a display device using a phosphor, a neutral gray filter may be provided on the front surface of the display as another measure to absorb reflected light. The neutral gray filter is also called an ND filter, and its transmittance is generally 40 to 80%.
【0003】蛍光体発光型の表示装置でカラー表示を行
う場合、赤、青、緑の三原色蛍光体の発光を用いる。プ
ラズマディスプレイパネルや蛍光表示管では、視感度の
最も良い緑色の輝度が強いため、表示画面が緑がかる傾
向がある。表示色の色バランスを補正するために、緑色
の発光の輝度を抑える色調整フィルターをディスプレイ
前面に設置することが行われている。以上のように、表
示装置では、表示のコントラストを改善したり表示品位
を向上させる目的で、色調整フィルター、ニュートラル
グレーのフィルターあるいは防眩処理または反射防止処
理を施したフィルターを、ディスプレイ前面に設置して
いる(通常は貼り付ける)。複数のフィルターを使用す
る場合は、ディスプレイ表面側に色調整フィルターまた
はニュートラルグレーのフィルターを設置し、その外側
に防眩処理または反射防止処理を施したフィルターを設
置する。このようなフィルターとしては、特開昭61−
188501号、特開平10−26704号の各公報
に、透明支持体、染料含有層、反射防止層の順序の層構
成を有する透明プラスチックフィルターが開示されてい
る。反射防止層は、真空蒸着により形成する。特開平9
−306366号公報には、反射防止層、染料含有層、
紫外線カット層およびEMI層を有するプラズマディス
プレイパネル容フィルターが開示されている。反射防止
層は、フッ素樹脂の塗布により形成する。When color display is performed by a phosphor light emitting type display device, light emission of three primary color phosphors of red, blue and green is used. In a plasma display panel or a fluorescent display tube, the display screen tends to be greenish because the luminance of green, which has the highest visibility, is strong. In order to correct the color balance of the display color, a color adjustment filter for suppressing the luminance of green light emission is provided on the front of the display. As described above, in the display device, in order to improve display contrast and display quality, a color adjustment filter, a neutral gray filter, or a filter that has been subjected to anti-glare processing or anti-reflection processing is installed on the front of the display. (Usually pasted). When a plurality of filters are used, a color adjustment filter or a neutral gray filter is provided on the display surface side, and a filter subjected to an anti-glare treatment or an anti-reflection treatment is provided outside the filter. Such a filter is disclosed in
JP-A-188501 and JP-A-10-26704 disclose a transparent plastic filter having a layer structure in the order of a transparent support, a dye-containing layer, and an antireflection layer. The anti-reflection layer is formed by vacuum evaporation. JP 9
JP-A-306366 discloses an antireflection layer, a dye-containing layer,
A plasma display panel filter having an ultraviolet cut layer and an EMI layer is disclosed. The antireflection layer is formed by applying a fluororesin.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ディ
スプレイパネルの色調整が可能な反射防止フイルムを提
供することである。また、本発明の目的は、表示色の色
バランスが補正され、反射も防止されているプラズマデ
ィスプレイパネルを提供することでもある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an antireflection film capable of adjusting the color of a display panel. Another object of the present invention is to provide a plasma display panel in which the color balance of display colors is corrected and reflection is prevented.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記
[1]から[8]の反射防止フイルムおよび下記[9]
のプラズマディスプレイパネルにより達成された。 [1]透明支持体の一方の面の上に、染料含有層および
透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率
層とがこの順序で塗布層として設けられており、そして
染料含有層が、下記式(1)、(2)、(4)、(5)
または(6)で表される可視光吸収染料を含む反射防止
フイルム。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an antireflection film of the following [1] to [8] and a following [9].
Achieved by the plasma display panel. [1] On one surface of a transparent support, a dye-containing layer and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are provided as a coating layer in this order, and a dye is provided. The containing layer has the following formula (1), (2), (4), (5)
Or an antireflection film containing a visible light absorbing dye represented by (6).
【0006】[0006]
【化18】 Embedded image
【0007】式中、Z1 およびZ2 は、それぞれ独立
に、含窒素複素環を形成する非金属原子群であり;R1
およびR2 は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニ
ル基またはアラルキル基であり;L1 は、奇数個のメチ
ンからなるメチン鎖であり;a、bおよびcは、それぞ
れ独立に、0または1であり;そして、X1 は、アニオ
ンである。[0007] In the formula, Z 1 and Z 2 are each independently a non-metallic atomic group forming a nitrogen-containing heterocyclic ring; R 1
And R 2 are each independently an alkyl, alkenyl or aralkyl group; L 1 is a methine chain consisting of an odd number of methines; a, b and c are each independently 0 or 1 Yes; and X 1 is an anion.
【0008】[0008]
【化19】 Embedded image
【0009】式中、Ar1 およびAr2 は、それぞれ独
立に、アリール基、芳香族複素環基または式(3)で表
される基である。In the formula, Ar 1 and Ar 2 are each independently an aryl group, an aromatic heterocyclic group or a group represented by the formula (3).
【0010】[0010]
【化20】 Embedded image
【0011】式中、Z3 は、含窒素複素環を形成する非
金属原子群であり;R3 は、アルキル基、アルケニル基
またはアラルキル基であり;そして、dは、0または1
である。Wherein Z 3 is a group of non-metallic atoms forming a nitrogen-containing heterocyclic ring; R 3 is an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group; and d is 0 or 1
It is.
【0012】[0012]
【化21】 Embedded image
【0013】式中、Y1 およびY2 は、それぞれ独立
に、脂肪族環または複素環を形成する非金属原子群であ
り;そして、L2 は、奇数個のメチンからなるメチン鎖
である。Wherein Y 1 and Y 2 are each independently a group of non-metallic atoms forming an aliphatic or heterocyclic ring; and L 2 is a methine chain consisting of an odd number of methines.
【0014】[0014]
【化22】 Embedded image
【0015】式中、Y3 は、脂肪族環または複素環を形
成する非金属原子群であり;R4 およびR5 は、それぞ
れ独立に、アルキル基であり;そして、R6 は、水素原
子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハ
ロゲン原子、アルコキシカルボニル基、シアノ、ニト
ロ、アミノ、アミド基、アシルオキシ基、スルホまたは
カルボキシルである。Wherein Y 3 is a group of nonmetallic atoms forming an aliphatic ring or a heterocyclic ring; R 4 and R 5 are each independently an alkyl group; and R 6 is a hydrogen atom , An alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a cyano, nitro, amino, amide group, acyloxy group, sulfo or carboxyl.
【0016】[0016]
【化23】 Embedded image
【0017】式中、R7 およびR8 は、それぞれ独立
に、水素原子、アルキル基、アラルキル基またはアリー
ル基であり;R9 は、アルキル基、アルコキシ基、ハロ
ゲン原子、アミド基、アルコキシカルボニル基、シア
ノ、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイ
ル基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基また
はヒドロキシルであり;nは1、2、3または4であ
り;R7 およびR8 は、互いに結合して、あるいは隣接
するR9 と結合して複素環を形成してもよく;R10は、
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
ラルキル基、シアノ、アミド基、アルコキシカルボニル
アミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アシル
基、アミノ、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基
であり;Za、ZbおよびZcは、それぞれ独立に、−
C(R11)=または−N=であり;そして、R11は、水
素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ミノ、アルキルアミノ基、アリールアミノ基またはアル
コキシカルボニル基である。Wherein R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group; R 9 is an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, an amide group, an alkoxycarbonyl group , Cyano, sulfonamide, carbamoyl, sulfamoyl, ureido, alkoxycarbonylamino or hydroxyl; n is 1, 2, 3 or 4; R 7 and R 8 are It may form a heterocyclic ring bonded to adjacent R 9; R 10 is
Hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, aralkyl group, cyano, amide group, alkoxycarbonylamino group, sulfonamide group, ureido group, alkylthio group, arylthio group, alkoxy Carbonyl, carbamoyl, sulfamoyl, sulfonyl, acyl, amino, alkylamino or arylamino; Za, Zb and Zc each independently represent-
And C (R 11 ) = or -N =; and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino, an alkylamino group, an arylamino Or an alkoxycarbonyl group.
【0018】[2]透明支持体の一方の面の上に、染料
含有層塗布層として設けられており、他方の面の上に、
透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率
層が塗布層として設けられており、そして染料含有層
が、上記式(1)、(2)、(4)、(5)または
(6)で表される可視光吸収染料を含む反射防止フイル
ム。 [3]上記可視光吸収染料が、470乃至510nmの
波長領域、540乃至600nmの波長領域または64
0乃至730nmの波長領域に最大吸収波長を有する
[1]または[2]に記載の反射防止フイルム。 [4]上記染料含有層が、さらに下記式(7)、
(8)、(9)、(10)または(11)で表される赤
外光吸収染料を含む[1]または[2]に記載の反射防
止フイルム。[2] On one surface of the transparent support, a dye-containing layer is provided as a coating layer, and on the other surface,
A low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support is provided as a coating layer, and the dye-containing layer is formed of the above formula (1), (2), (4), (5) or An antireflection film containing the visible light absorbing dye represented by (6). [3] The visible light-absorbing dye has a wavelength region of 470 to 510 nm, a wavelength region of 540 to 600 nm, or 64.
The antireflection film according to [1] or [2], which has a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 0 to 730 nm. [4] The dye-containing layer further comprises the following formula (7):
(8) The antireflection film according to (1) or (2), comprising the infrared light absorbing dye represented by (10) or (11).
【0019】[0019]
【化24】 Embedded image
【0020】式中、R12、R13、R14およびR15は、そ
れぞれ独立に、アルキル基であり;そしてX2 は、アニ
オンである。Wherein R 12 , R 13 , R 14 and R 15 are each independently an alkyl group; and X 2 is an anion.
【0021】[0021]
【化25】 Embedded image
【0022】式中、R12、R13、R14およびR15は、そ
れぞれ独立に、アルキル基であり;そしてX2 は、アニ
オンである。Wherein R 12 , R 13 , R 14 and R 15 are each independently an alkyl group; and X 2 is an anion.
【0023】[0023]
【化26】 Embedded image
【0024】式中、R16、R17、R18、R19、R20およ
びR21は、それぞれ独立に、アルキル基であり;そし
て、X3 は、アニオンである。Wherein R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 and R 21 are each independently an alkyl group; and X 3 is an anion.
【0025】[0025]
【化27】 Embedded image
【0026】式中、R16、R17、R18、R19、R20およ
びR21は、それぞれ独立に、アルキル基であり;そし
て、X3 は、アニオンである。Wherein R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 and R 21 are each independently an alkyl group; and X 3 is an anion.
【0027】[0027]
【化28】 Embedded image
【0028】式中、R22、R23、R24、R25、R26、R
27、R28、R29、R30、R31、R32およびR33は、それ
ぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基またはアシル基であるか、あるいは隣接する二つ
が結合して5員環または6員環を形成し;R34、R35お
よびR36は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アル
コキシカルボニル基、シアノ、ニトロ、アミノ、アミド
基、アシルオキシ基、スルホまたはカルボキシルであ
り;lは、1乃至6の整数であり;そして、mは、1乃
至3の整数である。 [5]上記染料含有層と低屈折率層との間に、透明支持
体の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層が塗布
層として設けられている[1]に記載の反射防止フイル
ム。 [6]上記透明支持体と低屈折率層との間に、透明支持
体の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層が塗布
層として設けられている[2]に記載の反射防止フイル
ム。Wherein R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R
27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 and R 33 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an acyl group. One or two adjacent groups are joined to form a 5- or 6-membered ring; R 34 , R 35 and R 36 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group,
An alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a cyano, a nitro, an amino, an amide group, an acyloxy group, a sulfo or a carboxyl; l is an integer of 1 to 6; It is an integer of 3. [5] The antireflection according to [1], wherein a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the transparent support is provided between the dye-containing layer and the low refractive index layer as a coating layer. Film. [6] The antireflection according to [2], wherein a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the transparent support is provided between the transparent support and the low refractive index layer as a coating layer. Film.
【0029】[7]透明支持体の一方の面の上に、染料
含有層および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有
する低屈折率層とがこの順序で塗布層として設けられて
おり、そして染料含有層が、470乃至510nmの波
長領域、540乃至600nmの波長領域または640
乃至730nmの波長領域に最大吸収波長を有する可視
光吸収染料を含む反射防止フイルム。 [8]透明支持体の一方の面の上に、染料含有層塗布層
として設けられており、他方の面の上に、透明支持体の
屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が塗布層と
して設けられており、そして染料含有層が、470乃至
510nmの波長領域、540乃至600nmの波長領
域または640乃至730nmの波長領域に最大吸収波
長を有する可視光吸収染料を含む反射防止フイルム。 [9]上記[1]乃至[8]のいずれか一つに記載の反
射防止フイルムを反射防止フィルターとして、ディスプ
レイ表面側に設けたプラズマディスプレイパネル。[7] On one surface of the transparent support, a dye-containing layer and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are provided as a coating layer in this order. And the dye-containing layer has a wavelength range of 470 to 510 nm, a wavelength range of 540 to 600 nm, or 640.
An antireflection film containing a visible light absorbing dye having a maximum absorption wavelength in a wavelength region of from 730 nm to 730 nm. [8] On one surface of the transparent support, a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support is provided on the other surface as a dye-containing layer coating layer. An antireflection film provided as a coating layer, wherein the dye-containing layer contains a visible light absorbing dye having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 470 to 510 nm, a wavelength range of 540 to 600 nm or a wavelength range of 640 to 730 nm. [9] A plasma display panel provided on a display surface side using the anti-reflection film according to any one of [1] to [8] as an anti-reflection filter.
【0030】[0030]
【発明の実施の形態】本発明に使用する可視光吸収染料
は、反射防止フイルムを使用する予定の発光体ディスプ
レイの発光スペクトルピークの間の波長領域に最大吸収
波長を有することが好ましい。発光スペクトルピーク
は、発光体ディスプレイの種類によって異なるが、一般
には、青、緑および赤の三原色である。具体的には、4
70乃至510nmの波長領域(青と緑の間)、540
乃至600nmの波長領域(緑と赤の間)または640
乃至730nmの波長領域(赤よりも長波長の可視光)
に最大吸収波長を有する可視光吸収染料を用いることが
好ましい。480乃至510nmの波長領域、560乃
至600nmの波長領域または660乃至730nmの
波長領域に最大吸収波長を有する可視光吸収染料を用い
ることがさらに好ましい。上記波長領域に最大吸収波長
を有する染料は、一種類でもよいし、二種類以上の染料
を混合して用いてもよい。染料の吸収スペクトルピーク
は、シャープであることが好ましい。具体的には、半幅
値(溶液中の染料の最大吸収波長の吸光度の半分の吸光
度を示す波長領域の幅)は、10乃至100nmである
ことが好ましく、20乃至70nmであることがさらに
好ましく、20乃至50nmであることが最も好まし
い。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The visible light absorbing dyes used in the present invention preferably have a maximum absorption wavelength in the wavelength region between the emission spectral peaks of the illuminant displays for which antireflection films are to be used. Emission spectral peaks vary with the type of illuminant display, but are generally the three primary colors blue, green and red. Specifically, 4
70 to 510 nm wavelength region (between blue and green), 540
-600 nm wavelength range (between green and red) or 640
To 730 nm wavelength range (visible light longer than red)
It is preferable to use a visible light absorbing dye having a maximum absorption wavelength. It is more preferable to use a visible light absorbing dye having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 480 to 510 nm, a wavelength range of 560 to 600 nm, or a wavelength range of 660 to 730 nm. The dye having the maximum absorption wavelength in the above-mentioned wavelength region may be one kind or a mixture of two or more kinds of dyes. The peak of the absorption spectrum of the dye is preferably sharp. Specifically, the half width value (the width of the wavelength region showing half the absorbance of the absorbance at the maximum absorption wavelength of the dye in the solution) is preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 70 nm, Most preferably, it is 20 to 50 nm.
【0031】本発明に好ましく用いられる可視光吸収染
料を、下記式(1)、(2)、(4)、(5)および
(6)で表す。The visible light absorbing dyes preferably used in the present invention are represented by the following formulas (1), (2), (4), (5) and (6).
【0032】[0032]
【化29】 Embedded image
【0033】式(1)において、Z1 およびZ2 は、そ
れぞれ独立に、含窒素複素環を形成する非金属原子群で
ある。含窒素複素環は、5員環または6員環であること
が好ましい。6員環より5員環の方がさらに好ましい。
含窒素複素環には、芳香族環、脂肪族環または他の複素
環が縮合していてもよい。含窒素複素環およびその縮環
の例には、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ベン
ゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、インド
レニン環、ベンゾインドレニン環、イミダゾール環、ベ
ンゾイミダゾール環、ナフトイミダゾール環、キノリン
環、ピリジン環、ピロロピリジン環、フロピロール環、
インドリジン環、イミダゾキノキサリン環およびキノキ
サリン環が含まれる。5員の含窒素複素環にベンゼン環
またはナフタレン環が縮合している環が特に好ましい。
含窒素複素環およびそれに縮合している環は、置換基を
有していてもよい。置換基の例には、アルキル基(例、
メチル、エチル、プロピル)、アルコキシ基(例、メト
キシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例、フェノキ
シ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子(Cl、B
r、F)、アルコキシカルボニル基(例、エトキシカル
ボニル)、シアノ、ニトロ、アミノ、アミド基(例、ア
セトアミド、プロピオンアミド)、アシルオキシ基
(例、アセトキシ、ブチリルオキシ)、スルホおよびカ
ルボキシルが含まれる。スルホおよびカルボキシルは、
塩の状態であってもよい。In the formula (1), Z 1 and Z 2 are each independently a group of non-metallic atoms forming a nitrogen-containing heterocyclic ring. The nitrogen-containing heterocycle is preferably a 5- or 6-membered ring. A 5-membered ring is more preferable than a 6-membered ring.
An aromatic ring, an aliphatic ring, or another hetero ring may be condensed to the nitrogen-containing hetero ring. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic ring and its condensed ring include an oxazole ring, an isoxazole ring, a benzoxazole ring, a naphthooxazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a naphthothiazole ring, an indolenine ring, a benzoindolenine ring, and an imidazole ring. , Benzimidazole ring, naphthimidazole ring, quinoline ring, pyridine ring, pyrrolopyridine ring, floppyrrole ring,
Includes indolizine, imidazoquinoxaline and quinoxaline rings. A ring in which a 5-membered nitrogen-containing heterocycle is fused with a benzene ring or a naphthalene ring is particularly preferred.
The nitrogen-containing heterocycle and the ring condensed therewith may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg,
Methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy, p-chlorophenoxy), a halogen atom (Cl, B
r, F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide groups (eg, acetamido, propionamido), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl are
It may be in a salt state.
【0034】式(1)において、R1 およびR2 は、そ
れぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基またはアラル
キル基である。アルキル基が特に好ましい。アルキル基
の炭素原子数は、1乃至18であることが好ましい。ア
ルキル基は分岐を有していてもよい。アルキル基の例に
は、メチル、エチル、プロピルおよびブチルが含まれ
る。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基
の例には、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アルコキ
シカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル)、ヒドロキシル、アシルオキシ基(例、アセ
トキシ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ベンゾ
イルオキシ)、スルホおよびカルボキシルが含まれる。
スルホおよびカルボキシルは、塩の状態であってもよ
い。アルケニル基の炭素原子数は、2乃至10であるこ
とが好ましい。アルケニル基は分岐を有していてもよ
い。アルケニル基の例には、2−ペンテニル、ビニル、
アリル、2−ブテニルおよびび1−プロペニルが含まれ
る。アルケニル基は、置換基を有していてもよい。置換
基の例には、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アルコ
キシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル)、ヒドロキシル、アシルオキシ基(例、ア
セトキシ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ベン
ゾイルオキシ)スルホおよびカルボキシルが含まれる。
スルホおよびカルボキシルは、塩の状態であってもよ
い。アラルキル基の炭素原子は、7乃至12であること
が好ましい。アラルキル基の例には、ベンジルおよびフ
ェネチルが含まれる。アラルキル基は、置換基を有して
いてもよい。置換基の例には、アルキル基(例、メチ
ル、エチル、プロピル)、アルコキシ基(例、メトキ
シ、エトキシ)、アリールオキシ基(例、フェノキシ、
p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子(Cl、Br、
F)、アルコキシカルボニル基(例、エトキシカルボニ
ル)、シアノ、ニトロ、アミノ、アミド基(例、アセト
アミド、プロピオンアミド)、アシルオキシ基(例、ア
セトキシ、ブチリルオキシ)、スルホおよびカルボキシ
ルが含まれる。スルホおよびカルボキシルは、塩の状態
であってもよい。In the formula (1), R 1 and R 2 are each independently an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group. Alkyl groups are particularly preferred. The alkyl group preferably has 1 to 18 carbon atoms. The alkyl group may have a branch. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl and butyl. The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (Cl, Br, F), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), a hydroxyl, an acyloxy group (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy), sulfo And carboxyl.
Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. The alkenyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. The alkenyl group may have a branch. Examples of alkenyl groups include 2-pentenyl, vinyl,
Allyl, 2-butenyl and 1-propenyl are included. The alkenyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (Cl, Br, F), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), a hydroxyl, an acyloxy group (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy) sulfo and Contains carboxyl.
Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. The aralkyl group preferably has 7 to 12 carbon atoms. Examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl. The aralkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy,
p-chlorophenoxy), a halogen atom (Cl, Br,
F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide groups (eg, acetamido, propionamide), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0035】式(1)において、L1 は、奇数個のメチ
ンからなるメチン鎖である。メチンの数は、1個、3個
または5個であることが好ましい。メチン鎖は、置換基
を有していてもよい。置換基が結合する位置は、メチン
鎖の中央のメチン(メソ位のメチン)であることが好ま
しい。置換基の例には、アルキル基(例、メチル、エチ
ル)、アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ)、アリ
ール基(フェニル、ナフチル)、アリールオキシ基
(例、フェノキシ)、ハロゲン原子(Cl、Br、
F)、アルコキシカルボニル基(例、エトキシカルボニ
ル)、シアノ、アシルアミド基(例、アセトアミド)、
ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基、アリールアミノ
基、ヒドロキシル、メルカプト、アルキルチオ基および
アリールチオ基が含まれる。メチン鎖の二つの置換基が
結合して5員環または6員環を形成してもよい。In the formula (1), L 1 is a methine chain composed of an odd number of methines. The number of methines is preferably one, three or five. The methine chain may have a substituent. The position where the substituent is bonded is preferably methine at the center of the methine chain (methine at the meso position). Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryl group (phenyl, naphthyl), an aryloxy group (eg, phenoxy), a halogen atom (Cl, Br) ,
F), an alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl), cyano, an acylamide group (eg, acetamido),
Includes nitro, amino, alkylamino, arylamino, hydroxyl, mercapto, alkylthio and arylthio groups. Two substituents of the methine chain may combine to form a 5- or 6-membered ring.
【0036】式(1)において、a、bおよびcは、そ
れぞれ独立に、0または1である。aとbとは、同じ値
であることが好ましい。cは一般に1である。ただし、
カルボキシルのようにアニオン性置換基がN+ と分子内
塩を形成するときにはcは0になる。In the formula (1), a, b and c are each independently 0 or 1. It is preferable that a and b have the same value. c is generally 1. However,
When an anionic substituent forms an inner salt with N + like carboxyl, c becomes 0.
【0037】式(1)において、X1 は、アニオンであ
る。アニオンの例には、ハライドイオン(Cl- 、Br
- 、I- )、p−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫
酸イオン、PF6 -、BF4 -、ClO4 -、AsF6 -、Sb
F6 -およびCF3 COO- が含まれる。In the formula (1), X 1 is an anion. Examples of anions include halide ions (Cl − , Br)
-, I -), p-toluenesulfonate ion, ethyl sulfate ion, PF 6 -, BF 4 - , ClO 4 -, AsF 6 -, Sb
F 6 - and CF 3 COO - are included.
【0038】[0038]
【化30】 Embedded image
【0039】式(2)において、Ar1 およびAr
2 は、それぞれ独立に、アリール基、芳香族複素環基ま
たは式(3)で表される基である。アリール基の例に
は、フェニルおよびナフチルが含まれる。アリール基は
置換基を有していてもよい。フェニルの場合は、置換基
はフェニルのオルト位またはパラ位に結合することが好
ましい。置換基の例には、アルキル基(例、メチル、エ
チル、プロピル)、アルコキシ基(例、メトキシ、エト
キシ)、アリールオキシ基(例、フェノキシ、p−クロ
ロフェノキシ)、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、ア
ルコキシカルボニル基(例、エトキシカルボニル)、シ
アノ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、アミド基(例、アセトアミド、プロピオンアミ
ド)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキ
シ)、ヒドロキシル、複素環基(例、モルホリノ、ピロ
リジノ、ピペリジノ、ピペラジノ)、スルホおよびカル
ボキシルが含まれる。スルホおよびカルボキシルは、塩
の状態であってもよい。芳香族複素環基は、一般に不飽
和の複素環を有する。不飽和複素環の例には、ピロール
環、インドール環、チオフェン環、チアゾール環および
セレナゾール環が含まれる。芳香族複素環基は、置換基
を有していてもよい。置換基の例には、アルキル基
(例、メチル、エチル、プロピル)、アルコキシ基
(例、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例、
フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子
(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニル基(例、エ
トキシカルボニル)、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アミド基(例、アセト
アミド、プロピオンアミド)、アシルオキシ基(例、ア
セトキシ、ブチリルオキシ)、複素環基(例、モルホリ
ノ、ピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノ)、スルホお
よびカルボキシルが含まれる。スルホおよびカルボキシ
ルは、塩の状態であってもよい。In the formula (2), Ar 1 and Ar
2 is each independently an aryl group, an aromatic heterocyclic group or a group represented by the formula (3). Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl. The aryl group may have a substituent. In the case of phenyl, the substituent is preferably bonded to the ortho or para position of the phenyl. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy, p-chlorophenoxy), a halogen atom (Cl, Br, F), an alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, alkylamino group, arylamino group, amide group (eg, acetamido, propionamido), acyloxy group (eg, acetoxy, butyryloxy), hydroxyl, Includes heterocyclic groups (eg, morpholino, pyrrolidino, piperidino, piperazino), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. The aromatic heterocyclic group generally has an unsaturated heterocyclic ring. Examples of the unsaturated heterocyclic ring include a pyrrole ring, an indole ring, a thiophene ring, a thiazole ring and a selenazole ring. The aromatic heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg,
Phenoxy, p-chlorophenoxy), halogen atoms (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, alkylamino groups, arylamino groups, amide groups (eg, acetamide, propion) Amide), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy), heterocyclic groups (eg, morpholino, pyrrolidino, piperidino, piperazino), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0040】[0040]
【化31】 Embedded image
【0041】式(3)において、Z3 は、含窒素複素環
を形成する非金属原子群である。含窒素複素環は、5員
環または6員環であることが好ましい。6員環より5員
環の方がさらに好ましい。含窒素複素環には、芳香族
環、脂肪族環または他の複素環が縮合していてもよい。
含窒素複素環およびその縮環の例には、オキサゾール
環、イソオキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフ
トオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール
環、ナフトチアゾール環、インドレニン環、ベンゾイン
ドレニン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、
ナフトイミダゾール環、キノリン環、ピリジン環、ピロ
ロピリジン環、フロピロール環、インドリジン環、イミ
ダゾキノキサリン環およびキノキサリン環が含まれる。
5員の含窒素複素環にベンゼン環またはナフタレン環が
縮合している環が特に好ましい。含窒素複素環およびそ
れに縮合している環は、置換基を有していてもよい。置
換基の例には、アルキル基(例、メチル、エチル、プロ
ピル)、アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ)、ア
リールオキシ基(例、フェノキシ、p−クロロフェノキ
シ)、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アルコキシカ
ルボニル基(例、エトキシカルボニル)、シアノ、ニト
ロ、アミノ、アミド基(例、アセトアミド、プロピオン
アミド)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリル
オキシ)、スルホおよびカルボキシルが含まれる。スル
ホおよびカルボキシルは、塩の状態であってもよい。In the formula (3), Z 3 is a group of non-metallic atoms forming a nitrogen-containing heterocyclic ring. The nitrogen-containing heterocycle is preferably a 5- or 6-membered ring. A 5-membered ring is more preferable than a 6-membered ring. An aromatic ring, an aliphatic ring, or another hetero ring may be condensed to the nitrogen-containing hetero ring.
Examples of the nitrogen-containing heterocyclic ring and its condensed ring include an oxazole ring, an isoxazole ring, a benzoxazole ring, a naphthooxazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a naphthothiazole ring, an indolenine ring, a benzoindolenine ring, and an imidazole ring. , A benzimidazole ring,
It includes a naphthoimidazole ring, a quinoline ring, a pyridine ring, a pyrrolopyridine ring, a fluorpyrrole ring, an indolizine ring, an imidazoquinoxaline ring and a quinoxaline ring.
A ring in which a 5-membered nitrogen-containing heterocycle is fused with a benzene ring or a naphthalene ring is particularly preferred. The nitrogen-containing heterocycle and the ring condensed therewith may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy, p-chlorophenoxy), a halogen atom (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide groups (eg, acetamido, propionamide), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0042】式(3)において、R3 は、アルキル基、
アルケニル基またはアラルキル基である。アルキル基が
特に好ましい。アルキル基の炭素原子数は、1乃至18
であることが好ましい。アルキル基は分岐を有していて
もよい。アルキル基の例には、メチル、エチル、プロピ
ルおよびブチルが含まれる。アルキル基は、置換基を有
していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子(C
l、Br、F)、アルコキシカルボニル基(例、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル)、ヒドロキシル、
アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキシ、ヘ
キサノイルオキシ、ベンゾイルオキシ)スルホおよびカ
ルボキシルが含まれる。スルホおよびカルボキシルは、
塩の状態であってもよい。アルケニル基の炭素原子数
は、2乃至10であることが好ましい。アルケニル基は
分岐を有していてもよい。アルケニル基の例には、2−
ペンテニル、ビニル、アリル、2−ブテニルおよびび1
−プロペニルが含まれる。アルケニル基は、置換基を有
していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子(C
l、Br、F)、アルコキシカルボニル基(例、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル)、ヒドロキシル、
アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキシ、ヘ
キサノイルオキシ、ベンゾイルオキシ)スルホおよびカ
ルボキシルが含まれる。スルホおよびカルボキシルは、
塩の状態であってもよい。アラルキル基の炭素原子は、
7乃至12であることが好ましい。アラルキル基の例に
は、ベンジルおよびフェネチルが含まれる。アラルキル
基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ア
ルキル基(例、メチル、エチル、プロピル)、アルコキ
シ基(例、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基
(例、フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン
原子(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニル基
(例、エトキシカルボニル)、シアノ、ニトロ、アミ
ノ、アミド基(例、アセトアミド、プロピオンアミ
ド)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキ
シ)、スルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホお
よびカルボキシルは、塩の状態であってもよい。式
(3)において、dは、0または1である。In the formula (3), R 3 is an alkyl group,
It is an alkenyl group or an aralkyl group. Alkyl groups are particularly preferred. The alkyl group has 1 to 18 carbon atoms.
It is preferred that The alkyl group may have a branch. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl and butyl. The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (C
l, Br, F), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), hydroxyl,
Acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy) sulfo and carboxyl are included. Sulfo and carboxyl are
It may be in a salt state. The alkenyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. The alkenyl group may have a branch. Examples of alkenyl groups include 2-
Pentenyl, vinyl, allyl, 2-butenyl and 1
-Propenyl. The alkenyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (C
l, Br, F), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), hydroxyl,
Acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy) sulfo and carboxyl are included. Sulfo and carboxyl are
It may be in a salt state. The carbon atom of the aralkyl group is
It is preferably 7 to 12. Examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl. The aralkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy, p-chlorophenoxy), a halogen atom (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide groups (eg, acetamido, propionamide), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. In the formula (3), d is 0 or 1.
【0043】[0043]
【化32】 Embedded image
【0044】式(4)において、Y1 およびY2 は、そ
れぞれ独立に、脂肪族環または複素環を形成する非金属
原子群である。脂肪族環よりも複素環の方が好ましい。
脂肪族環の例には、インダンジオン環が含まれる。複素
環の例には、5−ピラゾロン環、オキサゾロン環、バル
ビツール酸環、ピリドン環、ローダニン環、ピラゾリジ
ンシオン環およびピラゾロピリドン環が含まれる。脂肪
族環および複素環環は、置換基を有していてもよい。置
換基の例には、アルキル基(例、メチル、エチル、プロ
ピル)、アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ)、ア
リールオキシ基(例、フェノキシ、p−クロロフェノキ
シ)、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アルコキシカ
ルボニル基(例、エトキシカルボニル)、シアノ、ニト
ロ、アミノ、アミド基(例、アセトアミド、プロピオン
アミド)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリル
オキシ)、スルホおよびカルボキシルが含まれる。スル
ホおよびカルボキシルは、塩の状態であってもよい。In the formula (4), Y 1 and Y 2 are each independently a non-metallic atomic group forming an aliphatic ring or a heterocyclic ring. Heterocycles are preferred over aliphatic rings.
Examples of the aliphatic ring include an indandione ring. Examples of the heterocycle include a 5-pyrazolone ring, an oxazolone ring, a barbituric acid ring, a pyridone ring, a rhodanine ring, a pyrazolidinion ring and a pyrazolopyridone ring. The aliphatic ring and the heterocyclic ring may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy, p-chlorophenoxy), a halogen atom (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide groups (eg, acetamido, propionamide), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0045】式(4)において、L2 は、奇数個のメチ
ンからなるメチン鎖である。メチン鎖は、置換基を有し
ていてもよい。置換基が結合する位置は、メチン鎖の中
央のメチン(メソ位のメチン)であることが好ましい。
置換基の例には、アルキル基(例、メチル、エチル)、
アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ)、アリール基
(フェニル、ナフチル)、アリールオキシ基(例、フェ
ノキシ)、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アルコキ
シカルボニル基(例、エトキシカルボニル)、シアノ、
アシルアミド基(例、アセトアミド)、ニトロ、アミ
ノ、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ
ル、メルカプト、アルキルチオ基およびアリールチオ基
が含まれる。メチン鎖の二つの置換基が結合して5員環
または6員環を形成してもよい。In the formula (4), L 2 is a methine chain composed of an odd number of methines. The methine chain may have a substituent. The position where the substituent is bonded is preferably methine at the center of the methine chain (methine at the meso position).
Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl),
Alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy), aryl groups (phenyl, naphthyl), aryloxy groups (eg, phenoxy), halogen atoms (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano,
Includes acylamide groups (eg, acetamido), nitro, amino, alkylamino groups, arylamino groups, hydroxyl, mercapto, alkylthio and arylthio groups. Two substituents of the methine chain may combine to form a 5- or 6-membered ring.
【0046】[0046]
【化33】 Embedded image
【0047】式(5)において、Y3 は、脂肪族環また
は複素環を形成する非金属原子群である。脂肪族環より
も複素環の方が好ましい。脂肪族環の例には、インダン
ジオン環が含まれる。 複素環の例には、5−ピラゾロ
ン環、オキサゾロン環、バルビツール酸環、ピリドン
環、ローダニン環、ピラゾリジンシオン環およびピラゾ
ロピリドン環が含まれる。脂肪族環および複素環環は、
置換基を有していてもよい。置換基の例には、アルキル
基(例、メチル、エチル、プロピル)、アルコキシ基
(例、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例、
フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子
(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニル基(例、エ
トキシカルボニル)、シアノ、ニトロ、アミノ、アミド
基(例、アセトアミド、プロピオンアミド)、アシルオ
キシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキシ)、スルホお
よびカルボキシルが含まれる。スルホおよびカルボキシ
ルは、塩の状態であってもよい。In the formula (5), Y 3 is a group of nonmetallic atoms forming an aliphatic ring or a heterocyclic ring. Heterocycles are preferred over aliphatic rings. Examples of the aliphatic ring include an indandione ring. Examples of the heterocycle include a 5-pyrazolone ring, an oxazolone ring, a barbituric acid ring, a pyridone ring, a rhodanine ring, a pyrazolidinion ring and a pyrazolopyridone ring. Aliphatic rings and heterocyclic rings are
It may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg,
Phenoxy, p-chlorophenoxy), halogen atom (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide group (eg, acetamido, propionamide), acyloxy group (eg, Acetoxy, butyryloxy), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0048】式(5)において、R4 およびR5 は、そ
れぞれ独立に、アルキル基である。アルキル基の炭素原
子数は、1乃至18であることが好ましい。アルキル基
は分岐を有していてもよい。アルキル基の例には、メチ
ル、エチル、プロピルおよびブチルが含まれる。アルキ
ル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、
ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニ
ル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル)、ヒドロキシル、アシルオキシ基(例、アセトキ
シ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ベンゾイル
オキシ)スルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホ
およびカルボキシルは、塩の状態であってもよい。In the formula (5), R 4 and R 5 are each independently an alkyl group. The alkyl group preferably has 1 to 18 carbon atoms. The alkyl group may have a branch. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl and butyl. The alkyl group may have a substituent. Examples of substituents include
Includes halogen atoms (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), hydroxyl, acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy) sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0049】式(5)において、R6 は、水素原子、ア
ルキル基(例、メチル、エチル、プロピル)、アルコキ
シ基(例、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基
(例、フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン
原子(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニル基
(例、エトキシカルボニル)、シアノ、ニトロ、アミ
ノ、アミド基(例、アセトアミド、プロピオンアミ
ド)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキ
シ)、スルホまたはカルボキシルである。スルホおよび
カルボキシルは、塩の状態であってもよい。In the formula (5), R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy, p-chlorophenoxy) ), Halogen atoms (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide groups (eg, acetamido, propionamido), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy), sulfo Or carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0050】[0050]
【化34】 Embedded image
【0051】式(6)において、R7 およびR8 は、そ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラルキル基ま
たはアリール基である。アルキル基が特に好ましい。ア
ルキル基の炭素原子数は、1乃至20であることが好ま
しい。アルキル基は分岐を有していてもよい。アルキル
基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
が含まれる。アルキル基は、置換基を有していてもよ
い。置換基の例には、アルコキシ基(例、メトキシ、エ
トキシ)、シアノ、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、
アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル)、スルホンアミド基(例、メタンス
ルホンアミド)、カルバモイル基(例、N−メチルカル
バモイル、N,N−ジメチルカルバモイル)、アミド基
(例、アセトアミド、プロピオンアミド)およびアシル
オキシ基(例、アセチルオキシ)が含まれる。置換アル
キル基の例には、2−メトキシエチル、3−メトキシプ
ロピル、エトキシエチル、2−シアノエチル、シアノメ
チル、2−クロロエチル、3−ブロモプロピル、2−メ
トキシカルボニルエチル、3−エトキシカルボニルプロ
ピル、メタンスルホンアミドエチル、2−(N−メチル
カルバモイル)エチル、3−(N,N−ジメチルカルバ
モイル)プロピル、2−アセトアミドエチル、3−プロ
ピオンアミドプロピルおよび2−アセトキシエチルが含
まれる。アラルキル基の炭素原子数は、7乃至20であ
ることが好ましい。アラルキル基の例には、ベンジルお
よびフェネチルが含まれる。アリール基の炭素原子数
は、6乃至14であることが好ましい。アリール基の例
には、フェニルおよび2−ナフチルが含まれる。アリー
ル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、
アルキル基(例、メチル)、アルコキシ基(例、メトキ
シ)、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、ニトロおよび
シアノが含まれる。置換アリール基の例には、p−トリ
ル、p−メトキシフェニル、2,4−時クロロフェニ
ル、p−ニトロフェニルおよび2,4−ジシアノフェニ
ルが含まれる。In the formula (6), R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group. Alkyl groups are particularly preferred. The alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms. The alkyl group may have a branch. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, and isopropyl. The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), cyano, a halogen atom (Cl, Br, F),
Alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide), carbamoyl group (eg, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl), amide group (eg, acetamide, propion Amide) and acyloxy groups (eg, acetyloxy). Examples of the substituted alkyl group include 2-methoxyethyl, 3-methoxypropyl, ethoxyethyl, 2-cyanoethyl, cyanomethyl, 2-chloroethyl, 3-bromopropyl, 2-methoxycarbonylethyl, 3-ethoxycarbonylpropyl, methanesulfone Amidoethyl, 2- (N-methylcarbamoyl) ethyl, 3- (N, N-dimethylcarbamoyl) propyl, 2-acetamidoethyl, 3-propionamidopropyl and 2-acetoxyethyl are included. The aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms. Examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl. The aryl group preferably has 6 to 14 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl and 2-naphthyl. The aryl group may have a substituent. Examples of substituents include
Includes alkyl groups (eg, methyl), alkoxy groups (eg, methoxy), halogen atoms (Cl, Br, F), nitro and cyano. Examples of substituted aryl groups include p-tolyl, p-methoxyphenyl, 2,4-chlorophenyl, p-nitrophenyl, and 2,4-dicyanophenyl.
【0052】式(6)において、R7 およびR8 は、互
いに結合して複素環を形成してもよい。形成する複素環
の例には、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環
およびモルホリン環が含まれる。式(6)において、R
9 は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子(C
l、Br、F)、アミド基、アルコキシカルボニル基、
シアノ、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基
またはヒドロキシルである。アミド基、スルホンアミド
基、ウレイド基およびアルコキシカルボニルアミノ基が
好ましい。R9 は、アゾ結合(=N−)に対してオルト
位に結合することが好ましい。アルキル基の炭素原子
は、1乃至12であることが好ましい。アルキル基は分
岐を有していてもよい。アルキル基の例には、メチル、
エチル、プロピルおよびブチルが含まれる。アルコキシ
基の炭素原子数は、1乃至12であることが好ましい。
アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、メトキシ
エトキシおよびイソプロポキシが含まれる。アミド基の
炭素原子数は、1乃至12であることが好ましい。アミ
ド基の例には、ホルムアミド、アセトアミド、プロピオ
ンアミド、シアノアセトアミド、ベンズアミド、p−メ
チルベンズアミド、ベンタフルオロベンズアミド、m−
メトキシベンズアミドが含まれる。アルコキシカルボニ
ル基の炭素原子数は、2乃至13であることが好まし
い。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボ
ニルおよびエトキシカルボニルが含まれる。スルホンア
ミド基の炭素原子数は、1乃至10であることが好まし
い。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミ
ド、エタンスルホンアミドおよびN−メチルメタンスル
ホンアミドが含まれる。In the formula (6), R 7 and R 8 may combine with each other to form a heterocyclic ring. Examples of the heterocycle formed include a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring and a morpholine ring. In the formula (6), R
9 is an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom (C
l, Br, F), an amide group, an alkoxycarbonyl group,
A cyano, sulfonamido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, ureido group, alkoxycarbonylamino group or hydroxyl. Amido, sulfonamido, ureido and alkoxycarbonylamino groups are preferred. R 9 is preferably bonded at the ortho position to the azo bond (= N-). The alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms. The alkyl group may have a branch. Examples of alkyl groups include methyl,
Includes ethyl, propyl and butyl. The alkoxy group preferably has 1 to 12 carbon atoms.
Examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, methoxyethoxy and isopropoxy. The amide group preferably has 1 to 12 carbon atoms. Examples of amide groups include formamide, acetamido, propionamido, cyanoacetamide, benzamide, p-methylbenzamide, pentafluorobenzamide, m-
Methoxybenzamide is included. The alkoxycarbonyl group preferably has 2 to 13 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl. The sulfonamide group preferably has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the sulfonamide group include methanesulfonamide, ethanesulfonamide and N-methylmethanesulfonamide.
【0053】カルバモイル基の炭素原子数は、1乃至1
5であることが好ましい。カルバモイル基の例には、メ
イルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ブチルカル
バモイル、イソプロピルカルバモイル、t−ブチルカル
バモイル、シクロペンチルカルバモイル、シクロヘキシ
ルカルバモイル、メトキシエチルカルバモイル、クロロ
エチルカルバモイル、シアノエチルカルバモイル、エチ
ルシアノエチルカルバモイル、ベンジルカルバモイル、
エトキシカルボニルメチルカルバモイル、フルフリルカ
ルバモイル、テトラヒドロフルフリルカルバモイル、フ
ェノキシメチルカルバモイル、アリルカルバモイル、ク
ロチルカルバモイル、プレニルカルバモイル、2,3−
ジメチル−2−ブテニルカルバモイル、ホモアリルカル
バモイル、ホモクロチルカルバモイル、ホモプレニルカ
ルバモイル、フェニルカルバモイル、p−トルイルカル
バモイル、m−メトキシフェニルカルバモイル、4,5
−ジクロロフェニルカルバモイル、p−シアノフェニル
カルバモイル、p−アセトアミドカルバモイル、p−メ
トキシカルボニルフェニルカルバモイル、m−トリフル
オロメチルフェニルカルバモイル、o−フルオロフェニ
ルカルバモイル,1−ナフチルカルバモイル、2−ピリ
ジルカルバモイル、3−ピリジルカルバモイル、4−ピ
リジルカルバモイル、2−チアゾリルカルバモイル、2
−ベンズチアゾリルカルバモイル、2−ベンズイミダゾ
リルカルバモイルおよび2−(4−メチル)−1,3,
4−チアジアゾリルカルバモイルが含まれる。スルファ
モイル基の炭素原子数は0乃至12であることが好まし
い。スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル
およびジメチルスルファモイルが含まれる。ウレイド基
の炭素原子数は、1乃至10であることが好ましい。ウ
レイド基の例には、メチルウレイドおよびジメチルウレ
イドが含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素
原子数は、2乃至10であることが好ましい。アルコキ
シカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルア
ミノおよびエトキシカルボニルアミノが含まれる。The carbamoyl group has 1 to 1 carbon atoms.
It is preferably 5. Examples of the carbamoyl group include methylcarbamoyl, dimethylcarbamoyl, butylcarbamoyl, isopropylcarbamoyl, t-butylcarbamoyl, cyclopentylcarbamoyl, cyclohexylcarbamoyl, methoxyethylcarbamoyl, chloroethylcarbamoyl, cyanoethylcarbamoyl, ethylcyanoethylcarbamoyl, benzylcarbamoyl,
Ethoxycarbonylmethylcarbamoyl, furfurylcarbamoyl, tetrahydrofurfurylcarbamoyl, phenoxymethylcarbamoyl, allylcarbamoyl, crotylcarbamoyl, prenylcarbamoyl, 2,3-
Dimethyl-2-butenylcarbamoyl, homoallylcarbamoyl, homocrotylcarbamoyl, homoprenylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, p-tolylcarbamoyl, m-methoxyphenylcarbamoyl, 4,5
-Dichlorophenylcarbamoyl, p-cyanophenylcarbamoyl, p-acetamidocarbamoyl, p-methoxycarbonylphenylcarbamoyl, m-trifluoromethylphenylcarbamoyl, o-fluorophenylcarbamoyl, 1-naphthylcarbamoyl, 2-pyridylcarbamoyl, 3-pyridylcarbamoyl , 4-pyridylcarbamoyl, 2-thiazolylcarbamoyl, 2
-Benzthiazolylcarbamoyl, 2-benzimidazolylcarbamoyl and 2- (4-methyl) -1,3,
4-thiadiazolylcarbamoyl is included. The sulfamoyl group preferably has 0 to 12 carbon atoms. Examples of the sulfamoyl group include methylsulfamoyl and dimethylsulfamoyl. The number of carbon atoms of the ureido group is preferably 1 to 10. Examples of ureido groups include methylureide and dimethylureide. The alkoxycarbonylamino group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonylamino group include methoxycarbonylamino and ethoxycarbonylamino.
【0054】式(6)において、nは1、2、3または
4である。式(6)において、R7 またはR8 は、隣接
するR9 と結合して複素環を形成してもよい。形成する
複素環の例には、ジュロリジン環、ピロリジン環および
ピペリジン環が含まれる。In the formula (6), n is 1, 2, 3 or 4. In the formula (6), R 7 or R 8 may combine with an adjacent R 9 to form a heterocyclic ring. Examples of the heterocyclic ring formed include a julolidine ring, a pyrrolidine ring and a piperidine ring.
【0055】式(6)において、R10は、水素原子、ハ
ロゲン原子(Cl、Br、F)、アルキル基、シクロア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ
基、アラルキル基、シアノ、アミド基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル
基、アシル基、アミノ、アルキルアミノ基またはアリー
ルアミノ基である。アリール基が特に好ましい。アルキ
ル基の炭素原子数は、1乃至12であることが好まし
い。アルキル基は分岐を有していてもよい。アルキル基
の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルお
よびt−ブチルが含まれる。アルキル基は、置換基を有
していてもよい。置換基の例には、ヒドロキシ、アルコ
キシ基(例、メトキシ)、シアノおよびハロゲン原子
(Cl、Br、F)が含まれる。置換アルキル基の例に
は、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、シアノエチル
およびトリフルオロメチルが含まれる。シクロアルキル
基の例には、シクロペンチルおよびシクロヘキシルが含
まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、1乃至12であ
ることが好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ、
エトキシ、イソプロポキシおよびメトキシエトキシが含
まれる。アルコキシ基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ヒドロキシが含まれる。置換アルコキ
シ基の例には、ヒドロキシエトキシが含まれる。アリー
ル基の例には、フェニルが含まれる。アリール基は置換
基を有していてもよい。置換基の例には、アルキル基
(例、メチル)、アルコキシ基(例、メトキシ)、ハロ
ゲン原子(Cl、Br、F)およびニトロが含まれる。
置換アリール基の例には、p−トリル、p−メトキシフ
ェニル、o−クロロフェニル、m−ニトロフェニル、p
−クロロフェニルおよびo−メトキシフェニルが含まれ
る。In the formula (6), R 10 is a hydrogen atom, a halogen atom (Cl, Br, F), an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an aralkyl group, a cyano, an amide group. , An alkoxycarbonylamino group, a sulfonamide group, a ureido group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, an acyl group, an amino, an alkylamino group or an arylamino group. Aryl groups are particularly preferred. The alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms. The alkyl group may have a branch. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl and t-butyl. The alkyl group may have a substituent. Examples of substituents include hydroxy, alkoxy groups (eg, methoxy), cyano, and halogen atoms (Cl, Br, F). Examples of the substituted alkyl group include hydroxyethyl, methoxyethyl, cyanoethyl and trifluoromethyl. Examples of the cycloalkyl group include cyclopentyl and cyclohexyl. The alkoxy group preferably has 1 to 12 carbon atoms. Examples of alkoxy groups include methoxy,
Includes ethoxy, isopropoxy and methoxyethoxy. The alkoxy group may have a substituent.
Examples of the substituent include hydroxy. Examples of the substituted alkoxy group include hydroxyethoxy. Examples of the aryl group include phenyl. The aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl), an alkoxy group (eg, methoxy), a halogen atom (Cl, Br, F) and nitro.
Examples of substituted aryl groups include p-tolyl, p-methoxyphenyl, o-chlorophenyl, m-nitrophenyl, p-tolylphenyl
-Chlorophenyl and o-methoxyphenyl.
【0056】アリールオキシ基の例には、フェノキシが
含まれる。アリールオキシ基は、置換基を有していても
よい。置換基の例には、アルキル基(例、メチル)およ
びアルコキシ基(例、メトキシ)が含まれる。置換アリ
ールオキシ基の例には、p−メチルフェニル、p−メト
キシフェニルおよびo−メトキシフェニルが含まれる。
アラルキル基の例には、ベンジルおよび2−フェネチル
が含まれる。アミド基の例には、アセトアミド、プロピ
オンアミドおよびイソブタンアミドが含まれる。アルコ
キシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニル
アミノ、エトキシカルボニルアミノおよびイソプロポキ
シカルボニルアミノが含まれる。スルホンアミド基の例
には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド
およびトリフルオロメタンスルホンアミドが含まれる。
ウレイド基の例には、3−メチルウレイド、3,3−ジ
メチルウレイドおよび1,3−ジメチルウレイドが含ま
れる。アルキルチオ基の例には、メチルチオおよびエチ
ルチオが含まれる。アリールチオ基の例には、フェニル
チオおよびp−トリルチオが含まれる。アルコキシカル
ボニル基の例には、メトキシカルボニルおよびエトキシ
カルボニルが含まれる。カルバモイル基の例には、メチ
ルカルバモイルおよびジメチルカルバモイルが含まれ
る。スルファモイル基の例には、ジメチルスルファモイ
ルおよび時エチルスルファモイルが含まれる。スルホニ
ル基の例には、メタンスルホニル、ブタンスルホニルお
よびベンゼンスルホニルが含まれる。アシル基の例に
は、アセチルおよびブチロイルが含まれる。アルキルア
ミノ基の例には、メチルアミノおよびジメチルアミノが
含まれる。アリールアミノ基の例には、アニリノが含ま
れる。Examples of the aryloxy group include phenoxy. The aryloxy group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl) and an alkoxy group (eg, methoxy). Examples of the substituted aryloxy group include p-methylphenyl, p-methoxyphenyl and o-methoxyphenyl.
Examples of the aralkyl group include benzyl and 2-phenethyl. Examples of amide groups include acetamido, propionamido and isobutanamide. Examples of the alkoxycarbonylamino group include methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino and isopropoxycarbonylamino. Examples of the sulfonamide group include methanesulfonamide, benzenesulfonamide and trifluoromethanesulfonamide.
Examples of ureido groups include 3-methylureide, 3,3-dimethylureide, and 1,3-dimethylureide. Examples of the alkylthio group include methylthio and ethylthio. Examples of the arylthio group include phenylthio and p-tolylthio. Examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl. Examples of the carbamoyl group include methylcarbamoyl and dimethylcarbamoyl. Examples of the sulfamoyl groups include dimethylsulfamoyl and sometimes ethylsulfamoyl. Examples of the sulfonyl group include methanesulfonyl, butanesulfonyl and benzenesulfonyl. Examples of the acyl group include acetyl and butyroyl. Examples of the alkylamino group include methylamino and dimethylamino. Examples of the arylamino group include anilino.
【0057】式(6)において、Za、ZbおよびZc
は、それぞれ独立に、−C(R11)=または−N=であ
る。ZaとZcが−N=であり、かつZbが−C
(R11)=であることが特に好ましい。。上記R11は、
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ミノ、アルキルアミノ基、アリールアミノ基またはアル
コキシカルボニル基である。アルキル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基お
よびアルコキシカルボニル基の定義および例は、R10に
ついての定義および例と同様である。式(6)で示され
るアゾ染料には、吸収ピークがシャープであるとの特徴
がある。以下に、式(1)、(2)、(4)、(5)お
よび(6)で表される可視光吸収染料の具体例を示す。In the formula (6), Za, Zb and Zc
They are each independently, -C (R 11) = or -N =. Za and Zc are -N =, and Zb is -C
It is particularly preferred that (R 11 ) =. . R 11 is
A hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino, an alkylamino group, an arylamino group or an alkoxycarbonyl group. The definition and examples of the alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylamino group, an arylamino group and alkoxycarbonyl group are the same as the definition and examples for R 10. The azo dye represented by the formula (6) is characterized in that the absorption peak is sharp. Hereinafter, specific examples of the visible light absorbing dyes represented by Formulas (1), (2), (4), (5), and (6) will be shown.
【0058】[0058]
【化35】 Embedded image
【0059】[0059]
【化36】 Embedded image
【0060】[0060]
【化37】 Embedded image
【0061】[0061]
【化38】 Embedded image
【0062】[0062]
【化39】 Embedded image
【0063】[0063]
【化40】 Embedded image
【0064】[0064]
【化41】 Embedded image
【0065】[0065]
【化42】 Embedded image
【0066】[0066]
【化43】 Embedded image
【0067】[0067]
【化44】 Embedded image
【0068】[0068]
【化45】 Embedded image
【0069】[0069]
【化46】 Embedded image
【0070】[0070]
【化47】 Embedded image
【0071】[0071]
【化48】 Embedded image
【0072】[0072]
【化49】 Embedded image
【0073】[0073]
【化50】 Embedded image
【0074】[0074]
【化51】 Embedded image
【0075】[0075]
【化52】 Embedded image
【0076】[0076]
【化53】 Embedded image
【0077】[0077]
【化54】 Embedded image
【0078】[0078]
【化55】 Embedded image
【0079】[0079]
【化56】 Embedded image
【0080】[0080]
【化57】 Embedded image
【0081】[0081]
【化58】 Embedded image
【0082】[0082]
【化59】 Embedded image
【0083】[0083]
【化60】 Embedded image
【0084】[0084]
【化61】 Embedded image
【0085】[0085]
【化62】 Embedded image
【0086】[0086]
【化63】 Embedded image
【0087】可視光吸収染料は、様々な文献(例えば、
Liebigis Ann.Chem.712,123
−137(1968)、J.Org.Chem.199
2,57,3278−3286、欧州特許412379
A1号明細書、特開昭63−145281号、特開平1
−134447号、同4−178646号、同5−14
902号の各公報)を参考にして合成することができ
る。The visible light absorbing dyes are described in various documents (eg,
Liebigis Ann. Chem. 712,123
-137 (1968); Org. Chem. 199
2,57,3278-3286, EP 412379
A1, JP-A-63-145281, JP-A-1
Nos. -134447, 4-178646 and 5-14
No. 902) can be synthesized.
【0088】可視光吸収染料に加えて、赤外光吸収染料
を併用することが好ましい。赤外光吸収染料は、700
乃至1200nmの波長領域に最大吸収波長を有するこ
とが好ましく、800乃至1000nmの波長領域に最
大吸収波長を有することがさらに好ましい。好ましい赤
外光吸収染料を、下記式(7)〜(11)で示す。It is preferable to use an infrared light absorbing dye in addition to the visible light absorbing dye. The infrared light absorbing dye is 700
It preferably has a maximum absorption wavelength in a wavelength region of from 800 to 1200 nm, and more preferably has a maximum absorption wavelength in a wavelength region of from 800 to 1000 nm. Preferred infrared light absorbing dyes are represented by the following formulas (7) to (11).
【0089】[0089]
【化64】 Embedded image
【0090】式(7)において、R12、R13、R14およ
びR15は、それぞれ独立に、アルキル基である。アルキ
ル基の炭素原子数は、1乃至18であることが好まし
い。アルキル基は分岐を有していてもよい。アルキル基
の例には、メチル、エチル、プロピルおよびブチルが含
まれる。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置
換基の例には、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アル
コキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル)、ヒドロキシル、アシルオキシ基(例、
アセトキシ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ベ
ンゾイルオキシ)スルホおよびカルボキシルが含まれ
る。スルホおよびカルボキシルは、塩の状態であっても
よい。式(7)において、X2 は、アニオンである。ア
ニオンの例には、ハライドイオン(Cl- 、Br- 、I
- )、p−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオ
ン、PF6 -、BF4 -、ClO4 -、AsF6 -、SbF6 -お
よびCF3 COO- が含まれる。In the formula (7), R 12 , R 13 , R 14 and R 15 are each independently an alkyl group. The alkyl group preferably has 1 to 18 carbon atoms. The alkyl group may have a branch. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl and butyl. The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (Cl, Br, F), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), a hydroxyl, an acyloxy group (eg,
Acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy) sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. In the formula (7), X 2 is an anion. Examples of anions include halide ions (Cl − , Br − , I
-), p-toluenesulfonate ion, ethyl sulfate ion, PF 6 -, BF 4 - , ClO 4 -, AsF 6 -, SbF 6 - and CF 3 COO - is included.
【0091】[0091]
【化65】 Embedded image
【0092】式(8)において、R12、R13、R14およ
びR15は、それぞれ独立に、アルキル基である。アルキ
ル基の定義および例は、式(7)のアルキル基と同様で
ある。式(8)において、X2 は、アニオンである。ア
ニオンの例は、式(7)のアニオンと同様である。In the formula (8), R 12 , R 13 , R 14 and R 15 are each independently an alkyl group. The definition and examples of the alkyl group are the same as those of the alkyl group of the formula (7). In the formula (8), X 2 is an anion. Examples of the anion are the same as the anion of the formula (7).
【0093】[0093]
【化66】 Embedded image
【0094】式(9)において、R16、R17、R18、R
19、R20およびR21は、それぞれ独立に、アルキル基で
ある。アルキル基の定義および例は、式(7)のアルキ
ル基と同様である。式(9)において、X3 は、アニオ
ンである。アニオンの例は、式(7)のアニオンと同様
である。In the formula (9), R 16 , R 17 , R 18 , R
19 , R 20 and R 21 are each independently an alkyl group. The definition and examples of the alkyl group are the same as those of the alkyl group of the formula (7). In the formula (9), X 3 is an anion. Examples of the anion are the same as the anion of the formula (7).
【0095】[0095]
【化67】 Embedded image
【0096】式(10)において、R16、R17、R18、
R19、R20およびR21は、それぞれ独立に、アルキル基
である。アルキル基の定義および例は、式(7)のアル
キル基と同様である。式(10)において、X3 は、ア
ニオンである。アニオンの例は、式(7)のアニオンと
同様である。In the formula (10), R 16 , R 17 , R 18 ,
R 19 , R 20 and R 21 are each independently an alkyl group. The definition and examples of the alkyl group are the same as those of the alkyl group of the formula (7). In the formula (10), X 3 is an anion. Examples of the anion are the same as the anion of the formula (7).
【0097】[0097]
【化68】 Embedded image
【0098】式(11)において、R22、R23、R24、
R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32およ
びR33は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基またはアシル基であるか、あるいは
隣接する二つが結合して5員環または6員環を形成す
る。アルキル基の定義および例は、式(7)のアルキル
基と同様である。シクロアルキル基の例には、シクロペ
ンチルおよびシクロヘキシルが含まれる。シクロアルキ
ル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、
ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニ
ル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル)、ヒドロキシル、アシルオキシ基(例、アセトキ
シ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ベンゾイル
オキシ)スルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホ
およびカルボキシルは、塩の状態であってもよい。アリ
ール基の例には、フェニルおよびナフチルが含まれる。
アリール基は置換基を有していてもよい。置換基の例に
は、アルキル基(例、メチル、エチル、プロピル)、ア
ルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ)、アリールオキ
シ基(例、フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロ
ゲン原子(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニル基
(例、エトキシカルボニル)、シアノ、ニトロ、アミ
ノ、アミド基(例、アセトアミド、プロピオンアミ
ド)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキ
シ)、スルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホお
よびカルボキシルは、塩の状態であってもよい。In the formula (11), R 22 , R 23 , R 24 ,
R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 and R 33 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group. , An alkynyl group or an acyl group, or two adjacent groups are combined to form a 5- or 6-membered ring. The definition and examples of the alkyl group are the same as those of the alkyl group of the formula (7). Examples of the cycloalkyl group include cyclopentyl and cyclohexyl. The cycloalkyl group may have a substituent. Examples of substituents include
Includes halogen atoms (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), hydroxyl, acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy) sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl.
The aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy, p-chlorophenoxy), a halogen atom (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide groups (eg, acetamido, propionamide), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0099】アラルキル基の炭素原子は、7乃至12で
あることが好ましい。アラルキル基の例には、ベンジル
およびフェネチルが含まれる。アラルキル基は、置換基
を有していてもよい。置換基の例には、アルキル基
(例、メチル、エチル、プロピル)、アルコキシ基
(例、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例、
フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子
(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニル基(例、エ
トキシカルボニル)、シアノ、ニトロ、アミノ、アミド
基(例、アセトアミド、プロピオンアミド)、アシルオ
キシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキシ)、スルホお
よびカルボキシルが含まれる。スルホおよびカルボキシ
ルは、塩の状態であってもよい。アルケニル基の炭素原
子数は、2乃至10であることが好ましい。アルケニル
基は分岐を有していてもよい。アルケニル基の例には、
2−ペンテニル、ビニル、アリル、2−ブテニルおよび
び1−プロペニルが含まれる。アルケニル基は、置換基
を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子
(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニル基(例、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル)、ヒドロキシ
ル、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキ
シ、ヘキサノイルオキシ、ベンゾイルオキシ)スルホお
よびカルボキシルが含まれる。スルホおよびカルボキシ
ルは、塩の状態であってもよい。The aralkyl group preferably has 7 to 12 carbon atoms. Examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl. The aralkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg,
Phenoxy, p-chlorophenoxy), halogen atom (Cl, Br, F), alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide group (eg, acetamido, propionamide), acyloxy group (eg, Acetoxy, butyryloxy), sulfo and carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. The alkenyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. The alkenyl group may have a branch. Examples of alkenyl groups include
Includes 2-pentenyl, vinyl, allyl, 2-butenyl and 1-propenyl. The alkenyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (Cl, Br, F), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), a hydroxyl, an acyloxy group (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy) sulfo and Contains carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt.
【0100】アルキニル基の炭素原子数は、2乃至10
であることが好ましい。アルキニル基の例には、エチニ
ルおよび2−プロピニルが含まれる。アルキニル基は、
置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン
原子(Cl、Br、F)、アルコキシカルボニル基
(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、ヒ
ドロキシル、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリ
ルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ベンゾイルオキシ)ス
ルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホおよびカル
ボキシルは、塩の状態であってもよい。アシル基の炭素
原子数は、2乃至10であることが好ましい。アシル基
の例には、アセチル、プロピオニルおよびベンゾイルが
含まれる。R22、R23、R24、R25、R26、R27、
R28、R29、R30、R31、R32およびR33のうち、隣接
する二つが結合して形成する5員環または6員環は、飽
和複素環または飽和脂肪族環(シクロアルキル環)であ
ることが好ましい。The alkynyl group has 2 to 10 carbon atoms.
It is preferred that Examples of the alkynyl group include ethynyl and 2-propynyl. An alkynyl group is
It may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (Cl, Br, F), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), a hydroxyl, an acyloxy group (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, benzoyloxy) sulfo and Contains carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. The acyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the acyl group include acetyl, propionyl and benzoyl. R 22, R 23, R 24 , R 25, R 26, R 27,
Among the R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 and R 33 , the 5-membered ring or the 6-membered ring formed by bonding adjacent two is a saturated heterocyclic ring or a saturated aliphatic ring (cycloalkyl ring). ) Is preferable.
【0101】式(11)において、R34、R35およびR
36は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基(例、メ
チル、エチル、プロピル)、アルコキシ基(例、メトキ
シ、エトキシ)、アリールオキシ基(例、フェノキシ、
p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子(Cl、Br、
F)、アルコキシカルボニル基(例、エトキシカルボニ
ル)、シアノ、ニトロ、アミノ、アミド基(例、アセト
アミド、プロピオンアミド)、アシルオキシ基(例、ア
セトキシ、ブチリルオキシ)、スルホまたはカルボキシ
ルである。スルホおよびカルボキシルは、塩の状態であ
ってもよい。式(11)において、lは、1乃至6の整
数である。式(11)において、mは、1乃至3の整数
である。以下に、式(7)、(8)、(9)、(10)
および(11)で表される赤外光吸収染料の具体例を示
す。In the formula (11), R 34 , R 35 and R
36 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy,
p-chlorophenoxy), a halogen atom (Cl, Br,
F), an alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl), cyano, nitro, amino, amide group (eg, acetamide, propionamide), acyloxy group (eg, acetoxy, butyryloxy), sulfo or carboxyl. Sulfo and carboxyl may be in the form of a salt. In the formula (11), 1 is an integer of 1 to 6. In the formula (11), m is an integer of 1 to 3. Equations (7), (8), (9), (10)
Specific examples of the infrared light absorbing dye represented by (11) are shown below.
【0102】[0102]
【化69】 Embedded image
【0103】[0103]
【化70】 Embedded image
【0104】[0104]
【化71】 Embedded image
【0105】[0105]
【化72】 Embedded image
【0106】[0106]
【化73】 Embedded image
【0107】赤外光吸収染料は、例えば、特公昭45−
13326号公報を参考にして合成することができる。
可視光吸収染料と赤外光吸収染料は、溶媒に溶解した溶
液または固体微粒子分散物の状態で用いる。染料の固体
微粒子を調製するために、公知の分散機を用いることが
できる。分散機の例には、ボールミル、振動ボールミ
ル、遊星ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェ
ットミル及びローラミルが含まれる。分散機について
は、特開昭52−92716号公報および国際特許88
/074794号明細書に記載がある。縦型または横型
の媒体分散機が好ましい。分散は、適当な媒体(例、
水、アルコール)の存在下で実施してもよい。分散用界
面活性剤を用いることが好ましい。分散用界面活性剤と
しては、アニオン界面活性剤(特開昭52−92716
号公報および国際特許88/074794号明細書に記
載)が好ましく用いられる。必要に応じてアニオン性ポ
リマー、ノニオン性界面活性剤あるいはカチオン性界面
活性剤を用いてもよい。染料を適当な溶媒中に溶解した
後、得られた溶液に染料の貧溶媒を添加して、染料の微
粒子(粉末)を形成することもできる。溶液には、上記
の分散用界面活性剤を添加してもよい。染料の溶液のp
Hを調整することによって、染料を析出することで、染
料の微粒子(微結晶)を形成することもできる。染料と
褪色防止剤、酸化防止剤あるいは紫外線防止剤とを併用
してもよい。The infrared light absorbing dyes are described in, for example,
It can be synthesized with reference to JP-A-13326.
The visible light absorbing dye and the infrared light absorbing dye are used in the form of a solution or a solid fine particle dispersion dissolved in a solvent. In order to prepare solid fine particles of a dye, a known disperser can be used. Examples of the disperser include a ball mill, a vibrating ball mill, a planetary ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill and a roller mill. The disperser is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-92716 and International Patent No. 88.
/ 074794. Vertical or horizontal media dispersers are preferred. Dispersion can be performed in any suitable medium (eg,
(Water, alcohol). It is preferable to use a surfactant for dispersion. As the surfactant for dispersion, an anionic surfactant (JP-A-52-92716) is used.
And International Patent Publication No. 88/074794) are preferably used. If necessary, an anionic polymer, a nonionic surfactant or a cationic surfactant may be used. After dissolving the dye in a suitable solvent, a poor solvent for the dye may be added to the resulting solution to form fine particles (powder) of the dye. The above-mentioned surfactant for dispersion may be added to the solution. P of the solution of the dye
By adjusting H, the dye can be precipitated to form fine particles (microcrystals) of the dye. You may use together a dye and a fading inhibitor, an antioxidant, or an ultraviolet inhibitor.
【0108】(反射防止フイルムの層構成)反射防止フ
イルムの基本的な構成を図面を引用しながら説明する。
図1は、染料含有層を透明支持体と低屈折率層との間に
設けた反射防止フイルムの主な層構成を示す断面模式図
である。図1の(a)に示す態様は、透明支持体
(1)、染料含有層(2)、そして低屈折率層(5)の
順序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率層
(5)は、以下の関係を満足する屈折率を有する。低屈
折率層の屈折率<透明支持体の屈折率図1の(b)に示
す態様は、透明支持体(1)、染料含有層(2)、高屈
折率層(4)、そして低屈折率層(5)の順序の層構成
を有する。透明支持体(1)、高屈折率層(4)および
低屈折率層(5)は、以下の関係を満足する屈折率を有
する。低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<高屈
折率層の屈折率図1の(c)に示す態様は、透明支持体
(1)、染料含有層(2)、中屈折率層(3)、高屈折
率層(4)、そして低屈折率層(5)の順序の層構成を
有する。透明支持体(1)、中屈折率層(3)、高屈折
率層(4)および低屈折率層(5)は、以下の関係を満
足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率<透明支持
体の屈折率<中屈折率層の屈折率<高屈折率層の屈折率(Layer Configuration of Antireflection Film) The basic configuration of the antireflection film will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a main layer configuration of an antireflection film in which a dye-containing layer is provided between a transparent support and a low refractive index layer. The embodiment shown in FIG. 1A has a layer structure in the order of a transparent support (1), a dye-containing layer (2), and a low refractive index layer (5). The transparent support (1) and the low refractive index layer (5) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support In the embodiment shown in FIG. 1B, the transparent support (1), the dye-containing layer (2), the high refractive index layer (4), and the low refractive index It has a layer configuration in the order of the rate layer (5). The transparent support (1), the high refractive index layer (4) and the low refractive index layer (5) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support <the refractive index of the high refractive index layer In the embodiment shown in FIG. 1 (c), the transparent support (1), the dye-containing layer (2), the medium refractive index It has a layer structure of a layer (3), a high refractive index layer (4), and a low refractive index layer (5) in this order. The transparent support (1), the medium refractive index layer (3), the high refractive index layer (4) and the low refractive index layer (5) have a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support <refractive index of medium refractive index layer <refractive index of high refractive index layer
【0109】図2は、染料含有層を低屈折率層とは反対
側の透明支持体の面に設けた反射防止フイルムの主な層
構成を示す断面模式図である。図2の(d)に示す態様
は、染料含有層(2)、透明支持体(1)、そして低屈
折率層(5)の順序の層構成を有する。透明支持体
(1)と低屈折率層(5)は、以下の関係を満足する屈
折率を有する。低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折
率図2の(e)に示す態様は、染料含有層(2)、透明
支持体(1)、高屈折率層(4)、そして低屈折率層
(5)の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、高
屈折率層(4)および低屈折率層(5)は、以下の関係
を満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率<透明
支持体の屈折率<高屈折率層の屈折率図2の(f)に示
す態様は、染料含有層(2)、透明支持体(1)、中屈
折率層(3)、高屈折率層(4)、そして低屈折率層
(5)の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、中
屈折率層(3)、高屈折率層(4)および低屈折率層
(5)は、以下の関係を満足する屈折率を有する。低屈
折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<中屈折率層の屈
折率<高屈折率層の屈折率FIG. 2 is a schematic sectional view showing the main layer structure of an antireflection film in which a dye-containing layer is provided on the surface of a transparent support opposite to the low refractive index layer. The embodiment shown in FIG. 2D has a layer configuration in the order of the dye-containing layer (2), the transparent support (1), and the low refractive index layer (5). The transparent support (1) and the low refractive index layer (5) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low-refractive-index layer <the refractive index of the transparent support. In the embodiment shown in FIG. 2E, the dye-containing layer (2), the transparent support (1), the high-refractive-index layer (4), and the low refractive index It has a layer configuration in the order of the rate layer (5). The transparent support (1), the high refractive index layer (4) and the low refractive index layer (5) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support <the refractive index of the high refractive index layer In the embodiment shown in FIG. 2 (f), the dye-containing layer (2), the transparent support (1), the medium refractive index It has a layer structure of a layer (3), a high refractive index layer (4), and a low refractive index layer (5) in this order. The transparent support (1), the medium refractive index layer (3), the high refractive index layer (4) and the low refractive index layer (5) have a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support <refractive index of medium refractive index layer <refractive index of high refractive index layer
【0110】(透明支持体)透明支持体としては、ガラ
ス板またはプラスチックフイルムを用いることが好まし
い。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロース
エステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセ
ルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロー
ス、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエ
タン−4,4−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレ
フタレート)、ポリスチレン(例、シンジオクチックポ
リスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、
ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルフォ
ン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポリエ
ーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエ
ーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポ
リカーボネートおよびポリエチレンテレフタレートが好
ましい。透明支持体の光透過率は、80%以上であるこ
とが好ましく、86%以上であることがさらに好まし
い。透明支持体のヘイズは、2.0%以下であることが
好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、1.4乃至1.7であることが
好ましい。透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは紫外線
吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透
明支持体の0.01乃至20重量%であることが好まし
く、0.05乃至10重量%であることがさらに好まし
い。滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持
体に添加してもよい。無機化合物の例には、SiO2 、
TiO2 、BaSO4 、CaCO3 、タルクおよびカオ
リンが含まれる。透明支持体に、表面処理を実施しても
よい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロ
ナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、
グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混
酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処
理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が
好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好まし
い。さらに、上層との接着強化のための層を設置しても
よい。(Transparent Support) As the transparent support, a glass plate or a plastic film is preferably used. Examples of plastic film materials include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate) , Poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polypropylene) ,
Polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmethacrylate and polyetherketone. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The light transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less.
The refractive index of the transparent support is preferably from 1.4 to 1.7. An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of the infrared absorber added is preferably 0.01 to 20% by weight of the transparent support, more preferably 0.05 to 10% by weight. As a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of inorganic compounds include SiO 2 ,
TiO 2 , BaSO 4 , CaCO 3 , talc and kaolin. The transparent support may be subjected to a surface treatment. Examples of surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment,
Glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, and ozone oxidation treatment are included. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred. Further, a layer for strengthening the adhesion with the upper layer may be provided.
【0111】(染料含有層)染料含有層は、前述した可
視光吸収染料(好ましくは、さらに赤外光吸収染料)を
含む層である。染料含有層は、塗布により透明支持体の
上に形成する。染料含有層は、ハードコート層(透明支
持体に耐傷性を付与する層)としても機能することが好
ましい。この場合、染料含有層は、透明支持体とその上
の層との接着を強化する機能も有することが好ましい。
染料含有層は、ポリマーを含むことが好ましく、架橋し
ているポリマーを含むことがさらに好ましい。ポリマー
としては、様々な天然ポリマー(例、ゼラチン、セルロ
ース誘導体、アルギン酸)または合成ポリマー(例、ポ
リメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルピロリドン、ポビニルアルコール、ポリ塩化ビニ
ル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、
ポリカーボネート、水溶性ポリアミド)を用いることが
できる。架橋しているポリマーを含む染料含有層は、染
料、多官能モノマーおよび重合開始剤を含む塗布液を透
明支持体上に塗布し、多官能モノマーを重合させること
により形成できる。多官能モノマーは、多価アルコール
とアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルであるこ
とが好ましい。多価アルコールの例には、エチレングリ
コール、1,4−シクロヘキサノール、ペンタエリスリ
トール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタ
ン、ジペンタエリスリトール、1,2,4−シクロヘキ
サノール、ポリウレタンポリオールおよびポリエステル
ポリオールが含まれる。トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびポリ
ウレタンポリオールが好ましい。二種類以上の多官能モ
ノマーを併用してもよい。(Dye-Containing Layer) The dye-containing layer is a layer containing the above-mentioned visible light absorbing dye (preferably, an infrared light absorbing dye). The dye-containing layer is formed on a transparent support by coating. The dye-containing layer preferably functions also as a hard coat layer (a layer that imparts scratch resistance to the transparent support). In this case, it is preferable that the dye-containing layer also has a function of enhancing the adhesion between the transparent support and the layer thereon.
The dye-containing layer preferably contains a polymer, and more preferably contains a cross-linked polymer. Examples of the polymer include various natural polymers (eg, gelatin, cellulose derivatives, alginic acid) or synthetic polymers (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene,
Polycarbonate, water-soluble polyamide) can be used. The dye-containing layer containing a crosslinked polymer can be formed by applying a coating solution containing a dye, a polyfunctional monomer and a polymerization initiator on a transparent support and polymerizing the polyfunctional monomer. The polyfunctional monomer is preferably an ester of a polyhydric alcohol and acrylic acid or methacrylic acid. Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, 1,4-cyclohexanol, pentaerythritol, trimethylolpropane, trimethylolethane, dipentaerythritol, 1,2,4-cyclohexanol, polyurethane polyol and polyester polyol. . Trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and polyurethane polyols are preferred. Two or more polyfunctional monomers may be used in combination.
【0112】多官能モノマーの重合反応には、光重合開
始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の例には、
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドお
よびチオキサントン類が含まれる。光重合開始剤に加え
て、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例には、n−
ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホ
スフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンが含
まれる。光重合開始剤は、多官能モノマー100重量部
に対して、0.1乃至15重量部の範囲で使用すること
が好ましく、1乃至10重量部の範囲で使用することが
さらに好ましい。光重合反応は、染料含有層の塗布およ
び乾燥後、紫外線照射により実施することが好ましい。
染料含有層に充填剤を添加し、多官能モノマーの硬化収
縮を抑制してもよい。充填剤としては、無機微粒子また
は有機微粒子を用いることが好ましい。微粒子の平均粒
子径は、0.01乃至2μmであることが好ましく、
0.02乃至0.5μmであることがさらに好ましい。
染料含有層の厚さは、1乃至15μmであることが好ま
しい。染料含有層またはその塗布液には、さらに、消泡
剤、増粘剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸
化防止剤、改質用樹脂あるいは褪色防止剤を添加しても
よい。It is preferable to use a photopolymerization initiator in the polymerization reaction of the polyfunctional monomer. Examples of photopolymerization initiators include
Includes acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, tetramethylthiuram monosulfide and thioxanthones. A photosensitizer may be used in addition to the photopolymerization initiator. Examples of photosensitizers include n-
Butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone are included. The photopolymerization initiator is preferably used in an amount of 0.1 to 15 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyfunctional monomer. The photopolymerization reaction is preferably performed by ultraviolet irradiation after coating and drying of the dye-containing layer.
A filler may be added to the dye-containing layer to suppress curing shrinkage of the polyfunctional monomer. It is preferable to use inorganic fine particles or organic fine particles as the filler. The average particle diameter of the fine particles is preferably 0.01 to 2 μm,
More preferably, it is 0.02 to 0.5 μm.
The thickness of the dye-containing layer is preferably from 1 to 15 μm. An antifoaming agent, a thickening agent, a leveling agent, a flame retardant, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a modifying resin, or an anti-fading agent may be further added to the dye-containing layer or its coating solution.
【0113】褪色防止剤としては、染料安定剤を用いる
ことができる。染料安定剤の例には、ハイドロキノン誘
導体(米国特許3935016号、同3982944号
の各明細書記載)、ハイドロキノンジエーテル誘導体
(米国特許4254216号明細書および特開昭55−
21004号公報記載)、フェノール誘導体(特開昭5
4−145530号公報記載)、スピロインダンまたは
メチレンジオキシベンゼンの誘導体(英国特許公開20
77455号、同2062888号の各明細書および特
開昭61−90155号公報記載)、クロマン、スピロ
クロマンまたはクマランの誘導体(米国特許34323
00号、同3573050号、同3574627号、同
3764337号の各明細書および特開昭52−152
225号、同53−20327号、同53−17729
号、同61−90156号の各公報記載)、ハイドロキ
ノンモノエーテルまたはパラアミノフェノールの誘導体
(英国特許1347556号、同2066975号の各
明細書および特公昭54−12337号、特開昭55−
6321号の各公報記載)およびビスフェノール誘導体
(米国特許3700455号公報および特公昭48−3
1625号公報記載)が含まれる。光あるいは熱に対す
る染料の安定性を向上させるため、金属錯体(米国特許
4245018号明細書および特開昭60−97353
号公報記載)を褪色防止剤として用いてもよい。染料の
耐光性を改良するために、一重項酸素クエンチャーを褪
色防止剤として用いてもよい。一重項酸素クエンチャー
の例には、ニトロソ化合物(特開平2−300288号
公報記載)、ジインモニウム化合物(米国特許4656
12号明細書記載)、ニッケル錯体(特開平4−146
189号公報記載)および酸化防止剤(欧州特許公開8
20057A1号明細書記載)が含まれる。As the anti-fading agent, a dye stabilizer can be used. Examples of the dye stabilizer include hydroquinone derivatives (described in U.S. Pat. Nos. 3,935,016 and 3,982,944) and hydroquinone diether derivatives (U.S. Pat. No. 4,254,216 and JP-A-55-254).
21004), phenol derivatives (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 4-145530), a derivative of spiroindane or methylenedioxybenzene (UK Patent Publication 20)
Nos. 77455 and 2062888 and JP-A-61-90155), chroman, spirochroman or coumaran derivatives (US Pat. No. 34323).
Nos. 00, 3573050, 3574627 and 3764337 and JP-A-52-152.
No. 225, No. 53-20327, No. 53-17729
And the derivatives of hydroquinone monoether or para-aminophenol (British Patent Nos. 1347556 and 2066975, Japanese Patent Publication No. 54-12337, and Japanese Patent Application Laid-open No. 55-337).
No. 6321) and bisphenol derivatives (US Pat. No. 3,700,455 and JP-B-48-3).
No. 1625). In order to improve the stability of the dye to light or heat, metal complexes (U.S. Pat. No. 4,245,018 and JP-A-60-97353)
May be used as an anti-fading agent. To improve the lightfastness of the dye, a singlet oxygen quencher may be used as an anti-fading agent. Examples of the singlet oxygen quencher include a nitroso compound (described in JP-A-2-300288) and a diimmonium compound (US Pat.
No. 12), nickel complex (JP-A-4-146)
189) and antioxidants (European Patent Publication 8
200057A1).
【0114】(高屈折率層および中屈折率層)図1の
(b)に示すように、染料含有層と低屈折率層との間
に、高屈折率層を設けてもよい。また、図1の(c)に
示すように、染料含有層と高屈折率層との間に中屈折率
層を設けてもよい。さらに、図2の(e)に示すよう
に、透明支持体と低屈折率層との間に、高屈折率層を設
けてもよい。さらにまた、図2の(f)に示すように、
透明支持体と高屈折率層との間に中屈折率層を設けても
よい。高屈折率層の屈折率は、1.65乃至2.40で
あることが好ましく、1.70乃至2.20であること
がさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明支持体
の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるよう
に調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55乃至1.
70であることが好ましい。高屈折率層および中屈折率
層の厚さは、5nm乃至100μmであることが好まし
く、10nm乃至10μmであることがさらに好まし
く、30nm乃至1μmであることが最も好ましい。高
屈折率層および中屈折率層のヘイズは、5%以下である
ことが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。(High Refractive Index Layer and Medium Refractive Index Layer) As shown in FIG. 1B, a high refractive index layer may be provided between the dye-containing layer and the low refractive index layer. Further, as shown in FIG. 1C, a middle refractive index layer may be provided between the dye-containing layer and the high refractive index layer. Further, as shown in FIG. 2E, a high refractive index layer may be provided between the transparent support and the low refractive index layer. Furthermore, as shown in FIG.
A middle refractive index layer may be provided between the transparent support and the high refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is preferably from 1.65 to 2.40, and more preferably from 1.70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the transparent support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is 1.55 to 1.
Preferably it is 70. The thickness of the high refractive index layer and the middle refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm, and most preferably from 30 nm to 1 μm. The haze of the high refractive index layer and the middle refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less.
【0115】高屈折率層および中屈折率層は、屈折率が
高い無機微粒子を含むことが好ましい。無機微粒子は、
屈折率が1.80乃至2.80であることが好ましい。
無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成する
ことが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例には、
二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混
晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化イ
ンジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜鉛
が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウム
が特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物
または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこと
ができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も
含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の例
には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、P
b、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。無機微粒子を表面処理して
もよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用
いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例には、
アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウムおよび酸化鉄が含
まれる。アルミナおよびシリカが好ましい。表面処理に
用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノール
アミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチ
タネートカップリング剤が含まれる。シランカップリン
グ剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わ
せて実施してもよい。以上を組み合わせて処理されてい
ても構わない。The high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably contain inorganic fine particles having a high refractive index. The inorganic fine particles
The refractive index is preferably from 1.80 to 2.80.
The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include:
Includes titanium dioxide (eg, rutile, mixed crystals of rutile / anatase, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) of the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, P
b, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, S
i, P and S are included. The inorganic fine particles may be surface-treated. The surface treatment is performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for surface treatment include:
Includes alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Alumina and silica are preferred. Examples of the organic compound used for the surface treatment include a polyol, an alkanolamine, stearic acid, a silane coupling agent, and a titanate coupling agent. Silane coupling agents are most preferred. Two or more types of surface treatments may be performed in combination. The processing may be performed by combining the above.
【0116】高屈折率層および中屈折率層には、比較的
屈折率が高いポリマーをバインダーとして用いることが
好ましい。屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレ
ン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂および環状(脂環式
または芳香族)イソシアネートとポリオールとの反応で
得られるポリウレタンが含まれる。その他の環状(芳香
族、複素環式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素
以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、
屈折率が高い。高屈折率層および中屈折率層に屈折率が
高い無機微粒子を添加する場合は、架橋しているアニオ
ン性ポリマーをバインダーとして用いることが特に好ま
しい。架橋しているアニオン性ポリマーは、アニオン性
基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有す
る。アニオン性基は、無機微粒子の分散状態を維持する
機能を有する。架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付
与して、高屈折率層および中屈折率層を強化する機能を
有する。ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン(飽
和炭化水素)、ポリエーテルであることが好ましい。層
の塗布と同時または塗布後に、重合反応によってポリマ
ーを形成すれば、層の塗布前にこれらのモノマーを有効
に機能させることができる。ポリマーの重合反応は、光
重合反応または熱重合反応を用いることができる。光重
合反応が好ましい。光重合反応によりポリマーを形成す
る場合、光源として低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、
超高圧水銀ランプ、ケミカルランプあるいはメタルハラ
イドランプを用いることができる。照射効率が良好な高
圧水銀ランプの使用が、最も好ましい。他の層のバイン
ダーも同様のものが用いられる。高屈折率層、中屈折率
層およびそれらの塗布液には、前述した成分以外に、重
合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線
吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与
剤を添加してもよい。For the high refractive index layer and the middle refractive index layer, it is preferable to use a polymer having a relatively high refractive index as a binder. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. . Polymers having other cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) groups, and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent,
High refractive index. When inorganic fine particles having a high refractive index are added to the high refractive index layer and the medium refractive index layer, it is particularly preferable to use a crosslinked anionic polymer as a binder. The crosslinked anionic polymer has a structure in which the main chain of the polymer having an anionic group is crosslinked. The anionic group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic fine particles. The crosslinked structure has a function of imparting a film-forming ability to the polymer to strengthen the high refractive index layer and the medium refractive index layer. Examples of the main chain of the polymer are preferably polyolefin (saturated hydrocarbon) and polyether. If a polymer is formed by a polymerization reaction at the same time as or after the application of the layer, these monomers can be effectively functioned before the application of the layer. As the polymerization reaction of the polymer, a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. Photopolymerization reactions are preferred. When a polymer is formed by a photopolymerization reaction, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp,
An ultra-high pressure mercury lamp, a chemical lamp or a metal halide lamp can be used. Most preferably, a high-pressure mercury lamp having good irradiation efficiency is used. The same binder is used for other layers. In addition to the components described above, the high refractive index layer, the medium refractive index layer, and their coating solutions may contain a polymerization inhibitor, a leveling agent, a thickener, a coloring inhibitor, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, and an antistatic agent. Or an adhesion-imparting agent may be added.
【0117】(低屈折率層)低屈折率層の屈折率は、
1.20乃至1.55であることが好ましく、1.30
乃至1.55であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、50乃至400nmであることが好ましく、
50乃至200nmであることがさらに好ましい。低屈
折率層は、3乃至50体積%の空隙率を有することが好
ましく、5乃至35体積%の空隙率を有することがさら
に好ましい。低屈折率層の空隙は、微粒子を用いて微粒
子間または微粒子内のミクロボイドとして形成すること
ができる。微粒子の平均粒径は、0.5乃至200mm
であることが好ましく、1乃至100nmであることが
より好ましく、3乃至70nmであることがさらに好ま
しく、5乃至40nmの範囲であることが最も好まし
い。微粒子の粒径は、なるべく均一(単分散)であるこ
とが好ましい。微粒子としては、無機微粒子(例えば、
SiO2 、MgF2 からなる微粒子)あるいは有機微粒
子(例えば、含フッ素ポリマー微粒子)を用いる。(Low Refractive Index Layer) The refractive index of the low refractive index layer is as follows.
1.20 to 1.55, preferably 1.30
It is more preferably from 1.55 to 1.55. The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 400 nm,
More preferably, it is 50 to 200 nm. The low refractive index layer preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, and more preferably 5 to 35% by volume. The voids in the low refractive index layer can be formed as microvoids between particles or within particles using fine particles. The average particle size of the fine particles is 0.5 to 200 mm
Is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, and most preferably 5 to 40 nm. The particle size of the fine particles is preferably as uniform (monodispersed) as possible. As the fine particles, inorganic fine particles (for example,
Fine particles made of SiO 2 or MgF 2 ) or organic fine particles (for example, fluorine-containing polymer fine particles) are used.
【0118】粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なく
とも2個以上積み重ねることにより形成することができ
る。空隙率を増加させると、低屈折率層の屈折率が低下
する。微粒子を積み重ねてミクロボイドを形成すると、
微粒子の粒径を調整することで、粒子間ミクロボイドの
大きさも適度の(光を散乱せず、低屈折率層の強度に問
題が生じない)値に容易に調節できる。さらに、微粒子
の粒径を均一にすることで、粒子間ミクロボイドの大き
さも均一である光学的に均一な低屈折率層を得ることが
できる。これにより、低屈折率層は微視的にはミクロボ
イド含有多孔質膜であるが、光学的あるいは巨視的には
均一な膜にすることができる。粒子間ミクロボイドは、
微粒子およびポリマーによって低屈折率層内で閉じてい
ることが好ましい。低屈折率層は、5乃至50重量%の
量のポリマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒
子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機
能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填すること
なく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポ
リマーの量は、低屈折率層の全量の10乃至30重量%
であることが好ましい。Microvoids between particles can be formed by stacking at least two or more fine particles. Increasing the porosity lowers the refractive index of the low refractive index layer. When microparticles are formed by stacking fine particles,
By adjusting the particle size of the fine particles, the size of the microvoids between the particles can be easily adjusted to an appropriate value (without scattering light and causing no problem in the strength of the low refractive index layer). Further, by making the particle diameter of the fine particles uniform, an optically uniform low refractive index layer in which the size of the microvoids between particles is also uniform can be obtained. Thus, the low refractive index layer can be a microvoid-containing porous film microscopically, but can be an optically or macroscopically uniform film. The microvoids between particles are
It is preferable that the inside of the low refractive index layer is closed by the fine particles and the polymer. Preferably, the low refractive index layer comprises a polymer in an amount of 5 to 50% by weight. The polymer has a function of adhering the fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the void. The amount of the polymer is 10 to 30% by weight of the total amount of the low refractive index layer.
It is preferred that
【0119】ポリマーで微粒子を接着するためには、微
粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成す
るか、あるいは微粒子間のバインダーとして、ポリマー
を使用することが好ましい。シェルまたはバインダーと
して使用するポリマーは、飽和炭化水素またはポリエー
テルを主鎖として有するポリマーであることが好まし
く、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであるこ
とがさらに好ましい。バインダーポリマーは架橋してい
ることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポ
リマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により
得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマー
を得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有する
モノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性
不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと
(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサン
ジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)
アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレー
ト、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリ
アクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体
(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸
−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニル
シクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルス
ルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリル
アミド)およびメタクリルアミドが含まれる。ポリエー
テルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポキシ化
合物の開環重合反応により合成することが好ましい。In order to adhere the fine particles with a polymer, it is preferable to form the polymer shell around the fine particles as a core or to use a polymer as a binder between the fine particles. The polymer used as the shell or the binder is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol Tetra (meta)
Acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (Meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester) , 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylic acid Amides include. The polymer having a polyether as a main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound.
【0120】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架
橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブ
ロックイソシアナート基のように、分解反応の結果とし
て架橋性を示す官能基を用いてもよい。なお、架橋基
は、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応
性を示すものであってもよい。モノマーの重合反応およ
び架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤より
も、光重合開始剤の方が好ましい。光重合開始剤の例に
は、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン
類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノ
ン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、
2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合
物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類
がある。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキ
シアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−
ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチル
チオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベ
ンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノ
フェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例に
は、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれ
る。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,
4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾ
フェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。
ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチ
ルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれ
る。Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by a reaction of a crosslinkable group.
Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group, and an active methylene group. Vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine,
Etherified methylols, esters and urethanes can also be used as monomers to introduce the crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. The cross-linking group is not limited to the above-mentioned compound, but may be one which shows reactivity as a result of decomposition of the above-mentioned functional group. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the monomer, a photopolymerization initiator is more preferable than a thermal polymerization initiator. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides,
There are 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-
Hydroxydimethylphenylketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone . Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,
4-Dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone are included.
Examples of the phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
【0121】バインダーとして使用するポリマーは、低
屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗
布と同時または塗布後に重合反応(必要ならばさらに架
橋反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の
塗布液に、少量のポリマー(例、ポリビニルアルコー
ル、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、
ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリ
アセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステ
ル、アルキド樹脂)を添加してもよい。The polymer used as the binder is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low-refractive-index layer, and simultaneously or after the application of the low-refractive-index layer, by a polymerization reaction (and, if necessary, a crosslinking reaction). . A small amount of polymer (eg, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate,
Polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) may be added.
【0122】(反射防止フイルム)反射防止フイルムに
は、以上述べた以外の層を設けてもよい。例えば、透明
支持体の上には、染料含有層に加えて、下塗り層、ハー
ドコート層、接着層、シールド層、滑り層あるいは帯電
防止層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線
を遮蔽するために設けられる。反射防止フイルムは、外
光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。
アンチグレア機能は、反射防止フイルムの表面に凹凸を
形成することにより得られる。低屈折率層の上にオーバ
ーコート層を設けてもよい。オーバーコート層は、含フ
ッ素化合物を含むことが好ましい。反射防止フイルムの
ヘイズは、3乃至30%であることが好ましく、5乃至
20%であることがさらに好ましく、7乃至20%であ
ることが最も好ましい。反射防止フイルムは、液晶表示
装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PD
P)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置
に適用する。反射防止フイルムの透明支持体側を画像表
示装置の画像表示面に接着する。本発明の反射防止フイ
ルムは、プラズマディスプレイパネル(PDP)の反射
防止フィルターとして使用すると、特に顕著な効果が得
られる。(Anti-reflection film) The anti-reflection film may be provided with layers other than those described above. For example, an undercoat layer, a hard coat layer, an adhesive layer, a shield layer, a slip layer, or an antistatic layer may be provided on the transparent support in addition to the dye-containing layer. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays. The anti-reflection film may have an anti-glare function for scattering external light.
The anti-glare function is obtained by forming irregularities on the surface of the antireflection film. An overcoat layer may be provided on the low refractive index layer. The overcoat layer preferably contains a fluorine-containing compound. The haze of the antireflection film is preferably from 3 to 30%, more preferably from 5 to 20%, and most preferably from 7 to 20%. Anti-reflection film is used for liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PD)
P), electroluminescent display (EL)
D) or an image display device such as a cathode ray tube display device (CRT). The transparent support side of the antireflection film is adhered to the image display surface of the image display device. When the antireflection film of the present invention is used as an antireflection filter of a plasma display panel (PDP), a particularly remarkable effect is obtained.
【0123】[0123]
【実施例】〔実施例1〕 (透明支持体の作成)厚さが90μmの透明ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムの両面をコロナ放電処理し
た。フイルムの両面上に、硬膜助剤と塗布助剤とを添加
したスチレン−ブタジエンコポリマーラテックスを塗布
し、厚さが0.15μmの第1下塗り層を設けた。第1
下塗り層の上に、硬膜助剤と塗布助剤とを添加したアク
リル系ラテックス(HA16、日本アクリル(株)製)
を塗布し、厚さが約0.1μmの第2下塗り層を設け
た。EXAMPLES Example 1 (Preparation of Transparent Support) Both surfaces of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 90 μm were subjected to corona discharge treatment. A styrene-butadiene copolymer latex to which a hardening aid and a coating aid were added was applied on both sides of the film to provide a first undercoat layer having a thickness of 0.15 μm. First
Acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) in which a hardening aid and a coating aid are added on the undercoat layer
Was applied to form a second undercoat layer having a thickness of about 0.1 μm.
【0124】(染料含有層の形成)メチルエチルケトン
に、5重量%のジペンタエリスルトールヘキサアクリレ
ート、0.5重量%の光重合開始剤(イルガキュア90
7、チバガイギー社製)、0.2重量%の光増感剤(カ
ヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)、0.2重量
%の可視光吸収染料(化合物4)、0.4重量%の可視
光吸収染料(化合物5)を溶解した。得られた溶液をワ
イヤーバーを用いて、透明支持体の一方の側の第2下塗
り層の上に、乾燥膜厚が8μmとなるように塗布した。
乾燥後、100℃に加熱して12/Wcmの高圧水銀灯
を用いて1分間紫外線照射し架橋した。その後室温まで
放冷して、染料含有層を形成した。得られたフイルムの
吸収は、488nmと580nmとにピークを有し、ピ
ーク吸光度はそれぞれ、0.4と0.5で、半値幅はそ
れぞれ、35nm、30nmであった。(Formation of Dye-Containing Layer) 5% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate and 0.5% by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 90) were added to methyl ethyl ketone.
7, Ciba-Geigy), 0.2% by weight of photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 0.2% by weight of visible light absorbing dye (compound 4), 0.4% by weight Was dissolved in the visible light absorbing dye (Compound 5). The resulting solution was applied using a wire bar on the second undercoat layer on one side of the transparent support so that the dry film thickness was 8 μm.
After drying, the mixture was heated to 100 ° C. and irradiated with ultraviolet rays for 1 minute using a 12 / Wcm high-pressure mercury lamp to crosslink. Thereafter, the mixture was allowed to cool to room temperature to form a dye-containing layer. The absorption of the obtained film had peaks at 488 nm and 580 nm, the peak absorbances were 0.4 and 0.5, respectively, and the half widths were 35 nm and 30 nm, respectively.
【0125】(二酸化チタン分散物の調製)二酸化チタ
ン(一次粒子重量平均粒径:50nm、屈折率2.7
0)30重量部、下記のアニオン性モノマー(1)3重
量部、下記のアニオン性モノマー(2)3重量部、およ
びメチルエチルケトン64重量部を、サンドグラインダ
ーにより分散し、二酸化チタン分散物を調製した。(Preparation of Titanium Dioxide Dispersion) Titanium dioxide (primary particle weight average particle diameter: 50 nm, refractive index 2.7)
0) 30 parts by weight, 3 parts by weight of the following anionic monomer (1), 3 parts by weight of the following anionic monomer (2), and 64 parts by weight of methyl ethyl ketone were dispersed by a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion. .
【0126】[0126]
【化74】 Embedded image
【0127】[0127]
【化75】 Embedded image
【0128】(高屈折率層用塗布液の調製)上記の二酸
化チタン分散物151gに、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート30g、光重合開始剤(イルガキュア
907、チバガイギー社製)1.68g、光増感剤(カ
ヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.56g、
メチルエチルケトン483gおよびシクロヘキサノン1
834gを添加し、室温で30分間攪拌し、1μmのポ
リプロピレンフィルターで濾過して、高屈折率層用塗布
液を調製した。(Preparation of Coating Solution for High Refractive Index Layer) To 151 g of the above titanium dioxide dispersion, 30 g of dipentaerythritol hexaacrylate, 1.68 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy), and a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.56 g,
483 g of methyl ethyl ketone and cyclohexanone 1
834 g was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and filtered through a 1 μm polypropylene filter to prepare a coating liquid for a high refractive index layer.
【0129】(高屈折率層の形成)染料含有層の上に、
高屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、120℃
で乾燥後、紫外線を照射して層を硬化させた。このよう
にして、厚さ(乾燥膜厚)が80nmの高屈折率層を形
成した。(Formation of High Refractive Index Layer) On the dye-containing layer,
Apply the coating solution for high refractive index layer with a bar coater,
After drying, the layer was cured by irradiating ultraviolet rays. Thus, a high refractive index layer having a thickness (dry film thickness) of 80 nm was formed.
【0130】(低屈折率層用塗布液の調製)ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート26g、光重合開始剤
(イルガキュア907、チバガイギー社製)1.0gお
よび光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)
製)0.5gをイソプロピルアルコール4296gに溶
解した後、表面をシランカップリング剤で処理したコロ
イダルシリカの30重量%メタノール分散物478gを
加え、室温で30分間攪拌した後、1μmのポリプロピ
レンフィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を調製
した。(Preparation of Coating Solution for Low Refractive Index Layer) 26 g of dipentaerythritol hexaacrylate, 1.0 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.) )
Was dissolved in 4296 g of isopropyl alcohol, and 478 g of a 30% by weight methanol dispersion of colloidal silica whose surface was treated with a silane coupling agent was added. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then filtered through a 1 μm polypropylene filter. Thus, a coating solution for a low refractive index layer was prepared.
【0131】(低屈折率層の形成)塗布液を高屈折率層
の上にワイヤーバーを用いて厚さ95nmに塗布し、1
20℃で乾燥後、紫外線を照射し架橋させた。その後室
温まで放冷して低屈折率層を形成した。このようにし
て、反射防止フイルムを作成した。得られた反射防止フ
イルムの平均反射率は0.4%であった。反射防止フイ
ルムの透明支持体側をプラズマディスプレイ(3原色発
光波長450nm、530nm、610nm)のディス
プレイ表面に貼り付けたところ、表示のコントラストは
10:1から14:1に改善された。(Formation of Low Refractive Index Layer) A coating solution was applied on the high refractive index layer to a thickness of 95 nm using a wire bar.
After drying at 20 ° C., ultraviolet irradiation was performed to crosslink. Thereafter, the mixture was allowed to cool to room temperature to form a low refractive index layer. Thus, an antireflection film was prepared. The average reflectance of the obtained antireflection film was 0.4%. When the transparent support side of the antireflection film was adhered to the display surface of a plasma display (three primary color emission wavelengths: 450 nm, 530 nm, 610 nm), the display contrast was improved from 10: 1 to 14: 1.
【0132】〔実施例2〕実施例1において染料含有層
中に、さらに0.1重量%の赤外光吸収染料(化合物例
112)と0.1重量%の赤外光吸収染料(化合物例1
14)を添加した以外は実施例2と同様の反射防止フイ
ルムを作成した。このフィルターの反射率は0.4%で
あった。この反射防止フイルムをプラズマディスプレイ
の上にはりつけたところ表示のコントラストは10:1
から14:1に改善された。また、プラズマディスプレ
イに貼りつけてリモコンの動作性をテストしたところ、
実施例1のフィルターでは100回中15回起こった誤
作動が、実施例2のフィルターでは全くなかった。Example 2 In Example 1, the dye-containing layer further contained 0.1% by weight of an infrared light absorbing dye (Compound Example 112) and 0.1% by weight of an infrared light absorbing dye (Compound Example). 1
An anti-reflection film was prepared in the same manner as in Example 2 except that 14) was added. The reflectance of this filter was 0.4%. When this antireflection film was mounted on a plasma display, the contrast of the display was 10: 1.
To 14: 1. In addition, when we tested the operability of the remote control by attaching it to the plasma display,
The filter of Example 1 had no malfunction which occurred 15 times out of 100 times, whereas the filter of Example 2 did not.
【0133】〔実施例3〕実施例2において、透明支持
体として、ポリエチレンテレフタレートの代わりにガラ
ス板を用いた以外は全く同様にして反射防止フイルムを
作成したところ、実施例2と同様の結果が得られた。Example 3 An antireflection film was prepared in exactly the same manner as in Example 2 except that a glass plate was used instead of polyethylene terephthalate as the transparent support. The same results as in Example 2 were obtained. Obtained.
【0134】〔比較例1〕実施例1で作成した染料含有
層の上に、真空蒸着法を用いてフッ化マグネシウム、二
酸化ケイ素、二酸化チタン、フッ化マグネシウムの順に
光学膜厚がλ/4の条件を満たすように積層した。この
フイルムと実施例1のフイルムをクロスカット法にてテ
ープ剥離テストしたところ、実施例1のフイルムは10
0回中剥離ゼロであったのに対し、比較例1のフイルム
は100枚中3枚に剥離個所がみられた。[Comparative Example 1] On the dye-containing layer prepared in Example 1, using a vacuum evaporation method, magnesium fluoride, silicon dioxide, titanium dioxide, and magnesium fluoride were formed in the order of an optical film thickness of λ / 4. The layers were stacked so as to satisfy the conditions. This film and the film of Example 1 were subjected to a tape peeling test by a cross-cut method.
While the peeling was zero during 0 times, the film of Comparative Example 1 showed peeling points on 3 out of 100 films.
【0135】〔実施例4〕 (染料含有層の形成)アセトン49.3gに、可視光吸
収染料(化合物56)0.23g、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート30g、光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)1.50gおよび光
増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)
0.50gを添加し、室温で30分間攪拌し、1μmの
ポリプロピレンフィルターで濾過して、染料含有層用塗
布液を調製した。得られた溶液を、実施例1で作成した
透明支持体の第2下塗り層の上に、バーコーターで塗布
し、120℃で乾燥後、紫外線を照射して層を硬化させ
た。このようにして、厚さ(乾燥膜厚)が7.0μmの
染料含有層を形成した。得られたフイルムの吸収は、5
74nmにピークを有し、ピーク吸光度は0.7で、半
値幅は60nmであった。Example 4 (Formation of Dye-Containing Layer) In 49.3 g of acetone, 0.23 g of a visible light absorbing dye (Compound 56), 30 g of dipentaerythritol hexaacrylate, a photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba-Geigy) 1.50 g) and a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
0.50 g was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and filtered through a 1 μm polypropylene filter to prepare a coating solution for a dye-containing layer. The obtained solution was applied on the second undercoat layer of the transparent support prepared in Example 1 with a bar coater, dried at 120 ° C., and irradiated with ultraviolet rays to cure the layer. Thus, a dye-containing layer having a thickness (dry film thickness) of 7.0 μm was formed. The absorption of the obtained film is 5
It had a peak at 74 nm, the peak absorbance was 0.7, and the half width was 60 nm.
【0136】(高屈折率層の形成)メチルエチルケトン
1921gとシクロヘキサノン1921gとの混合溶媒
に、実施例1で調製した二酸化チタン分散物134g、
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPH
A、日本化薬(株)製)52g、光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)3.0gおよび光増
感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1.
0gを加え、室温で30分間攪拌し、1μmのポリプロ
ピレンフィルターで濾過して、高屈折率層用塗布液を調
製した。染料含有層の上に、高屈折率層用塗布液をバー
コーターで塗布し、120℃で乾燥後、紫外線を照射し
て層を硬化させた。このようにして、厚さ(乾燥膜厚)
が80nmの高屈折率層を形成した。(Formation of High Refractive Index Layer) In a mixed solvent of 1921 g of methyl ethyl ketone and 1921 g of cyclohexanone, 134 g of the titanium dioxide dispersion prepared in Example 1 was added.
Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPH
A, 52 g of Nippon Kayaku Co., Ltd., 3.0 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
0 g was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and filtered with a 1 μm polypropylene filter to prepare a coating solution for a high refractive index layer. A coating solution for a high refractive index layer was applied on the dye-containing layer with a bar coater, dried at 120 ° C., and irradiated with ultraviolet rays to cure the layer. In this way, the thickness (dry film thickness)
Formed a high refractive index layer having a thickness of 80 nm.
【0137】(低屈折率層用塗布液の調製)反応性フッ
素ポリマー(JN−7219、日本合成ゴム(株)製)
2.50gにt−ブタノール1.3gを加え、室温で1
0分間攪拌した後、1μmのポリプロピレンフィルター
で濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。(Preparation of coating solution for low refractive index layer) Reactive fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.)
1.3 g of t-butanol was added to 2.50 g, and 1
After stirring for 0 minutes, the mixture was filtered through a 1 μm polypropylene filter to prepare a coating solution for a low refractive index layer.
【0138】(低屈折率層の形成)塗布液を高屈折率層
の上にバーコーターを用いて乾燥膜厚が95nmとなる
ように塗布し、120℃で30分間乾燥して層を硬化さ
せ、低屈折率層を形成した。このようにして、反射防止
フイルムを作成した。得られた反射防止フイルムの平均
反射率は0.4%であった。反射防止フイルムの表面の
水の接触角は102度で、指紋が付いても簡単に拭き取
ることができた。透明支持体側をプラズマディスプレイ
(3原色発光波長450nm、530nm、610n
m)のディスプレイ表面に貼り付けたところ、表示のコ
ントラストは10:1から14:1に改善された。(Formation of Low Refractive Index Layer) A coating solution was applied on the high refractive index layer using a bar coater so as to have a dry film thickness of 95 nm, and dried at 120 ° C. for 30 minutes to cure the layer. A low refractive index layer was formed. Thus, an antireflection film was prepared. The average reflectance of the obtained antireflection film was 0.4%. The contact angle of water on the surface of the anti-reflection film was 102 degrees, and even a fingerprint could be easily wiped off. On the transparent support side, a plasma display (three primary color emission wavelengths 450 nm, 530 nm, 610 n)
When attached to the display surface of m), the display contrast was improved from 10: 1 to 14: 1.
【0139】〔実施例5〕 (中屈折率層用塗布液の調製)実施例1で調製した二酸
化チタン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガ
イギー社製)、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本
化薬(株)製)およびメチルエチルケトンを添加した。
添加量は、中屈折率層の屈折率が1.72となるように
調節した。Example 5 (Preparation of Coating Solution for Medium Refractive Index Layer) To the titanium dioxide dispersion prepared in Example 1, dipentaerythritol hexaacrylate, a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy), A photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and methyl ethyl ketone were added.
The addition amount was adjusted such that the refractive index of the middle refractive index layer became 1.72.
【0140】(中屈折率層の形成)実施例1で作成した
染料含有層の上に、中屈折率層用塗布液をバーコーター
で塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。このよう
にして、厚さ(乾燥膜厚)が75nmの中屈折率層を形
成した。(Formation of Medium Refractive Index Layer) On the dye-containing layer prepared in Example 1, a coating liquid for a medium refractive index layer was applied using a bar coater, and the layer was cured by irradiating ultraviolet rays. Thus, a middle refractive index layer having a thickness (dry film thickness) of 75 nm was formed.
【0141】(高屈折率層用塗布液の調製)実施例1で
調製した二酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬(株)
製)、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギ
ー社製)、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬
(株)製)およびメチルエチルケトンを添加した。添加
量は、高屈折率層の屈折率が2.20となるように調節
した。(Preparation of Coating Solution for High Refractive Index Layer) Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added to the titanium dioxide dispersion prepared in Example 1.
), A photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba-Geigy), a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and methyl ethyl ketone. The addition amount was adjusted so that the refractive index of the high refractive index layer was 2.20.
【0142】(高屈折率層の形成)上記中屈折率層の上
に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、紫外
線を照射して層を硬化させた。このようにして、厚さ
(乾燥膜厚)が80nmの高屈折率層を形成した。(Formation of High Refractive Index Layer) A coating liquid for a high refractive index layer was applied on the medium refractive index layer with a bar coater, and the layer was cured by irradiating ultraviolet rays. Thus, a high refractive index layer having a thickness (dry film thickness) of 80 nm was formed.
【0143】(低屈折率層の形成)実施例1と同様に、
高屈折率層の上に厚さ80nmの低屈折率層を設け、反
射防止フイルムを作成した。得られた反射防止フイルム
の反射率は0.4%であった。この反射防止フイルムを
プラズマディスプレイの上にはりつけたところ、表示の
コントラストは10:1から14:1に改善された。(Formation of Low Refractive Index Layer) As in Example 1,
A low refractive index layer having a thickness of 80 nm was provided on the high refractive index layer to prepare an antireflection film. The reflectance of the obtained antireflection film was 0.4%. When this antireflection film was mounted on a plasma display, the contrast of the display was improved from 10: 1 to 14: 1.
【0144】〔実施例6〕実施例1の反射防止膜の作成
において、染料含有層に赤外光吸収染料および可視光吸
収染料を添加しなかった以外は、実施例1と同様にして
反射防止膜を作成した。なお、赤外光吸収染料および可
視光吸収染料を添加しなかった層は、ハードコート層と
して機能する。メチルエチルケトンに、5重量%のポリ
ビニルブチラール(デンカブチラール2000L、電気
化学工業(株)製)、0.2重量%の可視光吸収染料
(化合物56)および0.4重量%の赤外光吸収染料
(化合物114)を溶解し、染料含有層塗布液を調製し
た。染料含有層塗布液を、ハードコート層(染料含有層
から染料を除去した層)が設けられていない側の第2下
塗り層の上に、乾燥膜厚が8μmとなるように塗布し、
120℃で5分間乾燥して染料含有(バック)層を形成
した。得られたフイルムの吸収は、488nmと580
nmにピークを有し、ピーク吸光度はそれぞれ0.4と
0.5で、半値幅はそれぞれ35nmと30nmであっ
た。反射防止フイルムの染料含有(バック)層側をプラ
ズマディスプレイの上にはりつけたところ、表示のコン
トラストは10:1から14:1に改善された。Example 6 An anti-reflection coating was prepared in the same manner as in Example 1 except that no infrared light absorbing dye and visible light absorbing dye were added to the dye-containing layer in the preparation of the anti-reflection film of Example 1. A membrane was made. The layer to which the infrared light absorbing dye and the visible light absorbing dye were not added functions as a hard coat layer. To methyl ethyl ketone, 5% by weight of polyvinyl butyral (Denka butyral 2000L, manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK), 0.2% by weight of a visible light absorbing dye (compound 56) and 0.4% by weight of an infrared light absorbing dye ( Compound 114) was dissolved to prepare a dye-containing layer coating solution. A dye-containing layer coating solution is applied on the second undercoat layer on which the hard coat layer (the layer from which the dye has been removed from the dye-containing layer) is not provided so that the dry film thickness is 8 μm,
After drying at 120 ° C. for 5 minutes, a dye-containing (back) layer was formed. The absorption of the obtained film was 488 nm and 580 nm.
It had a peak at nm, the peak absorbance was 0.4 and 0.5, respectively, and the half width was 35 nm and 30 nm, respectively. When the dye-containing (back) layer side of the antireflection film was pasted on the plasma display, the display contrast was improved from 10: 1 to 14: 1.
【0145】[0145]
【発明の効果】本発明によれば、自発光型のディスプレ
イパネルにおいてコントラスト劣化を抑えることができ
る。また、強度が高い反射防止フイルムを、低コストで
製造することができる。According to the present invention, it is possible to suppress deterioration of contrast in a self-luminous display panel. Further, an antireflection film having high strength can be manufactured at low cost.
【図1】染料含有層を透明支持体と低屈折率層との間に
設けた反射防止フイルムの主な層構成を示す断面模式図
である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a main layer configuration of an antireflection film in which a dye-containing layer is provided between a transparent support and a low refractive index layer.
【図2】染料含有層を低屈折率層とは反対側の透明支持
体の面に設けた反射防止フイルムの主な層構成を示す断
面模式図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a main layer structure of an antireflection film in which a dye-containing layer is provided on a surface of a transparent support opposite to a low refractive index layer.
1 透明支持体 2 染料含有層 3 中屈折率層 4 高屈折率層 5 低屈折率層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent support 2 Dye containing layer 3 Medium refractive index layer 4 High refractive index layer 5 Low refractive index layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 11/02 G02B 1/10 Z ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01J 11/02 G02B 1/10 Z
Claims (9)
層および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する
低屈折率層とがこの順序で塗布層として設けられてお
り、そして染料含有層が、下記式(1)、(2)、
(4)、(5)または(6)で表される可視光吸収染料
を含む反射防止フイルム。 【化1】 式中、Z1 およびZ2 は、それぞれ独立に、含窒素複素
環を形成する非金属原子群であり;R1 およびR2 は、
それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基またはアラ
ルキル基であり;L1 は、奇数個のメチンからなるメチ
ン鎖であり;a、bおよびcは、それぞれ独立に、0ま
たは1であり;そして、X1 は、アニオンである。 【化2】 式中、Ar1 およびAr2 は、それぞれ独立に、アリー
ル基、芳香族複素環基または式(3)で表される基であ
る。 【化3】 式中、Z3 は、含窒素複素環を形成する非金属原子群で
あり;R3 は、アルキル基、アルケニル基またはアラル
キル基であり;そして、dは、0または1である。 【化4】 式中、Y1 およびY2 は、それぞれ独立に、脂肪族環ま
たは複素環を形成する非金属原子群であり;そして、L
2 は、奇数個のメチンからなるメチン鎖である。 【化5】 式中、Y3 は、脂肪族環または複素環を形成する非金属
原子群であり;R4 およびR5 は、それぞれ独立に、ア
ルキル基であり;そして、R6 は、水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、
アルコキシカルボニル基、シアノ、ニトロ、アミノ、ア
ミド基、アシルオキシ基、スルホまたはカルボキシルで
ある。 【化6】 式中、R7 およびR8 は、それぞれ独立に、水素原子、
アルキル基、アラルキル基またはアリール基であり;R
9 は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アミ
ド基、アルコキシカルボニル基、シアノ、スルホンアミ
ド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド
基、アルコキシカルボニルアミノ基またはヒドロキシル
であり;nは1、2、3または4であり;R7 およびR
8 は、互いに結合して、あるいは隣接するR9 と結合し
て複素環を形成してもよく;R10は、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、シ
アノ、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スル
ホンアミド基、ウレイド基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ス
ルファモイル基、スルホニル基、アシル基、アミノ、ア
ルキルアミノ基またはアリールアミノ基であり;Za、
ZbおよびZcは、それぞれ独立に、−C(R11)=ま
たは−N=であり;そして、R11は、水素原子、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基またはアルコキシカルボニル
基である。1. A coating layer comprising a dye-containing layer and a low-refractive-index layer having a refractive index lower than that of the transparent support on one surface of the transparent support in this order, The dye-containing layer has the following formulas (1), (2),
(4) An antireflection film containing a visible light absorbing dye represented by (5) or (6). Embedded image Wherein, Z 1 and Z 2 are each independently a non-metallic atomic group forming a nitrogen-containing heterocyclic ring; R 1 and R 2,
Each independently an alkyl, alkenyl or aralkyl group; L 1 is a methine chain consisting of an odd number of methines; a, b and c are each independently 0 or 1; 1 is an anion. Embedded image In the formula, Ar 1 and Ar 2 are each independently an aryl group, an aromatic heterocyclic group, or a group represented by the formula (3). Embedded image In the formula, Z 3 is a group of non-metallic atoms forming a nitrogen-containing heterocyclic ring; R 3 is an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group; and d is 0 or 1. Embedded image Wherein Y 1 and Y 2 are each independently a group of non-metallic atoms forming an aliphatic ring or a heterocyclic ring;
2 is a methine chain consisting of an odd number of methines. Embedded image Wherein Y 3 is a group of non-metallic atoms forming an aliphatic ring or a heterocyclic ring; R 4 and R 5 are each independently an alkyl group; and R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group , An alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom,
It is an alkoxycarbonyl group, cyano, nitro, amino, amide group, acyloxy group, sulfo or carboxyl. Embedded image In the formula, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom,
An alkyl group, an aralkyl group or an aryl group;
9 is an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, an amide group, an alkoxycarbonyl group, a cyano, a sulfonamide group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a ureido group, an alkoxycarbonylamino group or a hydroxyl; Or 4; R 7 and R
8 may combine with each other or with adjacent R 9 to form a heterocyclic ring; R 10 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryl group Oxy, aralkyl, cyano, amide, alkoxycarbonylamino, sulfonamide, ureido, alkylthio, arylthio, alkoxycarbonyl, carbamoyl, sulfamoyl, sulfonyl, acyl, amino, alkylamino Or an arylamino group; Za,
Zb and Zc each independently, -C (R 11) = or a -N =; and, R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group,
It is an alkoxy group, an aryloxy group, an amino, an alkylamino group, an arylamino group or an alkoxycarbonyl group.
層塗布層として設けられており、他方の面の上に、透明
支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が
塗布層として設けられており、そして染料含有層が、下
記式(1)、(2)、(4)、(5)または(6)で表
される可視光吸収染料を含む反射防止フイルム。 【化7】 式中、Z1 およびZ2 は、それぞれ独立に、含窒素複素
環を形成する非金属原子群であり;R1 およびR2 は、
それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基またはアラ
ルキル基であり;L1 は、奇数個のメチンからなるメチ
ン鎖であり;a、bおよびcは、それぞれ独立に、0ま
たは1であり;そして、X1 は、アニオンである。 【化8】 式中、Ar1 およびAr2 は、それぞれ独立に、アリー
ル基、芳香族複素環基または式(3)で表される基であ
る。 【化9】 式中、Z3 は、含窒素複素環を形成する非金属原子群で
あり;R3 は、アルキル基、アルケニル基またはアラル
キル基であり;そして、dは、0または1である。 【化10】 式中、Y1 およびY2 は、それぞれ独立に、脂肪族環ま
たは複素環を形成する非金属原子群であり;そして、L
2 は、奇数個のメチンからなるメチン鎖である。 【化11】 式中、Y3 は、脂肪族環または複素環を形成する非金属
原子群であり;R4 およびR5 は、それぞれ独立に、ア
ルキル基であり;そして、R6 は、水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、
アルコキシカルボニル基、シアノ、ニトロ、アミノ、ア
ミド基、アシルオキシ基、スルホまたはカルボキシルで
ある。 【化12】 式中、R7 およびR8 は、それぞれ独立に、水素原子、
アルキル基、アラルキル基またはアリール基であり;R
9 は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アミ
ド基、アルコキシカルボニル基、シアノ、スルホンアミ
ド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド
基、アルコキシカルボニルアミノ基またはヒドロキシル
であり;nは1、2、3または4であり;R7 およびR
8 は、互いに結合して、あるいは隣接するR9 と結合し
て複素環を形成してもよく;R10は、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、シ
アノ、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スル
ホンアミド基、ウレイド基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ス
ルファモイル基、スルホニル基、アシル基、アミノ、ア
ルキルアミノ基またはアリールアミノ基であり;Za、
ZbおよびZcは、それぞれ独立に、−C(R11)=ま
たは−N=であり;そして、R11は、水素原子、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基またはアルコキシカルボニル
基である。2. A low refractive index having a lower refractive index than that of the transparent support, provided on one surface of the transparent support as a dye-containing layer coating layer, and provided on the other surface. An anti-reflection film comprising a visible light absorbing dye represented by the following formula (1), (2), (4), (5) or (6): . Embedded image Wherein, Z 1 and Z 2 are each independently a non-metallic atomic group forming a nitrogen-containing heterocyclic ring; R 1 and R 2,
Each independently an alkyl, alkenyl or aralkyl group; L 1 is a methine chain consisting of an odd number of methines; a, b and c are each independently 0 or 1; 1 is an anion. Embedded image In the formula, Ar 1 and Ar 2 are each independently an aryl group, an aromatic heterocyclic group, or a group represented by the formula (3). Embedded image In the formula, Z 3 is a group of non-metallic atoms forming a nitrogen-containing heterocyclic ring; R 3 is an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group; and d is 0 or 1. Embedded image Wherein Y 1 and Y 2 are each independently a group of non-metallic atoms forming an aliphatic ring or a heterocyclic ring;
2 is a methine chain consisting of an odd number of methines. Embedded image Wherein Y 3 is a group of non-metallic atoms forming an aliphatic ring or a heterocyclic ring; R 4 and R 5 are each independently an alkyl group; and R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group , An alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom,
It is an alkoxycarbonyl group, cyano, nitro, amino, amide group, acyloxy group, sulfo or carboxyl. Embedded image In the formula, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom,
An alkyl group, an aralkyl group or an aryl group;
9 is an alkyl group, alkoxy group, halogen atom, amide group, alkoxycarbonyl group, cyano, sulfonamide group, carbamoyl group, sulfamoyl group, ureido group, alkoxycarbonylamino group or hydroxyl; n is 1, 2, 3 Or 4; R 7 and R
8 may combine with each other or with adjacent R 9 to form a heterocyclic ring; R 10 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryl group Oxy group, aralkyl group, cyano, amide group, alkoxycarbonylamino group, sulfonamide group, ureido group, alkylthio group, arylthio group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfonyl group, acyl group, amino, alkylamino group Or an arylamino group; Za,
Zb and Zc each independently, -C (R 11) = or a -N =; and, R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group,
It is an alkoxy group, an aryloxy group, an amino, an alkylamino group, an arylamino group or an alkoxycarbonyl group.
0nmの波長領域、540乃至600nmの波長領域ま
たは640乃至730nmの波長領域に最大吸収波長を
有する請求項1または請求項2に記載の反射防止フイル
ム。3. The method according to claim 1, wherein the visible light absorbing dye is 470 to 51.
3. The antireflection film according to claim 1, having a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 0 nm, a wavelength region of 540 to 600 nm, or a wavelength region of 640 to 730 nm.
(7)、(8)、(9)、(10)または(11)で表
される赤外光吸収染料を含む請求項1または請求項2に
記載の反射防止フイルム。 【化13】 式中、R12、R13、R14およびR15は、それぞれ独立
に、アルキル基であり;そしてX2 は、アニオンであ
る。 【化14】 式中、R12、R13、R14およびR15は、それぞれ独立
に、アルキル基であり;そしてX2 は、アニオンであ
る。 【化15】 式中、R16、R17、R18、R19、R20およびR21は、そ
れぞれ独立に、アルキル基であり;そして、X3 は、ア
ニオンである。 【化16】 式中、R16、R17、R18、R19、R20およびR21は、そ
れぞれ独立に、アルキル基であり;そして、X3 は、ア
ニオンである。 【化17】 式中、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R
29、R30、R31、R32およびR33は、それぞれ独立に、
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基または
アシル基であるか、あるいは隣接する二つが結合して5
員環または6員環を形成し;R34、R35およびR36は、
それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アルコキシカル
ボニル基、シアノ、ニトロ、アミノ、アミド基、アシル
オキシ基、スルホまたはカルボキシルであり;lは、1
乃至6の整数であり;そして、mは、1乃至3の整数で
ある。4. The dye-containing layer according to claim 1, further comprising an infrared-absorbing dye represented by the following formula (7), (8), (9), (10) or (11). 3. The anti-reflection film according to 2. Embedded image Wherein R 12 , R 13 , R 14 and R 15 are each independently an alkyl group; and X 2 is an anion. Embedded image Wherein R 12 , R 13 , R 14 and R 15 are each independently an alkyl group; and X 2 is an anion. Embedded image Wherein R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 and R 21 are each independently an alkyl group; and X 3 is an anion. Embedded image Wherein R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 and R 21 are each independently an alkyl group; and X 3 is an anion. Embedded image Wherein R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R
29 , R 30 , R 31 , R 32 and R 33 are each independently
A hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an acyl group, or 5
R 34 , R 35 and R 36 form a membered or 6-membered ring;
Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a cyano, a nitro, an amino, an amide group, an acyloxy group, a sulfo or a carboxyl;
And m is an integer from 1 to 3.
透明支持体の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率
層が塗布層として設けられている請求項1に記載の反射
防止フイルム。5. The method according to claim 1, wherein the dye-containing layer and the low refractive index layer have
2. The antireflection film according to claim 1, wherein a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the transparent support is provided as a coating layer.
透明支持体の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率
層が塗布層として設けられている請求項2に記載の反射
防止フイルム。6. Between the transparent support and the low refractive index layer,
3. The antireflection film according to claim 2, wherein a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the transparent support is provided as a coating layer.
層および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する
低屈折率層とがこの順序で塗布層として設けられてお
り、そして染料含有層が、470乃至510nmの波長
領域、540乃至600nmの波長領域または640乃
至730nmの波長領域に最大吸収波長を有する可視光
吸収染料を含む反射防止フイルム。7. On one surface of the transparent support, a dye-containing layer and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are provided as a coating layer in this order, An antireflection film in which the dye-containing layer contains a visible light absorbing dye having a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 470 to 510 nm, a wavelength region of 540 to 600 nm, or a wavelength region of 640 to 730 nm.
層塗布層として設けられており、他方の面の上に、透明
支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が
塗布層として設けられており、そして染料含有層が、4
70乃至510nmの波長領域、540乃至600nm
の波長領域または640乃至730nmの波長領域に最
大吸収波長を有する可視光吸収染料を含む反射防止フイ
ルム。8. A low refractive index, which is provided as a dye-containing layer coating layer on one surface of a transparent support and has a refractive index lower than that of the transparent support on the other surface. Layer is provided as a coating layer and the dye-containing layer
70 to 510 nm wavelength range, 540 to 600 nm
Or an antireflection film containing a visible light absorbing dye having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 640 to 730 nm.
反射防止フイルムを反射防止フィルターとして、ディス
プレイ表面側に設けたプラズマディスプレイパネル。9. A plasma display panel provided with the anti-reflection film according to claim 1 as an anti-reflection filter on a display surface side.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20051004 |