JP2000121806A - Antireflection film - Google Patents

Antireflection film

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JP2000121806A
JP2000121806A JP10315455A JP31545598A JP2000121806A JP 2000121806 A JP2000121806 A JP 2000121806A JP 10315455 A JP10315455 A JP 10315455A JP 31545598 A JP31545598 A JP 31545598A JP 2000121806 A JP2000121806 A JP 2000121806A
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JP
Japan
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layer
refractive index
transparent support
antireflection film
filter layer
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Withdrawn
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JP10315455A
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Japanese (ja)
Inventor
Taku Nakamura
卓 中村
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an antireflection film having an adequate color correction function in addition to an antireflection function by disposing a primer coat layer containing a polymer of a specific glass transition temperature or below or a primer coat layer of which the filter layer side have a rough surface between a filter layer and a transparent base. SOLUTION: The antireflection film is constituted by laminating the filter layer 3 containing dyes and a polymer binder, the transparent base 1 and a low-refractive index layer 4 having the refractive index lower than the refractive index of the transparent base 1 in this order. The antireflection film is provided with the primer coat layer 2 containing the polymer having a glass transition temperature of <=25 deg.C or the primer coat layer 2 of which the filter layer 3 side has a rough surface between the filter layer 3 and the transparent base 1. The thickness of the primer coat layer 2 is preferably 20 to 100 nm. The primer coat layer 2 containing the polymer having a glass transition temperature of >=25 deg.C adheres the transparent base 1 and the filter layer 3 by the tacky adhesiveness of the polymer. The average grain size of the latex of the primer coating layer 2 of which the surface is rough is preferably 0.02 to 3 μm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体、低屈
折率層およびフィルター層を有する反射防止膜に関す
る。特に、本発明は液晶表示装置(LCD)、プラズマ
ディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CR
T)、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画
像表示装置の表面に、反射防止および色再現性改良のた
め取り付けられる反射防止膜に関する。
The present invention relates to an antireflection film having a transparent support, a low refractive index layer and a filter layer. In particular, the present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CR)
T) relates to an antireflection film attached to the surface of an image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display for antireflection and improving color reproducibility.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置(LCD)、プラズマディ
スプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置では、ディスプレイ上に背景が映り込む事でコント
ラストが低下する問題がある。この問題を解決するため
の手段として、様々な反射防止膜が提案されている。こ
れまでに提案された反射防止膜の反射防止機能層は、蒸
着層と塗布層に分類できる。光学的機能の観点では蒸着
層の方が優れているが、塗布層には製造が容易であると
の利点がある。蒸着層は、眼鏡やカメラのようなレンズ
の反射防止膜として古くから用いられている。蒸着層
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、CVD法あるいはPVD法により形成する。塗
布層は、一般に、微粒子およびバインダーの塗布により
形成する。塗布層については、特開昭59−49501
号,同59−50401号、同60−59250号、特
開平7−48527号の各公報に記載がある。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT),
An image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display has a problem that the contrast is reduced due to the background being reflected on the display. As means for solving this problem, various antireflection films have been proposed. The antireflection functional layers of the antireflection films proposed so far can be classified into vapor deposition layers and coating layers. Although the vapor deposition layer is superior from the viewpoint of optical functions, the coating layer has an advantage that it is easy to manufacture. The vapor deposition layer has been used for a long time as an antireflection film for lenses such as glasses and cameras. The deposition layer is formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD method, or a PVD method. The coating layer is generally formed by applying fine particles and a binder. The coating layer is described in JP-A-59-49501.
And JP-A-59-50401, JP-A-60-59250 and JP-A-7-48527.

【0003】画像表示装置には、反射防止に加えて、色
補正の必要もある。画像表示装置では、原則として、
赤、青、緑の三原色の光の組み合わせでカラー画像を表
示する。しかし、表示のための光を理想的な三原色にす
ることは、非常に難しい(実質的には不可能である)。
例えば、プラズマディスプレイパネル(PDP)では、
三原色蛍光体からの発光に余分な光(波長が560乃至
620nmの範囲)が含まれていることが知られてい
る。そこで、表示色の色バランスを補正するため特定の
波長の光を吸収するフィルターを用いて、色補正を行う
ことが提案されている。フィルターによる色補正につい
ては、特開昭58−153904号、同61−1885
01号、特開平3−231988号、同5−20564
3号、同9−145918号、同9−306366号、
同10−26704号の各公報に記載がある。前記の反
射防止膜に、フィルター機能を組み込むことも考えられ
る。上記の特開昭61−188501号、特開平5−2
05643号、同9−145918号、同9−3063
66号、同10−26704号の各公報は、フィルター
機能が組み込まれた反射防止膜を開示している。特開昭
61−188501号、特開平5−205643号、同
9−145918号、同9−306366号の各公報に
記載の反射防止膜では、反射防止膜の透明支持体に染料
または顔料を添加して、支持体をフィルターとして機能
させている。特開平10−26704号公報記載の反射
防止膜では、透明支持体と反射防止層との間に設けられ
るハードコート層(表面硬化層)を着色し、ハードコー
ト層をフィルターとして機能させている。
[0003] In addition to anti-reflection, the image display device also requires color correction. In image display devices, in principle,
A color image is displayed using a combination of the three primary colors of red, blue and green. However, it is very difficult (practically impossible) to make light for display ideal three primary colors.
For example, in a plasma display panel (PDP),
It is known that light emitted from the three primary color phosphors contains extra light (wavelength in the range of 560 to 620 nm). Therefore, it has been proposed to perform color correction using a filter that absorbs light of a specific wavelength in order to correct the color balance of display colors. Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 58-153904 and 61-1885 disclose color correction using a filter.
No. 01, JP-A-3-231988, JP-A-5-20564
No. 3, 9-145918, 9-306366,
It is described in each publication of JP-A-10-26704. It is also conceivable to incorporate a filter function into the antireflection film. JP-A-61-188501 and JP-A-5-25-2 described above.
No. 05643, No. 9-145918, No. 9-3063
Nos. 66 and 10-26704 each disclose an antireflection film having a built-in filter function. In the antireflection films described in JP-A-61-188501, JP-A-5-205643, JP-A-9-145918 and JP-A-9-306366, a dye or pigment is added to the transparent support of the antireflection film. Thus, the support functions as a filter. In the anti-reflection film described in JP-A-10-26704, the hard coat layer (surface hardened layer) provided between the transparent support and the anti-reflection layer is colored so that the hard coat layer functions as a filter.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】反射防止膜の透明支持
体あるいはハードコート層を着色すれば、透明支持体ま
たはハードコート層がフィルターとして機能する。しか
し、透明支持体やハードコート層に添加できる染料や顔
料は、種類が非常に限られる。透明支持体は、プラスチ
ックまたはガラス(通常はプラスチック)から製造す
る。透明支持体に添加する染料や顔料には、支持体の製
造時の温度に耐えられる程度の非常に高い耐熱性が要求
される。ハードコート層は、一般に架橋しているポリマ
ーを含む層である。ポリマーの架橋反応は、層の塗布後
に実施する。架橋のための反応条件では、褪色してしま
う染料や顔料が多い。色補正に使用する染料または顔料
には、画像表示装置の種類に応じて、様々な吸収スペク
トル特性が要求される。色補正に使用する染料や顔料の
種類が限られると、適切な補正を行うことが難しくな
る。
If the transparent support or the hard coat layer of the antireflection film is colored, the transparent support or the hard coat layer functions as a filter. However, the types of dyes and pigments that can be added to the transparent support and the hard coat layer are very limited. The transparent support is made from plastic or glass (usually plastic). Dyes and pigments to be added to the transparent support are required to have extremely high heat resistance enough to withstand the temperature during the production of the support. The hard coat layer is generally a layer containing a crosslinked polymer. The crosslinking reaction of the polymer is carried out after the application of the layer. Under the reaction conditions for crosslinking, there are many dyes and pigments that fade. Dyes or pigments used for color correction are required to have various absorption spectrum characteristics depending on the type of image display device. If the types of dyes and pigments used for color correction are limited, it is difficult to perform appropriate correction.

【0005】本発明者は、使用できる染料の種類に制約
が多い透明支持体やハードコート層ではなく、穏和な条
件で形成できるポリマー層に染料を添加し、ポリマー層
をフィルター層として機能させることを検討した。反射
防止膜の光学的性質のため、フィルター層は透明支持体
に隣接して設ける必要がある。しかし、染料を含むポリ
マー層と透明支持体(プラスチックまたはガラス)との
親和性が低く、染料を含むポリマー層が透明支持体から
剥離しやすい。従来の技術が、透明支持体またはハード
コート層をフィルターとして機能させていたのは、フィ
ルター層と透明支持体との接着に問題が生じるためであ
ったと考えられる。本発明の目的は、反射防止機能に加
えて適切な色補正機能を有する反射防止膜を提供するこ
とである。
The present inventor has proposed that a dye be added to a polymer layer that can be formed under mild conditions, instead of a transparent support or a hard coat layer, which has many restrictions on the types of dyes that can be used, so that the polymer layer functions as a filter layer. It was investigated. Due to the optical properties of the anti-reflective coating, the filter layer must be provided adjacent to the transparent support. However, the affinity between the dye-containing polymer layer and the transparent support (plastic or glass) is low, and the dye-containing polymer layer is easily separated from the transparent support. It is considered that the reason why the conventional technique allows the transparent support or the hard coat layer to function as a filter is that a problem occurs in adhesion between the filter layer and the transparent support. An object of the present invention is to provide an antireflection film having an appropriate color correction function in addition to an antireflection function.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(8)の反射防止膜により達成された。の好ま
しい態様は下記の通りである。 (1)染料およびポリマーバインダーを含むフィルター
層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よりも低い
屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層されている
反射防止膜であって、フィルター層と透明支持体との間
に、ガラス転移温度が25℃以下のポリマーを含む下塗
り層またはフィルター層側の表面が粗面である下塗り層
が設けられていることを特徴とする反射防止膜。 (2)フィルター層が、波長が560乃至620nmの
範囲に吸収極大を持つ(1)に記載の反射防止膜。 (3)透明支持体と低屈折率層との間に、透明支持体の
硬度よりも高い硬度を有するハードコート層が設けられ
ている(1)に記載の反射防止膜。 (4)ハードコート層が、架橋しているポリマーを含む
(3)に記載の反射防止膜。 (5)透明支持体、染料およびポリマーバインダーを含
むフィルター層、および透明支持体の屈折率よりも低い
屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層されている
反射防止膜であって、透明支持体とフィルター層との間
に、ガラス転移温度が25℃以下のポリマーを含む下塗
り層またはフィルター層側の表面が粗面である下塗り層
が設けられていることを特徴とする反射防止膜。 (6)フィルター層が、波長が560乃至620nmの
範囲に吸収極大を持つ(5)に記載の反射防止膜。 (7)フィルター層と低屈折率層との間に、透明支持体
の硬度よりも高い硬度を有するハードコート層が設けら
れている(5)に記載の反射防止膜。 (8)ハードコート層が、架橋しているポリマーを含む
(7)に記載の反射防止膜。
The object of the present invention has been attained by the following antireflection films (1) to (8). Are as follows. (1) An antireflection film in which a filter layer containing a dye and a polymer binder, a transparent support, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are laminated in this order, An antireflection film, comprising an undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side between the layer and the transparent support. (2) The antireflection film according to (1), wherein the filter layer has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm. (3) The antireflection film according to (1), wherein a hard coat layer having a hardness higher than the hardness of the transparent support is provided between the transparent support and the low refractive index layer. (4) The antireflection film according to (3), wherein the hard coat layer contains a crosslinked polymer. (5) An antireflection film in which a transparent support, a filter layer containing a dye and a polymer binder, and a low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support are laminated in this order. An antireflection film, wherein an undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side is provided between the support and the filter layer. (6) The antireflection film according to (5), wherein the filter layer has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm. (7) The antireflection film according to (5), wherein a hard coat layer having a hardness higher than the hardness of the transparent support is provided between the filter layer and the low refractive index layer. (8) The antireflection film according to (7), wherein the hard coat layer contains a crosslinked polymer.

【0007】[0007]

【発明の効果】本発明者は研究を進め、透明支持体とフ
ィルター層との間に下塗り層を設け、透明支持体とフィ
ルター層との接着力を強化することを検討した。ただ
し、下塗り層を設けたことで、反射防止膜の光学的機能
が損なわれてはならない。本発明者がさらに研究を進め
た結果、ガラス転移温度が25℃以下のポリマーを含む
下塗り層またはフィルター層側の表面が粗面である下塗
り層を用いることで、反射防止膜の光学的機能に影響を
与えることなく、透明支持体とフィルター層との接着力
を強化することに成功した。透明支持体とフィルター層
との接着力の問題が解消した結果、様々な種類の染料を
フィルター層に使用することできる。例えば、ハロゲン
化銀写真の分野では、様々な写真用染料が開発されてい
る。写真用染料の吸収スペクトル特性も詳細に研究され
ている。写真用染料を透明支持体やハードコート層に添
加することは、従来の方法では困難であった。本発明に
よって、様々な写真用染料を反射防止膜に使用すること
が可能になった。以上の結果、本発明の反射防止膜で
は、反射防止機能に加えて、画像表示装置の種類に応じ
た適切な色補正機能を得ることができる。
The present inventor has proceeded with the study and studied to provide an undercoat layer between the transparent support and the filter layer to enhance the adhesive strength between the transparent support and the filter layer. However, the optical function of the antireflection film must not be impaired by providing the undercoat layer. As a result of further research conducted by the present inventors, the use of an undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side enables the optical function of the antireflection film to be improved. Without affecting, it succeeded in enhancing the adhesive strength between the transparent support and the filter layer. As a result of eliminating the problem of adhesion between the transparent support and the filter layer, various kinds of dyes can be used for the filter layer. For example, in the field of silver halide photography, various photographic dyes have been developed. The absorption spectral properties of photographic dyes have also been studied in detail. It has been difficult to add a photographic dye to a transparent support or a hard coat layer by a conventional method. According to the present invention, various photographic dyes can be used for the antireflection film. As a result, in the antireflection film of the present invention, in addition to the antireflection function, it is possible to obtain an appropriate color correction function according to the type of the image display device.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】反射防止膜の代表的な層構成を、
図面を参照しながら説明する。図1は、フィルター層を
反射防止層とは透明支持体の反対の側に設けた反射防止
膜の層構成を示す断面模式図である。図1の(a)に示
す態様は、フィルター層(3)、下塗り層(2)、透明
支持体(1)、低屈折率層(4)の順序の層構成を有す
る。透明支持体(1)と低屈折率層(4)は、以下の関
係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率 図1の(b)に示す態様は、フィルター層(3)、下塗
り層(2)、透明支持体(1)、ハードコート層
(5)、低屈折率層(4)の順序の層構成を有する。図
1の(c)に示す態様は、フィルター層(3)、下塗り
層(2)、透明支持体(1)、ハードコート層(5)、
高屈折率層(6)、低屈折率層(4)の順序の層構成を
有する。透明支持体(1)、低屈折率層(4)および高
屈折率層(6)は、以下の関係を満足する屈折率を有す
る。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<高屈折率層
の屈折率 図1の(d)に示す態様は、フィルター層(3)、下塗
り層(2)、透明支持体(1)、ハードコート層
(5)、中屈折率層(7)、高屈折率層(6)、低屈折
率層(4)の順序の層構成を有する。透明支持体
(1)、低屈折率層(4)、高屈折率層(6)および中
屈折率層(7)は、以下の関係を満足する屈折率を有す
る。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<中屈折率層
の屈折率<高屈折率層の屈折率
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A typical layer structure of an antireflection film is as follows.
This will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer is provided on the side opposite to the transparent support from the antireflection layer. The embodiment shown in FIG. 1A has a layer structure in the order of a filter layer (3), an undercoat layer (2), a transparent support (1), and a low refractive index layer (4). The transparent support (1) and the low refractive index layer (4) have a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support In the embodiment shown in FIG. 1B, the filter layer (3), the undercoat layer (2), the transparent support (1), and the hard coat layer (5) , Low refractive index layer (4). The embodiment shown in FIG. 1C includes a filter layer (3), an undercoat layer (2), a transparent support (1), a hard coat layer (5),
It has a layer configuration in the order of a high refractive index layer (6) and a low refractive index layer (4). The transparent support (1), the low refractive index layer (4) and the high refractive index layer (6) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support <the refractive index of the high refractive index layer In the embodiment shown in FIG. 1 (d), the filter layer (3), the undercoat layer (2), the transparent support (1) ), A hard coat layer (5), a medium refractive index layer (7), a high refractive index layer (6), and a low refractive index layer (4). The transparent support (1), the low-refractive-index layer (4), the high-refractive-index layer (6) and the middle-refractive-index layer (7) have a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support <refractive index of medium refractive index layer <refractive index of high refractive index layer

【0009】図2は、フィルター層と反射防止層とを透
明支持体の同じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断
面模式図である。図2の(a)に示す態様は、透明支持
体(1)、下塗り層(2)、フィルター層(3)、低屈
折率層(4)の順序の層構成を有する。透明支持体
(1)と低屈折率層(4)の屈折率の関係は、図1の
(a)と同様である。図2の(b)に示す態様は、透明
支持体(1)、下塗り層(2)、フィルター層(3)、
ハードコート層(5)、低屈折率層(4)の順序の層構
成を有する。図2の(c)に示す態様は、透明支持体
(1)、下塗り層(2)、フィルター層(3)、ハード
コート層(5)、高屈折率層(6)、低屈折率層(4)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率
層(4)および高屈折率層(6)の屈折率の関係は、図
1の(c)と同様である。図2の(d)に示す態様は、
透明支持体(1)、下塗り層(2)、フィルター層
(3)、ハードコート層(5)、中屈折率層(7)、高
屈折率層(6)、低屈折率層(4)の順序の層構成を有
する。透明支持体(1)、低屈折率層(4)、高屈折率
層(6)および中屈折率層(7)の屈折率の関係は、図
1の(d)と同様である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a layer structure of an antireflection film in which a filter layer and an antireflection layer are provided on the same side of a transparent support. The embodiment shown in FIG. 2A has a layer structure of a transparent support (1), an undercoat layer (2), a filter layer (3), and a low refractive index layer (4) in this order. The relationship between the refractive index of the transparent support (1) and the refractive index of the low refractive index layer (4) is the same as that of FIG. The embodiment shown in FIG. 2B includes a transparent support (1), an undercoat layer (2), a filter layer (3),
It has a layer structure in the order of the hard coat layer (5) and the low refractive index layer (4). The embodiment shown in FIG. 2C includes a transparent support (1), an undercoat layer (2), a filter layer (3), a hard coat layer (5), a high refractive index layer (6), and a low refractive index layer ( 4)
In the following order. The relationship between the refractive indices of the transparent support (1), the low refractive index layer (4) and the high refractive index layer (6) is the same as that in FIG. The mode shown in FIG.
A transparent support (1), an undercoat layer (2), a filter layer (3), a hard coat layer (5), a medium refractive index layer (7), a high refractive index layer (6), and a low refractive index layer (4). It has an orderly layer configuration. The relationship among the refractive indices of the transparent support (1), the low refractive index layer (4), the high refractive index layer (6) and the middle refractive index layer (7) is the same as that in FIG.

【0010】(透明支持体)透明支持体を形成する材料
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタ
クチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ
メチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレ
ンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネ
ートおよびポリエチレンテレフタレートが好ましい。透
明支持体の透過率は80%以上であることが好ましく、
86%以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、2
%以下であることが好ましく、1%以下であることがさ
らに好ましい。屈折率は、1.45乃至1.70である
ことが好ましい。透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは
紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量
は、透明支持体の0.01乃至20重量%であることが
好ましく、0.05乃至10重量%であることがさらに
好ましい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒
子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例に
は、SiO2 、TiO2 、BaSO4 、CaCO3 、タ
ルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体に、表面処
理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機
械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれ
る。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理
および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処
理がさらに好ましい。さらに、上層との接着強化のため
の下塗り層を設置してもよい。
(Transparent support) Examples of the material forming the transparent support include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose). Polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate, poly Butylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene), polymethylmethacrylate , Syndiotactic polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more,
More preferably, it is 86% or more. Haze is 2
%, More preferably 1% or less. The refractive index is preferably from 1.45 to 1.70. An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of the infrared absorber added is preferably 0.01 to 20% by weight of the transparent support, more preferably 0.05 to 10% by weight. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of the inorganic compound, SiO 2, TiO 2, BaSO 4, CaCO 3, talc and kaolin. The transparent support may be subjected to a surface treatment. Examples of surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment,
Laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment are included. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred. Further, an undercoat layer for strengthening the adhesion with the upper layer may be provided.

【0011】(反射防止層)反射防止層としては、低屈
折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、上記透明
支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、
1.20乃至1.55であることが好ましく、1.30
乃至1.55であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、50乃至400nmであることが好ましく、
50乃至200nmであることがさらに好ましい。低屈
折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層
(特開昭57−34526号、特開平3−130103
号、同6−115023号、同8−313702号、同
7−168004号の各公報記載)、ゾルゲル法により
得られる層(特開平5−208811号、同6−299
091号、同7−168003号の各公報記載)、ある
いは微粒子含む層(特公昭60−59250号、特開平
5−13021号、同6−56478号、同7−923
06号、同9−288201号の各公報に記載)として
形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間
または微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空
隙を形成することができる。微粒子を含む層は、3乃至
50体積%の空隙率を有することが好ましく、5乃至3
5体積%の空隙率を有することがさらに好ましい。
(Anti-reflection layer) As the anti-reflection layer, a low refractive index layer is essential. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the transparent support. The refractive index of the low refractive index layer is
1.20 to 1.55, preferably 1.30
It is more preferably from 1.55 to 1.55. The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 400 nm,
More preferably, it is 50 to 200 nm. The low refractive index layer is a layer made of a fluoropolymer having a low refractive index (JP-A-57-34526, JP-A-3-130103).
, JP-A-6-115023, JP-A-8-313702, and JP-A-7-168004), and a layer obtained by a sol-gel method (JP-A-5-208811, JP-A-6-299).
Nos. 091 and 7-168003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-59250, JP-A-5-13021, JP-A-6-56478 and JP-A-7-923).
No. 06 and No. 9-288201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing fine particles preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, and 5 to 3% by volume.
More preferably, it has a porosity of 5% by volume.

【0012】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に、屈折率の高い層(中・高屈折率層)を積
層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.6
5乃至2.40であることが好ましく、1.70乃至
2.20であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈
折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との
中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率
は、1.55乃至1.70であることが好ましい。中・
高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmであること
が好ましく、10nm乃至10μmであることがさらに
好ましく、30nm乃至1μmであることが最も好まし
い。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であることが
好ましく、3%以下であることがさらに好ましく、1%
以下であることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比
較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形
成することができる。屈折率が高いポリマーの例には、
ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、
メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂および環
状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポリオール
との反応で得られるポリウレタンが含まれる。その他の
環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマー
や、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポ
リマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル
硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポリマーを
形成してもよい。
In order to prevent reflection in a wide wavelength range,
It is preferable that a layer having a high refractive index (medium / high refractive index layer) is laminated on the low refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is 1.6
It is preferably 5 to 2.40, and more preferably 1.70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably from 1.55 to 1.70. During·
The thickness of the high refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm, and most preferably from 30 nm to 1 μm. The haze of the middle / high refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and more preferably 1%.
It is most preferred that: The middle / high refractive index layer can be formed using a polymer binder having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymers include:
Polystyrene, styrene copolymer, polycarbonate,
Included are melamine resins, phenolic resins, epoxy resins and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.

【0013】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80乃至2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。
In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystals, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) of the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn,
Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, S
i, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in solvents or are themselves liquid, such as alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) combined with coordination compounds, activity The middle / high refractive index layer can be formed using an inorganic polymer.

【0014】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能)を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3乃至
30%のヘイズを有する。
The anti-reflection layer can provide the surface with an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface). For example, by forming fine irregularities on the surface of a transparent film, and forming an antireflection layer on the surface, or after forming the antireflection layer, by forming irregularities on the surface with an embossing roll, an anti-glare function is obtained. be able to.
An antireflection layer having an antiglare function generally has a haze of 3 to 30%.

【0015】(フィルター層)フィルター層の厚さは1
乃至15μmであることが好ましい。フィルター層に用
いる染料は、560乃至620nmの波長領域(緑と赤
の間)に吸収極大を有することが好ましい。二種類以上
の染料を混合して用いてもよい。染料の吸収スペクトル
は、シャープであることが好ましい。具体的には、半幅
値(溶液中の染料の最大吸収波長の吸光度の半分の吸光
度を示す波長領域の幅)は、10乃至100nmである
ことが好ましく、20乃至70nmであることがさらに
好ましく、20乃至50nmであることが最も好まし
い。染料としては、イミダゾキノキサリン系、スクアリ
リウム系、インドレニントリメチレン系、アゾメチン
系、キサンテン系、シアニン系あるいはオキソノール系
の化合物が特に好ましく用いられる。これらの染料は、
写真用の染料として知られており、吸収スペクトル特性
についても良く研究されている。染料は、微粒子状分散
物として、フィルター層に添加してもよい。フィルター
層は、さらにポリマーバインダーを含む。天然ポリマー
(例、ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸)また
は合成ポリマー(例、ポリメチルメタクリレート、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルア
ルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポ
リマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポリ
アミド)をポリマーバインダーとして用いることができ
る。親水性ポリマー(上記天然ポリマー、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコー
ル、水溶性ポリアミド)が特に好ましい。
(Filter layer) The thickness of the filter layer is 1
It is preferably from 15 to 15 μm. The dye used in the filter layer preferably has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm (between green and red). Two or more dyes may be used as a mixture. The absorption spectrum of the dye is preferably sharp. Specifically, the half width value (the width of the wavelength region showing half the absorbance of the absorbance at the maximum absorption wavelength of the dye in the solution) is preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 70 nm, Most preferably, it is 20 to 50 nm. As the dye, imidazoquinoxaline-based, squarylium-based, indolenine trimethylene-based, azomethine-based, xanthene-based, cyanine-based or oxonol-based compounds are particularly preferably used. These dyes are
It is known as a photographic dye, and its absorption spectral properties are well studied. The dye may be added to the filter layer as a particulate dispersion. The filter layer further includes a polymer binder. Natural polymer (eg, gelatin, cellulose derivative, alginic acid) or synthetic polymer (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, water-soluble polyamide) It can be used as a polymer binder. Particularly preferred are hydrophilic polymers (the above-mentioned natural polymers, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, and water-soluble polyamide).

【0016】フイルター層に、褪色防止剤を添加しても
よい。染料の安定化剤として機能する褪色防止剤の例に
は、ハイドロキノン誘導体(米国特許3935016
号、同3982944号の各明細書記載)、ハイドロキ
ノンジエーテル誘導体(米国特許4254216号明細
書および特開昭55−21004号公報記載)、フェノ
ール誘導体(特開昭54−145530号公報記載)、
スピロインダンまたはメチレンジオキシベンゼンの誘導
体(英国特許公開2077455号、同2062888
号の各明細書および特開昭61−90155号公報記
載)、クロマン、スピロクロマンまたはクマランの誘導
体(米国特許3432300号、同3573050号、
同3574627号、同3764337号の各明細書お
よび特開昭52−152225号、同53−20327
号、同53−17729号、同61−90156号の各
公報記載)、ハイドロキノンモノエーテルまたはパラア
ミノフェノールの誘導体(英国特許1347556号、
同2066975号の各明細書および特公昭54−12
337号、特開昭55−6321号の各公報記載)およ
びビスフェノール誘導体(米国特許3700455号明
細書および特公昭48−31625号公報記載)が含ま
れる。
An anti-fading agent may be added to the filter layer. Examples of anti-fading agents that function as dye stabilizers include hydroquinone derivatives (US Pat. No. 3,935,016).
Nos. 3,982,944), hydroquinone diether derivatives (described in U.S. Pat. No. 4,254,216 and JP-A-55-21004), phenol derivatives (described in JP-A-54-145530),
Derivatives of spiroindane or methylenedioxybenzene (UK Patent Publications Nos. 2077455 and 2062888)
And the derivatives of chroman, spirochroman or coumaran (U.S. Pat. Nos. 3,432,300 and 3,573,050).
Nos. 3574627 and 3764337 and JP-A Nos. 52-152225 and 53-20327.
Nos. 53-17729 and 61-90156), hydroquinone monoether or paraaminophenol derivatives (UK Patent 1347556,
Nos. 2066975 and JP-B-54-12
337, JP-A-55-6321) and bisphenol derivatives (described in US Pat. No. 3,700,455 and JP-B-48-31625).

【0017】光あるいは熱に対する色素の安定性を向上
させるため、金属錯体(米国特許4245018号明細
書および特開昭60−97353号公報記載)を褪色防
止剤として用いてもよい。さらに色素の耐光性を改良す
るために、一重項酸素クエンチャーを褪色防止剤として
用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例には、ニト
ロソ化合物(特開平2−300288号公報記載)、ジ
インモニウム化合物(米国特許465612号明細書記
載)、ニッケル錯体(特開平4−146189号公報記
載)および酸化防止剤(欧州特許公開820057A1
号明細書記載)が含まれる。
In order to improve the stability of the dye to light or heat, a metal complex (described in US Pat. No. 4,245,018 and JP-A-60-97353) may be used as an anti-fading agent. In order to further improve the light fastness of the dye, a singlet oxygen quencher may be used as an anti-fading agent. Examples of the singlet oxygen quencher include a nitroso compound (described in JP-A-2-300288), a diimmonium compound (described in US Pat. No. 4,656,612), a nickel complex (described in JP-A-4-146189), and antioxidant. Agent (European Patent Publication 820057A1)
Description).

【0018】(下塗り層)本発明では、透明支持体とフ
ィルター層との間に、ガラス転移温度が25℃以下のポ
リマーを含む下塗り層またはフィルター層側の表面が粗
面である下塗り層を設ける。これにより、透明支持体と
フィルター層との接着力を改善する。なお、フィルター
層が設けられていない透明支持体の面に下塗り層を設け
て、透明支持体とその上に設けられる層(例えば、反射
防止層、ハードコート層)との接着力を改善してもよ
い。また、下塗り層は、反射防止膜と画像形成装置とを
接着するための接着剤と反射防止膜との親和性を改善す
るために設けてもよい。下塗り層の厚みは、20nm乃
至1000nmが好ましく、80nm乃至300nmが
より好ましい。ガラス転移温度が25℃以下のポリマー
を含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体と
フィルター層とを接着する。ガラス転移温度が25℃以
下のポリマーは、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビ
ニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレ
ン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アク
リロニトリルまたはメチルビニルエーテルの重合または
共重合により得ることができる。ガラス転移温度は、2
0℃以下であることが好ましく、15℃以下であること
がより好ましく、10℃以下であることがさらに好まし
く、5℃以下であることがさらにまた好ましく、0℃以
下であることが最も好ましい。表面が粗面である下塗り
層は、粗面の上にフィルター層を形成することで、透明
支持体とフィルター層とを接着する。表面が粗面である
下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布により容易に形
成することができる。ラテックスの平均粒径は、0.0
2乃至3μmであることが好ましく、0.05乃至1μ
mであることがさらに好ましい。ガラス転移温度が25
℃以下のポリマーのラテックスを用いて、ガラス転移温
度が25℃以下のポリマーを含み、かつフィルター層側
の表面が粗面である下塗り層を形成してもよい。下塗り
層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面
活性剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加してもよ
い。
(Undercoat layer) In the present invention, an undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side is provided between the transparent support and the filter layer. . Thereby, the adhesive strength between the transparent support and the filter layer is improved. An undercoat layer is provided on the surface of the transparent support on which the filter layer is not provided to improve the adhesion between the transparent support and a layer provided thereon (for example, an antireflection layer or a hard coat layer). Is also good. The undercoat layer may be provided to improve the affinity between the adhesive for bonding the antireflection film and the image forming apparatus and the antireflection film. The thickness of the undercoat layer is preferably from 20 nm to 1000 nm, more preferably from 80 nm to 300 nm. An undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower adheres the transparent support and the filter layer due to the tackiness of the polymer. Polymers having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower can be obtained by polymerization or copolymerization of vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, butadiene, neoprene, styrene, chloroprene, acrylate, methacrylate, acrylonitrile or methyl vinyl ether. . The glass transition temperature is 2
The temperature is preferably 0 ° C. or lower, more preferably 15 ° C. or lower, still more preferably 10 ° C. or lower, still more preferably 5 ° C. or lower, and most preferably 0 ° C. or lower. The undercoat layer having a rough surface adheres the transparent support and the filter layer by forming a filter layer on the rough surface. The undercoat layer having a rough surface can be easily formed by applying a polymer latex. The average particle size of the latex is 0.0
It is preferably 2 to 3 μm, and 0.05 to 1 μm.
m is more preferable. Glass transition temperature is 25
An undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or less and having a rough surface on the filter layer side may be formed by using a polymer latex having a temperature of 25 ° C. or less. The undercoat layer may contain a solvent for swelling the transparent support, a matting agent, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid and a hardener.

【0019】(第2下塗り層)下塗り層とフィルター層
との間に第2下塗り層を設けてもよい。第2下塗り層と
しては、フィルター層のバイダーポリマーとの親和性が
高いポリー(例えば、アクリル樹脂、セルロース誘導
体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコ
ール、可溶性ナイロン、高分子ラテックス)を用いて形
成することが好ましい。第2下塗り層にも、透明支持体
を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止
剤、塗布助剤や硬膜剤等を添加することができる。
(Second Undercoat Layer) A second undercoat layer may be provided between the undercoat layer and the filter layer. The second undercoat layer is formed using a poly (for example, acrylic resin, cellulose derivative, gelatin, casein, starch, polyvinyl alcohol, soluble nylon, or polymer latex) having a high affinity for the binder polymer of the filter layer. Is preferred. A solvent for swelling the transparent support, a matting agent, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid, a hardening agent, and the like can be added to the second undercoat layer.

【0020】(その他の層)反射防止膜には、ハードコ
ート層、潤滑層、帯電防止層あるいは中間層を設けるこ
ともできる。ハードコート層は、架橋しているポリマー
を含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル
系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマーま
たはモノマー(例、紫外線硬化型樹脂)を用いて形成す
ることができる。シリカ系材料からハードコート層を形
成することもできる。反射防止膜の最表面に潤滑層を形
成してもよい。潤滑層は、反射防止膜表面に滑り性を付
与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリ
オルガノシロキサン(例、シリコンオイル)、天然ワッ
クス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑
剤またはその誘導体を用いて形成することができる。潤
滑層の厚さは、2乃至20nmであることが好ましい。
(Other Layers) The antireflection film may be provided with a hard coat layer, a lubricating layer, an antistatic layer or an intermediate layer. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer can be formed using an acrylic, urethane, or epoxy polymer, oligomer, or monomer (eg, an ultraviolet curable resin). The hard coat layer can also be formed from a silica-based material. A lubrication layer may be formed on the outermost surface of the antireflection film. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection film and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubricating layer is preferably 2 to 20 nm.

【0021】反射防止層(中屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層)、フィルター層、下塗り層、ハードコート
層、潤滑層、その他の層は、一般的な塗布方法により形
成することができる。塗布方法の例には、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法およびホッパーを使用するエクストルージョンコート
法(米国特許2681294号明細書記載)が含まれ
る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時
塗布法については、米国特許2761791号、同29
41898号、同3508947号、同3526528
号の各明細書および原崎勇次著「コーティング工学」2
53頁(1973年朝倉書店発行)に記載がある。
The anti-reflection layer (medium-refractive-index layer, high-refractive-index layer, low-refractive-index layer), filter layer, undercoat layer, hard coat layer, lubricating layer and other layers are formed by a general coating method. Can be. Examples of the coating method include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an extrusion coating method using a hopper (described in US Pat. No. 2,681,294). Is included. Two or more layers may be formed by simultaneous coating. The simultaneous coating method is described in U.S. Pat.
No. 41898, No. 3508947, No. 3526528
Issue specifications and Yuji Harazaki, "Coating Engineering" 2
It is described on page 53 (published by Asakura Shoten in 1973).

【0022】(反射防止膜の用途)反射防止膜は、液晶
表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(P
DP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置
に適用する。反射防止膜の低屈折率層が設けられていな
い側の面が画像表示装置の画像表示面と対向するように
配置する。本発明の反射防止膜は、プラズマディスプレ
イパネル(PDP)の反射防止フィルターとして使用す
ると、特に顕著な効果が得られる。プラズマディスプレ
イパネル(PDP)は、ガス、ガラス基板、電極、電極
リード材料、厚膜印刷材料および蛍光体により構成され
る。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の
二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成
する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成す
る。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封
入する。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、既
に市販されている。プラズマディスプレイパネルについ
ては、特開平5−205643号、同9−306366
号の各公報に記載がある。
(Use of antireflection film) The antireflection film is used for a liquid crystal display (LCD) or a plasma display panel (P).
DP), electroluminescent display (EL)
D) or an image display device such as a cathode ray tube display device (CRT). The surface of the antireflection film on which the low refractive index layer is not provided is arranged so as to face the image display surface of the image display device. When the antireflection film of the present invention is used as an antireflection filter of a plasma display panel (PDP), a particularly remarkable effect is obtained. A plasma display panel (PDP) includes a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. Regarding the plasma display panel, JP-A-5-205643 and JP-A-9-306366.
There is a description in each gazette of the issue.

【0023】[0023]

【実施例】[実施例1] (下塗り層の形成)厚さ100μmの透明なポリエチレ
ンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理した後、
片面にスチレンーブタジエンコポリマーからなるラテッ
クスを厚さ140nmとなるよう塗布し、下塗り層を形
成した。
[Example 1] (Formation of undercoat layer) After corona treatment was applied to both sides of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 µm,
A latex made of a styrene-butadiene copolymer was applied on one surface to a thickness of 140 nm to form an undercoat layer.

【0024】(第2下塗り層の形成)下塗り層の上に、
酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、厚
さ40nmとなるよう塗布し、第2下塗り層を形成し
た。
(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer,
A gelatin aqueous solution containing acetic acid and glutaraldehyde was applied to a thickness of 40 nm to form a second undercoat layer.

【0025】(低屈折率層の形成)反応性フッ素ポリマ
ー(JN−7219、日本合成ゴム(株)製)2.50
gにt−ブタノール1.3gを加え、室温で10分間撹
拌し、1μmのポリプロピレンフィルターで濾過した。
得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の下塗り面
とは反対側の面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が1
10nmとなるように塗布し、120℃で30分間乾燥
して硬化させ低屈折率層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) Reactive Fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 2.50
1.3 g of t-butanol was added to the resulting mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and filtered with a 1 μm polypropylene filter.
The obtained coating liquid for a low refractive index layer was coated on a surface opposite to the undercoat surface of the transparent support with a dry film thickness of 1 using a bar coater.
It was applied to a thickness of 10 nm, dried at 120 ° C. for 30 minutes and cured to form a low refractive index layer.

【0026】(フイルター層の形成)写真用高分子量ア
ルカリ処理ゼラチン1重量%水溶液100gに、下記の
色素0.05gを溶解させ、40℃で30分間撹拌した
後、2μmのポリプロピレンフィルターで濾過した。得
られたフィルター層用塗布液を、第2下塗り層の上に、
乾燥膜厚が3.5μmとなるように塗布し、120℃で
10分間乾燥してフィルター層を形成し、反射防止膜を
作成した。
(Formation of Filter Layer) 0.05 g of the following dye was dissolved in 100 g of a 1% by weight aqueous solution of high-molecular-weight alkali-treated gelatin for photography, stirred at 40 ° C. for 30 minutes, and filtered through a 2 μm polypropylene filter. The obtained filter layer coating solution is coated on the second undercoat layer,
Coating was performed so that the dry film thickness became 3.5 μm, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a filter layer, thereby forming an antireflection film.

【0027】[0027]

【化1】 Embedded image

【0028】[実施例2] (下塗り層の形成)厚さ80μmの透明なセルロースト
リアセテートフイルムの片面に、スチレンーブタジエン
コポリマーからなるラテックスを厚さ140nmとなる
よう塗布し、下塗り層を形成した。
Example 2 (Formation of Undercoat Layer) On one side of a transparent cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm, a latex made of a styrene-butadiene copolymer was applied to a thickness of 140 nm to form an undercoat layer.

【0029】(ハードコート層の形成)25重量部のジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、
日本化薬(株)製)、25重量部のウレタンアクリレー
トオリゴマー(UV−6300B、日本合成化学工業
(株)製)、2重量部の光重合開始剤(イルガキュア−
907、チバ−ガイギー社製)および0.5重量部の増
感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)を5
0重量部のメチルエチルケトンに溶解した。得られた塗
布液を、透明支持体の下塗り面とは反対側の面に、バー
コーターを用いて塗布し、乾燥後、紫外線を照射してハ
ードコート層(層厚:6μm)を形成した。
(Formation of Hard Coat Layer) 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,
Nippon Kayaku Co., Ltd.), 25 parts by weight of a urethane acrylate oligomer (UV-6300B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (IRGACURE-
907, Ciba-Geigy) and 0.5 parts by weight of a sensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
It was dissolved in 0 parts by weight of methyl ethyl ketone. The obtained coating solution was applied to the surface of the transparent support opposite to the undercoating surface using a bar coater, dried, and irradiated with ultraviolet rays to form a hard coat layer (layer thickness: 6 μm).

【0030】(低屈折率層の形成)ハードコート層の上
に、実施例1で用いた反応性フッ素ポリマーを含む低屈
折率層用塗布液を実施例1と同様に塗布して、低屈折率
層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) On the hard coat layer, a coating liquid for a low refractive index layer containing the reactive fluoropolymer used in Example 1 was applied in the same manner as in Example 1 to obtain a low refractive index layer. A rate layer was formed.

【0031】(フイルター層の形成)下塗り層の上に、
実施例1で用いたフィルター層用塗布液を実施例1と同
様に塗布して、フィルター層を形成し、反射防止膜を作
成した。
(Formation of Filter Layer) On the undercoat layer,
The coating liquid for a filter layer used in Example 1 was applied in the same manner as in Example 1 to form a filter layer, and an antireflection film was formed.

【0032】[実施例3] (下塗り層の形成)実施例1と同様に、透明支持体の片
面に下塗り層(a)および第2下塗り層(a)を形成し
た。透明支持体の下塗り層が設けられていない側の面
に、スチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテック
スを厚さ110nmとなるよう塗布し、下塗り層(b)
を形成した。
Example 3 (Formation of Undercoat Layer) As in Example 1, an undercoat layer (a) and a second undercoat layer (a) were formed on one surface of the transparent support. A latex made of a styrene-butadiene copolymer is applied to a surface of the transparent support on which the undercoat layer is not provided so as to have a thickness of 110 nm, and an undercoat layer (b) is formed.
Was formed.

【0033】(第2下塗り層の形成)下塗り層(b)の
上に、アクリル系ラテックス(HA16、日本アクリル
(株)製)を厚さ60nmとなるよう塗布し、第2下塗
り層(b)を形成した。
(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer (b), an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) was applied to a thickness of 60 nm to form a second undercoat layer (b). Was formed.

【0034】(反射防止層の形成)第2下塗り層(b)
の上に、実施例1と同様に低屈折率層を形成した。
(Formation of Antireflection Layer) Second Undercoat Layer (b)
A low refractive index layer was formed thereon in the same manner as in Example 1.

【0035】(フイルター層の形成)第2下塗り層
(a)の上に、実施例1と同様にフィルター層を形成
し、反射防止膜を作成した。
(Formation of Filter Layer) On the second undercoat layer (a), a filter layer was formed in the same manner as in Example 1 to form an antireflection film.

【0036】[実施例4] (ハードコート層の形成)実施例3と同様に、透明支持
体上に、下塗り層(a)、第2下塗り層(a)、下塗り
層(b)および第2下塗り層(b)を形成した。第2下
塗り層(b)の上に、実施例2と同様にハードコート層
を形成した。
Example 4 (Formation of Hard Coat Layer) As in Example 3, an undercoat layer (a), a second undercoat layer (a), an undercoat layer (b) and a second undercoat layer were formed on a transparent support. An undercoat layer (b) was formed. A hard coat layer was formed on the second undercoat layer (b) in the same manner as in Example 2.

【0037】(二酸化チタン分散物の調製)二酸化チタ
ン(一次粒子重量平均粒径:50nm、屈折率2.7
0)30重量部、下記のアニオン性モノマー(1)4.
5重量部、下記のカチオン性モノマー(2)0.3重量
部、およびシクロヘキサノン65.2重量部を、サンド
グラインダーにより分散し、二酸化チタン分散物を調製
した。
(Preparation of Titanium Dioxide Dispersion) Titanium dioxide (primary particle weight average particle diameter: 50 nm, refractive index 2.7)
0) 30 parts by weight, the following anionic monomer (1)
5 parts by weight, 0.3 parts by weight of the following cationic monomer (2), and 65.2 parts by weight of cyclohexanone were dispersed by a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.

【0038】[0038]

【化2】 Embedded image

【0039】[0039]

【化3】 Embedded image

【0040】(中屈折率層用塗布液の調製)二酸化チタ
ン分散物151gに、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート107.0g、光重合開始剤(イルガキュア
907、チバガイギー社製)5.13g、光増感剤(カ
ヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1.71g、
メチルエチルケトン98.45gを添加し、室温で30
分間撹拌し、1μmのポリプロピレンフィルターで濾過
して、中屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution for Medium Refractive Index Layer) To 151 g of titanium dioxide dispersion, 107.0 g of dipentaerythritol hexaacrylate, 5.13 g of photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy), photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.71 g,
98.45 g of methyl ethyl ketone was added, and 30
After stirring for 1 minute, the mixture was filtered through a 1 μm polypropylene filter to prepare a coating solution for a medium refractive index layer.

【0041】(中屈折率層の形成)ハードコート層の上
に、中屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、紫外
線を照射して硬化させ、厚さ(乾燥膜厚)が79nmの
中屈折率層を形成した。
(Formation of Medium Refractive Index Layer) On the hard coat layer, a coating solution for the medium refractive index layer is applied by a bar coater, and cured by irradiating ultraviolet rays, and the thickness (dry film thickness) is 79 nm. A medium refractive index layer was formed.

【0042】(高屈折率層用塗布液の調製)上記の二酸
化チタン分散物246.7gに、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート14.16g、光重合開始剤(イ
ルガキュア907、チバガイギー社製)1.68g、光
増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)
0.56g、メチルエチルケトン160.82gを添加
し、室温で30分間撹拌し、1μmのポリプロピレンフ
ィルターで濾過して、高屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution for High Refractive Index Layer) To 246.7 g of the above titanium dioxide dispersion, 14.16 g of dipentaerythritol hexaacrylate, 1.68 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy), Photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
0.56 g and 160.82 g of methyl ethyl ketone were added, stirred at room temperature for 30 minutes, and filtered with a 1 μm polypropylene filter to prepare a coating solution for a high refractive index layer.

【0043】(高屈折率層の形成)中屈折率層の上に、
高屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、紫外線を
照射して層を硬化させた。このようにして、厚さ(乾燥
膜厚)が129nmの高屈折率層を形成した。
(Formation of High Refractive Index Layer) On the medium refractive index layer,
The coating solution for a high refractive index layer was applied with a bar coater, and the layer was cured by irradiating ultraviolet rays. Thus, a high refractive index layer having a thickness (dry film thickness) of 129 nm was formed.

【0044】(シリカ微粒子の表面処理)シリカ微粒子
のメタノール分散物(メタノールシリカゾル:日産化学
(株)製)300gにシランカップリング剤(KBM−
503:信越化学(株)製)4.5g、および0.1N
塩酸3gを加え、室温で5時間撹拌した後5日間放置
し、シランカップリング処理したシリカ微粒子の分散液
を得た。
(Surface Treatment of Silica Fine Particles) A silane coupling agent (KBM-) was added to 300 g of a methanol dispersion of silica fine particles (methanol silica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).
503: 4.5 g of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 0.1 N
3 g of hydrochloric acid was added, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours, and then left for 5 days to obtain a dispersion of silane-coupled silica fine particles.

【0045】(低屈折率層用塗布液の調製)ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート16.3g、光重合開
始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.6
5gおよび光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬
(株)製)0.33gをイソプロピルアルコール806
gおよびジアセトンアルコール248gに溶解した後、
表面をシランカップリング処理したシリカ微粒子の分散
物72.36gを加え、室温で30分間撹拌した後、1
μmのポリプロピレンフィルターで濾過して、低屈折率
層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating liquid for low refractive index layer) 16.3 g of dipentaerythritol hexaacrylate, photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba-Geigy) 0.6
5 g and a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added to isopropyl alcohol 806.
g and 248 g of diacetone alcohol,
After adding 72.36 g of a dispersion of silica fine particles whose surface was subjected to silane coupling treatment and stirring at room temperature for 30 minutes,
The solution was filtered through a μm polypropylene filter to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0046】(低屈折率層の形成)高屈折率層の上に、
低屈折率層用塗布液をワイヤーバーを用いて厚さ95n
mに塗布し、120℃で乾燥後、紫外線を照射して架橋
させ、その後室温まで放冷して低屈折率層を形成し、反
射防止膜を作成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) On the high refractive index layer,
The coating liquid for the low refractive index layer has a thickness of 95 n using a wire bar.
m, dried at 120 ° C., cross-linked by irradiating ultraviolet rays, and then allowed to cool to room temperature to form a low refractive index layer, thereby forming an antireflection film.

【0047】[実施例5] (下塗り層の形成)実施例1と同様に、透明支持体の片
面に下塗り層(a)および第2下塗り層(a)を形成し
た。透明支持体の下塗り層が設けられていない側の面
に、塩化ビニリデン−アクリル酸−メチルアクリレート
コポリマーからなるラテックスを厚さ120nmとなる
よう塗布し、下塗り層(b)を形成した。
Example 5 (Formation of Undercoat Layer) As in Example 1, an undercoat layer (a) and a second undercoat layer (a) were formed on one surface of a transparent support. A latex made of vinylidene chloride-acrylic acid-methyl acrylate copolymer was applied to a thickness of 120 nm on the surface of the transparent support on which the undercoat layer was not provided, to form an undercoat layer (b).

【0048】(第2下塗り層の形成)下塗り層(b)の
上に、アクリル系ラテックス(HA16、日本アクリル
(株)製)を厚さ50nmとなるよう塗布し、第2下塗
り層(b)を形成した。 (フイルター層の形成)第2下塗り層(b)の上に、実
施例1と同様にしてフィルター層を作成した。
(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer (b), an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) was applied to a thickness of 50 nm to form a second undercoat layer (b). Was formed. (Formation of Filter Layer) A filter layer was formed on the second undercoat layer (b) in the same manner as in Example 1.

【0049】(ハードコート層および低屈折率層の形
成)フィルター層の上に、実施例2と同様にして、ハー
ドコート層と低屈折率層を形成し、反射防止膜を作成し
た。
(Formation of Hard Coat Layer and Low Refractive Index Layer) A hard coat layer and a low refractive index layer were formed on the filter layer in the same manner as in Example 2 to form an antireflection film.

【0050】[実施例6] (下塗り層の形成)厚さ100μmの透明なポリエチレ
ンテレフタレートフイルム(透明支持体)の両面をコロ
ナ放電処理した後、片面に実施例2と同様にスチレン−
ブタジエンコポリマーからなるラテックスを厚さ180
μmとなるように塗布して下塗り層(b)を形成した。
透明支持体の下塗り層(b)が設けられていない面に、
塩化ビニリデン−アクリル酸−メチルメタクリレートコ
ポリマーからなるラテックスを厚さ130nmとなるよ
うに塗布し、下塗り層(a)を形成した。下塗り層
(a)の上に、アクリル系ラテックス(HA16、日本
アクリル(株)製)を厚さ50nmとなるように塗布
し、第二下塗り層(a)を形成した。
Example 6 (Formation of Undercoat Layer) After a corona discharge treatment was applied to both surfaces of a transparent polyethylene terephthalate film (transparent support) having a thickness of 100 μm, styrene was applied to one surface in the same manner as in Example 2.
A butadiene copolymer latex having a thickness of 180
The undercoat layer (b) was formed by coating to a thickness of μm.
On the surface where the undercoat layer (b) of the transparent support is not provided,
A latex comprising vinylidene chloride-acrylic acid-methyl methacrylate copolymer was applied to a thickness of 130 nm to form an undercoat layer (a). On the undercoat layer (a), an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) was applied to a thickness of 50 nm to form a second undercoat layer (a).

【0051】(ハードコート層の形成)25重量部のジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、
日本化薬(株)製)、25重量部のウレタンアクリレー
トオリゴマー(VU−6300B、日本合成化学工業
(株)製)、2重量部の光重合開始剤(イルガキュア−
907、チバ−ガイギー社製)および0.5重量部の増
感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)を5
0重量部のメチルエチルケトンに溶解した。得られた塗
布液を、下塗り層(b)の上に、バーコーターを用いて
塗布し、乾燥後、紫外線を照射してハードコート層(層
厚:6μm)を形成した。
(Formation of Hard Coat Layer) 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,
Nippon Kayaku Co., Ltd.), 25 parts by weight of a urethane acrylate oligomer (VU-6300B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure-
907, Ciba-Geigy) and 0.5 parts by weight of a sensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
It was dissolved in 0 parts by weight of methyl ethyl ketone. The obtained coating solution was applied onto the undercoat layer (b) using a bar coater, dried, and then irradiated with ultraviolet rays to form a hard coat layer (layer thickness: 6 μm).

【0052】(低屈折率層の形成)ハードコート層の上
に、実施例1で用いた反応性フッ素ポリマーを含む低屈
折率層用塗布液を実施例1と同様に塗布して、低屈折率
層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) On the hard coat layer, a coating liquid for a low refractive index layer containing the reactive fluoropolymer used in Example 1 was applied in the same manner as in Example 1 to obtain a low refractive index layer. A rate layer was formed.

【0053】(フイルター層の形成)メチルエチルケト
ン94.8gにポリビニルブチラール(デンカブチラー
ル2000L、電気化学工業(株)製)5.0gおよび
下記の色素0.2gを加え、室温で30分攪拌して溶解
し、1μmのポリプロピレンフィルターで濾過した。得
られた塗布液を、第二下塗り層(a)の上に、バーコー
ターを用いてオフし、120℃で5分間乾燥してフィル
ター層を形成し、反射防止膜を作成した。
(Formation of Filter Layer) To 94.8 g of methyl ethyl ketone, 5.0 g of polyvinyl butyral (2000 L of Denkabutyral, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and 0.2 g of the following dye were added and dissolved by stirring at room temperature for 30 minutes. And filtered through a 1 μm polypropylene filter. The obtained coating liquid was turned off using a bar coater on the second undercoat layer (a), and dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a filter layer, thereby forming an antireflection film.

【0054】[0054]

【化4】 Embedded image

【0055】[比較例1]下塗り層と第2下塗り層を形
成しなかった以外は、実施例1と同様にして反射防止膜
を作成した。
Comparative Example 1 An antireflection film was formed in the same manner as in Example 1 except that the undercoat layer and the second undercoat layer were not formed.

【0056】[比較例2]下塗り層を形成しなかった以
外は、実施例2と同様にして、反射防止膜を作成した。
Comparative Example 2 An antireflection film was formed in the same manner as in Example 2 except that the undercoat layer was not formed.

【0057】実施例1〜6および比較例1〜2で作成し
た反射防止膜の層構成を以下に示す。
The layer constitutions of the antireflection films prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 are shown below.

【0058】 ──────────────────────────────────── 実施例1 実施例2 実施例3 実施例4 ──────────────────────────────────── 低屈折率層 高屈折率層 中屈折率層 低屈折率層 ハードコート層 低屈折率層 第2下塗り層b 第2下塗り層b 低屈折率層 ハードコート層 下塗り層b 下塗り層b 透明支持体 透明支持体 透明支持体 透明支持体 下塗り層 下塗り層 下塗り層a 下塗り層a 第2下塗り層 フィルター層 第2下塗り層a 第2下塗り層a フィルター層 フィルター層 フィルター層 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Example 1 Example 2 Example 3 Example 4 ──────────────────────────────────── Low refractive index layer High refractive index layer Medium refractive index layer Low Refractive index layer Hard coat layer Low refractive index layer Second undercoat layer b Second undercoat layer b Low refractive index layer Hard coat layer Undercoat layer b Undercoat layer b Transparent support Transparent support Transparent support Transparent support Undercoat layer Undercoat layer Undercoat Layer a Undercoat layer a Second undercoat layer Filter layer Second undercoat layer a Second undercoat layer a Filter layer Filter layer Filter layer ─────────────

【0059】 ──────────────────────────────────── 実施例5 実施例6 比較例1 比較例2 ──────────────────────────────────── 低屈折率層 ハードコート層 フィルター層 低屈折率層 第2下塗り層b ハードコート層 低屈折率層 下塗り層b 下塗り層b 低屈折率層 ハードコート層 透明支持体 透明支持体 透明支持体 透明支持体 下塗り層a 下塗り層a フィルター層 フィルター層 第2下塗り層a 第2下塗り層a フィルター層 ────────────────────────────────────5 Example 5 Example 6 Comparative Example 1 Comparative Example 2 ──────────────────────────────────── Low refractive index layer Hard coat layer Filter layer Low refractive index layer Second undercoat layer b Hard coat layer Low refractive index layer Undercoat layer b Undercoat layer b Low refractive index layer Hard coat layer Transparent support Transparent support Transparent support Transparent support Undercoat layer a Undercoat layer a Filter layer Filter layer Second undercoat Layer a Second undercoat layer a Filter layer

【0060】(反射防止膜の光学特性評価)実施例1〜
6および比較例1〜2で作成した反射防止膜のピーク吸
収波長、半値幅、450〜650nmの波長領域におけ
る平均反射率を測定した。結果を第1表に示す。
(Evaluation of Optical Properties of Antireflection Film)
6 and the peak absorption wavelength, half width, and average reflectance in the wavelength region of 450 to 650 nm of the antireflection films prepared in Comparative Examples 1 and 2. The results are shown in Table 1.

【0061】(反射防止膜構成層の密着性評価)実施例
1〜6および比較例1〜2で作成した反射防止膜の裏面
(低屈折率層が設けられていない側の面)に、アクリル
系の粘着剤を厚さ30μmの厚さで塗布し、その面をガ
ラスに貼り、反射防止層側をクロスカット法にてテープ
剥離テストした。またガラスに貼ったサンプルに反射防
止層側からキセノンランプにより15万ルクスの可視光
を100時間照射した後、同様なテープ剥離テストを行
った。剥がれた部分の面積が70%以上をC、30〜7
0%をB、30%未満をAで評価した。結果を第1表に
示す。
(Evaluation of Adhesion of Antireflection Film Constituent Layer) On the back surface of the antireflection film prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 (the surface on which the low refractive index layer is not provided), acrylic A system pressure-sensitive adhesive was applied to a thickness of 30 μm, the surface was adhered to glass, and the antireflection layer side was subjected to a tape peeling test by a cross-cut method. A sample adhered to glass was irradiated with visible light of 150,000 lux from the antireflection layer side by a xenon lamp for 100 hours, and then a similar tape peeling test was performed. If the area of the peeled part is 70% or more, C, 30 to 7
0% was evaluated as B, and less than 30% was evaluated as A. The results are shown in Table 1.

【0062】[0062]

【表1】 第1表 ──────────────────────────────────── 光学特性評価 密着性評価 反射防止膜 吸収極大波長 半値幅 平均反射率 照射前 照射後 ──────────────────────────────────── 実施例1 585nm 30nm 1.31% A A 実施例2 585nm 30nm 1.54% A B〜A 実施例3 585nm 30nm 1.21% A A 実施例4 585nm 30nm 0.52% A A 実施例5 585nm 30nm 1.25% A B〜A 実施例6 574nm 38nm 1.27% A A 比較例1 585nm 30nm 1.28% C C 比較例2 585nm 30nm 1.22% B C ────────────────────────────────────[Table 1] Table 1 評 価 Evaluation of optical properties Adhesion evaluation Reflection Prevention film Absorption maximum wavelength Half width Average reflectance Before irradiation After irradiation ──────────────────────────────────── Example 1 585 nm 30 nm 1.31% A A Example 2 585 nm 30 nm 1.54% A B to A Example 3 585 nm 30 nm 1.21% A A Example 4 585 nm 30 nm 0.52% A A Example 5 585 nm 30 nm 1.25% AB -A Example 6 574 nm 38 nm 1.27% A A Comparative Example 1 585 nm 30 nm 1.28% CC Comparative Example 2 585 nm 30 nm 1.22% BC ────────────────────────── ─

【0063】(フィルター機能の評価)プラズマディス
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板の最表面のフイルムを剥がし、その代わり
に実施例1〜6で作成した反射防止膜(低屈折率層が設
けられていない側の面)を貼りつけ、目視により色の改
良を確認した。すなわちいずれのフィルターについても
従来のオレンジ色の入った赤が純赤に、また緑がかった
青が鮮やかな青に、黄ばんだ感じの白が純白に改良され
ていることを確認した。また表面による外光反射も抑え
られていることを確認した。
(Evaluation of Filter Function) Plasma Display Panel (PDS4202J-H, Fujitsu Limited)
), The anti-reflection film (the surface on the side where the low refractive index layer is not provided) prepared in Examples 1 to 6 is attached, and the color is visually improved. It was confirmed. That is, it was confirmed that in each of the filters, the conventional orange-containing red was improved to pure red, the greenish blue to vivid blue, and the yellowish white to pure white. It was also confirmed that external light reflection by the surface was suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】フィルター層を反射防止層とは透明支持体の反
対の側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer is provided on a side opposite to a transparent support from an antireflection layer.

【図2】図2は、フィルター層と反射防止層とを透明支
持体の同じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模
式図である。 1 透明支持体 2 下塗り層 3 フィルター層 4 低屈折率層 5 ハードコート層 6 高屈折率層 7 中屈折率層
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer and an antireflection layer are provided on the same side of a transparent support. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent support 2 Undercoat layer 3 Filter layer 4 Low refractive index layer 5 Hard coat layer 6 High refractive index layer 7 Medium refractive index layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H091 FA01X FA37X FB02 FB12 FB13 FC25 FD06 FD24 GA16 KA01 2K009 AA12 AA15 BB24 BB28 CC03 CC09 CC23 CC24 CC26 EE00 EE01 4F100 GB90  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H091 FA01X FA37X FB02 FB12 FB13 FC25 FD06 FD24 GA16 KA01 2K009 AA12 AA15 BB24 BB28 CC03 CC09 CC23 CC24 CC26 EE00 EE01 4F100 GB90

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 染料およびポリマーバインダーを含むフ
ィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よ
りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
れている反射防止膜であって、フィルター層と透明支持
体との間に、ガラス転移温度が25℃以下のポリマーを
含む下塗り層またはフィルター層側の表面が粗面である
下塗り層が設けられていることを特徴とする反射防止
膜。
1. An antireflection film comprising: a filter layer containing a dye and a polymer binder; a transparent support; and a low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support. An anti-reflection method, wherein an undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side is provided between the filter layer and the transparent support. film.
【請求項2】 フィルター層が、波長が560乃至62
0nmの範囲に吸収極大を持つ請求項1に記載の反射防
止膜。
2. The filter layer having a wavelength of 560 to 62.
The antireflection film according to claim 1, which has an absorption maximum in a range of 0 nm.
【請求項3】 透明支持体と低屈折率層との間に、透明
支持体の硬度よりも高い硬度を有するハードコート層が
設けられている請求項1に記載の反射防止膜。
3. The antireflection film according to claim 1, wherein a hard coat layer having a hardness higher than the hardness of the transparent support is provided between the transparent support and the low refractive index layer.
【請求項4】 ハードコート層が、架橋しているポリマ
ーを含む請求項3に記載の反射防止膜。
4. The antireflection film according to claim 3, wherein the hard coat layer contains a crosslinked polymer.
【請求項5】 透明支持体、染料およびポリマーバイン
ダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折率よ
りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
れている反射防止膜であって、透明支持体とフィルター
層との間に、ガラス転移温度が25℃以下のポリマーを
含む下塗り層またはフィルター層側の表面が粗面である
下塗り層が設けられていることを特徴とする反射防止
膜。
5. An antireflection film comprising a transparent support, a filter layer containing a dye and a polymer binder, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support, which are laminated in this order. An anti-reflection method, wherein an undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side is provided between the transparent support and the filter layer. film.
【請求項6】 フィルター層が、波長が560乃至62
0nmの範囲に吸収極大を持つ請求項5に記載の反射防
止膜。
6. The filter layer has a wavelength of 560 to 62.
The antireflection film according to claim 5, which has an absorption maximum in a range of 0 nm.
【請求項7】 フィルター層と低屈折率層との間に、透
明支持体の硬度よりも高い硬度を有するハードコート層
が設けられている請求項5に記載の反射防止膜。
7. The antireflection film according to claim 5, wherein a hard coat layer having a hardness higher than the hardness of the transparent support is provided between the filter layer and the low refractive index layer.
【請求項8】 ハードコート層が、架橋しているポリマ
ーを含む請求項7に記載の反射防止膜。
8. The antireflection film according to claim 7, wherein the hard coat layer contains a crosslinked polymer.
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