KR20010110320A - 레이저 장치와 그 제어 방법, 및 그 장치를 갖는 레이저가공기와 그것을 이용한 레이저 가공 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 파장 변환에 이용되는 비선형 광학 결정을 보호하여, 안정한 레이저 펄스를 얻는 고조파 Q 스위치 레이저 장치와 그 제어 방법을 제공하는 것이다. 그 레이저 장치에서는 레이저 트레인의 휴지(休止)시에 Q 스위치를 ON하여 레이저를 유사적, 연속적으로 발진시키는 것에 의해 이득(gain) 매질에서의 이득의 축적을 피한다. 레이저 펄스를 발생시키는 전에는 소정의 기간 Q 스위치를 OFF하여 레이저 이득을 상승시키고, Q 스위치 ON시에 1쇼트만큼 소정의 크기의 펄스가 발생된다.

Description

레이저 장치와 그 제어 방법, 및 그 장치를 갖는 레이저 가공기와 그것을 이용한 레이저 가공 방법{DEVICE AND IT'S CONTROL METHOD OF Q-SWITCHED FREQUENCY CONVERTED LASER, THE PROCESS AND SYSTEM USING IT'S LASER}
본 발명은 고조파를 발생하는 Q 스위치 부착 레이저 장치와 그 제어 방법 및 그 장치를 갖는 레이저 가공기에 관한 것이다.
종래의 Q 스위치 레이저 제어에 대하여 설명한다. 도 7은 종래의 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 구성을 나타낸다. 그 장치는 레이저 헤드(11)와, Q 스위치(12)와, 여기광 발생원(13)과, Q 스위치용 무선 주파수(Radio Frequency : RF) 드라이버(14)와, 제어 회로(15)와, 인터페이스(16)와, 전원 회로(17)와, 조작부(18)를 구비한다.
그 장치의 동작에 대하여 도 7을 이용하여 설명한다. 퍼스널 컴퓨터(PC) 등의 조작부(18)에 의해 설정된 발진 조건 지령은 인터페이스(16)를 거쳐서 제어 회로(15)에 전송된다. 전송된 발진 조건 지령을 제어 회로(15)는 해석하여 지령대로 제어 신호를 발생해서, 그 조건을 여기광 발생원(13) 및 Q 스위치용 RF 드라이버(14)에 전달하여 레이저 헤드의 발진 조건을 결정한다. 이 때, 동시에 제어 회로(15)는 레이저 헤드(11)로부터의 알람이나 비선형 광학 결정의 온도 등도 제어한다.
또한, 도 8을 이용하여 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 광학적인 동작에 대해서 설명한다. 도 8은 도 7에서 나타낸 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 레이저 헤드(11)의 내부 구성을 나타낸다. 레이저 헤드(11)는 반사 미러(21)와, Q 스위치 소자(22)와, 이득 매질(23)과, 출력 미러(24)와, 집광 렌즈(25)와, 비선형 광학 결정(26)과, 광학 렌즈(27)와, 협대역 밴드 필터 또는 다이클로익 미러(28)와, 2장의 렌즈(25, 27)를 구비한다. 렌즈(25, 27)는 콜리메타(collimator)로서 기능한다. 비선형 광학 결정(26)이 미러(21, 24) 사이에 있지 않기 때문에, 이 장치는 엑스트라 캐비티 방식이라고 불린다.
그 고조파 발생 Q 스위치 레이저 헤드의 광학적인 동작을, 도 8을 이용하여 설명한다. 이득 매질(23)에 여기광이 입사되면, 고(高)반사 미러(21)와 출력 미러(24) 사이에서 광 공진이 발생하여 레이저가 발진된다. 그러나, 미러(21, 24) 사이에 삽입된 Q 스위치 소자(22)가 ON일 때는 광로가 열리기 때문에 레이저 발진하지만, OFF일 때는 광로가 닫혀서 발진이 정지되어 펄스 레이저 발진을 가능하게 한다. Q 스위치 소자(22)가 도 8에 나타낸 Q 스위치용 RF 드라이버(14)에 의해 ON/OFF 제어되어, Q 스위치 레이저 헤드는 펄스 발진이 가능하게 된다. 출력 미러(24)로부터 출력된 레이저광은 집광 렌즈(25)에서 집광되어 비선형 광학 결정(26)에 조사된다. 비선형 광학 결정(26)에서는 고조파 레이저가 발생하고, 광학 렌즈(27)에서 콜리메타된 후, 협대역 필터 또는 다이클로익 미러(28)에서 기본파인 IR 레이저와 고조파의 레이저로 분리된다. 고조파 레이저는 가공에 이용된다.
예컨대, 2배 고조파(Second Harmonic Generation : SHG)의 고조파 레이저의 강도 PSHG는 이하의 수학식으로 표시된다.
여기서 deff는 비선형 정수라고 불리고, 비선형 광학 결정(26)의 종류에 따라 결정되는 정수로서 클수록 변환 효율이 좋다. Ieff는 유효 상호 작용 길이로 비선형 광학 결정(26)이 비선형 효과를 나타내는 길이이며, PIR은 기본파의 강도이다. A는 빔 면적이다.
이 관계로부터, 비선형 광학 결정(26)에 대해서는 빔 면적 A를 작게 하고, 기본파 강도 PIR을 강하게 입사시키는 것으로 고조파 출력을 증대한다. 그 때문에, 빔은 집광 렌즈(25)로 집광되어 비선형 광학 결정(26)에 입사된다.
그러나, 비선형 광학 결정(26)에는 내(耐)광 강도에 한계가 있고, 그 때문에 손상 임계값을 초과하면 파괴된다. 또한, 손상 임계값까지 도달하지 않을 정도로도, 손상 임계값에 가까이 감에 따라서 비선형 광학 결정(26)의 수명에 영향을 미친다.
다음에, 고조파 발생 Q 스위치 레이저의 광학 특성과 비선형 광학 결정의 파괴에 대해서 도 9를 이용하여 설명한다. 도 9는 Q 스위치 레이저의 발진 특성을 나타낸다. Q 스위치 레이저 장치를 가장 간단히 동작시키기 위해서는 램프의 아크 전류 또는 레이저 다이오드(Laser Diode : LD) 레이저의 전류를 일정하게 제어하여 여기광 강도를 일정하게 유지하고, Q 스위치를 ON/OFF한다. 그런데, 발신 개시전의 오랫동안 Q 스위치가 닫혀진 상태에서 여기광이 이득 매질(23)에 입사되었기 때문에, 이득 매질(23)에 축적된 이득이 소정의 값보다 과대해진다. 따라서, 발진 개시의 게이트 신호를 ON으로 하고 1쇼트째 또는 경우에 따라 수 쇼트는 자이언트펄스가 발생된다. 이 자이언트 펄스가 비선형 광학 결정(26)의 파괴 또는 수명을 단축시킨다.
이 자이언트 펄스의 발생을 회피하기 위해서 Q 스위치 레이저 장치의 제어 장치에는 FPS(First Pulse Suppression) 기능이 마련되어 있는 것이 있다.
도 10을 참조하여 Q 스위치 레이저 장치에 탑재된 FPS 기능에 대하여 설명한다. 발진 개시의 게이트 신호를 ON으로 하고 1쇼트째 또는 경우에 따라 수 쇼트에 자이언트 펄스의 발생을 억제하기 위해서, 오랫동안 Q 스위치가 닫혀진 상태에서 소정의 이득을 유지할 만큼의 강도로 이득 매질(23)에 입사하는 여기광을 약하게 해서 유지한다.
이 방법에서는 이득 매질(23)에 축적되는 레이저 이득이 과대하게 되는 것을 피할 수 있다. 그러나, 최대 여기광 강도가 한정되어 있기 때문에 레이저 이득의 빌드 업의 구배(句配)에는 한계가 있고 소정의 레이저 이득이 축적되기까지의 시간은 처음의 펄스후에 연속되는 펄스 트레인의 간격, 즉 펄스 주파수에 의존한다. 그 때문에, 펄스 주파수의 설정을 변경할 때마다 레이저 이득 유지 전류 ΔI나 유지 기간 ΔT 등의 FPS 기능의 조건을 설정하지 않으면 안 된다.
FPS 기능을 실현하는 다른 방법으로서, Q 스위치의 상승 시간을 느리게 하는 방법도 있는데, 마찬가지로 펄스 주파수마다 FPS 기능의 조건 설정이 필요하다.
도 11에는 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치를 탑재한 레이저 가공기의 광학계의 예를 나타내었다. 그 가공기는 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치(31)와, 콜리메타 렌즈(32)와, 마스크 체인저(33)와, 벤드 미러(34)와, 갈바노 스캐너(35)와, 스캔 렌즈(36)와, 가공 테이블(37)을 구비한다.
고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치(31)로부터 사출(射出)된 레이저는 콜리메타(32)에 의해 빔 직경을 최적화한 후, 마스크 체인져(33)상의 마스크에 조사된다. 조사된 레이저는 그 일부가 마스크를 통과하여 벤드 미러(34)를 거쳐서 갈바노 스캐너(35)에 의해 소정의 위치로 스캔 렌즈(36)를 통해서 집광되고 가공 테이블(37)상에 고정되어 있는 워크(work)를 가공한다.
워크의 가공중에는 일반적으로 소정 주파수의 펄스 트레인이 필요하고, 워크의 반송시 등에는 긴 휴지 시간이 필요하므로, 펄스 발진과 휴지를 반복하여 얻어진다.
도 12에 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 출력 특성 예를 나타낸다. 펄스 주파수가 낮아짐에 따라서 펄스 에너지가 증가하여 비선형 광학 결정(26)에 손상 또는 단수명화할 가능성이 커진다.
따라서, 워크의 반송시 등 휴지 시간이 길어지면, 이득 매질(23)에 이득이 과대하게 축적되고, 자이언트 펄스가 발생하여 비선형 광학 결정(26)을 손상 또는 단수명화하여 신뢰성이 저하된다.
이러한 사태를 피하기 위해서, 일반적으로 레이저 가공기에 탑재되는 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치(31)에는 전술한 바와 같은 FPS 기능이 부가된다.
특히 미세한 가공으로 되면, 펄스의 주파수를 도중에서 전환하는 것이 요구된다. 이 경우, FPS 기능을 기능시키지 않거나 또는 안전 때문에 FPS 기능을 사용할 때, FPS 기능의 조건 설정 커맨드를 송신하는 통신 시간이 필요하게 되어 전체의 택트 타임이 길어진다.
또한, 불안정한 펄스에 의해 워크가 균일하게 가공될 수 없다.
또한, 가공기에 설치한 갈바노 스캐너(35)로 자이언트 펄스 등 처음의 펄스를 워크 이외의 더미 타겟으로 조사하여 워크의 가공에 부여하는 영향을 없앨 수 있다. 그러나, 그것은 비선형 광학 결정(26)의 보호가 되지 않고 장치의 신뢰성은 개선되지 않는다.
본 발명의 목적은 비선형 광학 결정의 보호를 택트 타임의 손실(loss) 없이 실현하여 레이저 가공기의 신뢰성을 확보하는 레이저 장치와 그 제어 방법 또한 그 장치를 갖는 레이저 가공기와 그것을 이용한 가공 방법을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 Q 스위치 레이저 장치의 동작을 설명하는 도면,
도 2는 실시예 1에 따른 별도의 Q 스위치 레이저 장치의 동작을 설명하는 도면,
도 3은 본 발명의 실시예 2에 따른 Q 스위치 레이저 장치의 동작을 설명하는 도면,
도 4는 실시예 2에 따른 별도의 Q 스위치 레이저 장치의 동작을 설명하는 도면,
도 5는 본 실시예에 따른 고주파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 레이저 헤드의 구성을 나타내는 도면,
도 6은 본 실시예에 따른 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 출력 특성을 나타내는 도면,
도 7은 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 구성을 나타내는 도면,
도 8은 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 레이저 헤드의 구성을 나타내는 도면,
도 9는 종래의 고조파 발생 Q 스위치 레이저 발진기의 제어 예를 나타내는 도면,
도 10은 종래의 고조파 발생 Q 스위치 레이저 발진기의 제어 예를 나타내는 도면,
도 11은 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치를 이용한 레이저 가공기를 나타내는 도면,
도 12는 종래의 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 출력 특성을 나타내는 도면.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
11 : 레이저 헤드 12 : Q 스위치
13 : 여기광 발생원 14 : Q 스위치용 무선 주파수 드라이버
15 : 제어 회로 16 : 인터페이스
17 : 전원 회로 18 : 조작부
22 : Q 스위치
그 레이저 장치는 레이저 펄스의 열로 형성된 레이저 펄스 트레인을 발생한다. 그 레이저 장치는 출력 미러와, 광 반사 미러와, 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되고 레이저 이득을 축적하는 이득 매질과, 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되고 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러와 상기 이득 매질에 의한 레이저 발진을 ON/OFF하는 Q 스위치와, 상기 레이저 발진에 의한 기본파 레이저를 조사하여 고조파 레이저를 발생하는 비선형 광학 결정을 구비한다. 상기 레이저 펄스 트레인 발생전의 제 1 휴지 기간에 상기 Q 스위치에 의해 상기 레이저 발진을 ON하고, 상기 레이저 펄스 발생전의 제 2 휴지 기간에 상기 Q 스위치에 의해 상기 레이저 발진을 OFF한다.
본 발명의 상기 및 그 밖의 목적, 특징, 국면 및 이익 등은 첨부 도면을 참조로 하여 설명하는 이하의 상세한 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다.
(실시예 1)
본 발명의 실시예 1에 따른 레이저 장치의 동작에 대해서 도 1을 이용하여 설명한다. 실시예 1에 따른 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치는 도 8에 도시한 바와 동일하고, 그 제어에 대하여 설명한다.
이 장치에서는 여기광을 출력하는 램프의 아크 전류 또는 레이저 다이오드(LD) 레이저의 전류를 일정하게 제어하여 여기광 강도가 일정하게 유지되고, Q 스위치를 ON/OFF하여 레이저 발진이 제어된다.
도 1에 도시하는 바와 같이 고조파 레이저를 발진하기 전의 제 1 휴지 기간 T1에는 Q 스위치를 ON하는 것으로 레이저가 연속적으로 발진하는 연속 발진 모드로 장치를 설정한다. 또한, 고조파 레이저 펄스 발생전의 소정의 제 2 휴지 기간 T2A에 Q 스위치를 OFF하고 레이저 매질은 여기광이 조사되는 것으로 레이저 이득을 축적한다. 제 2 휴지 기간 T2A는 레이저 펄스 트레인의 펄스의 주기 T0에서 펄스폭 TW를 뺀 시간과 동등하다. 펄스폭 TW는 펄스 주기 T0에 비교하면 무시할 수 있을 정도로 작기 때문에, 휴지 기간 T2A는 실질적으로 펄스 주기 T0에 거의 일치한다.
고조파 레이저의 발진전의 제 1 휴지 기간 T1에 Q 스위치(22)를 ON하여 장치를 연속 발진 모드로 설정하는 것은 이득 매체로의 레이저 이득의 지나친 축적을 방지한다. 펄스 발생전에 설정된 펄스 트레인의 펄스 주기 T0에 거의 일치하는 소정의 제 2 휴지 기간 T2A는 고조파 펄스 발진전의 레이저 이득을 항상 소정의 값으로 유지한다.
도 6에 본 실시예의 레이저 장치의 레이저 출력 특성을 도시한다. 도면으로부터도 분명하듯이, 저주파, 즉 제 2 휴지 시간 T2A가 긴 때의 펄스 에너지는 한계점에 도달하게 되고, 이 특성 때문에 비선형 광학 결정이 보호된다. 따라서, 이 제어에 의해 안정하게 고조파 펄스가 발진되어 비선형 광학 결정의 손상 또는 단수명화를 회피할 수 있다. 또한, FPS 기능을 없이도 자이언트 펄스의 발생을 방지할 수 있다.
그 레이저 장치를 탑재한 레이저 가공기에서는 랜덤한 타이밍으로 펄스 트레인을 발생시키더라도 안정한 고조파 펄스를 얻을 수 있기 때문에 레이저 가공 품질이 개선되고 또한 펄스 발진 조건의 변경에 있어서 시간 손실(loss time)도 발생하는 것이 없으며, 생산성이 높은 레이저 가공기를 제공할 수 있다.
또한, 여기광을 출력하는 램프의 아크 전류 또는 LD 레이저의 전류가 일정하기 때문에, 램프나 LD 전류의 변조 등에 따른 램프나 LD 소자에 걸리는 열 사이클에 의해 수명이 짧게 되는 것이 방지된다.
다음에, 실시예 1에 따른 인트라 캐비티 방식의 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치를 도 5에 도시한다. 비선형 광학 결정(26)의 위치가 도 8로 도시한 장치와 상이하고 미러(21, 24) 사이에 있으며 인트라 캐비티 방식이라고 불린다. 그장치는 음향 광학 변조기(AOM) 등의 광학적 변조기에 의한 고조파 커팅기(51)를 구비한다. 다른 구성 부품은 도 8에서 도시한 엑스트라 캐비티 방식과 배열의 순서가 상이하지만 동일하다.
비선형 광학 결정(26)은 입사하는 빔 직경이 굵은 채로 고조파가 발생한다. 따라서, 레이저 펄스의 제 1 휴지 기간 T1동안의 적외선(IR), 즉 기본파 레이저의 연속파(CW) 출력에 의해 약한 고조파 레이저가 출력되는 일이 있다. 이 장치가 레이저 가공기에 적용되는 경우, 이 약한 고조파 레이저가 가공 임계값을 초과하는 일이 있다. 그 때문에, 도 5에 도시한 바와 같이 고조파 출력 경로에 배치된 고조파 커팅기(51)에 도 2에 도시한 바와 같은 고조파 펄스만을 커팅하는 제어 신호를 그 게이트에 입력하여 고조파 펄스를 커팅한다. 이것에 의해 인트라 캐비티 방식의 레이저 장치에서도 엑스트라 캐비티 방식의 것과 마찬가지의 효과가 얻어진다.
(실시예 2)
본 발명의 실시예 2에 따른 레이저 장치의 동작을 도 3을 이용하여 설명한다. 실시예 2의 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치의 구성은 도 8에도 도시한 것과 동일하다.
이 장치의 이득 매질(23)에는 실시예 1과 마찬가지로 일정한 강도의 여기광이 입력된다. 고조파 레이저를 발진하기 전의 제 1 휴지 기간 T1에 Q 스위치(22)를 ON하여 장치를 연속 발진 모드로 설정한다. 또한, 고조파 펄스 발생전에 소정의 제 2 휴지 시간 T2B에 Q 스위치(22)를 OFF하고 이득 매질(23)은 여기광에 의해이득을 축적한다. 또한, 휴지 기간 T2B를 펄스 트레인의 펄스 주기 T0보다 짧게 한다. 휴지 기간 T2B는 매질(23)에 축적되는 이득을 제어하여 펄스 출력을 제어한다.
고주파 레이저의 발진전의 제 1 휴지 기간 T1에 Q 스위치(22)를 ON하여 장치를 연속 발진 모드로 설정하는 것은 이득 매체로의 레이저 이득의 지나친 축적을 방지한다. 펄스 주기보다 짧은 휴지 기간 T2B는 고조파 펄스 발진전의 레이저 이득을 항상 안정하게 제어한다.
도 6에는 본 실시예의 레이저 출력 특성을 도시한다. 도면으로부터도 분명하듯이, 저주파, 즉 제 2 휴지 시간 T2B가 긴 때의 펄스 에너지가 한계점에 도달하게 되고, 이 특성 때문에 비선형 광학 결정이 손상 또는 단수명화로부터 보호된다. 휴지 시간 T2B를 짧게 하면, 또한 펄스 에너지가 작게 되고 비선형 광학 결정이 보호된다. 따라서, 고조파 펄스는 항상 안정하게 발진하여 휴지 시간 T2B에 의해 레이저 출력이 제어된다. 또한, FPS 기능 없이도 자이언트 펄스의 발생을 방지할 수 있다.
그 레이저 장치가 탑재된 레이저 가공기에서는 랜덤한 타이밍으로 펄스 트레인을 발생시키더라도 안정한 고조파 펄스를 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 휴지 시간 제어에 의해 미세하게 레이저 출력을 조정할 수 있기 때문에 레이저 가공 품질이 우수하다. 또한, 펄스 발진 조건의 변경에 의한 시간 손실이 발생하지 않아 생산성이 높다.
또한, 여기광을 출력하는 램프의 아크 전류 또는 LD 레이저의 전류를 일정하기 하기 때문에, 램프나 LD 전류의 변조 등에 따른 램프나 LD 소자에 걸리는 열 사이클에 의해 수명이 짧게 되는 것을 방지할 수 있다.
다음에, 본 발명의 실시예 2에 따른 인트라 캐비티 방식의 고조파 발생 Q 스위치 레이저 장치를 도 5에 도시한다. 실시예 1과 마찬가지로 비선형 광학 결정(26)의 위치가 도 8로 도시한 장치와 상이하고, 미러(21, 24) 사이에 있는 그 제어 신호를 도 4에 나타낸다.
도 5에 있어서, 고조파 커팅기(51)는 음향 광학 변조기(AOM) 등의 광학적 변조기이다. 다른 구성 부품은 도 8에 도시한 엑스트라 캐비티 방식과 배열의 순서는 상이하지만 동일하다.
비선형 광학 결정(26)은 입사하는 빔 직경이 굵은 상태로 고조파를 발생한다. 따라서, 레이저 펄스의 제 1 휴지 시간 T1동안의 적외선(IR), 즉 기본파 레이저의 연속파(CW) 출력에 의해 약한 고조파 레이저가 출력되는 일이 있다. 이 장치가 레이저 가공기에 적용되는 경우, 이 약한 고조파 레이저가 가공 임계값을 초과할 때에는 외부에 도 5에 도시한 바와 같이 고조파 출력 경로에 배치된 고조파 커팅기(51)에 도 4에 도시한 고조파 펄스만을 커팅하는 제어 신호를 그 게이트에 입력하여 고조파 펄스를 커팅한다.
또한, 펄스 발생후에 Q 스위치(22)가 ON인 기간 T3에서도 약한 고조파 레이저가 발생하는 일이 있지만, 이것도 고조파 커팅기(51)에 의해 차단되어 출력되지 않는다. 이것에 의해 인트라 캐비티 방식의 레이저 장치에서도 엑스트라 캐비티 방식의 것과 마찬가지의 효과가 얻어진다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 비선형 광학 결정의 보호를 택트 타임의 손실없이 실현하여 레이저 가공기의 신뢰성을 확보하는 레이저 장치와 그 제어 방법 및 그 장치를 갖는 레이저 가공기와 그것을 이용한 가공 방법을 얻을 수 있다.
이상 본 발명자에 의해서 이루어진 발명을 상기 실시예에 따라 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니고, 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러 가지로 변경 가능한 것은 물론이다.

Claims (36)

  1. 레이저 펄스의 열로 형성된 레이저 펄스 트레인을 발생하는 레이저 장치에 있어서,
    출력 미러와,
    광 반사 미러와,
    상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되고, 레이저 이득을 축적하는 이득 매질과,
    상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되고, 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러와 상기 이득 매질에 의한 레이저 발진을 ON/OFF시키는 Q 스위치와,
    상기 레이저 발진에 따른 기본파 레이저가 조사되어 고조파 레이저를 발생하는 비선형 광학 결정
    을 구비하되,
    상기 레이저 펄스 트레인 발생전의 제 1 휴지(休止) 기간에 상기 Q 스위치에 의해 상기 레이저 발진을 ON하고,
    상기 레이저 펄스 발생전의 제 2 휴지 기간에 상기 Q 스위치에 의해 상기 레이저 발진을 OFF하는
    레이저 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 비선형 광학 결정은 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되는 레이저 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 레이저 펄스의 출력 경로에 배치되는 고조파 커팅기를 더 구비하는 레이저 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 고조파 커팅기는 광학 변조기인 레이저 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 비선형 광학 결정은 상기 출력 미러에 대하여 상기 광 반사 미러와 반대측에 배치되는 레이저 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간은 상기 레이저 펄스 트레인의 주기에서 상기 레이저 펄스의 폭을 뺀 시간과 거의 동등한 레이저 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간은 상기 레이저 펄스 트레인의 주기에서 상기 레이저 펄스의 폭을 뺀 시간보다 작은 레이저 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간에 의해 상기 레이저 펄스의 강도를 제어하는 레이저 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 비선형 광학 결정이 발생하는 상기 고조파 레이저와 상기 기본파 레이저를 분리하는 필터를 더 구비한 레이저 장치.
  10. 출력 미러와, 광 반사 미러와, 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되고 레이저 이득을 축적하는 이득 매질을 구비하며, 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러와 상기 이득 매질에 의한 레이저 발진에 따른 주기적인 레이저 펄스의 열로 형성된 레이저 펄스 트레인을 발생시키는 레이저 장치의 제어 방법에 있어서,
    상기 레이저 펄스 트레인 발생전의 제 1 휴지 기간에 상기 레이저 발진을 ON하는 단계와,
    상기 레이저 펄스 발생전의 제 2 휴지 기간에 상기 레이저 발진을 OFF하는 단계
    를 구비한 레이저 장치의 제어 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 레이저 펄스만을 커팅하는 단계를 더 구비한 레이저 장치의 제어 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 레이저 펄스만을 커팅하는 상기 단계는 상기 레이저 펄스만을 광학 변조기에 의해 커팅하는 단계를 구비한 레이저 장치의 제어 방법.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간은 상기 레이저 펄스 트레인의 주기에서 상기 레이저 펄스의 폭을 뺀 시간과 거의 동등한 레이저 장치의 제어 방법.
  14. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간은 상기 레이저 펄스 트레인의 주기에서 상기 레이저 펄스의 폭을 뺀 시간보다 작은 레이저 장치의 제어 방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간에 의해 상기 레이저 펄스의 강도가 제어되는 레이저 장치의 제어 방법.
  16. 제 10 항에 있어서,
    상기 레이저 발진에 의한 기본파 레이저로부터 고조파 레이저를 발생시키는 단계를 더 구비한 레이저 장치의 제어 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 고조파 레이저와 상기 기본파 레이저를 분리하는 단계를 더 구비한 레이저 장치의 제어 방법.
  18. 레이저 펄스의 열로 형성된 레이저 펄스 트레인을 발생하는 레이저 장치를 구비한, 워크를 가공하는 레이저 가공기에 있어서,
    상기 레이저 장치는
    출력 미러와,
    광 반사 미러와,
    상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되고, 레이저 이득을 축적하는 이득 매질과,
    상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되고, 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러와 상기 이득 매질에 의한 레이저 발진을 ON/OFF시키는 Q 스위치와,
    상기 레이저 발진에 의한 기본파 레이저가 조사되어 고조파 레이저를 발생하는 비선형 광학 결정
    을 구비하되,
    상기 레이저 펄스 트레인 발생전의 제 1 휴지 기간에 상기 Q 스위치에 의해상기 레이저 발진을 ON하고,
    상기 레이저 펄스 발생전의 제 2 휴지 기간에 상기 Q 스위치에 의해 상기 레이저 발진을 OFF하는
    레이저 가공기.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 비선형 광학 결정은 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되는 레이저 가공기.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 레이저 펄스의 출력 경로에 배치되는 고조파 커팅기를 더 구비한 레이저 가공기.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 고조파 커팅기는 광학 변조기인 레이저 가공기.
  22. 제 18 항에 있어서,
    상기 비선형 광학 결정은 상기 출력 미러에 대하여 상기 광 반사 미러와 반대측에 배치되는 레이저 가공기.
  23. 제 18 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간은 상기 레이저 펄스 트레인의 주기에서 상기 레이저 펄스의 폭을 뺀 시간과 거의 동등한 레이저 가공기.
  24. 제 18 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간은 상기 레이저 펄스 트레인의 주기에서 상기 레이저 펄스의 폭을 뺀 시간보다 작은 레이저 가공기.
  25. 제 24 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 시간에 의해 상기 레이저 펄스의 강도를 제어하는 레이저 가공기.
  26. 제 18 항에 있어서,
    상기 비선형 광학 결정이 발생하는 상기 고조파 레이저와 상기 기본파 레이저를 분리하는 필터를 더 구비한 레이저 가공기.
  27. 제 18 항에 있어서,
    상기 워크는 프린트 기판인 레이저 가공기.
  28. 출력 미러와, 광 반사 미러와, 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러 사이에 배치되고 레이저 이득을 축적하는 이득 매질을 구비하며, 상기 출력 미러와 상기 광 반사 미러와 상기 이득 매질에 의한 레이저 발진에 따른 주기적인 레이저 펄스의 열로 형성된 레이저 펄스 트레인을 발생하는 레이저 장치를 갖는 레이저 가공기를 이용한, 워크의 가공 방법에 있어서,
    상기 레이저 펄스 트레인 발생전의 제 1 휴지 기간에 상기 레이저 발진을 ON하는 단계와,
    상기 레이저 펄스 발생전의 제 2 휴지 기간에 상기 레이저 발진을 OFF하는 단계
    를 구비한 워크의 가공 방법.
  29. 제 28 항에 있어서,
    상기 레이저 펄스만을 커팅하는 단계를 더 구비한 워크의 가공 방법.
  30. 제 29 항에 있어서,
    상기 레이저 펄스만을 커팅하는 상기 단계는 상기 레이저 펄스만을 광학 변조기에 의해 커팅하는 단계를 구비한 워크의 가공 방법.
  31. 제 28 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간은 상기 레이저 펄스 트레인의 주기에서 상기 레이저 펄스의 폭을 뺀 시간과 거의 동등한 워크의 가공 방법.
  32. 제 28 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 기간은 상기 레이저 펄스 트레인의 주기에서 상기 레이저 펄스의 폭을 뺀 시간보다 작은 워크의 가공 방법.
  33. 제 32 항에 있어서,
    상기 제 2 휴지 시간에 의해 상기 레이저 펄스의 강도가 제어되는 워크의 가공 방법.
  34. 제 28 항에 있어서,
    상기 레이저 발진에 의한 기본파 레이저로부터 고조파 레이저를 발생시키는 단계를 더 구비한 워크의 가공 방법.
  35. 제 34 항에 있어서,
    상기 고조파 레이저와 상기 기본파 레이저를 분리하는 단계를 더 구비한 워크의 가공 방법.
  36. 제 28 항에 있어서,
    상기 워크는 프린트 기판인 워크의 가공 방법.
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