JP6008689B2 - レーザ光源装置およびレーザ光源装置を用いたレーザ・プロジェクタ - Google Patents
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Description
ーザ・プロジェクタは、下記記載の構成を採用する。
[各実施形態の特徴]
第1の実施形態の特徴は、可飽和吸収体を含むレーザ素子と、波長変換素子と反射素子、および一つまたは二つの検出素子を備えたレーザ光源装置である。また、第2の実施形態の特徴は、第1の実施形態のレーザ光源装置を用いたMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)ミラー方式のレーザ・プロジェクタである。
第1の実施形態のレーザ光源装置の構成を図1を用いて説明する。図1において、レーザ光源装置1は、レーザ素子10と、波長変換素子(以下、SHG素子と略す)20と、反射素子であるFBG(Fiber Bragg Grating)型の反射素子(以下、FBG素子と略す)30と、検出手段としての検出素子(以下、PDと略す)40と、制御手段としての制御回路50とを含んでいる。
して外部に出射される。
次に、公知技術ではあるが、第1の実施形態で用いられるレーザ素子10の内部の概略構成を図2を用いて説明する。レーザ素子10は、半導体結晶層によって構成され、ゲイン領域となるLD11と可飽和吸収体部からなるSA12を有している。このLD11とSA12の共通の面には、カソード電極10aが形成され、LD11とSA12の共通電極となって、前述したように0Vに接続されている。一方、LD11側の対向する面には、LD電極11aが形成され、前述したように、駆動電流Idが供給される。また、SA12側の対向する面には、SA電極12aが形成され、前述したように、バイアス電圧Vbが印加される。
10dの近傍には、SA層12bが形成されている。さらに、SA12の図面上左側の端面は、基本波の反射ミラーとして作用するHRコート10eが形成され、LD11の図面上右側の端面には、基本波のARコート10fが形成されている。
次に、レーザ素子10の概略動作を図2を用いて説明する。図2において、レーザ素子10を基本波モードで発振させる場合、カソード電極10aを0V(GND)に接続し、SA電極12aに0Vのバイアス電圧Vbを印加し、LD電極11aに所定の駆動電流Idを供給する。この基本波モードでは、LD11は、駆動電流Idによって所定の波長の基本波LS1を発振するが、SA電極12aは0Vであるので、SA12は常に透明体として機能する。これにより、基本波LS1は、活性層10dで連続波として発生してHRコート10eを反射し、ARコート10fの面から外部に出射される。
次に、レーザ光源装置1の基本波と変換波の切り換え動作の詳細を図1と図3を用いて説明する。なお、図3はレーザ光のスペクトルを模式的に示しており、横軸がレーザ光の波長であり、縦軸がレーザ光の出射レベル(光強度)である。
れるので、レーザ光源装置1からの出射光LS5の出射レベルは、レーザ素子10の出射特性にだけ依存した値となる。
ことで、SHG素子20とFBG素子30の温度特性などを補正して、環境に影響されない安定したレーザ光を出射することが出来る。
次に、基本波LS1の光強度検出によって、レーザ素子10の出射レベルの変動(劣化)を補正する動作を図4のフローチャートとルックアップテーブルを用いて説明する。なお、レーザ光源装置1の構成は、図1を参照する。
射するレーザ光源装置を提供できる。なお、基本波検出のタイミング動作は、後述する第2の実施形態で説明する。
次に、変換波LS4の光強度検出によって、SHG素子20、FBG素子30の温度特性などによる変動を補正する動作を図5のフローチャートを用いて説明する。なお、レーザ光源装置1の構成は、図1を参照する。
次に、第1の実施形態の変形例であるレーザ光源装置の構成を図6を用いて説明する。この変形例は、レーザ光を検出する検出素子が複数、具体的には2個によって構成されることを特徴とし、二つの検出素子とその周辺の構成以外は、前述した第1の実施形態の構成(図1参照)と同様であるので、図6では、二つの検出素子とその周辺の構成のみについて図示し、図1と同一要素には、同一番号を付して説明する。
検出素子がPD42、PD43の2つ必要であるが、それぞれに装着されるフィルタ42a、43aによって、基本波LS1と変換波LS4を独立して個別に検出するので、より高精度な検出が可能となり、出射光LS5の出射レベルをきめ細かく高精度に補正するレーザ光源装置を提供できる。
次に、第2の実施形態として、本発明の第1の実施形態のレーザ光源装置を用いたレーザ・プロジェクタの概略構成を図7を用いて説明する。図7において、レーザ・プロジェクタ100は、第1の実施形態のレーザ光源装置1、レーザ光源装置1を制御する制御手段としての制御部110、レーザ光源装置1からの出射光をコリメータレンズ120に伝達する光ファイバ130、コリメータレンズ120によって集光されたレーザ光121を水平または垂直に走査する走査手段140、走査手段140を駆動する走査ドライバ150、走査手段140に走査されるレーザ光121の走査領域の周囲を遮光する遮蔽部160から構成される。
次に、第2の実施形態のレーザ・プロジェクタ100による走査によって投影されるレーザ光の軌跡を図8を用いて説明する。なお、レーザ・プロジェクタ100の構成は図7を参照する。
ット122は、矢印H1方向に走査して、点線及び実線で示した軌跡Lを形成する。ここで、投影スポット122の軌跡Lは、遮蔽部160の周辺部162を走査しているとき(点線で示す軌跡)は遮光され、遮蔽部160の開口部161を走査しているとき(実線で示す軌跡)は、スクリーン170の表示領域171(図7参照)に到達し画像を表示する。
次に、第2の実施形態に係わるレーザ・プロジェクタのレーザ光の変換波と基本波の検
出タイミングを図9を用いて説明する。なお、レーザ・プロジェクタ100は、R光、G光、B光のレーザ光をそれぞれ出射する3台のレーザ光源装置1を用いるが、ここでは、説明を分かりやすくするために、1台のレーザ光源装置を例として説明する。
当する。
10 レーザ素子
11 LD(レーザダイオード)
12 SA(可飽和吸収体)
20 SHG素子(波長変換素子)
30 FBG素子(FBG型反射素子)
40、42、43 PD(検出素子)
41 ミラー
42a、43a フィルタ
50 制御回路
51 発振切換回路
52 駆動電流制御回路
53 ルックアップテーブル
100 レーザ・プロジェクタ
110 制御部
120 コリメータレンズ
121 レーザ光
122 投影スポット
130 光ファイバ
140 走査手段
141 MEMSミラー
150 走査ドライバ
160 遮蔽部
161 開口部
162 周辺部
170 スクリーン
171 表示領域
LS1 基本波(基本波レーザ光)
LS2 パルス波
LS3 反射波
LS4 変換波
LS5 出射光
LS6 検出光
Id 駆動電流
Vb バイアス電圧
C1 制御信号
C2 走査制御信号
K0、K1、K2 検出信号
Claims (3)
- レーザ素子と、
前記レーザ素子からのレーザ光の波長を変換して出射する波長変換素子と、
を有するレーザ光源装置において、
前記レーザ素子の駆動を制御する制御手段と、
前記波長変換素子からの出射光を検出する検出手段と、を備え、
前記制御手段は、前記レーザ素子の発振状態を切り換える発振状態切り換え手段を含み、
前記発振状態切り換え手段は、前記レーザ素子の発振状態をパルス発振と連続発振に切り換えるものであり、
前記検出手段は、ひとつの検出素子によって、前記レーザ素子がパルス発振状態である場合には、前記レーザ光の変換波を検出し、前記レーザ素子が連続発振状態である場合には、前記レーザ光の基本波を検出し、
前記制御手段は、前記検出手段からの前記基本波の検出情報および前記変換波の検出情報に基づいて、前記レーザ素子の駆動を制御する、ことを特徴とするレーザ光源装置。 - 請求項1に記載のレーザ光源装置と、
前記レーザ光源装置を制御する制御手段と、
前記レーザ光源装置からのレーザ光を水平または垂直に走査する走査手段と、
前記レーザ光のうち、前記走査手段による走査角の最大走査角に対する比が、所定の割合以上となる光を遮蔽する遮蔽部と、を備え、
前記制御手段は、水平走査期間に前記レーザ光源装置からの前記変換波を検出し、
垂直走査期間に前記レーザ光源装置からの基本波を検出するように制御することを特徴とするレーザ・プロジェクタ。 - 前記制御手段は、前記水平走査期間の中で、前記レーザ光が前記遮蔽部で遮蔽されている間に前記変換波の検出を行うことを特徴とする請求項2に記載のレーザ・プロジェクタ。
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