KR20010052205A - 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조 방법 - Google Patents
알킬(아미노)디알콕시실란의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010052205A KR20010052205A KR1020007010035A KR20007010035A KR20010052205A KR 20010052205 A KR20010052205 A KR 20010052205A KR 1020007010035 A KR1020007010035 A KR 1020007010035A KR 20007010035 A KR20007010035 A KR 20007010035A KR 20010052205 A KR20010052205 A KR 20010052205A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- alkyl
- amino
- scheme
- reaction
- dialkoxysilane
- Prior art date
Links
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 title claims abstract description 34
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 title claims abstract description 26
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 25
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- -1 amino compound Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000004791 alkyl magnesium halides Chemical class 0.000 claims 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims 1
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 7
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 abstract description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 5
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 abstract description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 abstract description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- IUYHWZFSGMZEOG-UHFFFAOYSA-M magnesium;propane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[CH-]C IUYHWZFSGMZEOG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- WUPWVMRJOBHGBD-UHFFFAOYSA-N n-[dimethoxy(methyl)silyl]-2-methylpropan-2-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)NC(C)(C)C WUPWVMRJOBHGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 5
- PJSFQEVODHCOOF-UHFFFAOYSA-N (2-ethylpiperidin-1-yl)-dimethoxy-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCC1CCCCN1[Si](CCC(F)(F)F)(OC)OC PJSFQEVODHCOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 4
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- ZFMKNHGCDMUEBA-UHFFFAOYSA-N n-[dimethoxy(2-methylpropyl)silyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)[Si](OC)(OC)CC(C)C ZFMKNHGCDMUEBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UEHLUKOPEIIXIA-UHFFFAOYSA-N [Mg].COCl Chemical compound [Mg].COCl UEHLUKOPEIIXIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- WXHREKGXRCMNOT-UHFFFAOYSA-M magnesium;piperidin-1-ide;chloride Chemical class [Cl-].[Mg+]N1CCCCC1 WXHREKGXRCMNOT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJGDXIPDIZVYOI-UHFFFAOYSA-N n-[diethoxy(ethyl)silyl]cyclohexanamine Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)NC1CCCCC1 MJGDXIPDIZVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- QBBKKFZGCDJDQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylpiperidine Chemical compound CCC1CCCCN1 QBBKKFZGCDJDQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASLMFBDSQIUVGF-UHFFFAOYSA-N CCC1CCCCN1[Si](CCC(C)C)(OC)OC Chemical compound CCC1CCCCN1[Si](CCC(C)C)(OC)OC ASLMFBDSQIUVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLIZLCWOMHODSG-UHFFFAOYSA-N CCCCC(CC)CN[Si](NCC(CC)CCCC)(OC)OC Chemical compound CCCCC(CC)CN[Si](NCC(CC)CCCC)(OC)OC MLIZLCWOMHODSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N diethoxysilane Chemical compound CCO[SiH2]OCC ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KRWGJUKYJDCPAP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-piperidin-1-ylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)N1CCCCC1 KRWGJUKYJDCPAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- FQRPQDOBQMCGOR-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-ethylpiperidin-1-ide;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC1CCCC[N-]1 FQRPQDOBQMCGOR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UJYYOEDHUAQIQJ-UHFFFAOYSA-M magnesium;diethylazanide;chloride Chemical class [Cl-].CCN([Mg+])CC UJYYOEDHUAQIQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- CFLWDUMQORSZJS-UHFFFAOYSA-N n-[ethyl(dimethoxy)silyl]cyclohexanamine Chemical compound CC[Si](OC)(OC)NC1CCCCC1 CFLWDUMQORSZJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000011950 stereoregulating catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1888—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of other Si-linkages, e.g. Si-N
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
본 발명의 알킬(아미노)디알콕시실란은 역첨가 공정에서 화학양론적 양의 알콕시실란과 알킬아미노마그네슘 클로라이드를 무수적으로 반응시켜 제조된다. 바람직하게는, 상기 알킬아미노마그네슘 클로라이드는 테트라하이드로퓨란과 같은 적합한 비양성자성 용매하에서 그리그나드 시약(RMX)과 알킬 아민을 반응시켜 인 시튜(in situ)로 제조된다. 상기 "알킬" 치환체는 알킬, 아릴알킬, 또는 아릴일 수 있다. 상기 반응은 촉매없이 25℃ 내지 75℃의 온도 범위에서 수행되며, 비양성자성 용매는 상기 공정에 재사용이 가능한 형태로 회수된다.
Description
알킬(아미노)디알콕시실란은 비교적 순수한 폼으로 얻을 수 있다고 알려져왔다. 그러나, 공지의 방법은 원하지 않는 부산물, 부수적인 분리 현상 및 활성 문제를 최소화하기 위하여 반응 조건(parameter)이 매우 조심스럽게 조절되어야만 하는 까다로운 합성과정을 포함한다. 예를 들면, 미국특허 제4,491,669호는 (1) 알콕시 또는 아릴옥시 그룹을 갖는 하나 또는 그 이상의 염소(chlorine) 그룹을 치환하기 위해 클로로실란을 알콜화하고, 2배 몰량의 아미노 화합물과의 반응으로 잔유 염소를 치환하는 단계; (2) 알콜과의 반응으로 다수의 아민이 치환된 실란 화합물의 하나 또는 그 이상의 아미노 그룹을 치환하는 단계로 이루어지는 다른 접근 방법을 공개하였다. 상기 반응은 하기의 단순화된 수학식으로 표시될 수 있다.
상기 R은 수소, 탄소수를 최대 8개까지 갖는 단체인(short chain) 알킬기 또는 알케닐기, 또는 페닐 등의 아릴기이고;
상기 R" 및 R"'는 수소, 단체인 알킬기 또는 아릴기이고, 적어도 하나는 수소가 아니며;
상기 m 및 n은 정수이다.
상기 화합물들은 또한 알콕시클로로실란(alkoxychlorosilane) 화합물과 알킬 아민의 반응에 의해 제조되었다. 알킬트리알콕시실란(alkyltrialkoxysilane) 및 알킬디클로로알콕시실란(alkyldichloroalkoxysilane)을 형성하지 않고 알킬클로로디알콕시실란을 형성(반응식 1a 참조)하기 어렵기 때문에 알킬트리클로로실란 (alkyltrichlorosilane)을 2배의 알코올과 반응시킨 다음 산업 공정에서 그다지 관심을 갖지 않는 아민으로 잔유하던 염소를 치환한다(반응식 1b 참조). 상기 반응 혼합물은 다음 반응(반응식 1b)의 효율에 영향을 준다. 유사하게 알킬트리(아미노)실란의 선택적인 알코올화(반응식 2 참조)는 반응 결과물의 혼합 및 부수적인 분리 문제를 유발한다.
일본 특개평 제9-40714 및 7-192793호에서는 디에틸 에테르 용매 상에서 그리그나드 시약(Grignard reagent)을 사용한 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조 공정이 공개되었다. 그러나, 상기 출원의 방법으로는 어떠한 결과물도 보고된 바가 없는 실정이다. 상기의 알려진 제조공정을 반복하여 수행하였을 때 피페리디노마그네슘 클로라이드 염(piperidinomagnesium chloride salt) 및 디에틸아미노마그네슘 클로라이드 염(diethylaminomagnesium chloride salt)(두 물질은 일본 참고 문헌의 실시예 11에 기술된 방법과 동일하게 준비되었다)은 모두 디에틸에테르(diethyl ether)에 불용성이다. 디에틸 에테르 상의 피페리디노마그네슘 클로라이드의 슬러리는 메틸트리메톡시실란과 반응하여 예상된 메틸(피페리디노)디메톡시실란 (methyl(piperidino)dimethoxysilane)을 생성하였고, 상기 반응은 매우 느리게 진행되었다. 원생성물(crude product)의 75% 수율은 정제된 생성물 약 65%의 분리 수율(추산)과 동일하다. 상기 공지 기술 반복의 결과 상기 일본 특허에 기술된 공정은 반응시 장시간이 소요되며, 상대적으로 낮은 수율 때문에 대규모의 산업 공정에 경제적으로 실질적이지 않다는 결론을 내릴 수 있다.
공지 기술의 전술된 한계성에 근거하여, 본 발명의 중요한 목적은 알킬알콕시실란에서 고순도의 알킬(아미노)디알콕시실란을 얻을 수 있으며, 공지의 경우보다 월등한 수율로 얻을 수 있는 개선된 단일 단계를 제공하는 것이다. 본 발명의 내용에 있어서, "알킬"은 알킬, 아릴알킬 및 아릴 치환체를 의미한다.
본 발명의 다른 목적은 원하지 않는 부산물, 및 동시 분리 및 활성 문제를 최소화 함으로써 실질적이고, 경제적으로 시판 가능한 제품을 얻는 개선된 공정을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 25∼75℃의 온도 범위에서 알킬(아미노)디알콕시실란을 제조하는 개선된 방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 부산물이 무해하며, 경제적으로 처리될 수 있는 알칸 및 마그네슘 알콕시클로라이드 염인 개선된 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 용매가 공정에 재사용될 수 있는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 α-올레핀 중합 촉매 반응시 스테레오조절자로 사용하기 위한 특정한 알킬(아미노)디알콕시실란 화합물의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 알킬(또는 아릴 또는 아릴알킬기)기, 하나의 아미노 치환기 및 실리콘 원자에 직접 결합된 두개의 알콕시 그룹을 갖는 알킬(아미노)디알콕시실란의 개선된 제조 공정에 관한 것이다.
본 발명의 바람직한 알킬(아미노)디알콕시실란 화합물은 유용성을 가지는데, 그중에서도 특히 α-올레핀(α-olefin) 호모폴리머(homopolymers) 및 코폴리머(copolymers) 등의 매우 기하학적으로 일정한(stereoregular) 폴리올레핀을 생산하기 위한 α-올레핀의 중합 반응시 높은 활성의 스테레오조절 (stereoregulating) 촉매, 또는 촉매 성분으로서 매우 유용하다.
본 발명의 개선된 공정으로 제조된 하기 화학식 1로 표시되는 알킬(아미노)디알콕시실란은 알킬아미노마그네슘 클로라이드와 알킬알콕시실란의 역부가 반응에 의해 제조되고, 본 발명의 바람직한 실시예에서는 염이 완전히 용해되는 비양성자성 용매(aprotic solvent) 상에서 아민과 그리그나드 시약(Grignard Reagent; RMgX)을 반응시켜 인 시튜(in situ)로 제조되었다.
상기의 바람직한 반응의 개요는 하기 반응식 3 및 4로 나타내었다.
상기 R 및 R"는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 측쇄의 알킬기, 아릴 알킬기, 또는 아릴 라디칼이고;
상기 R1및 R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬 라디칼이고, 이들 중 하나는 수소일 수 있으며;
상기 R3는 바람직하게는 메틸기를 가진 탄소수 1 내지 6의 알킬 라디칼이고;
상기 X는 Cl, Br, 또는 I로 부터 선택된 할로겐 원자이고, 바람직하게는 Cl이다.
전술된 내용에 근거하여, 본 발명은 아릴 및 아릴옥시(아미노)실란을 포함하며, 참고적으로 다른 특별한 설명이 없는 한 본 명세서에서는 "알킬(아미노)디알콕시실란"은 아릴 및 알킬, 및 (아미노)아릴- 및 (아미노)알콕시실란 화합물인 것으로 기술되었다.
본 발명의 공정이 무수 상태에서 수행되는 것은 매우 중요한데, 이는 물이 존재할 경우 그리그나드 시약의 활성이 떨어지며, 바람직하지 않은 부가 반응 및 최종 반응 결과물의 순도를 떨어뜨리는 부산물의 형성이 유도될 수 있기 때문이다. 이에 따라 반응관(Reaction vessels)을 건조 질소로 채운 후 진공상태로 만들었고, 또한, 반응 기간 동안 대기 중 수분을 완전히 제거하기 위하여 질소가 반응관 내로 삽입된다. 상기 반응 물질들은 반응관 내로 넣기 전에 수분 제거 처리를 한 다음 사용된다.
상기에 지적된 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에서, 본 발명의 공정은 직접 알킬(아미노)디알콕시실란을 제조한다. 본 발명의 상기 측면에서, 교반된 비양성자성 용매에 완전히 용해된 알킬아미노마그네슘 클로라이드를 포함하는 관에 알콕시실란을 천천히 첨가한다. 개선된 공정 및 시약이 완전히 녹은 용매 사용의 측면에서 상기 알콕시 그룹 중 하나만이 실란을 대체하고, 따라서 원하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 최대 수율을 제공한다.
순도와 수율을 최대화하고, 반응 시간을 최소화하기 위하여는, 알킬아미노마그네슘 클로라이드가 완전히 녹은 비양성자성 용매를 사용하여야 한다. 이러한 관점에서, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)이 적합하며, 특히 바람직함을 발견하였다. 또한, 디에틸에테르(에틸 에테르)는 대부분의 알킬아미노마그네슘클로라이드 화합물이 디에틸 에테르에 잘 녹지 않기 때문에 용매로서 부적합하다는 것을 확인하였다. 테트라하이드로퓨란에 부가하여 적합한 비양성자성 용매를 찾기 위해 여러 용매에 그리그나드 시약을 처리하고 즉시 또는 12시간 정도 후에 용매내 침전을 관찰하는 일반적인 실험을 수행하였다. 반응 결과물의 부피가 증가됨에 따라 용매 내의 반응 물질의 잔여 시간도 증가하기 때문에 시판을 위한 본 발명에 따른 공정의 실제 수행시 알킬아미노마그네슘 클로라이드가 완전히 영구적으로 용해되는 것이 특히 중요하다.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 α-올레핀 중합시 스테레오가 일정한 폴리올레핀을 제조하기 위한 촉매로 사용되기 위해서는 단지 하나의 아미노 성분이 존재하는 것이 바람직하다. 촉매 또는 촉매 성분의 용도로 판매가 가능한 반응 결과물은 95% 이상, 바람직하게는 99% 이상의 순도를 가져야 한다.
실시예 1
메틸(t-부틸아미노)디메톡시실란의 제조
온도계, 부가적 깔대기(funnel) 및 콘덴서를 교반장치용 1 ℓ, 4-넥트 (necked) 플라스크에 설치하였고, 상기 플라스크에 1 몰의 이소프로필마그네슘 클로라이드가 용해된 테트라하이드로퓨란 500 ㎖를 넣었다. 또 다른 깔대기에 교반된 이소프로필마그네슘 클로라이드에 천천히 첨가된 테트라-뷰틸아민 1.02 몰(75 g)을 채웠다.
상기 반응은 약한 발열 반응이었고 프로판 가스가 방출되었다. 상기 첨가 반응이 끝난 후(약 2시간 후), 가스를 완전히 방출하기 위해 상기 내용물을 30분간 환류하였다. 상기 반응 혼합물을 상온으로 냉각시켰고, 냉각된 반응 혼합물에 메틸트리메톡시실란 1 몰(135 g)을 한 시간에 걸쳐 상기 교반된 반응 혼합물에 첨가하였다. 상기 반응은 약한 발열반응이었고 반응의 완료를 위해 내용물을 포트 온도 75℃에서 30분간 환류시켰다. 질소 분위기 하에서 메틸(t-뷰틸아미노)디메톡시실란을 여과하여 마그네슘메톡시 클로라이드를 분리하였고, 잔여 메틸(t-뷰틸아미노)디메톡시실란을 얻기 위해 상기 염 케이크를 디에틸에테르(2 × 200 ㎖)로 세척하였다. 상기 용매는 포트 온도 90℃에서 증류시켰고, 잔여물은 감압의 조건 하에 증류되어 무색의 오일인 메틸(t-뷰틸아미노)디메톡시실란(순도 〉98%; 끓는점 107℃/135 mm) 138 g을 얻었다. 상기 수율은 이론적으로는 82%이었다.
실시예 2
3,3,3-트리플루오로프로필(2-에틸피페리디노)디메톡시실란의 제조
실시예 1과 동일한 방법에 따라, 플라스크에 1 몰(218 gm) 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란을 채운 다음, 1몰 이소프로필마그네슘클로라이드가 용해된 테트라하이드로퓨란 500 ㎖에 2-에틸피페리딘 1.05몰(120 g)을 첨가하여 인 시튜로 제조된 염인 1 몰 2-에틸피페르디닐마그네슘 클로라이드를 첨가하였다. 상기 반응은 약한 발열반응으로 한 시간에 걸친 반응 후 약 45℃까지 온도가 상승하였다. 상기 반응 혼합물을 한 시간 동안 포트 온도 70℃에서 환류한 후 상온으로 냉각시켰다. 질소 분위기하에서 3,3,3-트리플루오로프로필(2-에틸피페리디노)디메톡시실란을 여과하여 마그네슘메톡시 클로라이드를 분리하였고, 잔여 반응 결과물을 얻기 위하여 상기 필터 케이크를 에테르(2×200 ㎖)로 씻은 다음 용매를 포트 온도 100℃에서 증발시켜 제거하였다. 잔여물은 진공의 조건 하에서 증류시켜 무색의 오일인 3,3,3-트리플루오로프로필(2-에틸피페리디노)디메톡시실란(순도 〉98%; 끓는점 70℃/0.1 mm) 263 g을 얻었다. 최종 수율은 이론적으로는 88%이었다.
실시예 3
이소부틸(디에틸아미노)디메톡시실란의 제조
실시예 1과 동일한 방법에 따라, 건조 질소의 조건 하에서 1몰 이소프로필마그네슘 클로라이드가 용해된 테트라하이드로퓨란 500 ㎖로 플라스크를 채우고 교반하였다. 이후 한 시간 이상 동안 1.05몰 디에틸아민 (76.8 g)을 첨가하였다. 상기 반응 혼합물에 디에틸아민을 첨가하는 동안 포트 온도는 40∼45℃로 유지되었다. 첨가가 완료된 후 가스를 완전히 배출하기 위하여 상기 반응 혼합물을 30분 동안 환류하였다. 상기 반응 혼합물을 포트 온도 50℃로 냉각시킨 후 약 한시간 동안 1몰의 이소부틸트리메톡시실란(178 g)을 첨가하였고, 반응의 종결을 위해 포트 온도 75℃에서 4 시간 동안 상기 반응 혼합물을 환류하였다. 질소 분위기하에서 이소부틸(디에틸아미노)디메톡시실란을 여과하여 마그네슘 메톡시클로라이드 염을 분리하였고, 잔여 이소부틸(디에틸아미노)디메톡시실란을 얻기 위하여 상기 염 케이크를 에테르(2×200 ㎖)로 세척하였다. 가벼운 부분(fraction)을 제거하기 위하여 결합된 여과물을 포트 온도 100℃에서 증류하였고, 잔여물은 감압의 조건에서 증류되어 무색 오일(순도 〉98%, 끓는점 104℃/30 mm)의 이소부틸(디에틸아미노)디메톡시실란 153 g을 얻었다. 총 수율은 이론적으로 79%이었다.
실시예 4
에틸(시클로헥실아미노)디에톡시실란의 제조
실시예 1과 동일한 방법에 따라, 깔대기와 동일한 압력으로 조절된 500 ㎖, 4-넥트(necked) 플라스크에 0.5몰 이소프로필마그네슘 클로라이드가 용해된 테트라하이드로퓨란 250 ㎖을 넣었다. 0.55몰 시클로헥실아민(52 g)을 압력이 동일한 깔대기를 통해 30분 동안 첨가하였다. 가스의 완전한 배출을 위해 상기 내용물을 15분간 환류하였으며, 그 후 압력이 동일한 깔대기를 통해 0.5몰 에틸트리에톡시실란(96 g)을 첨가하였고, 상기 내용물을 포트 온도 70℃에서 두 시간 동안 환류하였다. 질소 분위기하에서 에틸(시클로헥실아미노)디에톡시실란을 여과하여 마그네슘 에톡시클로라이드를 분리하였고, 용매는 회전 증류기(rotary evaporation)를 사용하여 제거하였고, 잔유물을 진공 상태에서 증발시켜 무색의 오일인 에틸(시클로헥실아미노)디에톡시실란(순도 〉98%, 끓는점 68℃/0.5 mm) 102 g을 얻었다. 최종 수율은 이론적으로 83%이었다.
상기 실시예에 의해 기술된 공정에 의해 제조된 알킬(아미노)알콕시실란은 하기 표 1에 나타내었다. 실시예 1 내지 4에 따른 각 화합물의 결과적인 순도 및 수율 또한 하기 표 1에 나타내었다.
화합물 | 1H-NMR-L(CDCl3) | 13C-NMR L(CDCl3) | 형태 | 순도 | 끓는점 | 수율 (분리) |
(3-메틸부틸)(2-에틸피페리디노)-디메톡시실란 | 3.5(s,3H), 3.1-2.8 (m,3H), 1.7-1.2(m, 11H), 0.9-0.8(m,9 H) , 0.6(m,2H) | 51.9, 50.3, 38.7, 32.1, 30.9, 29.5, 27.8, 23.4, 22.4, 20.0, 11.7, 8.4 | 무색 액체 | 97% | 96℃/ 0.8mm | 83% |
(3,3,3-트리플루오로프로필)(2-트리메틸-실릴피페리디노)디메톡시실란 | 3.5(s,6H), 3.1-2.9 (m,1H), 2.8-2.6(m, 2H), 2.2-2.0(m,2H), 1.8-1.35(m,5H), 1.32 -1.15(m,1H), 0.9-0.7 (m,2H), 0.1(s, 9H) | 127.7(쿼텟 J=275Hz), 50.1, 42.6, 42.2, 28.0(쿼텟 J=30 Hz), 27.8, 23.4, 3.0, 0.2, -4.2 | 무색 액체 | 99% | 91℃/ 0.8mm | 85% |
(3,3,3-트리플루오로프로필)(2-트리메틸-실릴피롤리디노)디메톡시실란 | 3.50(s,3H), 3.45(s, 3H), 3.25-3.10(m,1H ), 2.90-2.80(m,1H), 2.80-2.65(m,1H), 2.20-1.50(m,6H), 0.85-0.75(m,2H),-0.05 (s,9H) | 129.6(쿼텟 J=275), 50.1(링 동위체에 의한 2 피크), 49(링 동위체에 의한 2피크), 47.6, 46.7, 28.2(쿼텟J=30),28.0, 27.5, 2.9, -2.7 | 무색 액체 | 98% | 71℃/ 0.3mm | 91% |
n-프로필(시스-2,6-디메틸(피페리디노)디메톡시실란 | 3.4(s,6H), 3.3(m,2H) , 1.8-1.2(m,8H), 1.1 (d, 6H), 0.9(t,3H), 0.5(m,2H) | 50.1, 44.1, 31.6, 24.6, 18.0, 16.8, 14.5, 13.3 | 무색 액체 | 96% | 69℃/ 0.4mm | 86% |
(3,3,3-트리플루오로프로필)(데카하이드로퀴놀리노)디메톡시실란 | 3.5(s,6H), 3.1-2.7 (m, 3H), 2.2-1.9(m, 3H), 1.8-1.1(m,12H) , 0.9-0.7(m,2H) | 127.9(쿼텟 J=275Hz), 52.6, 50.4, 38.2, 36.9, 29.0, 28.5, 27.8(쿼텟 J=30Hz), 26.4, 26.3, 20.5, 3.1 | 무색 액체 | 98% | 105℃/ 1.0mm | 82% |
(3,3,3-트리플루오로프로필)(비스(2-에틸헥실아미노)디메톡시실란 | 3.5(s,6H), 2.6-2.4 (dd, 4H), 2.2-2.0(m, 2H),1.6-1.1(m,18H), 1.0-0.7(m,14H) | 128(쿼텟 J=275Hz), 50.4, 48.5, 39.4, 36.9, 30.8, 29.1, 28.2(쿼텟J=30 Hz), 23.2, 14.2, 10.3, 3.2 | 무색 액체 | 95% | 200℃/ 1.4mm | 83% |
(3,3,3-트리플루오로프로필)(2-에틸피페리디노)디메톡시실란 | 3.49(s,6H), 3.08-2.97(m,1H), 2.93-2.89(m,2H), 2.2-2.0 (m,2H), 1.76-1.43(m, 7H), 1.43-1.25(m,1H) , 0.87(t,3H), 0.82-0.75(m,2H) | 127.2(쿼텟 J=276Hz), 52.2, 38.8, 29.9, 28.8(쿼텟J=30Hz), 28, 23.5, 20.1, 11.6, 3.59 | 무색 액체 | 98% | 70℃/ 0.1mm | 88% |
(2-메틸프로필)(디에틸아미노)디메톡시실란 | 3.47(s,6H), 2.87(q, 4H), 1.88-1.74(m,1H) , 1.03(t,6H), 0.96 (d,6H), 0.59(d,2H) | 49.9, 28.7, 26.1, 24.2, 21.2, 15.5 | 무색 액체 | 98% | 104℃/ 30mm | 79% |
메틸(터트-부틸아미노)디메톡시실란 | 3.45(s,6H), 1.17(s, 9H), 1.05(s,1H), 0.05(s,3H) | 49.2, 48.1, 33.0, -5.0 | 무색 액체 | 98.5% | 107℃/ 135mm | 82% |
에틸(시클로헥실아미노)디메톡시실란 | 2.76-2.65(m,1H), 1.90-1.50(m,5H), 1.37-0.79(m,6H), 1.18(t,4H),0.96(t, 3H), 0.54(q,2H) | 57.4, 49.2, 38.3, 24.6, 25.4, 18.0, 6.5, 3.7 | 무색 액체 | 98.2% | 68℃/ 0.5mm | 83% |
본 발명의 개선된 공정에 의해 제조된 알킬(아미노)디알콕시실란 화합물은 중합 촉매 성분으로서 추가적 정제과정 없이 바로 사용될 수 있다. 특히, 디메톡시 라디칼을 포함하는 화합물은 스테레오가 일정한 α-올레핀 중합체를 제조하는데 뛰어난 효과를 나타낸다.
본 발명의 공정에 의한 순도 98% 이상의 알킬(아미노)디알콕시실란의 상업적 생산시 경제적 및 공정적 측면에서의 이점은 당업 분야에서 매우 분명하다. 경제 및 환경의 모든 관점에서 본 발명의 방법이 모두 중요한 점은 본 발명의 공정을 사용함에 의해 얻어지는 제조물의 수율이 상대적으로 높으며, 사용된 비양성자성 용매를 본 발명의 공정에 재사용이 가능한 형태로 다시 얻을 수 있다는 점이다.
본 발명은 그의 요지 또는 필수 요소를 벗어나지 않는 다른 특정 유형으로 구체화될 수 있고, 또한 본 발명의 범주를 결정하는 데 있어서의 기준은 본 명세서와 연관된 하기 청구항에 의해 결정되어야 한다.
Claims (10)
- 무수의 비양성자성 용매(aprotic solvent)상에서 대략 화학양론적 양의 R"MgX 및 R1R2NH를 혼합시키는 단계;하기 반응식 3에 따라 상기 알킬마그네슘 할라이드 및 아미노 화합물을 반응시키고 상기 반응을 완료하기 위해 제한된 시간 내에 알킬트리알콕시실란을 첨가하는 단계;증류를 통해 용매를 제거시키는 단계; 및순도 95% 이상의 하기 화학식 1로 표시되는 알킬(아미노)디알콕시실란을 회수하는 단계로 구성되는 하기 반응식 4에 따라 하기 화학식 1로 표시되는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.화학식 1반응식 3반응식 4상기 R은 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 측쇄의 알킬기, 아릴알킬기, 또는 아릴 라디칼이고;상기 R1및 R2는 탄소수 4 내지 6의 알킬 라디칼이고, 이들 중 하나는 수소일 수 있으며;상기 R3는 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 측쇄의 알킬기, 아릴알킬기, 또는 아릴 라디칼이고;상기 R"는 알킬기이며;상기 X는 염소, 브롬, 또는 요오드이다.
- 제1항에 있어서, 상기 비양성자성 용매는 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)인 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 반응식 3 및 4는 25℃ 내지 75℃의 온도 범위 내에서 수행되는 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 X는 Cl인 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 알킬(아미노)디알콕시실란의 수율은 반응식 4에서의 이론적 수율에 적어도 79%인 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 R3는 메틸 및 에틸 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 아미노 성분은 피페리디노 그룹인 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 비양성자성 용매는 상기 공정에 재사용하기 위해 회수되는 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 반응식 3의 반응물은 가스의 형태인 R"H 부산물을 제거하기 위해 환류되는 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 반응식 3은 질소 분위기하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조방법.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US1999/000947 WO2000042049A1 (en) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | Preparation of alkyl (amino) dialkoxysilanes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010052205A true KR20010052205A (ko) | 2001-06-25 |
KR100371312B1 KR100371312B1 (ko) | 2003-02-07 |
Family
ID=22272005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2000-7010035A KR100371312B1 (ko) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조 방법 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1062220B1 (ko) |
JP (1) | JP3569680B2 (ko) |
KR (1) | KR100371312B1 (ko) |
CN (1) | CN1125074C (ko) |
CA (1) | CA2322648C (ko) |
DE (1) | DE69930733T2 (ko) |
WO (1) | WO2000042049A1 (ko) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4768589B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2011-09-07 | 東邦チタニウム株式会社 | アミノアルコキシシラン化合物の合成方法 |
US9200167B2 (en) * | 2012-01-27 | 2015-12-01 | Air Products And Chemicals, Inc. | Alkoxyaminosilane compounds and applications thereof |
US9677178B2 (en) | 2012-01-27 | 2017-06-13 | Versum Materials Us, Llc | Alkoxyaminosilane compounds and applications thereof |
US10421766B2 (en) | 2015-02-13 | 2019-09-24 | Versum Materials Us, Llc | Bisaminoalkoxysilane compounds and methods for using same to deposit silicon-containing films |
KR102151405B1 (ko) | 2019-12-12 | 2020-09-03 | 이명직 | 가변형 골프 연습 장치 |
KR102224710B1 (ko) | 2020-06-15 | 2021-03-05 | 이명직 | 확장 가능한 가변형 골프 연습 장치 및 이를 제어하는 방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4491669A (en) * | 1980-11-12 | 1985-01-01 | Petrarch Systems Inc. | Mixed alkoxyaminosilanes, methods of making same and vulcanizing silicons prepared therefrom |
CA1336596C (en) * | 1989-07-26 | 1995-08-08 | Constantine A. Stewart | Organosilane compounds |
US5102842A (en) * | 1990-08-23 | 1992-04-07 | Himont Incorporated | Catalyst for the polymerization of alpha-olefins containing trifluoropropyl substituted silane compounds |
JPH0940714A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-10 | Ube Ind Ltd | アミノアルコキシシラン |
US6130180A (en) * | 1997-12-23 | 2000-10-10 | Montell North America Inc. | Catalyst for the polymerization of alpha-olefins containing substituted amino silane compounds |
-
1999
- 1999-01-13 KR KR10-2000-7010035A patent/KR100371312B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-01-13 CN CN99803702A patent/CN1125074C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-01-13 WO PCT/US1999/000947 patent/WO2000042049A1/en active IP Right Grant
- 1999-01-13 EP EP99902311A patent/EP1062220B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-01-13 JP JP2000593616A patent/JP3569680B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-01-13 CA CA002322648A patent/CA2322648C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-01-13 DE DE69930733T patent/DE69930733T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1125074C (zh) | 2003-10-22 |
EP1062220A1 (en) | 2000-12-27 |
CN1292794A (zh) | 2001-04-25 |
KR100371312B1 (ko) | 2003-02-07 |
DE69930733T2 (de) | 2006-08-31 |
JP2002534527A (ja) | 2002-10-15 |
DE69930733D1 (de) | 2006-05-18 |
WO2000042049A1 (en) | 2000-07-20 |
EP1062220A4 (en) | 2002-04-24 |
JP3569680B2 (ja) | 2004-09-22 |
CA2322648A1 (en) | 2000-07-20 |
CA2322648C (en) | 2004-11-30 |
EP1062220B1 (en) | 2006-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2804089B2 (ja) | ジオルガノジアルコキシシランの選択的製造方法 | |
KR100582878B1 (ko) | 비스(tert-부틸아미노)실란의 제조 및 정제 방법 | |
JP2009510005A (ja) | 分子内プリンス反応および該反応に適する触媒 | |
JP2024504731A (ja) | 有機スズ化合物を調製するための方法 | |
KR100371312B1 (ko) | 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조 방법 | |
KR20070084166A (ko) | 실릴알콕시메틸 할라이드의 제조방법 | |
US6114558A (en) | Preparation of alkyl(amino)dialkoxysilanes | |
US9073952B1 (en) | Synthesis method for carbosilanes | |
EP0488759B1 (en) | Thexyl (C1-C4)alkyl dialkoxy silanes; methods of preparation; and uses thereof | |
JP2007051071A (ja) | トリオルガノクロロシランの製造方法 | |
JP6665437B2 (ja) | 第3級アルキルシラン及び第3級アルキルアルコキシシランの製造方法 | |
JP7517244B2 (ja) | ヒドロキシアルキルシラン化合物の製造方法 | |
JPH0977762A (ja) | 2−アリロキシメチル−1,4−ジオキサンの製造方法 | |
JP2799619B2 (ja) | N,0―ビス(t―ブチルジメチルシリル)トリフルオロアセトアミドの製造方法 | |
JP2620462B2 (ja) | ジシクロアルキルジアルコキシシランの製造方法 | |
JP4891536B2 (ja) | アミノアリール基含有有機ケイ素化合物の製造方法、並びに、その中間体の製造方法 | |
EP1211256B1 (en) | Method for purifying fluoroaryl metal compound | |
JP2004175784A (ja) | 有機シリル基を有するノルボルネン誘導体の製造方法 | |
KR820001182B1 (ko) | 3급포스핀 옥사이드류를 환원하여 3급포스핀을 제조하는 방법 | |
EP0234412A1 (en) | 1,2-dichloro-1,2,2-trimethyl-1-phenyldisilane and method for producing the same | |
JPH0678346B2 (ja) | アルキルハロジシラン調製方法 | |
CN111171070A (zh) | 含碘的硅化合物的制造方法 | |
JPH09183755A (ja) | 2−オキソシクロペンタンカルボン酸エステルの製造方法 | |
JP5544862B2 (ja) | ストロンチウムアミド化合物の製造方法 | |
JP3588995B2 (ja) | ビスアミノシランの製法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130111 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140109 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |