KR20010015545A

KR20010015545A - 이축배향적층 폴리에스테르 필름

Info

Publication number: KR20010015545A
Application number: KR1020007000044A
Authority: KR
Inventors: 고바야시이에야스; 오사와도시후미
Original assignee: 야스이 쇼사꾸; 데이진 가부시키가이샤
Priority date: 1998-05-06
Filing date: 1999-04-30
Publication date: 2001-02-26
Also published as: EP0995593A4; DE69927458T2; EP0995593B2; WO1999056952A1; TW561097B; DE69927458D1; EP0995593A1; US6338890B1; EP0995593B1; KR100519577B1

Abstract

평균입경이 상이한 2 종의 불활성 미립자를 함유하면서 또한 표면조도가 4 ∼ 15 nm 인 폴리에스테르층과 불활성 미립자를 함유할 수 있는 표면조도 0.5 ∼ 3.5 nm 인 제 2 폴리에스테르층으로 이루어지는 이축배향적층 폴리에스테르 필름. 상기 제 1 폴리에스테르층과 제 2 폴리에스테르층의 사이의 마찰계수는 0.5 이하로 작고, 롤의 감긴모양이 양호하다. 제 2 폴리에스테르층의 위에 부가로 피복층을 형성할 수 있다. 제 2 폴리에스테르층의 위에 혹은 피복층이 있을 때는 그 위에 자성층을 형성하여 자기기록매체로서 사용할 수 있다.

Description

이축배향적층 폴리에스테르 필름 {BIAXIALLY ORIENTATED POLYESTER FILM LAMINATE}

폴리에틸렌 테레프탈레이트필름으로 대표되는 이축배향 폴리에스테르 필름은, 물리적, 화학적 특성이 우수하기 때문에, 넓은 용도, 특히 자기기록매체의 베이스 필름으로서 이용되고 있다.

근래, 자기기록매체에 있어서는, 고밀도화, 고용량화가 진행되고 있고, 그것에 수반하여 베이스 필름의 평탄화, 및 두께의 박막화가 요망되고 있다. 특히, 최근, 증착 테이프에 필적하는 성능을 갖는 중층메탈방식의 테이프가 개발되어, 베이스 필름에 대한 평탄화의 요구가 높아지고 있다. 그러나, 우수한 전자변환특성을 유지하기 위하여, 베이스 필름의 표면을 평탄화하면, 미끄럼성 또는 에어스퀴이즈성이 악화되고, 롤 형상으로 감을 경우에 주름이 생기거나, 돌기가 생기기 쉽고, 감는것이 대단히 어려워진다. 또한 필름가공공정에서도, 미끄럼성이 악화하면, 접촉하는 금속롤과의 마찰이 증가되어, 필름에 주름이 생기거나 자성층을 제대로 도포하지 못하게 되거나, 또 캘린더가 제대로 이루어지지 않게 되기도 한다.

폴리에스테르 필름의 미끄럼성의 개량에는, ① 원료 폴리머중에, 그 제조과정에서 촉매 잔사에서 불활성 입자를 석출시키는 방법 및, ② 불활성 입자를 첨가하는 방법 등에 의하여, 필름 표면에 미세 요철을 부여하는 방법이 사용되고 있다. 이들의 필름중의 입자는, 그 크기가 클수록, 또 그 함유량이 많을수록 미끄럼성의 개량이 큰 것이 일반적이다.

한편, 상술한바와 같이, 전자변환특성의 향상면에서, 베이스 필름의 표면은 가능하면 평탄한 것이 요구되고 있다. 베이스 필름의 표면 조도가 거칠면, 자기기록매체로 가공할 경우, 베이스 필름의 표면 요철이 자성층 형성후에도 자성층면에 돌출하여, 전자변환특성을 악화시킨다. 이 경우, 베이스 필름 중의 입자가 클수록, 또 그 함유량이 많을수록, 표면의 조도가 거칠어지고, 전자변환특성은 악화한다.

이 미끄럼성의 개량과 전자변환특성의 향상이라는 상반된 특성을 양립시키는 수단으로서, 적층필름으로 함으로써, 자성층을 도포하는 면은 평탄하게 하여 전자변환특성을 개선하고, 반대면은 조면화 (粗面化) 하여 미끄럼성을 향상시키는 수단이 알려져 있다.

일본 공개특허공보 평 3-90329 호에는, 열가소성수지 (A) 와 불활성입자 (A,B) 를 주성분으로 하는 필름을 공압출에 의하여 열가소성수지 (B) 를 주성분으로 하는 필름의 적어도 편면에 0.01 ㎛ 이상의 두께로 적층한 이축배향 열가소성 수지필름이 개시되어 있다. 이 경우, 상기 불활성입자 (A) 의 평균입경이 상기 열가소성 수지 (A) 의 필름층 두께의 0.1 ∼ 10 배이며, 상기 불활성 입자 (B) 의 평균입경이 불활성입자 (A) 의 평균입경보다도 작은 1 차 입자가 방향성을 갖지 못하고 다수 연결된 응집입자이다.

한편, 상기와 같은 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 이용하여, 자성층을 도포하는 면의 반대면 (이하, 「조면(粗面)」이라고 함) 을 조화 (粗化) 한 경우에도, 베이스층이 얇기 때문에, 조면측에 첨가하는 활제의 양, 종류, 입경에 따라서는, 자성층을 도포하는 면까지 영향을 미치고, 평탄한 면에 곡절 등을 일으켜, 그 평탄성을 악화시킨다는 문제가 생긴다.

특히, 최근의 고밀도 작기기록매체에서는, 자성층의 더 한층의 평탄화가 요구되어, 선압이 높은 메탈 캘린더(calender)가 사용되게 되고, 조면측에서 평탄면의 돌기의 돌출에 의한 표면성에 대한 악영향이 커지고 있다.

조면측으로부터의 평탄면의 돌기의 돌출을 적게 하려면, 조면측에 함유되는 활제의 입경을 작게하는 방법, 혹은 입경이 큰것을 조금 함유시키는 방법이 제안되고 있다. 그러나, 전자의 경우에는, 형성되는 돌기의 높이가 낮기 때문에, 충분한 에어스퀴이즈성을 얻지 못하고, 또 후자의 경우에는, 형성되는 돌기빈도가 적기 때문에, 충분한 필름의 미끄럼성을 얻을 수 없다. 또, 필름을 롤 형상으로 감을때, 전자의 경우는 세로 주름이 생기고, 또 후자의 경우는, 돌기가 발생하여 충분한 제품 수율을 얻을 수 없다는 문제가 발생하고 있다.

또 한편, 전자변환특성 향상을 위하여, 자성층면측의 필름 표면의 더 한층의 평탄화가 요구되게 되어, 실질적으로 활제를 포함하지 않는 평탄층이 제안되고 있으나, 이 경우, 테이프 가공시의 평탄면측의 반송성이 불량해지고 그 공정에서 주름이 생겨 제품 수율이 크게 저하한다는 새로운 문제가 발생하고 있다.

본 발명은 이축배향적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 상세하게는, 필름의 감김성, 핸들링성이 우수하면서 또한 고밀도 자기기록매체, 바람직하게는 디지탈형 자기기록매체, 특히 초고밀도 자기기록매체로서의 베이스 필름으로서 이용했을 때 우수한 전자변환특성을 부여할 수 있는 이축배향적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.

도 1 은 필름을 롤 형상으로 감을 때의 돌기의 발생상황을 모식적으로 나타내는 설명도이다.

도 2 는 필름 세로 주름의 발생상황과 이 비율을 구하는 모식적 설명도이다.

본 발명의 목적은 필름의 감김성, 핸들링성이 우수하면서 또한 고밀도 자기기록매체, 바람직하게는 디지털형 자기기록매체, 특히 초고밀도자기기록매체로서의 베이스필름으로서 이용할 때 우수한 전자변환특성을 부여할 수 있는 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.

본 발명의 또다른 목적 및 이점은 이하의 설명으로 명확해진다.

본 발명에 의하면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은,

(A) 불활성 미립자를 함유하는 제 1 방향족 폴리에스테르로 이루어지고, 표면 조도가 4 ∼ 15 nm 인 제 1 폴리에스테르층 [여기서, 불활성 미립자는 평균입경 0.2 ∼ 0.4 ㎛ 인 제 1 불활성 미립자와 평균입경이 제 1 불활성 미립자의 평균입경보다도 0.1 ∼ 0.3 ㎛ 작은 제 2 불활성 미립자로 이루어지고, 제 1 불활성 미립자 및 제 2 불활성 미립자의 함유량은 제 1 방향족 폴리에스테르에 대하여 각각 0.05 ∼ 0.4 중량 ％ 및 0.1 ∼ 0.8 중량 ％ 이다], 및

(B) 불활성 미립자를 함유할 수도 있는 제 2 방향족 폴리에스테르로 이루어지고, 표면 조도가 0.5 ∼ 3.5 nm 인 제 2 폴리에스테르층 [여기서, 불활성 미립자는 평균입경 0.05 ∼ 0.2 ㎛ 인 제 3 불활성 미립자로 이루어지고, 제 3 불활성 미립자의 함유량은 제 2 방향족 폴리에스테르에 대하여 0 ∼ 0.1 중량 ％ 이다] 로 이루어지고; 및,

(C) 제 1 폴리에스테르층과 제 2 폴리에스테르층 사이의 마찰계수가 0.5 이하인 것을 특징으로 하는 이축배향적층 폴리에스테르 필름에 의하여 달성된다.

본 발명은 필름을 이축배향적층 폴리에스테르 필름으로 하고, 조면측 및 평탄면측에 함유시키는 활제의 입경, 함유량을 특정하면서 또한 그 조면측 및 평탄면측의 표면 조도, 또 필름의 마찰계수를 특정함으로써, 상기 고밀도 자기기록매체용으로서 우수한 전자변환특성을 가지면서 또한 베이스 필름으로서의 감김성, 반송성도 우수한 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 얻는 것이다.

본 발명에서의 제 1 폴리에스테르층의 제 1 방향족 폴리에스테르 및 제 2 폴리에스테르층의 제 2 방향족 폴리에스테르로서는, 방향족 디카르복실산을 주요 산성분으로 하고, 지방족 글리코올을 주요 글리코올 성분으로 하는 폴리에스테르가 바람직하다. 이 폴리에스테르는 실질적으로 선형상이며, 필름 형성성, 특히 용융성형에 의한 필름 형성성을 갖는다. 방향족 디카르복실산으로서는, 예컨대, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌 디카르복실산, 이소프탈산, 디페녹시에탄디카르복실산, 디페닐디카르복실산, 디페틸에테르 디카르복실산, 디페닐술폰 디카르복실산, 디페닐케톤 디카르복실산, 안스라센 디카르복실산 등을 들 수 있다. 또, 지방족 글리코올로서는, 예컨대 에틸렌글리코올, 트리메틸렌글리코올, 테트라메틸렌글리코올, 펜타메틸렌글리코올, 헥사메틸렌글리코올, 데카메틸렌글리코올 등의 탄소수 2 ∼ 10 인 폴리메틸렌글리코올 혹은 1,4-시클로헥산디메탄올 등의 지환족 디올 등을 들 수 있다.

본 발명에 있어서 상기 제 1 및 제 2 방향족 폴리에스테르로서는, 알킬렌테레프탈레이트 및/또는 알킬렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트를 주요 구성성분으로 하는 것이 바람직하다. 이들의 폴리에스테르 중에서도, 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트는 물론이며, 예컨대 전 디카르복실산 성분의 80 몰 ％ 이상이 테레프탈산 및/또는 2,6-나프탈렌 디카르복실산이며, 전 글리코올 성분의 80 몰 ％ 이상이 에틸렌글리코올인 공중합체가 바람직하다. 그때, 전 산성분의 20 몰 ％ 이하는, 테레프탈산 및/또는 2,6-나프탈렌 디카르복실산 이외의 상기 방향족 디카르복실산일 수 있고, 또 예를 들면, 아디핀산, 세바신산 등의 지방족 디카르복실산; 시클로헥산-1,4-디카르복실산 등의 지환족 디카르복실산 등일 수 있다. 또, 전 글리코올 성분의 20 몰 ％ 이하는, 에틸렌 글리코올 이외의 상기 글리코올일 수 있고, 또 예컨대 하이드로퀴논, 레졸신, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판 등의 방향족 디올; 1,4-디히드록시디메틸벤젠 등의 방향환을 갖는 지방족 디올; 폴리에틸렌글리코올, 폴리테트라메틸글리코올 등의 폴리알킬렌글리코올 (폴리옥시알킬렌글리코올) 등일 수도 있다.

또 본 발명에서의 상기 폴리에스테르에는, 예컨대 히드록시벤조산 등의 방향족 옥시산, ω-히드록시카플론산 등의 지방족 옥시산 등의 옥시카르복실산에 유래하는 성분을, 디카르복실산 성분 및 옥시카르복실산 성분의 총량에 대하여, 20 몰 ％ 이하로 공중합 혹은 결합하는 것도 포함된다.

또한, 본 발명에서의 폴리에스테르로는, 실질적으로 선형상인 범위의 양, 예컨대 전 산성분에 대하여 2 몰 ％ 이하의 양으로, 3 관능 이상의 폴리카르복실산 또는 폴리히드록시화합물, 예컨대 트리멜리트산, 펜타에리트리톨 등을 공중합한 것도 포함된다.

상기 폴리에스테르는, 그 자체 공지된 것이며, 또 그 자체 공지된 방법으로 제조할 수 있다. 상기 포리에스테르로서는, 0-클로로페놀 중의 용액으로서 35 ℃ 에서 측정하여 구한 고유점도가 0.4 ∼ 0.9 인 것이 바람직하고, 0.5 ∼ 0.7 인 것이 보다 바람직하고, 0.55 ∼ 0.65 인 것이 특히 바람직하다.

본 발명에서의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 제 1 폴리에스테르층과 제 2 폴리에스테르층의 2 층으로 구성된다. 2 층의 폴리에스테르는, 같은 재질이라도 다른 재질이라도 상관없으나, 같은 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.

본 발명에서의 이축배향적층 폴리에스테르 필름에서는, ① 제 1 폴리에스테르층에는, 평균 입경이 상이한 2 종의 제 1 및 제 2 불활성 미립자를 함유한다. 제 1 불활성 미립자의 평균입경 (D₁) 이 0.2 ∼ 0.4 ㎛ 이며, 제 1 불활성 미립자의 평균입경 (D₁) 과 제 2 불활성 미립자의 평균입경 (D₂) 의 차 (D₁-D₂) 가 0.1 ∼ 0.3 ㎛, 제 1 불활성 미립자의 함유량이 0.1 ∼ 0.4 중량 ％, 제 2 불활성 미립자의 함유량이 0.1 ∼ 0.8 중량 ％ 이다.

단성분의 활제계에서는, 입경이 큰 입자를 사용한 경우, 전자변환특성의 관점에서, 함유량을 적게할 필요가 있고, 그때문에 필름의 마찰계수가 높아져 롤 형상으로 감았을 때, 돌기가 발생하여 잘 감기지 않는다. 또 입경이 작은 입자를 사용할 경우, 함유량을 많이 할 수 있으나, 충분한 에어스퀴이즈성을 얻을 수 없고, 그때문에 필름을 롤 형상을 감았을 때, 세로 주름이 발생하여 제대로 감기지 않는다. 그리고 돌기와 세로 주름의 발생관계로부터, 단성분계에서는 입경과 함유량의 적성 영역을 취할 수 없다.

제 1 불활성 미립자의 평균입경 (D₁) 은, 0.2 ㎛ ∼ 0.4 ㎛, 바람직하게는 0.25 ㎛ 이상, 0.35 ㎛ 미만, 특히 바람직하게는 0.3 ㎛ 정도가 바람직하다. 평균입경이 0.2 미만에서는, 에어스퀴이즈성이 부족하고, 세로 주름이 발생하여 필름이 제대로 감기지 않는다. 한편, 0.4 ㎛ 를 초과하면, 최신 초고밀도자기기록매체용 베이스필름으로 공급할 경우, 전자변환특성의 관점에서, 함유량을 그다지 많게 할 수 없고, 필름의 마찰계수가 높아져 돌기가 발생하여, 제대로 감을 수 없다. 또, 제 1 불활성 미립자의 함유량은, 0.05 ∼ 0.4 중량 ％, 바람직하게는 0.1 ∼ 0.4 중량 ％, 보다 바람직하게는 0.15 ∼ 0.3 중량 ％ 이다. 0.05 중량 ％ 미만에서는, 필름의 마찰계수가 높고, 롤 형상으로 감았을 때, 돌기가 발생하여, 필름을 제대로 감을 수 없다. 한편, 0.4 중량 ％ 이상에서는, 만족할 수 있는 전자변환특성을 얻을 수 없다.

또, 제 2 불활성 미립자의 평균입경 (D₂) 은, 제 1 불활성 미립자의 평균입경 (D₁) 보다 0.1 ∼ 0.3 ㎛, 바람직하게는 0.1 ∼ 0.2 ㎛ 작은 범위에 있다. 그 차 (D₁- D₂) 가 0.1 ㎛ 미만에서는, 단성분계에 가까워지고, 단성분계와 동일한 문제가 발생한다. 한편, 그 차가 0.3 ㎛ 보다 크면, 제 2 불활성 미립자의 평균입경이 지나치게 작아지고, 지면의 돌기형성이 지나치게 작아, 필름의 마찰계수가 높아지고, 그때문에 롤 형상으로 감았을 때, 돌기가 발생하고, 제대로 감을 수 없다. 또, 제 2 불활성 미립자의 함유량은, 0.1 ∼ 0.8 중량 ％, 바람직하게는 0.15 ∼ 0.5 중량 ％, 보다 바람직하게는 0.2 ∼ 0.3 중량 ％ 이다. 이 함유량이 0.1 중량 ％ 미만에서는, 필름의 마찰계수가 높아지고, 롤 형상으로 감았을 때 돌기가 발생하여, 제대로 감을 수 없다. 한편, 0.8 중량 ％ 보다 많으면, 표면 조도가 거칠어져, 만족할 만한 전자변환특성을 얻을 수 없다.

본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, ② 제 2 폴리에스테르층에는, 불활성 미립자가 함유되어 있어도 함유되어 있지 않아도 좋다. 즉, 함유될 수 있는 불활성 미립자 (제 3 불활성 미립자) 의 평균입경은 0.05 ∼ 0.2 ㎛, 바람직하게는 0.1 ∼ 0.2 ㎛ 이다. 그 함유량은 0 ∼ 0.1 중량 ％ 이며, 함유하는 경우에는, 0.005 ∼ 0.1 중량 ％, 보다 바람직하게는 0.01 ∼ 0.05 중량 ％ 로 하는 것이 바람직하다. 평균입경이 0.05 ㎛ 미만, 또는 함유량이 0.005 중량 ％ 미만에서는, 평탄면측의 표면이 지나치게 평탄해지고, 금속롤과의 마찰계수가 높아져, 필름이 제대로 주행하지 못하며, 주름이 생기거나, 자성층을 제대로 도포할 수 없게 되거나, 또는 제대로 캘린더를 행할 수 없게된다. 따라서, 이 경우에는 후술하듯이, 그 위에 피복층을 형성하여 사용하는 것이 바람직하다. 한편, 평균입경이 0.2 ㎛ 를 초과하거나, 함유량이 0.1 중량 ％ 보다 많으면, 만족할만한 전자변환특성을 얻을 수 없다.

본 발명에서의 이축배향적층 폴리에스테르의 노출 표면의 표면조도는, 제 1 폴리에스테르층의 중심면 평균 조도 (WRaA) 가 4 ∼ 15 nm, 바람직하게는 6 ∼ 15 nm, 더욱 바람직하게는 6 ∼ 14 nm, 보다 바람직하게는 8 ∼ 13 nm 이며, 10 점 평균조도 (WRzA) 가 100 ∼ 200 nm, 바람직하게는 100 ∼ 160 nm, 보다 바람직하게는 100 ∼ 140 nm 이다. 이 WRaA 가 4 nm 미만이면, 필름을 롤 형상으로 감았을 때, 필름의 미끄럼이 악화되고, 돌기가 발생하여 제대로 감을 수 없다. 한편, WRaA 가 15 nm 보다 크면, 캘린더 공정에서 평활면으로의 돌기의 돌출이나, 큐어링 공정에서 자성면측으로의 돌기의 전사가 있고, 자성층면이 거칠어져, 전자변환특성이 악화한다. 또 WRzA 가 100 nm 미만이면, 에어스퀴이즈성이 악화되고, 세로주름이 발생하여 제대로 감을 수 없게되기 쉽다. 한편, WRzA 가 200 nm 보다 크면, 캘린더 공정에서 평활면에 대한 돌기의 돌출이나 큐어링 공정에서 자성층면으로의 돌기의 전사가 있고, 자성층면이 거칠어져, 전자변환특성이 악화한다.

이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 또 제 2 폴리에스테르층의 노출표면의 중심면 평균조도 (WRaB) 가 0.5 ∼ 3.5 nm, 바람직하게는 1 ∼ 3.5 nm, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 3.0 nm, 보다 바람직하게는 1 ∼ 2.5 nm 이며, 10 점 평균조도 (WRzB) 가 10 ∼ 80 nm, 바람직하게는 20 ∼ 80 nm, 보다 바람직하게는 10 ∼ 60 nm, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 50 nm 이다. 이 WRaB 가 0.5 nm 미만, 또는 WRzB 가 10 nm 미만이면, 필름 막형성시, 필름 표면에 흠이 생기기 쉽고, 발생한 절삭분이 필름 표면에 부착하여, 테이프화할 때, 드롭아웃(drop out) 증가의 원인이 되기 쉽다. 한편, WRaB 가 3.5 nm 보다 클 때, 또는 WRzB 가 80 nm 보다 커지면, 자성층을 도포했을 때, 자성층의 면이 거칠어져, 전자변환특성이 악화한다.

또, 본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름에서는, 제 1 폴리에스테르층의 전 돌기수가, 바람직하게는 1 ×10⁴개/㎟ 이상, 보다 바람직하게는 1.4 ×10⁴개/㎟ 이상이며, 누적 돌기수 30 개/㎟ 에서의 돌기높이가, 바람직하게는 20 ∼ 50 nm, 보다 바람직하게는 30 ∼ 50 nm 이다. 제 2 폴리에스테르층에 대해서는, 누적돌기수 30 개/㎟ 에서의 돌기 높이가, 바람직하게는 20 nm 이하, 보다 바람직하게는 15 nm 이하이다.

제 1 폴리에스테르층 (조면측) 의 전 돌기수가 1 ×10⁴개/㎟ 미만에서는, 필름 마찰계수가 높아지고, 롤 형상으로 감았을 때, 돌기가 발생하여 제대로 감기지 않게 되기 쉽다. 또한 제 1 폴리에스테르층의 누적돌기수 30 개/㎟ 에서의 돌기 높이가 20 nm 미만이면, 충분한 에어스퀴이즈성이 얻어지기 어렵고, 필름을 롤 형상으로 감았을 때, 세로 주름이 발생하여 제대로 감을 수 없게 되기 쉽다.

한편, 50 nm 을 초과하면, 고돌기가 많아지고, 테이프 가공공정에서의 평탄면측 표면에 대한 돌출 및, 또는 전사에 의하여, 자성층면에 거칠어져, 만족할만한 전자변환특성을 얻기 어렵다.

또, 본 발명의 이축배향층 폴리에스테르 필름에 있어서, 제 1 폴리에스테르층의 두께 (t₁) 와 제 1 폴리에스테르층에 포함되는 제 1 및 제 2 불활성 미립자의 평균입경 đ 의 비가, 바람직하게는 1 ∼ 25, 보다 바람직하게는 10 ∼ 25, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 20, 특히 바람직하게는 10 ∼ 15 인 것이 바람직하다. 이 비가 1 미만인 경우, 입자가 탈락하기 쉬워지고, 베이스가 절삭되기 쉬어진다는 폐해가 생기고, 한편 25 를 초과하면, 제 1 폴리에스테르층과 반대측의 제 2 폴리에스테르층 표면에 제 1 폴리에스테르층 중의 입자의 영향을 받아, 제 2 폴리에스테르층의 표면이 거칠어져 전자변환특성을 악화시키기 때문에 바람직하지 못하다.

또, 제 2 폴리에스테르층의 누적 돌기수 30 개/㎟ 에 있어서의 돌기 높이가 20 nm 을 초과하면, 자성층면의 표면이 거칠어지고, 만족할 수 있는 전자변환특성을 얻기 어려워진다.

제 2 폴리에스테르층의 표면 조도 및 누적돌기수 등의 조건은, 제 1 폴리에스테르층의 두께, 제 1 폴리에스테르층에 함유되는 제 1 및 제 2 불활성 미립자의 크기, 양을 조정하고, 또 제 2 폴리에스테르층의 두께, 제 2 폴리에스테르층에 함유시키는 제 3 불활성 미립자의 크기, 양을 조정하는 것으로, 나아가서는 연신조건을 조정하는 것으로 달성할 수 있다.

다음에, 본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 제 1 폴리에스테르층과 제 2 폴리에스테르층간의 마찰계수가 0.5 이하, 바람직하게는 0.45 이하, 보다 바람직하게는 0.4 이하이다. 이 마찰계수가 0.5 를 초과하면, 롤 형상으로 필름을 감았을 때, 돌기가 생겨, 제대로 감을 수 없다.

본 발명에서의 제 1 폴리에스테르층 및 제 2 폴리에스테르층에 함유되는 제 1, 제 2 및 제 3 불활성 미립자로서는, 입경비 (장경/단경) 가 1.0 ∼ 1.2 의 범위에 있는 구상 불활성입자가 바람직하다. 이 구상 불활성입자로서는, 구상 실리카 등의 무기입자 및 구상 내열성 고분자입자가 바람직하다. 예컨대, 가교폴리스티렌 수지입자, 가교실리콘 수지입자, 가교아크릴 수지입자, 가교스티렌-아크릴 수지입자, 가교폴리에스테르입자, 폴리이미드입자, 멜라민 수지입자 등의 내열성 고분자입자를 들 수 있다. 내열성 고분자입자 중에서, 가교폴리스티렌 수지입자 및 가교실리콘 수지입자를 이용하면, 본 발명의 효과보다 한층 현저해지기 때문에 바람직하다.

또, 제 1 폴리에스테르층에는, 상기 제 1 및 제 2 불활성 미립자중 어느 평균입경보다도 더욱 평균입경이 작은 제 4 불활성 미립자를 함유시키는 것이 바람직하다. 여기서, 제 4 불활성 미립자로서는 평균입경 0.1 ㎛ 이하, 나아가서는 0.04 ∼ 0.1 ㎛ 인 불활성입자, 예컨대 구상 실리카, 내열성 고분자입자 등을 바람직하게 들 수 있다. 제 4 불활성 미립자를 함유시킴으로써, 필름 마찰계수의 저하, 또 막형성 공정 혹은 테이프화 공정에서의 패스롤과의 접촉에 의하여 필름에 흠집이 생기는 것이 적어진다. 제 4 불활성 미립자의 함유량으로서는 0.005 ∼ 1.0 중량 ％, 바람직하게는 0.01 ∼ 0.8 중량 ％, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 0.5 중량 ％ 가 바람직하다.

본 발명에서의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 제 1 폴리에스테르층 및 제 2 폴리에스테르층의 표면과 금속에 대한 마찰계수가 각각 바람직하게는 0.4 이하, 보다 바람직하게는 0.35 이하, 더욱 바람직하게는 0.30 이하인 것이 좋다. 이 마찰계수가 0.4 를 초과하면, 테이프 가공공정시 금속롤과의 미끄럼성이 악화되는 경향이 있고, 필름이 금속롤에 부착되어 주름이 발생하거나, 제대로 자성층 혹은 BC 층을 도포하기 어려워지고, 또 캘린더 공정에서 제대로 캘린더가 행해지지 않기도 한다.

또, 제 1 폴리에스테르층의 금속롤과의 마찰계수 (μkA) 와 제 2 폴리에스테르층의 금속롤과의 마찰계수 (μkB) 와는 하기식

μkAμkB

의 관계인 것이 바람직하다. 제 1 폴리에스테르층의 마찰계수 (μkA) 를 제 2 폴리에스테르층의 마찰계수 (μkB) 보다 낮게하려고 하면, 제 1 폴리에스테르층의 표면을 거칠게 하거나 혹은 제 1 폴리에스테르층에 제 2 폴리에스테르층과 동일하게 불활성 미립자를 포함한 도포층을 형성할 필요가 있다. 그러나, 전자의 경우는 제 1 폴리에스테르층의 표면이 지나치게 거칠어지고, 캘린더 공정 혹은 큐어링 공정으로서 자성면측의 표면 조도가 거칠어져 전자변환특성이 악화된다. 또 후자의 경우 제 1 폴리에스테르층과 제 2 폴리에스테르층에 도포량이 형성되게 되어, 필름의 보관 혹은 수송시, 고온상태에 놓였을 경우, 블로킹되어 사용할 수 없게된다.

본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 제 2 폴리에스테르층에 수분산성 공중합 폴리에스테르수지와 평균입경이 0.01 ∼ 0.05 ㎛ 인 불활성 미립자를 주성분으로한 피복층을 형성할 수 있다.

수분산성 공중합 폴리에스테르수지로서는, 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 산성분이 40 ∼ 99 몰 ％ 인 2,6-나프탈렌디카르복실산, 0.1 ∼ 5 몰 ％ 인 술폰산염의 기를 갖는 방향족 디카르복실산 및 0 ∼ 55 몰 ％ 인 다른 방향족 디카르복실산으로 이루어지며, 글리코올 성분이 40 ∼ 100 몰 ％ 의 에틸렌글리코올 및 0 ∼ 66 몰 ％ 의 비스페놀 A 의 저급알킬렌옥사이드 부가물을 포함한 다른 글리코올 성분으로 이루어지는 수분산성 공중합 폴리에스테르 수지가 바람직하다.

또 불활성 미립자는 평균입경 0.01 ∼ 0.05 ㎛, 바람직하게는 0.01 ∼ 0.04 ㎛, 보다 바람직하게는 0.01 ∼ 0.03 ㎛ 인 것이 좋다. 평균입경이 0.01 ㎛ 미만이면, 입자가 지나치게 작아, 필름의 마찰계수를 작게할 수 없다. 또 평균입경이 0.05 ㎛ 를 초과하면, 입자가 지나치게 커져, 입자가 탈락하기 쉬워지고, 이것이 테이프화했을때 드롭아웃의 원인이 되어 바람직하지 못하다.

또한, 본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 세로 방향의 영율(Young's modulus)이 바람직하게는 500 ∼ 1,000 ㎏/㎟, 보다 바람직하게는 500 ∼ 900 ㎏/㎟, 특히 바람직하게는 500 ∼ 750 ㎏/㎟ 이다. 또 가로 방향의 영율이 바람직하게는 500 ∼ 1,400 ㎏/㎟, 보다 바람직하게는 600 ∼ 1,300 ㎏/㎟, 특히 바람직하게는 700 ∼ 1,250 ㎏/㎟ 이다. 세로 방향과 가로 방향의 영율의 합은 바람직하게는 1,300 ∼ 2,000 ㎏/㎟, 보다 바람직하게는 1,400 ∼ 1,800 ㎏/㎟ 이다.

세로 방향의 영율이 500 ㎏/㎟ 미만에서는, 자기 테이프의 세로방향의 강도가 약해지는 경향이 있고, 기록 ·재생시 세로방향으로 강한 힘이 가해지면, 파단되기 쉬워진다. 또 가로방향의 영율이 500 ㎏/㎟ 미만이면, 자기테이프의 가로방향의 강도가 약해지는 경향이 있고, 테이프와 자기헤드와의 접촉부가 약해져, 만족할만한 전자변환특성을 얻을 수 없게 된다. 한편, 세로방향의 영율이 1,000 ㎏/㎟ 을 초과하면, 가로방향의 강도가 저하하고, 테이프와 자기헤드와의 접촉부가 약해져 만족할만한 전자변환특성을 얻기 어렵게 된다. 또 가로방향의 영율이 1,400 ㎏/㎟ 를 초과하면, 세로방향의 강도가 저하하여 기록 ·재생시의 세로방향의 강한 힘이 가해지면, 파단되기 쉬워진다. 또한 세로방향과 가로방향의 영율의 합이 1,300 ㎏/㎟ 미만이면, 역시 테이프와 자기헤드와의 접촉부가 약해져 만족할만한 전자변환특성을 얻을 수 없게 된다. 한편, 이 합이 2,000 ㎏/㎟ 를 초과하면, 필름의 막형성 시, 연신배율이 높아져, 필름 파단이 발생하기 쉬워지고, 제품수율이 악화되기 쉬운 경향이 있다.

본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 헤리컬 방식의 자기기록매체용 테이프로서 공급할 경우에는, 테이프와 자기헤드와의 접촉 향상의 관점에서, 가로방향의 영율이 세로방향의 영율보다 높은 쪽이 바람직하다.

본 발명의 이축배향 폴리에스테르 필름을 헤리컬 방식 이외의 자기기록매체용 테이프로서 공급할 경우는, 세로 방향의 영율이 가로 방향의 영율보다 높은 것으로서 사용할 수 있다.

또한, 본 발명에서의 제 1 폴리에스테르층 및/또는 제 2 폴리에스테르층은, 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트로 이루어지며, 또한 바람직하게는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트로 이루어진다. 특히, 필름전체의 두께가 6 ㎛ 이상인 경우에는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 구성될 수 있으나, 6 ㎛ 미만이 되면, 영율을 더욱 높게할 수 있는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트가 바람직하다.

본 발명에서의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 전체의 두께가, 바람직하게는 2 ∼ 10 ㎛, 보다 바람직하게는 3 ∼ 7 ㎛, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 6 ㎛ 이다. 이 두께가 2 ㎛ 미만에서는, 필름의 두께가 얇기때문에, 필름 막형성시에 필름 파단이 다발하고, 또, 필름의 감김성이 불량해져, 양호한 필름롤을 얻기 어렵다. 또, 평탄층의 두께가 얇아지고, 조면측으로부터의 평탄면에 대한 표면성의 영향이 커져, 만족할만한 평탄면의 표면성을 얻기 어려워진다. 한편, 10 ㎛ 를 초과하면, 테이프의 두께가 두꺼워지고, 예컨대 카셋트에 넣는 테이프의 길이가 짧아져, 충분한 자기기록용량을 얻기 어렵다.

본 발명에서의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 종래부터 알려져 있는, 혹은 당업계에 축적되어 있는 방법으로 제조할 수 있다. 예컨대, 우선 미배향 적층필름을 제조하고, 이어서 이 필름을 이축배향시키는 것으로 얻을 수 있다. 이 미배향적층필름은, 종래부터 축적된 적층필름의 제조방법으로 제조할 수 있다. 예컨대 제 1 폴리에스테르층과, 반대면을 형성하는 제 2 폴리에스테르층을, 폴리에스테르의 용융상태 또는 냉각고화된 상태에서 적층하는 방법을 이용할 수 있다. 더욱 구체적으로는, 예컨대 공압출, 엑스톨루젼 라미네이트 등의 방법으로 제조할 수 있다. 상술한 방법으로 적층된 필름은, 또한 종래부터 축적된 이축배향 폴리에스테르 필름의 제조방법에 준하여 행함으로써, 이축배향필름으로 할 수 있다. 예컨대, 융점 (Tm: ℃) 내지 (Tm ＋ 70) ℃ 의 온도에서 용융 ·공압출하여 미연신 적층필름을 얻고, 이 미연신 적층필름을 일축방향 (세로방향 또는 가로방향) 에 (Tg － 10) ∼ (Tg ＋ 70) ℃ 의 온도 (단, Tg; 폴리에스테르의 유리전이온도) 에서, 바람직하게는 2.5 ∼ 6.0 배, 보다 바람직하게는 3.0 ∼ 5.5 배, 특히 바람직하게는 3.0 ∼ 5.0 배의 배율로 연신하고, 이어서 상기 연신방향과 직각방향 (1 단째가 세로방향인 경우에는 2 단째는 가로방향이 된다) 에 Tg ∼ (Tg ＋ 70) ℃ 의 온도에서, 바람직하게는 3.5 ∼ 7.5 배, 보다 바람직하게는 4.0 ∼ 7.0 배, 특히 바람직하게는 4.5 ∼ 6.5 배의 배율로 연신하는 것이 바람직하다. 또한 필요에 따라서, 세로방향 및/또는 가로방향으로 재차 연신할 수도 있다. 이와같이 하여, 전 연신배율은, 면적연신배율로서 9 배 이상이 바람직하고, 12 ∼ 35 배가 보다 바람직하고, 15 ∼ 30 배가 특히 바람직하다. 또한, 이축배향적층필름은, (Tg ＋ 70) ℃ ∼ (Tm － 10) ℃ 의 온도에서 열고정할 수 있고, 예컨대 190 ∼ 250 ℃, 또한 200 ∼ 240 ℃ 로 열고정하는 것이 바람직하다. 열고정시간은, 1 ∼ 60 초가 바람직하다.

본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 우수한 평탄성, 미끄럼성, 감김성 등을 가지며, 고밀도 자기기록매체, 특히 디지털 기록형 자기기록매체의 베이스 필름으로서 바람직하게 이용된다.

본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 제 2 폴리에스테르층 혹은 그 위의 피복층 표면에, 진공증착, 스퍼터링(spotering), 이온 도금 등의 방법으로, 철, 코발트, 크롬 또는 이들을 주성분으로 하는 합금 혹은 산화물로 이루어지는 강자성 금속박막층을 형성시키고, 또 그 표면에, 목적, 용도, 필요에 따라서 다이아몬드라이크카본 (DLC) 등의 보호층, 불소함유 카르복실산계 윤활층을 순차 형성한다. 또, 제 1 폴리에스테르층측 표면에, 공지된 백코트층을 형성한다. 이것으로써, 특히 단파장영역의 출력, S/N, C/N 등의 전자변환특성이 우수하고, 드롭아웃, 에러율이 적은 고밀도 기록용 증착형 자기기록매체로 할 수 있다. 이 증착형 전자기록매체는, 아날로그신호 기록용 Hi8, 디지털신호 기록용 디지털 비디오카셋트레코더 (DVC), 데이터 8 미리, DDSIV 용 테이프매체로서 매우 유용하다.

또, 본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 제 2 폴리에스테르층 혹은 그 위의 피복층의 표면에, 철 또는 철을 주성분으로 하는 침형상 미세자성분을 폴리염화비닐, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체 등의 바인더에 균일하게 분산하고, 자성층 두께가 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 ∼ 1 ㎛ 가 되도록 도포하고, 특히 단파장 영역에서의 출력, S/N, C/N 등의 전자변환특성이 우수하고, 드롭아웃, 에러율이 적은 고밀도 기록용 메탈도포형 자기기록매체로 할 수 있다. 또, 필요에 따라서, 이 메탈분 함유 자성층의 바탕층으로서, 미세한 산화티탄입자 등을 함유하는 비자성층을 자성층과 동일한 유기 바인더중에 분산하고, 도설할 수도 있다. 이 메탈 도포형 자기기록매체는, 아나로그신호 기록용 8 미리 비디오, Hi8, β캠 SP, W-VHS, 디지털신호 기록용 디지털 비디오카세트레코더 (DVC), 데이터 8 ㎜, DDSIV, 디지털 β캠, D2, D3, SX 등의 디지털신호 기록용 자기테이프매체로서 매우 유용하다.

또한, 본 발명의 이축배향적층 폴리에스테르 필름은, 제 2 폴리에스테르층 혹은 그 위의 피복층 표면에, 산화철 또는 산화클롬을 주성분으로 하는 침형상 미세자성분, 또는 바륨페라이트 등의 판형상 미세 자성분을, 폴리염화비닐, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체 등의 바인더에 균일하게 분산하고, 자성층 두께가 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 ∼ 1 ㎛ 이 되도록 도포하고, 특히 단파장 영역에서의 출력, S/N, C/N 등의 전자변환특성이 우수하고, 드롭아웃, 에러율이 적은 고밀도 기록용 도포형 자기기록매체로 할 수 있다. 또 필요에 따라서, 이 제 2 폴리에스테르층의 위에, 이 산화물함유 자성층의 바탕층으로서, 미세한 산화티탄입자 등을 함유하는 비자성층을 자성층과 동일한 유기 바인더중에 분산하고, 도설할 수도 있다. 이 산화물 도포형 자기기록은, 디지털신호 기록용 데이터 스트리머용 QIC 등의 고밀도산화물 도포형 자기기록매체로서 유용하다.

상기 W-VHS 는 아나로그의 HDTV 신호 기록용 VTR 이며, 또 DVC 는 디지털 HDTV 신호 기록용으로서 적용가능한 것이며, 본 발명의 필름은, 이들의 HDTV 대응 VTR 용 자기기록매체에 매우 유용한 베이스 필름이다.

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하겠으나, 본 발명은, 이들의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고, 실시예중의 각 특성치는, 하기의 방법으로 측정한다.

(1) 불활성 미립자의 평균입경 (đ)

(A) 폴리에스테르 필름에 첨가한 입자

시마즈 제작소 제조 CP-50 형 센트리휴걸 파티클 사이즈 아널라이저 (Centrifugal Particle Size Analyzer) 를 이용하여 측정한다. 얻어지는 원심침강곡선을 기준으로 산출한 각 입경의 입자와 그 존재량과의 적산곡선으로부터, 50 매스퍼센트에 상당하는 입경을 판독하여, 이 값을 상기 평균입경으로 한다 (Book 「입도측정기술」일간공업신문개발, 1975년, 242 ∼ 247 페이지 참조).

(B) 막형성된 이축배향 폴리에스테르 필름중의 입자

필름에서 폴리에스테르를 플라즈마 저온탄화처리법 (예컨대 야마토가가꾸 제조, PR-503 형) 으로 제거하고, 입자를 노출시킨다. 처리조건은 폴리에스테르는 탄화되는데 입자는 손상받지 않는 조건을 선택한다. 이것을 SEM (주사형 전자현미경) 으로 관찰하고, 입자의 화상 (입자에 의하여 생기는 및의 농도) 을 이미지 아날라이저 (예컨대, 캠브리지 인스톨멘트 제조, QTM 900) 에 연결하여, 관찰장소를 바꾸어 입자수 5,000 개 이상에서 다음식 (1) 의 수치처리를 행하고, 그것으로 구한 수평균입경 (đ) 를 평균입경으로 한다.

đ = Σđ₁/n (1)

여기서 đ₁은 입자의 원상당 지름, n 은 갯수이다.

(C) 도포층에 첨가한 콜로이드 입자

주사형 전자현미경에 의하여 이용한 사이즈에 따른 배율로 각 입자의 사진을 촬영하고, 화상해석 처리장치 루젝스 500 (일본 레귤레이터 제조) 을 이용하여, 입자의 평균입경을 산출한다.

(2) 입자의 함유량

폴리에스테르는 용해하고 입자는 용해시키지 않는 용매를 선택하고, 입자를 폴리에스테르에서 원심분리하여, 입자의 전체중량에 대한 비율 (중량 ％) 을 입자함유량으로 한다. 경우에 따라서는 적외분광법의 병용도 유효하다.

(3) 층두께

2 차 이온질량분석장치 (SIMS) 를 이용하여, 표층에서 깊이 3,000 nm 까지의 범위의 필름중의 입자 중, 가장 고농도인 입자에 기인하는 원소와 폴리에스테르의 탄소원소의 농도비 (M⁺/C⁺) 를 입자농도로 하고, 표면에서 깊이 3,000 nm 까지 두께방향의 분석을 행한다. 표층에서는 표면이라는 계면때문에 입자농도는 낮고 표면에서 멀어짐에 따라서 입자농도는 높아진다. 그리고 일단 극대치가 된 입자농도가 다시 감소하기 시작한다. 이 농도분포곡선을 기준으로 표층입자농도가 극대치의 1/2 이 되는 깊이 (이 깊이는 극대치가 되는 깊이 보다도 깊다) 를 구하고, 이것을 표층 두께로 한다.

조건은 다음과 같다.

① 측정장치

2 차 이온질량분석장치 (SIMS)

② 측정조건

1 차 이온종: O₂ ⁺

1 차 이온가속전압: 12 KV

1 차 이온전류: 200 nA

러스터(luster) 영역: 400 ㎛□

분석영역: 게이트 30％

측정진공도: 6.0 ×10^-3Torr

E-GUN: 0.5 KV － 3.0 A

이때, 표층에서의 깊이 3,000 nm 까지의 범위에 가장 많이 함유하는 입자가 유기고분자입자인 경우는 SIMS 으로는 측정이 어려우므로, 표면에서부터 에칭하면서 XPS (X 선 광전자분광법), IR (적외분광법) 등으로 상기와 같은 뎁스프로파일을 측정하여, 표층 두께를 구할 수도 있다.

(4) 영율

필름을 시료폭 10 ㎜, 길이 15 ㎝ 로 자르고, 척 (chuck) 사이 100 ㎜ 로 하여, 인장속도 10 ㎜/분, 챠트 속도 500 ㎜/분의 조건으로 인스트론 타입의 만능인장시험장치로 당긴다. 얻어지는 하중-신장 곡선의 상승부의 접선으로부터 영율을 계산한다.

(5) 표면조도 (WRa, WRz)

WYKO 사 제조 비접촉식 삼차원 조도계 (NT-2000) 를 이용하여 측정배율 40 배, 측정면적 246.6 ㎛ ×187.5 ㎛ (0.0462 ㎟) 의 조건으로, 측정수 (n) 10 이상으로 측정을 행하고, 해당 조도계에 내장된 표면해석 소프트에 의하여, 중심면 평균조도 (WRa), 및 10 점 평균 조도 (WRz) 를 구한다.

(A) 중심면 평균조도 (WRa)

Z_jk는 측정방향 (246.6 ㎛), 그것과 직행하는 방향 (187.5 ㎛) 을 각각 m 분할, n 분할했을 때의 각 방향의 j 번째, k 번째의 위치에서의 2 차원 조도 챠트상의 높이이다.

(B) 10 점 평균조도 (WRz)

피크 (Hp) 의 높은 곳에서부터 5 점과 아래로 볼록한 곳 (Hv) 의 낮은 곳에서부터 5 점을 취하여, 그 평균조도를 WRz 으로 한다.

WRz = [(Hp₁+Hp₂+Hp₃+Hp₄+Hp₅)－(Hv₁+Hv₂+Hv₃+Hv₄+Hv₅)]/5

(6) 총돌기수 및 돌기분포

WYKO 사 제조, 비접촉식 삼차원 조도계 (TOPO-3D) 를 이용하여, 측정배율 40 배, 측정면적 242 ㎛ ×239 ㎛ (0.058 ㎟) 의 조건으로, 적어도 n=10 이상으로 측정을 행하고, 동일 조도계 에 내장된 표면돌기 해석소프트에 의하여 각 돌기높이 Hi (㎛) 에서의, 동일 높이 이상의 1 ㎟ 당 평균돌기 갯수를 구하여, Yi (개/㎟) 로 하고, 누적돌기 분포곡선을 구한다.

또, 총돌기수는, 누적돌기분포곡선이 포화에 달한 시점의 최대 돌기수 Ymax (개/㎟) 를 총돌기수로 한다.

(7) 감김성

필름을 1,000 ㎜ 폭으로, 6,000 m 롤 형상으로 감았을 때의 2 ㎜Φ이상의 크기의 돌기 발생갯수 (도 1 참조) 및 세로 주름의 발생상황 (도 2 참조) 을 측정하고, 돌기의 갯수에 대해서는 제품폭 1 m 당으로 비례계산한다. 그리고 평가는 10 개 이상 감았을 때의 1 개 당의 평균치를 구하여 하기와 같이 평가한다.

(A) 돌기

◎: 0 ∼ 2 개/m

: 3 ∼ 5 개/m

△: 6 ∼ 10 개/m

×: 11 개/m 이상

(B) 세로주름

◎: 0 ∼ 10 ％ 미만

: 10 ∼ 20 ％ 미만

△: 20 ∼ 30 ％ 미만

×: 30 ％ 이상

(8) 필름두께

오염물이 들어가지 않도록 필름을 10 매 겹쳐서, 타점식 전자마이크로미터로 두께를 측정하고, 1 매당의 필름두께를 계산한다.

(9) 반송성

원단폭 1,000 ㎜ 인 롤을 테이프화할 때의 자성층 도포공정 혹은 캘린더 공정에서의 필름 평활면과 금속롤과의 미끄럼성 불량에 의한 공정 주름의 발생을 하기와 같이 측정한다.

◎: 주름의 발생이 전혀 없음.

: 주름의 발생이 약간 있으나 공정상 문제 없음.

△: 주름의 발생은 있으나, 공정상 사용할 수 있음.

×: 부름의 발생이 심하여 사용할 수 없음.

(10) 전자변환특성

(A) 실시예 1 ∼ 5 및 비교예 1 ∼ 8

하기의 시판하는 기기를 이용하여 주파수 7.4 MHz 의 신호를 기록하고, 그 재생신호의 6.4 MHz 과 7.4 MHz 의 값의 비를 그 테이프의 C/N 으로 하고, 실시예 1 의 C/N 을 0dB 로 하고, 상대치로 나타낸다.

◎: 0 dB 이상

: －2 ∼ 0 dB 미만

×: －2 dB 미만

여기서, 사용기기는 다음과 같다.

8 ㎜ 비디오데코더: 소니 (주) 제조, EDV-6000, C/N 측정; 시바속 (주) 제조, 노이즈미터

(B) 실시예 6 ∼ 9, 비교예 9 ∼ 12

하기의 시판하는 기기를 이용하여, 주파수 7.4 MHz 의 신호를 기록하고, 그 재생신호의 6.4 MHz 과 7.4 MHz 의 비를 그 테이프의 C/N 으로 하고, 비교예 13 의 C/N 을 0 dB 로 하여 상대치로 나타낸다.

◎: ＋3 dB 이상

: ＋1 dB 이상 ＋3 dB 미만

×: ＋1 dB 미만

(C) 실시예 10 ∼ 12, 비교예 13

하기의 시판하는 기기를 이용하여, 주파수 7.4 MHz 의 신호를 기록하고, 그 재생신호의 6.4 MHz 과 7.4 MHz 의 값의 비를 그 테이프의 C/N 으로 하고, 비교예 13 의 C/N 을 0dB 로 하여 상대치로 나타낸다.

◎: ＋3 dB 이상

: ＋1 dB 이상 ＋3 dB 미만

×: ＋1 dB 미만

사용기기

8 ㎜ 비디오레코더: 소지 (주) 제조 EDV-6000

C/N 측정: 시바속 (주) 제조 노이즈미터

(11) 필름 마찰계수

중첩시킨 2 매의 필름의 하측에 고정한 유리판을 놓고, 중첩시킨 필름의 하측 (유리판과 접하고 있는 필름) 의 필름을 정속롤로 끌어내고 (약 10 ㎝/분), 상측의 필름의 한끝 (하측 필름의 끌어내는 방향과 반대끝) 에 검출기를 고정하고, 필름/필름간의 스타트시의 인장력을 검출한다. 그리고 그때 이용하는 트레드(thread)는 무게 1 ㎏, 하측면적 100 ㎠ 인 것을 사용한다. 그리고, 마찰계수 (㎲) 는 다음식에 의하여 구한다.

㎲＝

(12) 금속에 대한 필름 마찰계수 μk

온도 20 ℃, 습도 60 ％ 인 환경에서, 제 1 폴리에스테르층 표면 또는 제 2 폴리에스테르층 표면을 3 ㎜Φ의 SUS 막대에 각도 θ＝ π라디언 (180 °) 으로 접촉시켜 매분 200 ㎝ 의 속도로 이동 (마찰) 시킨다. 입구 텐션 (T₁) 이 35 g 이 되도록 텐션콘트롤러 (2) 를 조정했을 때의 출구텐션 (T₂:g) 을 필름이 6 m 주행한 후에 출구텐션 검출기로 검출하고, 다음식으로 주행마찰계수 μk 를 산출한다. 이때, 이 측정을 10 회 행하고, 그 평균치를 채용한다.

μk ＝ (2.303/θ)log (T₂/T₁)

＝ 0.733 log (T₂/35)

실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 8

디메틸-2,6-나프탈레이트와 에틸렌글리코올을, 에스테르 교환촉매로서 아세트산망간을, 중합 촉매로서 삼산화안티몬을, 안정제로서 아인산을, 또한 활제로서 표 1 에 나타내는 입자를 첨가하여 통상법에 의하여 중합하고, 고유점도 (o-클로로페놀을 용매로서 이용하여, 35 ℃ 에서 측정한 값) 0.61 dl/g 의 A 층 및 B 층용 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 (PEN) 을 얻는다. 이들 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트의 펠렛을, 170 ℃ 에서 6 시간 건조시킨 후, 2 대의 압출기 호퍼에 공급하여, 용융온도 280 ∼ 300 ℃ 에서 용융하고, 멀티매니홀더형 공압출다이를 이용하여, 제 2 층의 편측에 제 1 층을 적층시키고, 표면 마무리 0.3 S 정도, 표면온도 60 ℃ 의 회전냉각 드럼상에 압출하여, 두께 105 ㎛ 인 미연신 적층필름을 얻는다.

이 미연신 적층필름을 120 ℃ 로 예열하고, 또 저속 ·고속의 롤 사이에서 15 ㎜ 상방으로부터 900 ℃ 의 표면온도인 IR 히터를 이용하여 가열하여 4.0 배로 연신하고, 급냉시키고, 계속해서 스텐터에 공급하여 145 ℃ 에서 가로방향으로 5.0 배 연신한다. 얻어진 이축연신필름을 210 ℃ 인 열풍으로 4 초간 열고정하고, 두께 5.2 ㎛ 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 이 필름의 영율은, 세로방향 600 ㎏/㎟, 가로방향 900 ㎏/㎟ 이다.

또 자기테이프의 제조는 다음과 같이 행한다.

즉, 하기에 나타내는 조성물을 볼밀에 넣고, 16 시간 혼합반죽하여 분산시킨 후, 이소시아네이트 화합물 (바이엘사 제조의 데스모듈 L) 5 중량부를 첨가하고, 1 시간 고속전단분산시켜 자성도료로 만든다.

자성도료의 조성;

침형상의 Fe 입자 100 중량부

염화비닐-아세트산비닐공중합체 [시미즈가가꾸(주) 제조, 에스렉 7A]

15 중량부

열가소성 폴리우레탄수지 5 중량부

산화크롬 5 중량부

카본블랙 5 중량부

레시틴 2 중량부

지방산 에스테르 1 중량부

톨루엔 50 중량부

메틸에틸케톤 50 중량부

시클로헥사논 50 중량부

이 자성도료를, 상술한 이축배향적층 폴리에스테르 필름의 편면 (제 2 층) 에, 도포두께 0.5 ㎛ 가 되도록 도포하고, 이어서 2,500 가우스의 직류자장에서 배향처리를 행하고, 100 ℃ 에서 가열건조시킨 후, 수퍼캘린더처리 (선압; 300 ㎏/㎝, 온도; 80 ℃) 를 행하여 감는다. 이 감은 롤을 55 ℃ 의 오븐중에 3 일간 방치한 후, 8 ㎜ 폭으로 재단하여 자기테이프를 얻는다.

실시예 5

표 1 에 나타내는 입자를 제 1 폴리에스테르층 및 제 2 폴리에스테르층에 첨가하고, 또 필름의 영율이 세로방향 550 ㎏/㎟, 가로방향 1,200 ㎏/㎟ 가 되도록 세로방향 및 가로방향의 연신배율을 바꾸는 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 얻고, 그 후, 실시예 1 과 동일하게 하여 자기테이프를 얻는다.

	단위	실시예	비교예
	단위	1	2	3	4	5	1	2	3	4	5	6	7	8
영율
세로방향가로방향	㎏/㎟㎏/㎟	600900	600900	600900	600900	5501,200	600900	600900	600900	600900	600900	600900	600900	600900
제1폴리에스테르층
제1불활성미립자종류평균입경첨가량	-㎛중량%	구상실리카0.30.25	구상실리카0.30.25	구상실리카0.30.15	구상실리카0.20.4	가교실리콘수지0.40.1	가교실리콘수지0.50.01	가교실리콘수지0.50.1	구상실리카0.150.25	구상실리카0.30.5	구상실리카0.30.25	구상실리카0.30.25	구상실리카0.30.25	구상실리카0.30.25
제2불활성미립자종류평균입경첨가량	-㎛중량%	구상실리카0.120.23	구상실리카0.120.15	구상실리카0.120.28	구상실리카0.10.7	구상실리카0.120.3	구상실리카0.120.3	구상실리카0.120.3	구상실리카0.120.3	구상실리카0.120.3	구상실리카0.120.05	구상실리카0.120.9	구상실리카0.120.23	구상실리카0.120.23
제4불활성미립자종류평균입경첨가량	-㎛중량%	--	--	구상실리카0.050.3	--	--	--	--	--	--	--	--	--	--

	단위	실시예	비교예
	단위	1	2	3	4	5	1	2	3	4	5	6	7	8
제2폴리에스테르층
제3불활성미립자종류평균입경첨가량	-㎛중량%	구상실리카0.120.01	구상실리카0.120.03	구상실리카0.050.08	구상실리카0.120.05	구상실리카0.150.05	구상실리카0.120.01	구상실리카0.120.01	구상실리카0.120.01	구상실리카0.120.01	구상실리카0.120.01	구상실리카0.120.01	구상실리카0.040.01	구상실리카0.120.12
표면조도
제1폴리에스테르층측WRa전돌기수돌기높이	nm10⁴개/㎟nm	8.91.934	8.71.434	7.71.733	10.62.525	5.21.248	5.80.943	8.91.551	4.51.017	11.82.439	8.30.833	12.22.035	8.91.932	8.91.932
제2폴리에스테르층측WRa돌기높이	nmnm	1.510	2.312	0.98	2.715	2.111	1.510	1.510	1.510	1.510	1.510	1.510	0.66	4.720
마찰계수	-	0.35	0.45	0.4	0.38	0.46	0.61	0.46	0.50	0.30	0.70	0.30	0.38	0.32
롤감은모양
돌기세로주름	--	◎◎		◎	◎		×	◎	×	◎◎	×	◎◎	◎	◎◎
전자변환특성	-	◎		◎				×		×		×	◎	×
반송성	-		◎		◎	◎							×	◎

표 1 에서 명확하듯이, 실시예 1 ∼ 5 의 필름은, 우수한 전자변환특성을 나타내면서, 우수한 감김성, 반송성의 특성을 갖고 있다.

실시예 6 ∼ 8 및 비교예 12

공중합 폴리에스테르수지의 제조

2,6-나프탈렌 디카르복실산 디메틸 90 부, 이소프탈산 디메틸 6 부, 5-나트륨술포이소프탈산 4 부, 에틸렌글리코올 70 부 및 하기 구조식으로 나타내는 비스페놀 A 의 에틸렌옥사이드 부가물 30 부를 에스테르 교환반응기에 공급하고, 여기에 테트라부톡시티탄 0.05 부를 첨가하여 질소 분위기하에서 온도를 230 ℃ 로 콘트롤하여 가열하고, 생성되는 메탄올을 증류제거시켜 에스테르 교환반응을 행한다.

(단, m＋n ＝ 4 (평균치))

이어서, 이 반응계에, 일가녹스 1010 (치바가이기사 제조) 을 0.6 부 첨가한후, 온도를 서서히 255 ℃ 까지 상승시키고, 계내를 1 ㎜Hg 의 감압으로 하여 중축합 반응을 행하고, 고유점도 0.64 의 공중합 폴리에스테르 수지를 얻는다. 이 공중합 폴리에스테르수지의 조성을 표 2 에 나타낸다.

폴리에스테르 수분산체의 조제

이 공중합 폴리에스테르수지 20 부를 테트라히드로프란 80 부에 용해하고, 얻어진 용액에 10,000 회전/분의 고속교반하에서 물 180 부를 적하하여 파랗게 된 유백색의 분산체를 얻는다. 이어서, 이 분산체를 20 ㎜Hg 의 감압 하에서 증류하고, 테트라히드로프란을 증류제거한다. 이렇게 하여, 고형분 농도 10 wt％ 의 폴리에스테르수 분산체를 얻는다.

이렇게 하여 얻은 폴리에스테르수 분산체 100 부에 대하여, 표 2 에 나타낸 평균입경 25 nm 의 콜로이드 입자 20 부 및 계면활성제로서 HLB 12.8 인 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 14 부로 이루어지는 조성의 수계 도액 (고형분 농도 1.8 wt％) 을 작성한다.

이축배향 폴리에스테르 필름의 작성

디메틸-2,6-나프탈레이트와 에틸렌글리코올을, 에스테르 교환촉매로서 아세트산망간을, 중합촉매로서 삼산화안티몬을, 안정제로서 아인산을, 또 활제로서 표 2 에 나타내는 첨가입자를 첨가하여 통상법에 의하여 중합하고, 고유점도 (o-클로로페놀, 35 ℃) 0.61 의 제 1 층용 및 제 2 층용 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 (PEN) 을 얻는다.

이들 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트의 펠렛을 170 ℃ 에서 6 시간 건조시킨 후, 2 대의 압출기 호퍼에 공급하고, 용융온도 280 ∼ 300 ℃ 에서 용융하고, 멀티매니홀드형 공압출다이를 이용하여 제 2 층의 편측에 제 1 층을, 적층시키고, 표면 마무리 0.3 S 정도, 표면온도 60 ℃ 의 회전냉각 드럼상에 압출하고, 두께 90 ㎛ 의 미연신 적층필름을 얻는다.

이와같이 얻어진 미연신 적층필름을 120 ℃ 로 예열하고, 또한 저속, 고속의 롤 사이에서 15 ㎜ 상방으로부터 900 ℃ 의 표면온도의 IR 히터로 가열하여 4.0 배로 연신하고, 냉각한 후, 상기에서 조정한 도포액을 일축연신필름의 제 2 폴리에스테르층측에 드라이 상태로 10 nm 이 되도록 도포한다. 이어서 스텐터에 공급하고, 145 ℃ 에서 가로방향으로 5.0 배로 연신한다. 얻어진 이축연신 필름을 210 ℃ 의 열풍으로 4 초간 열고정하고, 두께 4.5 ㎛ 의 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 이들의 필름의 영율은 세로방향 600 ㎏/㎟, 가로방향 900 ㎏/㎟ 이다.

그리고, 자기테이프의 제조방법은 다음과 같이 행한다.

실시예 1 에서 이용한 자성도료와 같은 자성도료를 이축배향적층 폴리에스테르 필름의 편면 (제 2 층)에, 도포막 0.5 ㎛ 가 되도록 도포하고, 이어서 2,500 가우스의 직류자장중에서 배향처리를 행하고, 100 ℃ 에서 가열건조후, 수퍼 캘린더처리 (선압 300 ㎏/㎝, 온도 80℃) 를 행하고, 감는다. 이 감은 롤을 55 ℃ 의 오븐중에 3 일간 보관한 후, 8 ㎜ 폭으로 재단하여 자기테이프를 얻는다. 이 결과를 표 2 에 나타낸다.

실시예 9

표 2 에 나타내는 첨가입자를 제 1 폴리에스테르층 및 제 2 폴리에스테르층에 첨가하고, 또 필름의 영율이 세로방향 550 ㎏/㎟, 가로방향 1,200 ㎏/㎟ 가 되도록 세로방향 및 가로방향의 연신배율을 바꾸는 것 외에는 실시예 6 과 동일하게 행하여, 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 얻고, 그 후 실시예 6 과 동일한 방법으로 자기테이프를 얻는다. 그 결과를 표 2 에 나타낸다.

비교예 9, 10

표 2 에 나타내는 첨가입자를 제 1 폴리에스테르층 및 제 2 폴리에스테르층에 첨가하고, 일축연신후, 도포층을 형성하지 않는 것 외에는 실시예 6 과 동일한 방법으로 자기테이프를 얻는다. 이 결과를 표 2 에 나타낸다.

비교예 11

표 2 에 나타내는 첨가입자를 단층계에서 실시하고 일축연신 후, 도포층을 형성하지 않는 것 외에는 실시예 6 과 동일한 방법으로 자기테이프를 얻는다. 이 결과를 표 2 에 나타낸다.

	단위	실시예6	실시예7	실시예8	실시예9	비교예9	비교예10	비교예11	비교예12
층구성		2층	2층	2층	2층	2층	2층	단층	2층
제1폴리에스테르층
제1불활성미립자활제종류평균입경첨가량	㎛wt%	구상실리카0.30.25	가교실리콘수지입자0.50.02	구상실리카0.30.35	구상실리카0.30.25	가교실리콘수지입자0.50.02	가교실리콘수지입자0.51.0	탄산칼슘0.60.02	구상실리카0.10.08
제2불활성미립자활제종류평균입경첨가량	㎛wt%	구상실리카0.10.20	구상실리카0.10.30	구상실리카0.10.50	구상실리카0.10.20	구상실리카0.10.30	구상실리카0.10.50	구상실리카0.10.30	---
제2폴리에스테르층제3불활성미립자활제종류평균입경첨가량	㎛wt%	구상실리카0.10.01	활제없음	구상실리카0.10.01	구상실리카0.10.05	구상실리카0.10.01	구상실리카0.10.1	---	구상실리카0.10.01

	단위	실시예6	실시예7	실시예8	실시예9	비교예9	비교예10	비교예11	비교예12
도포층
수분산공중합폴리에스테르수지	중량부	100	100	100	100	-	-	-	100
콜로이드입자입자종평균입경	중량부nm	20가교아크릴입자20	20가교아크릴입자15	20가교아크릴입자40	20가교아크릴입자20	---	---	---	20가교아크릴입자0.02
도포두께(dry)	nm	10	8	20	10	-	-	-	10
표면조도
제1폴리에스테르층표면WRa(A)WRz(A)	nmnm	9.0120	6.0180	14.0150	9.0120	6.0160	18.0300	8.0200	3.580
제2폴리에스테르층표면WRa(B)WRz(B)	nmnm	1.430	0.715	1.430	3.060	1.430	5.0100	8.0200	3.580
금속에대한마찰계수
제1폴리에스테르층표면/금속μk_A제2폴리에스테르층표면/금속μk_B	--	0.300.23	0.370.35	0.270.22	0.300.20	0.370.45	0.300.40	0.300.30	0.400.23
필름마찰계수제1폴리에스테르층표면/제2층표면		0.30	0.45	0.27	0.25	0.60	0.25	0.36	0.50
롤감긴모양
돌기세로주름		◎◎		◎◎	◎◎	××	◎◎	◎◎	××
전자변환특성		◎	◎	◎		◎	×	×	◎
반송성		◎		◎	◎	×		◎

표 2 로부터 명확하듯이, 실시예 6 ∼ 9 의 필름은, 우수한 전자변환특성을 나타내면서, 우수한 감김성, 반송성의 특성을 갖는다.

실시예 10, 11 및 비교예 13

디메틸-2,6-나프탈레이트와 에틸렌글리코올을, 에스테르 교환촉매로서 아세트산망간을, 중합촉매로서 삼산화안티몬을, 안정제로서 아인산을, 또한 활제로서 표 1 에 나타내는 첨가입자를 통상법에 의하여 중합하고, 고유점도 (o-클로로페놀, 35 ℃) 0.61 의 제 1 층용 및 제 2 층용 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 (PEN) 를 얻는다.

이 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트의 펠렛을 170 ℃ 에서 6 시간 건조 후, 2 대의 압출기 호퍼에 공급하고, 용융온도 280 ∼ 300 ℃ 로 용융하고, 멀티매니홀드형 공압출 다이를 이용하여 제 2 층 편측에 제 1 층을 적층시키고, 표면마무리 0.3 S 정도, 표면온도 60 ℃ 의 회전냉각 드럼상에 압출하고, 두께 105 ㎛ 의 미연신 적층필름을 얻는다. 이때, 2 대의 압출기의 토출량은 표 3 에 나타내는 층두께 구성이 되도록 조정한다.

이와같이 얻어진 미연신 적층필름을 120 ℃ 로 예열하고, 또한 저속, 고속 롤사이에서 15 ㎜ 상방으로부터 900 ℃ 의 표면온도의 IR 히터로 가열하여 4.0 배로 연신하고, 급냉하고, 이어서 스텐터에 공급하고, 145 ℃ 에서 가로방향으로 5.0 배로 연신한다. 얻어진 이축연신 필름을 210 ℃ 의 열풍으로 4 초간 열고정하고, 두께 5.2 ㎛ 의 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 이들의 필름의 영율은 세로방향 600 ㎏/㎟, 가로방향 900 ㎏/㎟ 이다.

그리고, 자기테이프의 제조법은 다음과 같이 행한다.

실시예 1 에서 이용한 자성도료와 같은 자성도료를 이축배향적층 폴리에스테르 필름의 편면 (제 2 층) 에, 도포두께 0.5 ㎛ 가 되도록 도포하고, 이어서 2,500 가우스의 직류자장중에서 배향처리를 행하고, 100 ℃ 에서 가열건조 후, 수퍼 캘린더 처리 (선압 300 ㎏/㎝, 온도 80 ℃) 를 행하여 감는다. 이 감은 롤을 55 ℃ 의 오븐 중에 3 일간 보존한 후, 8 ㎜ 폭으로 재단하여 자기테이프를 얻는다.

실시예 12

표 3 에 나타나는 첨가입자를 제 1 폴리에스테르층 및 제 2 폴리에스테르층에 첨가하고, 또 필름의 영율이 세로방향 550 ㎏/㎟, 가로방향 1,200 ㎏/㎟ 가 되도록 세로방향 및 가로방향의 연신배율을 바꾸는 것 외에는 실시예 9 와 동일하게 행하여, 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 얻고, 그 후 실시예 9 와 동일한 방법으로 자기테이프를 얻는다.

	단위	실시예10	실시예11	실시예12	실시예13
층구성		2층	2층	2층	2층
두께제1폴리에스테르층(t_A)제2폴리에스테르층(t_B)전체두께	㎛㎛	2.42.85.2	1.83.45.2	2.42.85.2	0.254.955.2
제1폴리에스테르층
제1불활성미립자활제종류평균입경첨가량	㎛wt%	구상실리카0.30.25	가교실리콘수지입자0.40.10	구상실리카0.250.30	가교실리콘수지입자0.550.01
제2불활성미립자활제종류평균입경첨가량	㎛wt%	구상실리카0.140.15	구상실리카0.140.20	구상실리카0.100.60	구상실리카0.100.20
총평균입경(d_A)	㎛	0.16	0.15	0.11	0.10
t_A/d_A		15	12	22	2.5
제2폴리에스테르층제3불활성미립자활제종류평균입경첨가량	㎛wt%	구상실리카0.140.01	구상실리카0.150.03	구상실리카0.10.08	구상실리카0.050.01

	단위	실시예10	실시예11	실시예12	실시예13
표면조도
제1폴리에스테르층표면WRa(A)WRz(A)	nmnm	12.0130	8.0180	10.0110	5.0110
제2폴리에스테르층표면WRa(B)WRz(B)	nmnm	2.240	3.060	1.525	0.817
필름마찰계수제1폴리에스테르층표면/제2폴리에스테르층표면		0.40	0.45	0.43	0.60
롤감긴모양
돌기		◎		◎	×
세로주름		◎		◎	×
전자변환특성		◎		◎	◎
반송성			◎

표 3 으로 명확하게 알 수 있듯이, 실시예 10 ∼ 12 의 필름은, 우수한 전자변환특성을 나타내면서, 우수한 감김성, 반송성의 특성을 갖는다.

본 발명에 의하면, 우수한 전자변환특성을 가지면서 또 우수한 감김성, 반송성 등의 특성을 가진 이축배향적층 폴리에스테르 필름을 제공할 수 있다. 이 폴리에스테르 필름은, 자기기록매체의 베이스 필름으로서, 특히 1/2 인치 비디오테이프, 8 ㎜ 비디오 테이프, 데이터 커트리지테이프, 디지털 방식의 비디오테이프 등의 자기테이프의 베이스 필름으로서 유용하다.

Claims

(A) 불활성 미립자를 함유하는 제 1 방향족 폴리에스테르로 이루어지고, 노출표면의 중심표면 조도가 4 ∼ 15 nm 인 제 1 폴리에스테르층 [여기서, 불활성 미립자는 평균입경 0.2 ∼ 0.4 ㎛ 인 제 1 불활성 미립자와 평균입경이 제 1 불활성 미립자의 평균입경보다도 0.1 ∼ 0.3 ㎛ 작은 제 2 불활성 미립자로 이루어지고, 제 1 불활성 미립자 및 제 2 불활성 미립자의 함유량은 제 1 방향족 폴리에스테르에 대하여 각각 0.05 ∼ 0.4 중량 ％ 및 0.1 ∼ 0.8 중량 ％ 이다], 및

(B) 불활성 미립자를 함유할 수도 있는 제 2 방향족 폴리에스테르로 이루어지고, 노출표면의 중심표면 조도가 0.5 ∼ 3.5 nm 인 제 2 폴리에스테르층 [여기서 불활성 미립자는 평균입경 0.05 ∼ 0.2 ㎛ 인 제 3 불활성 미립자로 이루어지고, 제 3 불활성 미립자의 함유량은 제 2 방향족 폴리에스테르에 대하여 0 ∼ 0.1 중량 ％ 이다] 로 이루어지고; 및,

(C) 제 1 폴리에스테르층과 제 2 폴리에스테르층 사이의 마찰계수가 0.5 이하인 것을 특징으로 하는 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 불활성 미립자의 함유량이 제 1 방향족 폴리에스테르에 대하여 0.1 ∼ 0.4 중량 ％ 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층 중의 제 1 불활성 미립자 및 제 2 불활성 미립자가 모두 구상인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층 중의 제 1 불활성 미립자 및 제 2 불활성 미립자가 구상 실리카 및 구상 내열성 고분자입자로 이루어지는 군에서 선택되는 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층의 노출표면의 10 점 평균조도가 100 ∼ 200 nm 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층의 중심면 평균조도가 6 ∼ 15 nm 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층의 두께 (t₁) 및 제 1 불활성 미립자와 제 2 불활성 미립자의 평균입경 (đ) 의 비 (t₁/đ) 가 1 ∼ 25 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층의 두께 (t₁) 및 제 1 불활성 미립자와 제 2 불활성 미립자의 평균입경 (đ) 의 비 (t₁/đ) 가 10 ∼ 25 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층의 노출표면의 전 돌기수가 1 ×10⁴개/㎟ 이상이고 누적돌기수 30 개/㎟ 에서의 돌기높이가 20 ∼ 50 nm 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 2 폴리에스테르층이 제 3 불활성 미립자를 함유하고 제 3 불활성 미립자가 구상인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 2 폴리에스테르층이 제 3 불활성 미립자를 함유하고 제 3 불활성 미립자가 구상 실리카 또는 구상 내열성 고분자입자인 이축배향 적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 2 폴리에스테르층이 함유하는 제 3 불활성 미립자의 함유량이 제 2 방향족 폴리에스테르에 대하여 0.005 ∼ 0.1 중량 ％ 인 이축배향 폴리에스테르 필름.
제 1 항 또는 제 5 항에 있어서, 제 2 폴리에스테르층의 노출표면의 10 점 평균 조도가 10 ∼ 80 nm 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항 또는 제 12 항에 있어서, 제 2 폴리에스테르층의 노출표면의 10 점 평균 조도가 20 ∼ 80 nm 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항 또는 제 12 항에 있어서, 제 2 폴리에스테르층의 중심면 표면 조도가 1 ∼ 3.5 nm 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 2 폴리에스테르층의 노출표면의 누적 돌기수 30 개/㎟ 에서의 돌기 높이가 20 nm 이하인 이축배향 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층이 불활성 미립자로서 제 1 불활성 미립자 및 제 2 불활성 미립자중 어느 평균입경보다도 작은 평균입경의 제 4 불활성 미립자를 부가로 함유하는 이축배향 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 세로방향의 영율이 500 ∼ 1,000 ㎏/㎟ 이고 가로방향의 영율이 500 ∼ 1,400 ㎏/㎟ 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항 또는 제 18 항에 있어서, 세로방향의 영율과 가로방향의 영율의 합이 1,300 ∼ 2,000 ㎏/㎟ 인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 18 항 또는 제 19 항에 있어서, 가로방향의 영율이 세로방향의 영율보다도 높은 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 18 항 또는 제 19 항에 있어서, 세로방향의 영율이 가로방향의 영율보다도 높은 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층의 제 1 방향족 폴리에스테르 및 제 2 폴리에스테르층의 제 2 방향족 폴리에스테르가 모두 폴리에틸렌 -2,6-나프탈렌디카르복실레이트인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 제 2 폴리에스테르층의 제 1 폴리에스테르층과 접촉하지 않은 표면상에, 수분산성 공중합 폴리에스테르수지와 평균입경이 0.01 ∼ 0.05 ㎛ 인 불활성 미립자로 이루어지는 피막층을 부가로 갖는 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 23 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층 및 피막층의 노출표면중 어느 표면도 금속에 대한 마찰계수가 0.4 이하인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 23 항에 있어서, 제 1 폴리에스테르층의 노출표면의 금속에 대한 마찰계수가 피막층의 노출표면의 금속에 대한 마찰계수와 동등하거나 그보다 큰 이축배향적층 폴리에스테르 필름.
제 1 항에 있어서, 디지털기록형 자기기록매체를 위한 베이스 필름인 이축배향적층 폴리에스테르 필름.