JP3958442B2 - 積層二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は積層二軸配向ポリエステルフイルムに関する。さらに詳しくは、フイルムの巻取り性、ハンドリング性に優れ、かつ高密度磁気記録媒体、特にデジタル記録型磁気記録媒体、特に超高密度磁気記録媒体としてのベースフイルムとして用いたときに優れた電磁変換特性を付与する積層二軸配向ポリエステルフイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表される二軸配向ポリエステルフイルムは、その優れた物理的、化学的特性の故に広い用途に、特に磁気記録媒体のベースフイルムとして用いられている。
【０００３】
近年、磁気記録媒体においては、高密度化、高容量化が進められており、それに伴ってベースフイルムの平坦性、及び厚みの薄膜化が要望されている。特に最近蒸着テープに匹敵する性能を有する重層メタル方式のテープが開発され、ベースフイルムに対する平坦化の要求はより一層高まってきている。
【０００４】
しかしながら、優れた電磁変換特性を維持するために、ベースフイルムの表面を平坦化すると、滑り性またはエアースクイズ性が悪くなり、ロール状に巻き上げる場合にシワが入ったり、ブツが入りやすくなり、巻き上げることが非常に難しくなる。また、フイルム加工工程においても滑り性が悪いと接触する金属ロールとの摩擦が増加し、フイルムにシワが入り、磁性層をうまく塗布できなくなったり、またカレンダーがうまくかけられなくなったりする。
【０００５】
一般に、ポリエステルフイルムの滑り性の改良には、（ｉ）原料ポリマー中にその製造過程で触媒残渣から不活性粒子を析出させる方法や、（ii）不活性粒子を添加する方法等によってフイルム表面に微細凹凸を付与する方法が採用されている。これらフイルム中の粒子は、その大きさが大きい程、また、その含有量が多い程、滑り性の改良が大きいのが一般的である。
【０００６】
一方、前述のように、電磁変換特性向上の点よりベースフイルムの表面はできるだけ平滑であることが求められている。ベースフイルムの表面粗さが粗いと、磁気記録媒体に加工する場合、ベースフイルムの表面凹凸が磁性層塗布後にも磁性層面に突き出し、電磁変換特性を悪化させる。この場合、ベースフイルム中の粒子の大きさが大きい程また、その含有量が多い程、表面の粗さが粗くなり、電磁変換特性は悪化する。
【０００７】
この滑り性の改良と電磁変換特性の向上という相反する特性を両立させる手段として、積層フイルムにすることによって、磁性層を塗布する面は平滑にして電磁変換特性を改善し、反対面は粗面化して滑り性を向上させる手段が広く知られている。
【０００８】
しかしながら、上記のような積層二軸配向ポリエステルフイルムを用い、磁性層を塗布する面の反対面（以下、粗面と称する）を粗化した場合でも、ベース厚が薄いが故に、粗面側に添加する滑剤の量、種類、粒径によっては、磁性層を塗布する面にまで影響をおよぼし、平滑な面にうねり等を生じさせ、その平滑性を悪くするという問題を生じる。
【０００９】
特に、最近の高密度磁気記録媒体では、磁性層の更なる平滑化が求められ、線厚の高いメタルカレンダーが使用される様になり、粗面側から、平滑面の突起の突き上げによる表面性への悪影響が大きくなってきている。
【００１０】
粗面側からの、平滑面の突起の突き上げを少なくするためには、粗面側に含有させる滑剤の粒径を小さくする方法、あるいは粒径の大きいものを少し含有させる方法が提案されている。しかし、前者の場合には形成される突起の高さが低いが故に、十分なエアースクイズ性が得られず、また後者の場合には形成される突起頻度が少ないが故に十分なフイルムの滑り性が得られない。更にフイルムをロール状に巻いたとき、前者の場合は縦シワが入り、また後者の場合はブツが発生し、十分な製品歩留りが得られない、という問題が生じている。
【００１１】
また一方、電磁変換特性向上のため、磁性層面側のフイルム表面の更なる平滑化が求められる様になり、実質的に滑剤を含まない平滑層が提案されているが、この場合テープ加工時の平滑面側の搬送性が不良となり、その工程でシワが入り、製品歩留りが大きく低下するという新たな問題が生じている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、かかる問題を同時に解決するフイルムを開発すべく鋭意検討した結果、フイルムを積層二軸配向ポリエステルフイルムとし、平滑面側にコロイド粒子を含んだ塗布層を設け、かつ平滑面および粗面側の表面性をある値にすることにより、優れた電磁変換特性を有し、かつベースフイルムとしての巻取り性、搬送性にも優れた積層二軸配向ポリエステルフイルムが得られることを見出し、本発明に到達した。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、ポリエステルＢ層の上にポリエステルＡ層を積層してなる積層二軸配向ポリエステルフイルムであって、（１） ポリエステルＡ層の中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）が８〜１４ｎｍ、１０点平均粗さ（ＷＲｚＡ）が１００〜２００ｎｍであり、そしてポリエステルＢ層の中心面平均粗さ（ＷＲａＢ）が０．５〜３．５ｎｍ、１０点平均粗さ（ＷＲｚＢ）が１０〜８０ｎｍであり、（２） ポリエステルＡ層表面の金属に対する摩擦係数（μｋＡ）が０．４以下であり、ポリエステルＢ層表面の金属に対する摩擦係数（μｋＢ）が０．４以下であり、そしてμｋＡとμｋＢとは下記式の関係にあり、そして
【００１４】
【数３】
μｋＡ≧μｋＢ
【００１５】
（３） ポリエステルＡ層表面とポリエステルＢ層表面とのフイルム摩擦係数（μｋｆ）が０．５以下である
ことを特徴とする積層二軸配向ポリエステルフイルムである。そして、このフイルムはポリエステルＢ層に水分散性共重合ポリエステル樹脂と平均粒径１０〜５０ｎｍのコロイド粒子とを主成分とした塗布層を設けられていることが好ましい。
【００１６】
本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリコール成分とするポリエステルである。このポリエステルは実質的に線状であり、そしてフイルム形成性特に溶融成形によるフイルム形成性を有する。芳香族ジカルボン酸としては、例えばテレフタル酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、アンスラセンジカルボン酸等を挙げることができる。脂肪族グリコールとしては、例えばエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレングリコール等の如き炭素数２〜１０のポリメチレングリコールあるいは１，４―シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等を挙げることができる。
【００１７】
本発明においては、ポリエステルとしてはアルキレンテレフタレートおよび／又はアルキレン―２，６―ナフタレートを主たる構成成分とするものが好ましい。
【００１８】
これらポリエステルのうちでも特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレートはもちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の８０モル％以上がテレフタル酸および／又は２，６―ナフタレンジカルボン酸であり、全グリコール成分の８０モル％以上がエチレングリコールである共重合体が好ましい。その際全酸成分の２０モル％以下はテレフタル酸および／又は２，６―ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカルボン酸であることができ、また例えばアジピン酸、セバチン酸等の如き脂環族ジカルボン酸；シクロヘキサン―１，４―ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸等であることができる。また全グリコール成分の２０モル％以下はエチレングリコール以外の上記グリコールであることができ、また例えばハイドロキノン、レゾルシン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパン等の如き芳香族ジオール；１，４―ジヒドロキシジメチルベンゼンの如き芳香環を有する脂肪族ジオール；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の如きポリアルキレングリコール（ポリオキシアルキレングリコール）等であることもできる。就中、ポリエチレン―２，６―ナフタレートが好ましい。
【００１９】
また、本発明におけるポリエステルには、例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω―ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分及びオキシカルボン酸成分の総量に対し２０モル％以下で共重合あるいは結合するものも包含される。
【００２０】
さらに本発明におけるポリエステルには、実質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し２モル％以下の量で、３官能以上のポリカルボン酸又はポリヒドロキシ化合物、例えばトリメリット酸、ペンタエリスリトール等を共重合したものも包含される。
【００２１】
上記ポリエステルは、それ自体公知であり、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。上記ポリエステルとしては、Ｏ―クロロフェノール中の溶液として３５℃で測定して求めた固有粘度が０．４〜０．９のものが好ましく、０．５〜０．７のものがさらに好ましく、０．５５〜０．６５のものが特に好ましい。
【００２２】
本発明における積層二軸配向ポリエステルフイルムは、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの２層より構成される。２層のポリエステルは同じものでも違ったものでもよいが、同じものが好ましい。
【００２３】
本発明における積層二軸配向ポリエステルフイルムは、全体の厚みが２〜１０μｍである。好ましくは３〜７μｍ、更に好ましくは４〜６μｍである。この厚みが１０μｍを超えるとテープ厚みが厚くなり、例えばカセットに入れるテープ長さが短くなり、十分な磁気記録容量が得られない。一方、２μｍ未満ではフイルム厚みが薄いが故に、フイルム製膜時にフイルム破断が多発し、またフイルムの巻取り性が不良となり、良好なフイルムロールが得られない。また平坦層の厚みが薄くなり、粗面側からの平滑面への表面性の影響が大きくなり、満足し得る平滑面の表面性も得られなくなる。
【００２４】
本発明における積層二軸配向ポリエステルフイルムは縦方向のヤング率が５００〜１０００ｋｇ／ｍｍ² 、横方向のヤング率が５００〜１４００ｋｇ／ｍｍ² で縦方向と横方向のヤング率の和が１３００〜２０００ｋｇ／ｍｍ² であることが好ましい。また、ヘリカル方式の磁気記録媒体用テープとして供する場合は、該テープと磁気ヘッドとの当たりの向上の観点から、横方向のヤング率が縦方向ヤング率より大きい方がより好ましい。ここで縦方向のヤング率が５００ｋｇ／ｍｍ² 未満であると、磁気テープの縦強度が弱くなり、記録・再生時縦方向に強い力がかかると、容易に破断してしまう。また横方向のヤング率が５００ｋｇ／ｍｍ² 未満であると、磁気テープの横強度が弱くなり、該テープと磁気ヘッドとの当たりが弱くなり、満足し得る電磁変換特性が得られない。一方、縦方向のヤング率が１０００ｋｇ／ｍｍ² を超えると、横方向の強度が低下し、該テープと磁気ヘッドとの当たりが弱くなり、満足し得る電磁変換特性が得られ難い。また横方向のヤング率が１４００ｋｇ／ｍｍ² を超えると、縦方向の強度が低下し、記録・再生時に縦方向に強い力がかかると容易に破断してしまう。
【００２５】
また縦方向と横方向のヤング率の和が１３００ｋｇ／ｍｍ² 未満であると、該テープと磁気ヘッドとの当たりが弱くなり、満足し得る電磁変換特性が得られない。一方、２０００ｋｇ／ｍｍ² を超えると、フイルム製膜時、延伸倍率が高くなり、フイルム破断が多発し、製品歩留りが著しく悪くなる。
【００２６】
本発明における積層二軸配向ポリエステルの表面粗さは、ポリエステルＡ層の中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）が４〜１５ｎｍ、好ましくは６〜１４ｎｍ、さらに好ましくは８〜１３ｎｍであり、１０点表面粗さ（ＷＲｚＡ）が１００〜２００ｎｍ、好ましくは１００〜１６０ｎｍ、さらに好ましくは１００〜１４０ｎｍである。このＷＲａＡが４ｎｍ未満であると、フイルムをロール状に巻いたとき、フイルムの滑りが悪くなり、ブツが発生し、うまく巻けない。一方、ＷＲａＡが１５ｎｍより大きいと、カレンダー工程で平滑面への突起の突き上げや、キュアリング工程で磁性層面への突起の転写があり、磁性層面が粗れ、電磁変換特性が悪化する。またこのＷＲｚＡが１００ｎｍ未満であると、エアスクイズ性が悪くなり、縦シワが発生し、うまく巻けない。一方、ＷＲｚＡが２００ｎｍより大きいと、カレンダー工程で平滑面への突起の突き上げや、キュアリング工程で磁性層面への突起の転写があり、磁性層面が粗れ、電磁変換特性が悪化する。
【００２７】
前記積層二軸配向ポリエステルフイルムは、また、ポリエステルＢ層の中心面平均粗さ（ＷＲａＢ）が０．５〜３．５ｎｍ、好ましくは０．５〜３．０ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜２．５ｎｍであり、１０点平均粗さ（ＷＲｚＢ）が１０〜８０ｎｍ、好ましくは１０〜６０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜５０ｎｍである。このＷＲａＢが０．５ｎｍ未満、またはＷＲｚＢが１０ｎｍ未満であると、フイルム製膜時、フイルム表面に傷が入りやすくなり、発生した削れ粉がフイルム表面に付着し、テープ化したとき、ドロップアウト増加の原因となる。一方、ＷＲａＢが３．５ｎｍより大きいとき、またはＷＲｚＢが８０ｎｍより大きくなると、磁性層を塗布したとき、磁性層の面が粗くなり、電磁変換特性が悪化する。
【００２８】
本発明における積層二軸配向ポリエステルフイルムは、ポリエステルＡ層およびポリエステルＢ層の表面と金属に対する摩擦係数がそれぞれ０．４以下、好ましくは、０．３５以下、さらに好ましくは０．３０以下であるのがよい。この摩擦係数が０．４を超えると、テープ加工工程時金属ロールとの滑り性が悪くなり、フイルムが金属ロールに貼り付き、シワが発生し、うまく磁性層あるいはＢＣ層を塗布できなかったり、またカレンダー工程でうまくカレンダーがかけられなくなったりする。
【００２９】
また、ポリエステルＡ層の金属ロールとの摩擦係数（μｋＡ）とポリエステルＢ層の金属ロールとの摩擦係数（μｋＢ）とは下記式
【００３０】
【数４】
μｋＡ≧μｋＢ
【００３１】
の関係にある。ポリエステルＡ層の摩擦係数（μｋＡ）をポリエステルＢ層の摩擦係数（μｋＢ）より低くしようとすると、ポリエステルＡ層の表面を粗くするかあるいはポリエステルＡ層にポリエステルＢ層と同様にコロイド粒子を含んだ塗布層を設ける必要がある。しかし、前者の場合はポリエステルＡ層の表面が粗くなりすぎ、カレンダー工程あるいはキュアリング工程で磁性面側の表面粗さが粗くなり、電磁変換特性が悪くなってしまう。また、後者の場合ポリエステルＡ層とポリエステルＢ層に塗布層が設けられることになり、フイルムの保管あるいは輸送時、高温にさらされた場合、ブロッキングしてしまい、使用できなくなる。
【００３２】
ポリエステルＡ層とポリエステルＢ層とのフイルム摩擦係数は０．５以下、好ましくは０．４５以下、さらに好ましくは０．３５以下がよい。このフイルム摩擦係数が０．５を超えると、フイルムをロール状に巻く時、フイルム間のすべりが悪くなるため、ブツが発生し、うまく巻けない。
【００３３】
本発明の積層二軸配向ポリエステルフイルムは、ポリエステルＢ層に水分散性共重合ポリエステル樹脂と平均粒径１０〜５０ｎｍのコロイド粒子とを主成分とした塗布層を設けることが好ましい。
【００３４】
水分散性共重合ポリエステル樹脂としては、特に限定しないが、好ましくは酸成分が４０〜９９モル％の２，６―ナフタレンジカルボン酸、０．１〜５モル％のスルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸及び０〜５５モル％の他の芳香族ジカルボン酸からなり、グリコール成分が４０〜１００モル％のエチレングリコール及び０〜６６モル％のビスフェノールＡの低級アルキレンオキサイド付加物を含んだ他のグリコール成分からなる水分散性共重合ポリエステル樹脂が好ましい。
【００３５】
またコロイド粒子は平均粒径１０〜５０ｎｍ、好ましくは１０〜４０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜３０ｎｍのものがよい。平均粒径が１０ｎｍ未満であると、粒子が小さすぎ、フイルムの摩擦係数が小さくできない。また平均粒径が５０ｎｍを超えると、粒子が大きすぎ、粒子が脱落しやすくなり、これがテープ化したときドロップアウトの原因となり、好ましくない。
【００３６】
本発明におけるポリエステルＡ層は、少なくとも平均粒径の異なる滑剤Ｉ、滑剤IIの２種以上の滑剤を含有したものが好ましい。単一系の滑剤系では相反する巻取り性と電磁変換特性の両立がむずかしくなる。
【００３７】
この滑剤としては粒径比（長径／短径）が１．０〜１．２の範囲にある球状不活性滑剤が好ましい。この球状不活性滑剤としては耐熱性高分子粒子及び無機粒子が好ましい。そして、耐熱性高分子粒子としては、例えば架橋ポリスチレン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋スチレン―アクリル樹脂粒子、架橋ポリエステル粒子、ポリイミド粒子、メラミン樹脂粒子等があげられる。この中でも架橋ポリスチレン樹脂粒子や架橋シリコーン樹脂粒子を用いると、本発明の効果が一層顕著となるので好ましい。また、無機粒子としては球状シリカ粒子が好ましい。
【００３８】
また、ポリエステルＢ層は実質的に外部添加滑剤を含まない、あるいは平均粒径０．０５〜０．２μｍ、添加量０．００５〜０．１ｗｔ％の範囲で外部添加滑剤を含有したものが好ましい。この滑剤としては、上述耐熱性高分子粒子あるいは球状シリカ粒子が好ましく、特に球状シリカが好ましい。
【００３９】
本発明におけるポリエステルＡ層および／又はポリエステルＢ層は、好ましくはポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン―２，６―ナフタレートからなり、さらに好ましくはポリエチレン―２，６―ナフタレートからなる。
【００４０】
特にフイルム全体の厚みが６μｍ以上の場合はポリエチレンテレフタレートからなってもよいが、６μｍ未満になるとヤング率をより高くできるポリエチレン―２，６―ナフタレートが好ましい。
【００４１】
本発明における積層二軸配向ポリエステルフイルムは、従来から知られている、あるいは当業界に蓄積されている方法に準じて製造することができる。例えば、先ず未配向積層フイルムを製造し、次いで該フイルムを二軸配向させることで得ることができる。この未配向積層フイルムは、従来から蓄積された積層フイルムの製造法で製造することができる。例えば、ポリエステルＡ層と、反対面を形成するポリエステルＢ層とを、ポリエステルの溶融状態又は冷却固化された状態で積層する方法を用いることができる。さらに具体的には、例えば共押出し、エクストルージョンラミネート等の方法で製造できる。上述の方法で積層されたフイルムは、更に従来から蓄積された二軸配向フイルムの製造法に準じて行ない、二軸配向フイルムとすることができる。例えば、融点（Ｔｍ：℃）ないし（Ｔｍ＋７０）℃の温度でポリエステルを溶融・共押出して未延伸積層フイルムを得、該未延伸積層フイルムを一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）で２．５倍以上、好ましくは３倍以上の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５倍以上、好ましくは３倍以上の倍率で延伸するのが好ましい。さらに必要に応じて縦方向および／又は横方向に再度延伸してもよい。このようにして全延伸倍率は、面積延伸倍率として９倍以上が好ましく、１２〜３５倍がさらに好ましく、１５〜３０倍が特に好ましい。さらにまた、二軸配向フイルムは、（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度で熱固定することができ、例えば１８０〜２５０℃で熱固定するのが好ましい。熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。
【００４２】
本発明の積層二軸配向ポリエステルフイルムは、ポリエステルＢ層の表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることができる。また、必要に応じて該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極めて有用である。
【００４３】
なお、本発明における種々の物性値および特性は、以下の如く測定されたものであり、かつ定義される。
【００４４】
（１）平均粒径
（Ａ）ポリエステルフイルムに添加した粒子
島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグル パーティクル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２４２〜２４７参照）。
【００４５】
（Ｂ）塗布層に添加したコロイド粒子
走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス５００（日本レギュレーター製）を用い、粒子の平均粒径を算出する。
【００４６】
（２）粒子の含有量
サンプルをポリエステルは溶解するが粒子は溶解しない溶媒を用いて溶解し、溶液から粒子を遠心分離し、粒子の全体量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
【００４７】
（３）層厚み
２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ３０００ｎｍまでの範囲のフイルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から深さ３０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。そして一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、これを表層厚さとする。
【００４８】
条件は次のとおりである。
１次イオン種 ：Ｏ₂ ⁺
１次イオン加速電圧：１２ＫＶ
１次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域 ：４００μｍ□
分析領域 ：ゲート３０％
測定真空度 ：６．０×１０^-3Ｔｏｒｒ
Ｅ―ＧＵＮ ：０．５ＫＶ―３．０Ａ
なお、表層から深さ３０００ｎｍ迄の範囲に最も多く含有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様のデプスプロファイルを測定し表層厚さを求めてもよい。
【００４９】
（４）フイルムの全体の厚み
ゴミの入らないようにしてフイルムを１０枚重ね、打点式電子マイクロメータにて厚みを測定し、１枚当たりのフイルム厚みを計算する。
【００５０】
（５）ヤング率
フィルムを試料幅１０ｍｍ、長さ１５ｃｍに切り、チャック間１００ｍｍにして、引張速度１０ｍｍ／分、チャート速度５００ｍｍ／分の条件でインストロンタイプの万能引張試験装置にて引張る。得られる荷重―伸び曲線の立上がり部の接線よりヤング率を計算する。
【００５１】
（６）電磁変換特性
下記機器を用いて、周波数７．４ＭＨＺの信号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨＺと７．４ＭＨＺの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、比較例４のＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。
◎：＋３ｄＢ以上
○：＋１ｄＢ以上＋３ｄＢ未満
×：＋１ｄＢ未満
使用する機器
８ｍｍビデオレコーダ：ソニー（株）製 ＥＤＶ―６０００
Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメータ
【００５２】
（７）表面粗さ（ＷＲａ、ＷＲｚ）
ＷＹＫＯ社製、非接触式三次元粗さ計（ＮＴ―２０００）を用いて、測定倍率４０倍、測定面積２４６．６μｍ×１８７．５μｍ（０．０４６２ｍｍ² ）の条件にて、測定数（ｎ）１０以上で測定を行い、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトにより、中心面平均粗さ（ＷＲａ）、および１０点平均粗さ（ＷＲｚ）を求める。
【００５３】
（Ａ）中心面平均粗さ（ＷＲａ）
下記式により計算され、アウトプットされた値である。
【００５４】
【数５】

【００５５】
Ｚ_jkは測定方向（２４６．６μｍ）、それと直行する方向（１８７．５μｍ）をそれぞれｍ分割、ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置における２次元粗さチャート上の高さである。
【００５６】
（Ｂ）１０点平均粗さ（ＷＲｚ）
ピーク（ＨＰ）の高い方から５点と谷（Ｈｖ）の低い方から５点をとり、その平均粗さをＷＲｚとする。
【００５７】
【数６】
ＷＲｚ＝［（Ｈp1＋Ｈp2＋Ｈp3＋Ｈp4＋Ｈp5）−（Ｈv1＋Ｈv2＋Ｈv3＋Ｈv4＋Ｈv5）］／５
【００５８】
（８）巻取り性
フイルムを１０００ｍｍ幅で、６０００ｍロール状に巻いたときの２ｍｍφ以上の大きさのブツの発生個数（図１参照）および縦シワの発生状況（図２参照）を測定し、ブツの個数については製品幅１ｍ当りに比例換算する。なお評価は１０本以上巻いたときの１本当りの平均値を求め、下記のように評価する。
（Ａ）ブツ
◎：０〜２ ケ／ｍ
○：３〜５ ケ／ｍ
△：６〜１０ケ／ｍ
×：１１ ケ／ｍ以上
（Ｂ）縦シワ
◎：０〜１０ ％未満
○：１０〜２０％未満
△：２０〜３０％未満
×：３０ ％以上
【００５９】
（９）搬送性
原反巾１０００ｍｍのロールをテープ化する時の磁性層塗布工程あるいはカレンダー工程でのフイルム平滑面と金属ロールとのすべり性不良による工程シワの発生を下記のように判定する。
◎：シワの発生が全くなし
○：シワの発生は少しあるが工程上問題なし
△：シワの発生はあるが工程上、使いこなせる
×：シワの発生が、強く使いこなせない
【００６０】
（１０）フイルム摩擦係数μｓ
重ね合わせた２枚のフイルムの下側に固定したガラス板を置き、重ね合わせたフイルムの下側（ガラス板と接しているフイルム）のフイルムを低速ロールにて引取り（約１０ｃｍ／分）、上側のフイルムの一端（下側フイルムの引取り方向と逆端）に検出器を固定してフイルム／フイルム間のスタート時の引張力を検出する。尚、そのときに用いるスレッドは重さ１ｋｇ、下側面積１００ｃｍ² のものを使用する。
なお摩擦係数（μｓ）は次式より求めた。
【００６１】
【数７】
μｓ＝スタート時の引張力（ｋｇ）／荷重１ｋｇ
【００６２】
（１１）金属に対するフイルム摩擦係数μｋ
温度２０℃、湿度６０％の環境で、ポリエステルＡ層表面またはポリエステルＢ層表面を３ｍｍφのＳＵＳ棒に角度θ＝πラジアン（１８０°）で接触させて毎分２００ｃｍの速さで移動（摩擦）させる。入口テンションＴ₁ が３５ｇとなるようにテンションコントローラ２を調整した時の出口テンション（Ｔ₂ ：ｇ）をフイルムが６ｍ走行したのちに出口テンション検出機で検出し、次式で走行摩擦係数μｋを算出する。なおこの測定を１０回行い、その平均値を採用する。
【００６３】
【数８】

【００６４】
【実施例】
以下、実施例をあげて本発明をさらに説明する。なお、「部」は重量部を意味する。
【００６５】
［実施例１、３、比較例３、５］
＜共重合ポリエステル樹脂の製造＞
２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチル９０部、イソフタル酸ジメチル６部、５―ナトリウムスルホイソフタル酸４部、エチレングリコール７０部及び下記構造式で示されるビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物３０部をエステル交換反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン０．０５部を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。
【００６６】
【化１】

【００６７】
（但し、ｍ＋ｎ＝４（平均値））
【００６８】
次いで、この反応系に、イルガノックス１０１０（チバガイギー社製）を０．６部添加した後、温度を徐々に２５５℃まで上昇させ、系内を１ｍｍＨｇの減圧にして重縮合反応を行い、固有粘度０．６４の共重合ポリエステル樹脂を得た。この共重合ポリエステル樹脂の組成を表１に示す。
【００６９】
＜ポリエステル水分散体の調製＞
この共重合ポリエステル樹脂２０部をテトラヒドロフラン８０部に溶解し、得られた溶液に１００００回転／分の高速攪拌下で水１８０部を滴下して青みがかった乳白色の分散体を得た。次いでこの分散体を２０ｍｍＨｇの減圧下で蒸留し、テトラヒドロフランを留去した。かくして固形分濃度１０ｗｔ％のポリエステル水分散体を得た。
【００７０】
かくして得られたポリエステル水分散体１００部に対し、表１に示した平均粒径２５ｎｍのコロイド粒子２０部および界面活性剤としてＨＬＢ１２．８のポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル１４部からなる組成の水系塗液（固形分濃度１．８ｗｔ％）を作成した。
【００７１】
＜二軸配向ポリエステルフイルムの作成＞
ジメチル―２，６―ナフタレートとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す添加粒子を添加して常法により重合し、固有粘度（オルソクロロフェノール、３５℃）０．６１のＡ層用及びＢ層用ポリエチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）を得た。
【００７２】
これらポリエチレン―２，６―ナフタレートのペレットを１７０℃で６時間乾燥後、２台の押出機ホッパーに供給し、溶融温度２８０〜３００℃で溶融し、マルチマニホールド型共押出ダイを用いてＢ層の片側にＡ層を、積層させ、表面仕上げ０．３Ｓ程度、表面温度６０℃の回転冷却ドラム上に押出し、厚み９０μｍの積層未延伸フイルムを得た。
【００７３】
このようにして得られた積層未延伸フイルムを１２０℃に予熱し、更に低速、高速のロール間で１５ｍｍ上方より９００℃の表面温度のＩＲヒーターにて加熱して４．０倍に延伸し、冷却した後、前記で調整した塗布液を一軸延伸フイルムのポリエステルＢ層側にｄｒｙの状態で１０ｎｍになる様に塗布した。続いてステンターに供給し、１４５℃にて横方向に５．０倍に延伸した。得られた二軸延伸フイルムを２１０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み４．５μｍの積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。これらのフイルムのヤング率は縦方向６００ｋｇ／ｍｍ² 、横方向９００ｋｇ／ｍｍ² であった。
【００７４】
なお、磁気テープの製造法は次のとおり行った。
下記に示す組成物をボールミルに入れ、１６時間混練、分散した後、イソシアネート化合物（バイエル社製のデスモジュールＬ）５部を加え、１時間高速剪断分散して磁性塗料とする。
磁性塗料の組成：
針状Ｆｅ粒子 １００部
塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体 １５部
（積水化学製エスレック７Ａ）
熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５部
酸化クロム ５部
カーボンブラック ５部
レシチン ２部
脂肪酸エステル １部
トルエン ５０部
メチルエチルケトン ５０部
シクロヘキサノン ５０部
【００７５】
この磁性塗料を二軸配向積層ポリエステルフイルムの片面（Ｂ層）に、塗布厚０．５μｍとなるように塗布し、次いで２５００ガウスの直流磁場中で配向処理を行ない、１００℃で加熱乾燥後、スパーカレンダー処理（線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度８０℃）を行ない、巻き取った。この巻き取ったロールを５５℃のオーブン中に３日間保持した後、８ｍｍ巾に裁断して磁気テープを得た。この結果を表１に示す。
【００７６】
［実施例４］
表１に示す添加粒子をポリエステルＡ層およびポリエステルＢ層に添加し、またフイルムのヤング率が縦方向５５０ｋｇ／ｍｍ² 、横方向１２００ｋｇ／ｍｍ² になるように縦方向および横方向の延伸倍率を変える以外は実施例１と同じように行って、積層二軸配向ポリエステルフイルムを得、その後実施例１と同様な方法にて磁気テープを得た。この結果を表１に示す。
【００７７】
［比較例１〜２］
表１に示す添加粒子をポリエステルＡ層およびＢ層に添加し、一軸延伸後、塗布層を設けない以外は実施例１と同様な方法にて磁気テープを得た。この結果を表１に示す。
【００７８】
［比較例４］
表１に示す添加粒子を単層系にて実施し一軸延伸後、塗布層を設けない以外は実施例１と同様な方法にて磁気テープを得た。この結果を表１に示す。
【００７９】
【表１】

【００８０】
表１から明らかなように、本発明によるものは、優れた電磁変換特性を示しつつ、優れた巻取り性、搬送性の特性を有している。
【００８１】
【発明の効果】
本発明によれば、優れた電磁変換特性を有し、かつ優れた巻取り性、搬送性等の特性を有した積層二軸配向ポリエステルフイルムを提供することができる。このポリエステルフイルムは、磁気記録媒体のベースフイルムとして、特に１／２インチビデオテープ、８ｍｍビデオテープ、データカートリッジテープ、デジタル方式のビデオテープ等の磁気テープのベースフイルムとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】フイルムをロール状に巻いたときのブツの発生状況を模式的に示す説明図である。
【図２】フイルム縦シワの発生状況とこの比率を求める模式的説明図である。

Claims (13)

1. ポリエステルＢ層の上にポリエステルＡ層を積層してなる積層二軸配向ポリエステルフイルムであって、
   （１） ポリエステルＡ層の中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）が８〜１４ｎｍ、１０点平均粗さ（ＷＲｚＡ）が１００〜２００ｎｍであり、そしてポリエステルＢ層の中心面平均粗さ（ＷＲａＢ）が０．５〜３．５ｎｍ、１０点平均粗さ（ＷＲｚＢ）が１０〜８０ｎｍであり、
   （２） ポリエステルＡ層表面の金属に対する摩擦係数（μｋＡ）が０．４以下であり、ポリエステルＢ層表面の金属に対する摩擦係数（μｋＢ）が０．４以下であり、そしてμｋＡとμｋＢとは下記式の関係にあり、そして
   

   

   （３） ポリエステルＡ層表面とポリエステルＢ層表面とのフイルム摩擦係数（μｋｆ）が０．５以下である
   ことを特徴とする積層二軸配向ポリエステルフイルム。
2. ポリエステルＢ層表面に水分散性共重合ポリエステル樹脂と平均粒径１０〜５０ｎｍのコロイド粒子とを主成分とした塗布層を設けた請求項１記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
3. ポリエステルＡ層が少なくとも平均粒径の異なる滑剤Ｉ、滑剤IIを含有した２種以上の滑剤を含有する請求項１記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
4. ポリエステルＡ層に含まれる滑剤Ｉ、滑剤IIが球状不活性粒子である請求項３記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
5. ポリエステルＡ層に含まれる滑剤Ｉ、滑剤IIが耐熱性高分子粒子あるいは球状シリカ粒子である請求項４記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
6. ポリエステルＡ層に含まれる滑剤Ｉ、滑剤IIが球状シリカ粒子である請求項４記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
7. ポリエステルＡ層に含まれる滑剤Ｉの平均粒径（Ｄ_Ｉ）が０．２〜０．６μｍであり、滑剤Ｉの平均粒径（Ｄ_Ｉ）と滑剤IIの平均粒径（Ｄ_ＩＩ）の差が
   

   

   である請求項４記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
8. ポリエステルＢ層が実質的に滑剤を含有しない請求項１〜７のいずれか１項記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
9. ポリエステルＢ層が平均粒径０．０５〜０．２μｍ、添加量０．００５〜０．１ｗｔ％の滑剤を含有する請求項１〜７のいずれか１項記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
10. フイルムの縦方向のヤング率が５００〜１０００ｋｇ／ｍｍ^２、横方向のヤング率が５００〜１４００ｋｇ／ｍｍ^２で、縦、横方向のヤング率の和が１３００〜２０００ｋｇ／ｍｍ^２である請求項１記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
11. フイルムの横方向のヤング率が縦方向のヤング率よりも大きい請求項１０記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
12. ポリエステルＡ層およびポリエステルＢ層がポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルムである請求項１または１０記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。
13. デジタル記録方式の磁気記録テープに用いられる請求項１、１０または１２記載の積層二軸配向ポリエステルフイルム。

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