KR20000067106A - 유리기판 에칭장치 - Google Patents
유리기판 에칭장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20000067106A KR20000067106A KR1019990014632A KR19990014632A KR20000067106A KR 20000067106 A KR20000067106 A KR 20000067106A KR 1019990014632 A KR1019990014632 A KR 1019990014632A KR 19990014632 A KR19990014632 A KR 19990014632A KR 20000067106 A KR20000067106 A KR 20000067106A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- etching
- glass substrate
- etchant
- etching bath
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
본 발명의 유리기판 에칭장치는, 에천트가 채워진 에칭배스 내부의 컬러필터기판과 박막트랜지스터기판의 합착기판을 초음파 진동자의 초음파 진동을 이용하여 유리기판의 표면에 잔존하는 불순물을 제거하므로써 유리기판의 표면을 균일하게 한다.
Description
본 발명은 에칭장치에 관한 것으로, 특히 초음파 진동을 이용하여 유리기판을 균일하게 에칭할 수 있는 유리기판 에칭장치에 관한 것이다.
텔레비젼이나 퍼스널컴퓨터의 표시장치에 주로 사용되고 있는 CRT(cathod ray tube)는 대면적의 화면을 만들 수 있다는 장점이 있지만, 이러한 대면적의 화면을 만들기 위해서는 전자총(electron gun)과 발광물질이 도포된 스크린과의 거리가 일정 이상을 유지해야만 하기 때문에 그 부피가 커지는 문제가 있었다. 따라서, CRT는 현재 활발하게 연구되고 있는 벽걸이용 텔레비젼 등에 적용할 수 없을 뿐만 아니라, 근래에 주목받고 있는 휴대용 텔레비젼이나 노트북 컴퓨터 등과 같이 저전력을 필요로 하며 소형화를 요구하는 전자제품에도 적용할 수가 없었다.
이러한 표시장치의 요구에 부응하여 LCD(Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)와 같은 평판표시장치가 연구되고 있지만, 그 중에서도 LCD가 여러가지의 단점에도 불구하고 화질이 우수하며 저전력을 사용한다는 점에서 근래에 가장 활발하게 연구되고 있다. 이러한 LCD를 채용한 휴대용 텔레비젼이나 노트북 컴퓨터가 현재 시중에 시판되고 있지만, 아직도 해결해야 할 문제가 여러가지 존재하는 실정이다. 특히, 휴대용 텔레비젼이나 노트북 컴퓨터 등은 사용자가 항상 휴대하고 다니기 때문에 크기나 중량을 줄이는 것이 LCD개발의 주요한 성공요건이 되고 있다.
LCD의 크기나 무게를 줄이기 위해서는 여러가지 방법이 적용될 수 있지만, 그 구조나 현재 기술상 LCD의 필수 구성요소를 줄이는 것은 한계가 있다. 더우기, 이러한 필수 구성요소는 중량이 작기 때문에 크기나 중량을 줄이는 것은 대단히 어려운 실정이다. 반면에 LCD의 가장 기본적인 구성요소인 유리기판은 기술이 진전되어 감에 따라 그 중량을 줄일 수 있는 여지가 남아 있다. 특히, 유리기판은 LCD를 구성하는 요소 중에서 가장 중량이 크기 때문에 그 중량을 줄이기 위한 연구가 계속되고 있다.
유리기판의 중량을 줄인다는 것은 기판의 두께를 얇게 한다는 것을 의미한다. 그러나, 유리의 두께가 얇아지면, 유리가 파손되기 쉽고, 또한 유리의 가공과정에서 유리표면이 매끈하게 되지 않으면 LCD의 화질에 중대한 결함을 일으킨다는 점에서 대단히 어렵고 중요한 일이다.
유리기판의 두께, 즉 중량을 줄이기 위해서 현재 가장 많이 사용되는 방법이 유리기판을 에천트(etchant)가 채워진 용기에 담가 이 에천트에 의해 유리기판의 표면을 에칭(etching)하는 방법이다. 그러나, 이러한 방법에서는 기판 자체의 불완전성에 의해 기판이 균일하게 에칭되지 않고, 더우기 에칭과정에서 생성되는 불순물이 기판에 달라 붙게 되어 기판의 표면이 울퉁불퉁하게 되는 문제가 있었다.
이러한 문제를 해결하기 위해, 에천트에 기판을 세워서 배열한 후 기포, 특히 질소기포를 공급하여 에칭과정에서 생성된 불순물을 기판표면에서 제거하는 방법이 제안되고 있다.
도 1은 종래 질소기포에 의해 유리기판을 에칭하는 유리기판 에칭장치의 단면도로서, 도면에서, 에천트(121)가 채워진 에칭배스(111)의 내부에는 일정한 공간을 두고 테플론 카세트(teflon cassette)(117)가 형성되어 있다. 에천트(121)의 높이는 에칭배스(111)의 높이 보다 낮게 형성되어 에천트가 밖으로 흘러 나가지 못하게 한다. 테플론 카세트(117) 안에는 컬러필터기판과 박막트랜지스터기판의 합착기판(119)이 설치대(도시하지 않음)에 의해 고정된다. 테플론 카세트(117)의 하부에는 질소기포발생판(113)이 형성되어 복수의 질소기포발생튜브(115)를 통하여 질소기포(123)를 공급한다. 공급된 질소기포(123)는 합착기판(119)의 표면을 타고 상승하여 식각과정에서 발생된 기판표면의 불순물을 제거한다. 상기한 과정에서 합착기판(119)의 에칭정도는 에천트(121)와 합착기판(119) 사이에 발생하는 발열반응에 의한 온도에 의해 결정된다.
하지만, 이 방법에서도 질소기포(123)가 올라가는 동안 기판(119)의 윗부분과 아랫부분 사이의 두께를 불균일하게 하기 때문에 기판(119)의 두께를 아주 얇게 에칭하는 경우, 두께의 분균일에 의해 LCD제작과정에서 기판에 힘이 가해지면 기판이 금이 가며, 심지어는 기판 자체가 파손되는 원인이 된다. 더욱, 오랜 시간(수십분)동안 기판을 에천트에 노출시켜야 하기 때문에 제조비용이 상승하고, 식각 후 발생하는 슬러지(sludge)는 질소기포발생판(113)의 기포발생구멍을 부분적으로 막히게 하여 대량 불량이 발생하는 문제도 있었다.
본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 유리기판의 표면을 얇고 균일하게 에칭할 수 있는 유리기판 에칭장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 유리기판 에칭장치는 에천트가 채워진 에칭배스와, 에칭배스 안에서 그 내부에 컬러필터기판과 박막트랜지스터기판의 합착기판을 보유하는 테플론 카세트와, 상기한 에칭배스의 외부에 부착되어 초음파를 발생시키는 초음파 진동자로 구성된다.
본 발명에 따르면 식각공정 전에 유리기판에 부착된 불순물을 별도의 공정을 거치지 않고 에칭공정 중에 제거할 수 있고, 컬러필터기판과 박막트랜지스터기판의 합착 후 유리기판 에칭시, 초음파 진동자에서 발생하는 초음파에 의해 에칭과정에서 발생하는 유리기판 표면의 불순물을 제거하여 유리기판의 표면을 균일하게 한다.
도 1은 종래 유리기판 에칭장치의 단면도.
도 2는 본 발명에 따른 유리기판 에칭장치의 단면도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
111, 211: 에칭배스 121, 221 : 에천트
117, 217 : 테플론 카세트 119, 219 : 합착기판
223 : 초음파진동자
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 유리기판 에칭장치를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 유리기판 에칭장치의 단면도로서, 도면에 나타내듯이, 본 발명에 따른 에칭장치는 에천트(221)가 채워진 에칭배스(211)와, 상기한 에칭배스(211) 안에서 그 내부에 컬러필터기판과 박막트랜지스터기판의 합착기판(219)을 보유하는 테플론 카세트(217)와, 상기한 에칭배스(211)의 외부에 부착되고, 초음파를 발생시켜 초음파의 진동에 의해 합착기판(219) 표면의 불순물을 제거하는 초음파 진동자(223)로 구성된다.
에천트(221)의 높이는 에칭배스(211)의 높이 보다 낮게 형성되어 에천트(221)가 밖으로 흘러 나가지 못하며, 컬러필터기판과 박막트랜지스터기판의 합착기판(219)은 설치대(도시하지 않음)에 의해 일정한 간격을 두고 고정된다.
초음파 진동자(223)에서 발생된 초음파(도면의 점선화살표)는 합착기판(119)의 표면에 진동에 의한 충격을 가하여 식각과정에서 발생된 기판표면의 불순물을 기판 표면으로부터 제거한다.
이하, 본 발명의 유리기판 에칭장치를 이용한 에칭공정을 설명한다.
(실시예)
(1) 에칭배스 내에 에천트를 채운다.
(2) 합착된 유리기판이 채워진 테플론 카세트를 에천트에 완전히 잠기게 한다.
(3) 테플론 카세트를 에천트에 완전히 잠기게 한 후 30초 이내에 초음파 진동자를 진동시킨다.
(4) 가온효과에 의한 작업시간의 단축을 위해 에천트의 온도를 5∼10℃ 상승시키면서 에칭을 진행한다.
본 발명에서 이용되는 초음파는 알려져 있듯이, 어군 탐지, 깊이 측정, 세정, 초음파 가공, 및 의료분야 등등에서 널리 이용되는 것으로서, 본 발명에서는 식각공정 전에 기판에 잔존하는 불순물 또는 식각공정 중에 발생된 불순물을 기판 표면으로부터 분리시키기 위해 이용되고, 더욱 기판의 표면에 형성된 유기막을 제거하는데 매우 효과적이다.
종래 질소기포를 이용하여 불순물을 제거하는 방법은 기포에 의한 문제점 외에도, 질소기포가 유리기판의 표면을 직접 거쳐야 하므로 기포발생장치가 에칭배스 내부에 제공되어야 했다. 이것은 에천트의 선택이나 장치의 설계에도 많은 제약이 되었다.
반면에, 본 발명에 따르면 유리기판에 직접적으로 접촉하지 않고도 초음파의 진동을 통하여 불순물을 기판의 표면으로부터 분리시키므로써 장치의 간소화를 꾀할 수 있다.
본 발명은 특히 기판의 두께를 아주 얇게 에칭하는 경우에 보다 바람직하게 이용될 수 있다. 즉, 초음파 진동은 기계적으로 그 크기를 조절하기 쉬울 뿐만 아니라 장시간 사용하더라도 기판의 파손을 예방할 수 있기 때문이다.
본 발명에 따른 유리기판 에칭장치는 초음파의 진동을 통하여 식각과정에서 발생하는 불순물을 제거하므로써, 두께가 얇고 표면이 평탄한 기판을 제작할 수 있게 한다.
또한, 식각공정 이전에 유리기판의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 별도의 공정을 필요로 하지 않아 공정수를 단축시킬 수 있다.
Claims (1)
- 에천트가 채워진 에칭배스와,에칭배스 안에서 그 내부에 유리기판을 보유하는 테플론 카세트와,상기한 에칭배스의 외부에 형성되고 초음파를 발생시키는 초음파 진동자로 구성된 유리기판 에칭장치.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990014632A KR20000067106A (ko) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 유리기판 에칭장치 |
US09/556,462 US6675817B1 (en) | 1999-04-23 | 2000-04-24 | Apparatus for etching a glass substrate |
US10/689,622 US7132034B2 (en) | 1998-03-16 | 2003-10-22 | Apparatus for etching a glass substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990014632A KR20000067106A (ko) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 유리기판 에칭장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20000067106A true KR20000067106A (ko) | 2000-11-15 |
Family
ID=19581905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990014632A KR20000067106A (ko) | 1998-03-16 | 1999-04-23 | 유리기판 에칭장치 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6675817B1 (ko) |
KR (1) | KR20000067106A (ko) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101656998B1 (ko) * | 2015-05-08 | 2016-09-12 | (주)티엠테크 | 분산 설치된 집진기를 이용한 공기정화장치 |
CN108237116A (zh) * | 2018-01-23 | 2018-07-03 | 滁州英诺信电器有限公司 | Pc材料镀膜前的清洗工艺 |
CN113173708A (zh) * | 2021-03-10 | 2021-07-27 | 凯盛科技股份有限公司 | 一种提高柔性玻璃弯折性能的加工方法 |
KR102423292B1 (ko) * | 2021-09-07 | 2022-07-20 | 한국기계연구원 | 식각 장치 및 이를 포함하는 인터포저 제조 시스템 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100685918B1 (ko) * | 2000-12-27 | 2007-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유리기판 식각장치 및 이를 이용한 유리기판 식각방법 |
KR100776508B1 (ko) * | 2000-12-30 | 2007-11-16 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 패널의 제조방법 |
US8512580B2 (en) * | 2001-09-21 | 2013-08-20 | Lg Display Co., Ltd. | Method of fabricating thin liquid crystal display device |
US20070092876A1 (en) * | 2002-11-18 | 2007-04-26 | Guolin Xu | Method and system for cell and/or nucleic acid molecules isolation |
KR101085628B1 (ko) | 2009-09-03 | 2011-11-22 | 김철하 | 간지의 진동 방식에 의한 기판 식각 방법 및 장치 |
US20120305526A1 (en) * | 2011-06-03 | 2012-12-06 | Himax Technologies Limited | Method of wet etching substrates for forming through holes to embed wafer level optical lens modules |
CN102866438B (zh) * | 2011-07-06 | 2015-06-03 | 奇景光电股份有限公司 | 湿蚀刻基板的方法 |
CN106573829B (zh) * | 2014-07-30 | 2020-05-05 | 康宁股份有限公司 | 超声槽和均匀玻璃基板蚀刻方法 |
CN112868090B (zh) * | 2019-09-12 | 2024-09-24 | 铠侠股份有限公司 | 基板处理装置 |
CN111658157B (zh) * | 2020-06-16 | 2021-06-25 | 贵州航天医院 | 一种感染控制用体温计存放装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04130629A (ja) * | 1990-09-20 | 1992-05-01 | Fujitsu Ltd | エッチング液調合装置 |
JPH07240398A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-12 | Murata Mfg Co Ltd | シリコン基板のエッチング方法およびエッチング装置 |
JPH0964011A (ja) * | 1995-08-29 | 1997-03-07 | Mitsubishi Materials Shilicon Corp | 半導体ウェーハのエッチング方法およびその装置ならびに半導体ウェーハ |
KR970015296U (ko) * | 1995-09-22 | 1997-04-28 | 엘지반도체주식회사 | 반도체 웨이퍼 식각장치 |
KR19980022868A (ko) * | 1996-09-24 | 1998-07-06 | 엄길용 | 트랜스퍼 몰드 기술을 이용한 필드 에미터 어레이 제조방법 |
KR19980034691A (ko) * | 1996-11-08 | 1998-08-05 | 이채우 | 금속 시트재의 프리에칭 장치 및 그 방법 |
KR19980071560A (ko) * | 1997-02-21 | 1998-10-26 | 미타라이 후지오 | 웨이퍼 처리장치, 웨이퍼 처리방법 및 반도체기체의 제조방법 |
Family Cites Families (65)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1200180A (fr) | 1957-02-18 | 1959-12-18 | Corning Glass Works | Procédé de régénération de bains d'attaque du verre |
GB1049328A (en) * | 1962-07-13 | 1966-11-23 | Du Pont | Porous structures of polytetrafluoroethylene resins |
US3481687A (en) * | 1965-03-08 | 1969-12-02 | Sherman S Fishman | Method and apparatus for ultrasonic sterilization |
US3489624A (en) * | 1965-03-31 | 1970-01-13 | Westinghouse Canada Ltd | Etching techniques for glass |
US3411999A (en) * | 1965-12-10 | 1968-11-19 | Value Engineering Company | Method of etching refractory metal based materials uniformly along a surface |
US3520724A (en) * | 1967-06-23 | 1970-07-14 | Dynamics Corp America | Dual tank sonic processing system and method |
US3661660A (en) * | 1968-02-21 | 1972-05-09 | Grace W R & Co | Method for ultrasonic etching of polymeric printing plates |
DE1920009B2 (de) | 1969-04-19 | 1971-11-11 | Dunchen, Hannes, 3340 Wolfen buttel | Verfahren und vorrichtung zum behandeln von feststoffhaltiger poliersaeure |
US3767491A (en) * | 1970-10-27 | 1973-10-23 | Cogar Corp | Process for etching metals employing ultrasonic vibration |
US3813205A (en) * | 1972-11-21 | 1974-05-28 | Gen Electric | Ultrasonically etched photoflash lamp |
US3871395A (en) * | 1973-02-26 | 1975-03-18 | Fibra Sonics | Ultrasonic/chemical cleaner for contact lenses |
US3964957A (en) * | 1973-12-19 | 1976-06-22 | Monsanto Company | Apparatus for processing semiconductor wafers |
US4200668A (en) * | 1978-09-05 | 1980-04-29 | Western Electric Company, Inc. | Method of repairing a defective photomask |
JPS55130839A (en) * | 1979-03-29 | 1980-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | Uniform etching method of article |
US4370192A (en) * | 1980-10-20 | 1983-01-25 | American Microsystems, Inc. | Apparatus for chemical etching of silicon |
US4482425A (en) | 1983-06-27 | 1984-11-13 | Psi Star, Inc. | Liquid etching reactor and method |
JPS60163435A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-08-26 | Toshiba Corp | 半導体ウエハ洗浄装置 |
US4602184A (en) * | 1984-10-29 | 1986-07-22 | Ford Motor Company | Apparatus for applying high frequency ultrasonic energy to cleaning and etching solutions |
US4715686A (en) | 1984-11-16 | 1987-12-29 | Seiko Epson Corporation | Light-passive display device and method of manufacturing same |
EP0182306B1 (en) * | 1984-11-17 | 1991-07-24 | Daikin Industries, Limited | Etchant composition |
GB8504535D0 (en) * | 1985-02-21 | 1985-03-27 | Barr & Stroud Ltd | Flexible optical fibre bundles |
JPS61275728A (ja) | 1985-05-02 | 1986-12-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | カラ−液晶表示パネル |
US4653636A (en) * | 1985-05-14 | 1987-03-31 | Microglass, Inc. | Wafer carrier and method |
JPS62281431A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-07 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 超音波洗浄方法および装置 |
JPS63108725A (ja) * | 1986-10-27 | 1988-05-13 | Sony Corp | エツチング、洗浄等の処理方法 |
DE3728693A1 (de) * | 1987-08-27 | 1989-03-09 | Wacker Chemitronic | Verfahren und vorrichtung zum aetzen von halbleiteroberflaechen |
JPH0541548Y2 (ko) | 1987-10-01 | 1993-10-20 | ||
US4854337A (en) * | 1988-05-24 | 1989-08-08 | Eastman Kodak Company | Apparatus for treating wafers utilizing megasonic energy |
JP2748429B2 (ja) * | 1988-09-12 | 1998-05-06 | 日本電気株式会社 | 半導体基板の洗浄装置 |
JPH0296334A (ja) | 1988-10-01 | 1990-04-09 | Nisso Eng Kk | 高温エッチング液の循環方法 |
JPH0692263B2 (ja) * | 1989-02-16 | 1994-11-16 | 伊藤忠商事株式会社 | 記録ディスク基板及びその製造方法 |
US5000795A (en) | 1989-06-16 | 1991-03-19 | At&T Bell Laboratories | Semiconductor wafer cleaning method and apparatus |
JPH03218629A (ja) * | 1989-11-22 | 1991-09-26 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US5027841A (en) * | 1990-04-24 | 1991-07-02 | Electronic Controls Design, Inc. | Apparatus to clean printed circuit boards |
US5076305A (en) * | 1990-08-13 | 1991-12-31 | Kevin T. Williams | Apparatus for cleaning by rapid vibration |
JPH04115530A (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-16 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US5082518A (en) | 1990-10-29 | 1992-01-21 | Submicron Systems, Inc. | Sparger plate for ozone gas diffusion |
US5112453A (en) | 1990-10-31 | 1992-05-12 | Behr Omri M | Method and apparatus for producing etched plates for graphic printing |
US5251980A (en) | 1990-12-14 | 1993-10-12 | Anritsu Corporation | Sensing system for measuring specific value of substance to be measured by utilizing change in thermal resistance |
US5088510A (en) * | 1991-02-04 | 1992-02-18 | Bannon John H | Ultrasonic parts cleaning container |
JPH0529297A (ja) * | 1991-07-24 | 1993-02-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ウエツトエツチング装置 |
JP2696017B2 (ja) * | 1991-10-09 | 1998-01-14 | 三菱電機株式会社 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
JPH05109685A (ja) * | 1991-10-15 | 1993-04-30 | Toshiba Corp | 超音波洗浄装置 |
JPH05166776A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-07-02 | Nippon Steel Corp | 半導体ウェーハの洗浄方法およびその装置 |
US5277715A (en) | 1992-06-04 | 1994-01-11 | Micron Semiconductor, Inc. | Method of reducing particulate concentration in process fluids |
US5330883A (en) * | 1992-06-29 | 1994-07-19 | Lsi Logic Corporation | Techniques for uniformizing photoresist thickness and critical dimension of underlying features |
US5364510A (en) * | 1993-02-12 | 1994-11-15 | Sematech, Inc. | Scheme for bath chemistry measurement and control for improved semiconductor wet processing |
US5531343A (en) * | 1993-07-15 | 1996-07-02 | At&T Corp. | Cylindrical fiber probe devices and methods of making them |
US5394500A (en) * | 1993-12-22 | 1995-02-28 | At&T Corp. | Fiber probe device having multiple diameters |
US5480046A (en) * | 1993-12-22 | 1996-01-02 | At&T Corp. | Fiber probe fabrication having a tip with concave sidewalls |
GB9400259D0 (en) * | 1994-01-07 | 1994-03-02 | Pilkington Plc | Substrate for a magnetic disc and manufacture thereof |
US5445705A (en) * | 1994-06-30 | 1995-08-29 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for contactless real-time in-situ monitoring of a chemical etching process |
US5540784A (en) | 1994-09-23 | 1996-07-30 | United Laboratories, Inc. | Pressurized closed flow cleaning system |
US5585069A (en) * | 1994-11-10 | 1996-12-17 | David Sarnoff Research Center, Inc. | Partitioned microelectronic and fluidic device array for clinical diagnostics and chemical synthesis |
US5654057A (en) | 1994-12-28 | 1997-08-05 | Hoya Corporation | Sheet glass flattening method, method of manufacturing glass substrate for an information recording disk using flattened glass, method of manufacturing a magnetic recording disk using glass substrate, and magnetic recording medium |
JP3319912B2 (ja) * | 1995-06-29 | 2002-09-03 | 株式会社デンソー | 半導体センサ用台座およびその加工方法 |
JPH0990333A (ja) | 1995-09-26 | 1997-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液晶表示装置 |
US5919607A (en) * | 1995-10-26 | 1999-07-06 | Brown University Research Foundation | Photo-encoded selective etching for glass based microtechnology applications |
KR100192489B1 (ko) | 1995-12-26 | 1999-06-15 | 구본준 | 용기를 갖는 습식에치 장치의 에치 종말점 측정방법 |
US5819434A (en) | 1996-04-25 | 1998-10-13 | Applied Materials, Inc. | Etch enhancement using an improved gas distribution plate |
KR100265556B1 (ko) * | 1997-03-21 | 2000-11-01 | 구본준 | 식각장치 |
JPH116081A (ja) * | 1997-06-16 | 1999-01-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 金属薄板のエッチング装置 |
JP3595441B2 (ja) * | 1997-12-29 | 2004-12-02 | 三菱電機株式会社 | 塩酸過水を用いた洗浄方法 |
US6146469A (en) * | 1998-02-25 | 2000-11-14 | Gamma Precision Technology | Apparatus and method for cleaning semiconductor wafers |
US6399517B2 (en) * | 1999-03-30 | 2002-06-04 | Tokyo Electron Limited | Etching method and etching apparatus |
-
1999
- 1999-04-23 KR KR1019990014632A patent/KR20000067106A/ko not_active Application Discontinuation
-
2000
- 2000-04-24 US US09/556,462 patent/US6675817B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-10-22 US US10/689,622 patent/US7132034B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04130629A (ja) * | 1990-09-20 | 1992-05-01 | Fujitsu Ltd | エッチング液調合装置 |
JPH07240398A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-12 | Murata Mfg Co Ltd | シリコン基板のエッチング方法およびエッチング装置 |
JPH0964011A (ja) * | 1995-08-29 | 1997-03-07 | Mitsubishi Materials Shilicon Corp | 半導体ウェーハのエッチング方法およびその装置ならびに半導体ウェーハ |
KR970015296U (ko) * | 1995-09-22 | 1997-04-28 | 엘지반도체주식회사 | 반도체 웨이퍼 식각장치 |
KR19980022868A (ko) * | 1996-09-24 | 1998-07-06 | 엄길용 | 트랜스퍼 몰드 기술을 이용한 필드 에미터 어레이 제조방법 |
KR19980034691A (ko) * | 1996-11-08 | 1998-08-05 | 이채우 | 금속 시트재의 프리에칭 장치 및 그 방법 |
KR19980071560A (ko) * | 1997-02-21 | 1998-10-26 | 미타라이 후지오 | 웨이퍼 처리장치, 웨이퍼 처리방법 및 반도체기체의 제조방법 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101656998B1 (ko) * | 2015-05-08 | 2016-09-12 | (주)티엠테크 | 분산 설치된 집진기를 이용한 공기정화장치 |
CN108237116A (zh) * | 2018-01-23 | 2018-07-03 | 滁州英诺信电器有限公司 | Pc材料镀膜前的清洗工艺 |
CN113173708A (zh) * | 2021-03-10 | 2021-07-27 | 凯盛科技股份有限公司 | 一种提高柔性玻璃弯折性能的加工方法 |
CN113173708B (zh) * | 2021-03-10 | 2024-05-14 | 凯盛科技股份有限公司 | 一种提高柔性玻璃弯折性能的加工方法 |
KR102423292B1 (ko) * | 2021-09-07 | 2022-07-20 | 한국기계연구원 | 식각 장치 및 이를 포함하는 인터포저 제조 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7132034B2 (en) | 2006-11-07 |
US6675817B1 (en) | 2004-01-13 |
US20040079483A1 (en) | 2004-04-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20000067106A (ko) | 유리기판 에칭장치 | |
KR100272513B1 (ko) | 유리기판의 식각장치 | |
US6071374A (en) | Apparatus for etching glass substrate | |
US6673195B2 (en) | Apparatus and method for etching glass panels | |
KR0182416B1 (ko) | 유리기판 에칭용 에천트 | |
JP2002299425A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP3523239B2 (ja) | ガラス基板の化学加工方法及びガラス基板 | |
US20020079289A1 (en) | Etching apparatus of glass substrate | |
JPH08262419A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
US20030190815A1 (en) | Apparatus for etching glass substrate | |
US6844908B2 (en) | Apparatus for injecting liquid crystal materials and methods for manufacturing liquid crystal panels by using the same | |
US7138022B2 (en) | Method for assembling a component of a liquid crystal display device | |
KR20020056049A (ko) | 유리기판 식각장치 | |
JP5996926B2 (ja) | プラズマ装置 | |
JP2002363754A (ja) | 薄膜製造装置および製造方法 | |
JPH10109073A (ja) | 高周波洗浄装置 | |
JP2000354835A (ja) | 超音波洗浄処理方法及びその装置 | |
KR100506259B1 (ko) | 액정표시장치의 제조장치 | |
KR100764627B1 (ko) | 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 | |
JP2004128128A (ja) | プラズマ処理方法及び装置 | |
JPH10115831A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
KR101164404B1 (ko) | 글라스 식각기의 버블 생성장치 | |
CN108732875A (zh) | 传送装置及显影机 | |
KR20030073230A (ko) | 식각장치 | |
KR100767360B1 (ko) | 액정 표시 장치용 스페이서 챔버 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20050927 Effective date: 20060523 |