JPH05109685A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
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- JPH05109685A JPH05109685A JP26623891A JP26623891A JPH05109685A JP H05109685 A JPH05109685 A JP H05109685A JP 26623891 A JP26623891 A JP 26623891A JP 26623891 A JP26623891 A JP 26623891A JP H05109685 A JPH05109685 A JP H05109685A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、パーティクルの発生を抑制し、洗浄
液の汚染を防止して、被洗浄物に対する常に良好な超音
波洗浄をなす超音波洗浄装置を提供する。 【構成】被洗浄物aを浸漬する洗浄液が収容され、かつ
少なくとも内壁が耐蝕性金属材からなる洗浄槽1と、こ
の洗浄槽に洗浄液に直接接触するよう取付けられる耐蝕
性金属材からなる超音波振動板7と、この超音波振動板
に連結され超音波を発生して上記超音波振動板を超音波
振動させ洗浄液に浸漬した上記被洗浄物を超音波洗浄す
る超音波振動子8とを具備し、少なくとも洗浄液が接触
する上記洗浄槽の内壁面および上記超音波振動板面を電
解研磨加工面としたことを特徴とする超音波洗浄装置で
ある。
液の汚染を防止して、被洗浄物に対する常に良好な超音
波洗浄をなす超音波洗浄装置を提供する。 【構成】被洗浄物aを浸漬する洗浄液が収容され、かつ
少なくとも内壁が耐蝕性金属材からなる洗浄槽1と、こ
の洗浄槽に洗浄液に直接接触するよう取付けられる耐蝕
性金属材からなる超音波振動板7と、この超音波振動板
に連結され超音波を発生して上記超音波振動板を超音波
振動させ洗浄液に浸漬した上記被洗浄物を超音波洗浄す
る超音波振動子8とを具備し、少なくとも洗浄液が接触
する上記洗浄槽の内壁面および上記超音波振動板面を電
解研磨加工面としたことを特徴とする超音波洗浄装置で
ある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、超音波洗浄装置に係
り、特に、洗浄液に直接接触する洗浄槽の内壁面および
超音波振動板面の表面処理構造の改良に関する。
り、特に、洗浄液に直接接触する洗浄槽の内壁面および
超音波振動板面の表面処理構造の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、半導体および液晶ディスプレ
イなどのガラス基板を洗浄するのに、超音波洗浄装置が
用いられる。
イなどのガラス基板を洗浄するのに、超音波洗浄装置が
用いられる。
【0003】図1に、超音波洗浄装置の一例を示す。図
中1は、洗浄液が収容される洗浄槽である。この洗浄槽
1は、上面が開口する矩形状の槽であり、この底面に
は、洗浄される被洗浄物aを支持するための支持脚2,
2が設けられる。さらに、上部側面から槽内にシャワー
管3が貫通して設けられ、下部側に設けられる開口部に
は、洗浄液導入管4と排出管5のそれぞれ開口端部が接
続される。
中1は、洗浄液が収容される洗浄槽である。この洗浄槽
1は、上面が開口する矩形状の槽であり、この底面に
は、洗浄される被洗浄物aを支持するための支持脚2,
2が設けられる。さらに、上部側面から槽内にシャワー
管3が貫通して設けられ、下部側に設けられる開口部に
は、洗浄液導入管4と排出管5のそれぞれ開口端部が接
続される。
【0004】上記洗浄槽1の相対向する側面部には、矩
形状の開口部6…が設けられていて、これら開口部6を
閉塞するように超音波振動板7が設けられる。それぞれ
の超音波振動板7の裏面側には、たとえばフェライト磁
性体からなる超音波振動子8が取着されている。
形状の開口部6…が設けられていて、これら開口部6を
閉塞するように超音波振動板7が設けられる。それぞれ
の超音波振動板7の裏面側には、たとえばフェライト磁
性体からなる超音波振動子8が取着されている。
【0005】上記超音波振動子8は、それぞれここでは
図示しない超音波発振器と電気的に接続されていて、所
定周波数の超音波の発振を受け超音波振動が発生する。
この超音波振動は、一体化される超音波振動板7の振動
に換り、さらに洗浄槽1内に収容される洗浄液に伝達す
るようになっている。
図示しない超音波発振器と電気的に接続されていて、所
定周波数の超音波の発振を受け超音波振動が発生する。
この超音波振動は、一体化される超音波振動板7の振動
に換り、さらに洗浄槽1内に収容される洗浄液に伝達す
るようになっている。
【0006】このような超音波振動は、洗浄液内におい
てキャビティーションの発生するところとなり、このキ
ャビティーションが洗浄液中に浸漬状態にある上記被洗
浄物aに衝突する。被洗浄物aに付着している不純物
(汚れ)は全て除去され、効率のよい洗浄がなされる。
てキャビティーションの発生するところとなり、このキ
ャビティーションが洗浄液中に浸漬状態にある上記被洗
浄物aに衝突する。被洗浄物aに付着している不純物
(汚れ)は全て除去され、効率のよい洗浄がなされる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記洗浄槽
1の少なくとも内壁および超音波振動板7など、洗浄槽
1内に収容される洗浄液に直接接触する部分は、長期の
使用に亘っても、錆の発生があってはならない。すなわ
ち、錆が発生すると、その一部は超音波振動にともなっ
て剥離し、被洗浄物aに付着して洗浄効果を損なう。
1の少なくとも内壁および超音波振動板7など、洗浄槽
1内に収容される洗浄液に直接接触する部分は、長期の
使用に亘っても、錆の発生があってはならない。すなわ
ち、錆が発生すると、その一部は超音波振動にともなっ
て剥離し、被洗浄物aに付着して洗浄効果を損なう。
【0008】そこで、洗浄槽1および超音波振動板7と
もに、ステンレス鋼やタンタルなどの耐蝕性金属材が選
択されるのが普通である。そしてさらに、板面にピンホ
ールがあったり、溶接部分から応力腐食割れや粒界腐食
もしくは孔食が発生するのを避けるため、洗浄液との接
触面側をバフ研磨などの表面加工を行って鏡面仕上げし
ている。
もに、ステンレス鋼やタンタルなどの耐蝕性金属材が選
択されるのが普通である。そしてさらに、板面にピンホ
ールがあったり、溶接部分から応力腐食割れや粒界腐食
もしくは孔食が発生するのを避けるため、洗浄液との接
触面側をバフ研磨などの表面加工を行って鏡面仕上げし
ている。
【0009】上記バフ研磨は、布などの柔軟な材料で作
られた円盤(バフ車)の周囲に、研磨材を付着させ、こ
れを高速回転させてワークに押し付け、表面を滑らかに
仕上げる方法であって、つや出しや、メッキの下地処理
として用いられる。
られた円盤(バフ車)の周囲に、研磨材を付着させ、こ
れを高速回転させてワークに押し付け、表面を滑らかに
仕上げる方法であって、つや出しや、メッキの下地処理
として用いられる。
【0010】しかしながら、このような表面処理をなし
た超音波洗浄装置で、実際に洗浄作用を行うと、超音波
振動によって洗浄液中に、母材の結晶粒界中に残留して
いたパーティクル(研磨砥粒)が僅かづつ流出すること
が、実験の結果判明した。
た超音波洗浄装置で、実際に洗浄作用を行うと、超音波
振動によって洗浄液中に、母材の結晶粒界中に残留して
いたパーティクル(研磨砥粒)が僅かづつ流出すること
が、実験の結果判明した。
【0011】このようなパーティクルは、文字通りの微
粒子なので、洗浄液中に浮遊し、洗浄後、洗浄液を洗浄
槽1から排出した状態で被洗浄物aに付着し、上記シャ
ワー管3からシャワー液を降りかけても容易に除去でき
ない。その結果、パーティクルが被洗浄物aを逆汚染す
ることとなるので、パーティクルの発生(発塵)を抑制
する必要がある。
粒子なので、洗浄液中に浮遊し、洗浄後、洗浄液を洗浄
槽1から排出した状態で被洗浄物aに付着し、上記シャ
ワー管3からシャワー液を降りかけても容易に除去でき
ない。その結果、パーティクルが被洗浄物aを逆汚染す
ることとなるので、パーティクルの発生(発塵)を抑制
する必要がある。
【0012】本発明は、上記事情に着目してなされたも
ので、少なくとも洗浄液が接触する洗浄槽の内壁面およ
び超音波振動板面からのパーティクルの発生を抑制した
表面処理加工をなし、洗浄液の汚染を防止して、常に良
好な超音波洗浄効果を得られる超音波洗浄装置を提供す
ることを目的とするものである。
ので、少なくとも洗浄液が接触する洗浄槽の内壁面およ
び超音波振動板面からのパーティクルの発生を抑制した
表面処理加工をなし、洗浄液の汚染を防止して、常に良
好な超音波洗浄効果を得られる超音波洗浄装置を提供す
ることを目的とするものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を満足するた
め、第1の発明は、被洗浄物を浸漬する洗浄液が収容さ
れ、かつ少なくとも内壁が耐蝕性金属材からなる洗浄槽
と、この洗浄槽に洗浄液に直接接触するよう取付けられ
る耐蝕性金属材からなる超音波振動板と、この超音波振
動板に連結され超音波を発生して上記超音波振動板を超
音波振動させ洗浄液に浸漬した上記被洗浄物を超音波洗
浄する超音波振動子とを具備し、少なくとも洗浄液が接
触する上記超音波洗浄槽の内壁面および上記超音波振動
板面を電解研磨加工面としたことを特徴とする超音波洗
浄装置である。
め、第1の発明は、被洗浄物を浸漬する洗浄液が収容さ
れ、かつ少なくとも内壁が耐蝕性金属材からなる洗浄槽
と、この洗浄槽に洗浄液に直接接触するよう取付けられ
る耐蝕性金属材からなる超音波振動板と、この超音波振
動板に連結され超音波を発生して上記超音波振動板を超
音波振動させ洗浄液に浸漬した上記被洗浄物を超音波洗
浄する超音波振動子とを具備し、少なくとも洗浄液が接
触する上記超音波洗浄槽の内壁面および上記超音波振動
板面を電解研磨加工面としたことを特徴とする超音波洗
浄装置である。
【0014】第2の発明は、上記洗浄槽の少なくとも内
壁および上記超音波振動板を形成する耐蝕性金属材は、
ステンレス鋼であることを特徴とする請求項1記載の超
音波洗浄装置。
壁および上記超音波振動板を形成する耐蝕性金属材は、
ステンレス鋼であることを特徴とする請求項1記載の超
音波洗浄装置。
【0015】第3の発明は、上記電解研磨加工面は、機
械加工と電解研磨加工とを同時に行うことにより得られ
た複合電解研磨加工面であることを特徴とする請求項1
記載の超音波洗浄装置である。
械加工と電解研磨加工とを同時に行うことにより得られ
た複合電解研磨加工面であることを特徴とする請求項1
記載の超音波洗浄装置である。
【0016】
【作用】洗浄液が接触する洗浄槽の内壁面および超音波
振動板面を、電解研磨加工面としたから、超音波振動に
よる洗浄をなしても、これらの母材から洗浄液に析出す
るパーティクルの数が極めて少ないことが実験結果から
判明した。
振動板面を、電解研磨加工面としたから、超音波振動に
よる洗浄をなしても、これらの母材から洗浄液に析出す
るパーティクルの数が極めて少ないことが実験結果から
判明した。
【0017】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、図面を参照して
説明する。超音波洗浄装置自体の構成は、先に図1にお
いて説明したものをそのまま適用できるので、ここでは
新たな説明は省略する。
説明する。超音波洗浄装置自体の構成は、先に図1にお
いて説明したものをそのまま適用できるので、ここでは
新たな説明は省略する。
【0018】特に、洗浄液が接触する上記洗浄槽1と上
記超音波振動板7は、耐蝕性金属材としての、低カーボ
ンのステンレス鋼材(SUS304LあるいはSUS3
16L)を用いる。
記超音波振動板7は、耐蝕性金属材としての、低カーボ
ンのステンレス鋼材(SUS304LあるいはSUS3
16L)を用いる。
【0019】洗浄液に直接接触する洗浄槽1の内壁面
と、上記超音波振動板7の板面に、それぞれ電解研磨加
工をなす。好ましくは、複合電解研磨加工を行う。した
がって、それぞれの板面は、凹凸がなく、表面が不動態
化する。
と、上記超音波振動板7の板面に、それぞれ電解研磨加
工をなす。好ましくは、複合電解研磨加工を行う。した
がって、それぞれの板面は、凹凸がなく、表面が不動態
化する。
【0020】上記電解研磨加工は、電解槽中に電解液を
入れ、その中に被研磨物を吊して陽極とし、さらに電解
液中に陰極として不溶性の金属を入れる。電気を通す
と、被研磨物の表面が溶解して陰極に金属が析出する。
このことにより、被研磨物の表面は溶解によって次第に
滑かになり、ついには光沢のある研磨面が得られる加工
手段をいう。
入れ、その中に被研磨物を吊して陽極とし、さらに電解
液中に陰極として不溶性の金属を入れる。電気を通す
と、被研磨物の表面が溶解して陰極に金属が析出する。
このことにより、被研磨物の表面は溶解によって次第に
滑かになり、ついには光沢のある研磨面が得られる加工
手段をいう。
【0021】上記複合電解研磨加工は、従来より、真空
チャンバや超純水配管のステンレス材に対する表面処理
手段として用いられている。上記電解研磨加工と相違す
る点は、陰極側の不溶性金属で電解加工と同時に、切削
などの機械加工を行なうことである。この方法の特徴と
して、単なる電解研磨加工のものよりも、表面粗さが極
めて平滑になることである。ここで、複合電解研磨加工
の特性を、他の表面加工手段による特性と比較するため
の実験を行った。
チャンバや超純水配管のステンレス材に対する表面処理
手段として用いられている。上記電解研磨加工と相違す
る点は、陰極側の不溶性金属で電解加工と同時に、切削
などの機械加工を行なうことである。この方法の特徴と
して、単なる電解研磨加工のものよりも、表面粗さが極
めて平滑になることである。ここで、複合電解研磨加工
の特性を、他の表面加工手段による特性と比較するため
の実験を行った。
【0022】すなわち、材質は、SUS316Lであ
り、100×100mmの大きさで、板厚2mmの試料
を用意する。そして、表面を何らの処理をしないもの、
すなわち無処理の試料A(JIS仕上げ 2B、表面粗
さ Ra0.132μm)と、表面を3段階のバフ研磨
した試料B(表面粗さ Ra0.056μm)と、表面
をNiベースの膜でコーティングした、いわゆるクリー
ンエス処理をなした試料C(表面粗さ Ra0.056
μm)と、表面を複合電解研磨加工した試料D(表面粗
さ Ra0.004μm)および同じ大きさと板厚の硬
質塩化ビニール(PVC)材からなる試料Eを作る。
り、100×100mmの大きさで、板厚2mmの試料
を用意する。そして、表面を何らの処理をしないもの、
すなわち無処理の試料A(JIS仕上げ 2B、表面粗
さ Ra0.132μm)と、表面を3段階のバフ研磨
した試料B(表面粗さ Ra0.056μm)と、表面
をNiベースの膜でコーティングした、いわゆるクリー
ンエス処理をなした試料C(表面粗さ Ra0.056
μm)と、表面を複合電解研磨加工した試料D(表面粗
さ Ra0.004μm)および同じ大きさと板厚の硬
質塩化ビニール(PVC)材からなる試料Eを作る。
【0023】図5に示すように、超純水(800ml)
を収容した石英槽10に、上記各試料AないしEを浸漬
する。そして、上記石英槽10ごと超音波槽(容量87
l)11に浸漬し、この超音波振動子12から超音波
(40KHz,600W)を60分間印加する。
を収容した石英槽10に、上記各試料AないしEを浸漬
する。そして、上記石英槽10ごと超音波槽(容量87
l)11に浸漬し、この超音波振動子12から超音波
(40KHz,600W)を60分間印加する。
【0024】それぞれの試料に対して同一条件の超音波
を印加してから、超純水10mlをサンプリングして、
その中に発生するパーティクル数を超音波時間に対して
測定した。このパーティクル数の測定は、液中パーティ
クルカウンタ13で、0.3μm〜2μmの粒径につい
て行い、パーティクル数が多く測定不可の場合は、超純
水で希釈した。
を印加してから、超純水10mlをサンプリングして、
その中に発生するパーティクル数を超音波時間に対して
測定した。このパーティクル数の測定は、液中パーティ
クルカウンタ13で、0.3μm〜2μmの粒径につい
て行い、パーティクル数が多く測定不可の場合は、超純
水で希釈した。
【0025】図2は、上記手段を採用して実験した、超
音波印加時間に対する、粒径0.3〜0.5μmのパー
ティクル発生量の関係を現す結果である。特に、複合電
解研磨加工をなした試料Dは、超音波印加時間の経過に
も拘らず、パーティクル発生個数はほとんど0である。
音波印加時間に対する、粒径0.3〜0.5μmのパー
ティクル発生量の関係を現す結果である。特に、複合電
解研磨加工をなした試料Dは、超音波印加時間の経過に
も拘らず、パーティクル発生個数はほとんど0である。
【0026】硬質塩化ビニール(PVC)材からなる試
料Eのパーティクル発生個数は、僅かに見られ、クリー
ンエス処理をなした試料Cのパーティクル発生個数はこ
れを僅かに上回る。無処理の試料Aのパーティクル発生
個数は、超音波印加開始直後にある程度多く数えられ、
それ以降の発生割合は僅かに漸増する。バフ処理した試
料Bは、超音波印加開始直後まで無処理の試料Aと同様
にある程度多く数えられ、それ以降の発生割合も極めて
顕著に増加する。
料Eのパーティクル発生個数は、僅かに見られ、クリー
ンエス処理をなした試料Cのパーティクル発生個数はこ
れを僅かに上回る。無処理の試料Aのパーティクル発生
個数は、超音波印加開始直後にある程度多く数えられ、
それ以降の発生割合は僅かに漸増する。バフ処理した試
料Bは、超音波印加開始直後まで無処理の試料Aと同様
にある程度多く数えられ、それ以降の発生割合も極めて
顕著に増加する。
【0027】図3は、超音波印加時間に対する、粒径
0.5〜0.7μmのパーティクル発生量の関係を現す
実験結果である。複合電解研磨加工をなした試料Dは、
超音波印加時間の経過にともなって、極く微量のパーテ
ィクル発生を確認できる。
0.5〜0.7μmのパーティクル発生量の関係を現す
実験結果である。複合電解研磨加工をなした試料Dは、
超音波印加時間の経過にともなって、極く微量のパーテ
ィクル発生を確認できる。
【0028】硬質塩化ビニール(PVC)材からなる試
料Eおよびクリーンエス処理をなした試料Cのパーティ
クル発生個数は、同一の割合で増加する。無処理の試料
Aは、超音波印加開始の直後までバフ処理した試料Bの
パーティクル発生個数と同一の増加割合を示し、それ以
後は漸増する。バフ処理した試料Bのパーティクル発生
割合は、さらに顕著に増加する。
料Eおよびクリーンエス処理をなした試料Cのパーティ
クル発生個数は、同一の割合で増加する。無処理の試料
Aは、超音波印加開始の直後までバフ処理した試料Bの
パーティクル発生個数と同一の増加割合を示し、それ以
後は漸増する。バフ処理した試料Bのパーティクル発生
割合は、さらに顕著に増加する。
【0029】図4は、超音波印加時間に対する、粒径
2.0μm以上のパーティクル発生量の関係を現す実験
結果である。複合電解研磨加工をなした試料Dのパーテ
ィクル発生個数は、相変わらず極く少数である。
2.0μm以上のパーティクル発生量の関係を現す実験
結果である。複合電解研磨加工をなした試料Dのパーテ
ィクル発生個数は、相変わらず極く少数である。
【0030】硬質塩化ビニール(PVC)材からなる試
料Eのパーティクル発生個数は、複合電解研磨加工をな
した試料Dに次いで増加する。クリーンエス処理をなし
た試料Cのパーティクル発生個数は、超音波印加開始の
直後まで急増し、それ以降は極く僅かな増加が見られ
る。
料Eのパーティクル発生個数は、複合電解研磨加工をな
した試料Dに次いで増加する。クリーンエス処理をなし
た試料Cのパーティクル発生個数は、超音波印加開始の
直後まで急増し、それ以降は極く僅かな増加が見られ
る。
【0031】無処理の試料Aのパーティクル発生個数の
増加割合は、超音波印加時間開始からかなりの時間まで
バフ研磨した試料Bのパーティクル発生個数を上回って
いるが、それ以降逆転する。
増加割合は、超音波印加時間開始からかなりの時間まで
バフ研磨した試料Bのパーティクル発生個数を上回って
いるが、それ以降逆転する。
【0032】いずれにしても、複合電解研磨をなした試
料Dは、超音波印加時間の経過に拘らずパーティクルの
発生個数が極く微量であることが判明した。また、硬質
塩化ビニール(PVC)材からなる試料Eは、全ての範
囲で複合電解研磨をなした試料Dに次いでパーティクル
の発生個数が少ない。
料Dは、超音波印加時間の経過に拘らずパーティクルの
発生個数が極く微量であることが判明した。また、硬質
塩化ビニール(PVC)材からなる試料Eは、全ての範
囲で複合電解研磨をなした試料Dに次いでパーティクル
の発生個数が少ない。
【0033】クリーンエス処理をなした試料Cは無処理
のものに比べると少ないが、複合電解研磨,硬質塩化ビ
ニール樹脂のものより多い。表面をNiでコーティング
しているため、無処理のものよりも発生量が少ないと考
えられる。
のものに比べると少ないが、複合電解研磨,硬質塩化ビ
ニール樹脂のものより多い。表面をNiでコーティング
しているため、無処理のものよりも発生量が少ないと考
えられる。
【0034】バフ研磨した試料Bでは、無処理の試料A
以上に、もしくは同等に発生している。これは、恐らく
母材の結晶粒界中に残留していたバフに含まれる研磨剤
がそのまま試料の表面に付着し、超音波を印加すること
によって発塵するものと考えられる。
以上に、もしくは同等に発生している。これは、恐らく
母材の結晶粒界中に残留していたバフに含まれる研磨剤
がそのまま試料の表面に付着し、超音波を印加すること
によって発塵するものと考えられる。
【0035】以上のような実験結果から、上記超音波洗
浄装置における洗浄液と直接接触する洗浄槽1の内壁面
と、超音波振動板7の板面を、複合電解研磨加工面とし
て構成すれば、実際の超音波洗浄をなした状態で、洗浄
液中にパーティクルの発生がほとんどなく、洗浄液を汚
染しない。必要な洗浄が終了した時点で、パーティクル
による被洗浄物の逆汚染がない。
浄装置における洗浄液と直接接触する洗浄槽1の内壁面
と、超音波振動板7の板面を、複合電解研磨加工面とし
て構成すれば、実際の超音波洗浄をなした状態で、洗浄
液中にパーティクルの発生がほとんどなく、洗浄液を汚
染しない。必要な洗浄が終了した時点で、パーティクル
による被洗浄物の逆汚染がない。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、少
なくとも洗浄液が接触する洗浄槽の内壁面および超音波
振動板面を電解研磨加工面、好ましくは複合電解研磨加
工面としたから、パーティクルの発生を抑制でき、洗浄
液の汚染を防止して、被洗浄物に対する常に良好な超音
波洗浄をなすという効果を奏する。
なくとも洗浄液が接触する洗浄槽の内壁面および超音波
振動板面を電解研磨加工面、好ましくは複合電解研磨加
工面としたから、パーティクルの発生を抑制でき、洗浄
液の汚染を防止して、被洗浄物に対する常に良好な超音
波洗浄をなすという効果を奏する。
【図1】本発明の一実施例を示す、超音波洗浄装置の一
部切欠した正面図。
部切欠した正面図。
【図2】同実施例の、超音波印加時間に対するパーティ
クル発生量の特性図。
クル発生量の特性図。
【図3】図2とは異なるパーティクル粒径の、超音波印
加時間に対するパーティクル発生量の特性図。
加時間に対するパーティクル発生量の特性図。
【図4】図2および図3とは異なるパーティクル粒径
の、超音波印加時間に対するパーティクル発生量の特性
図。
の、超音波印加時間に対するパーティクル発生量の特性
図。
【図5】同実施例の、試料のパーティクル発生個数を測
定する実験装置の構成図。
定する実験装置の構成図。
a…被洗浄物、1…洗浄槽、8…超音波振動子、7…超
音波振動板。
音波振動板。
Claims (3)
- 【請求項1】被洗浄物を浸漬する洗浄液が収容され、か
つ少なくとも内壁が耐蝕性金属材からなる洗浄槽と、こ
の洗浄槽に洗浄液に直接接触するよう取付けられる耐蝕
性金属材からなる超音波振動板と、この超音波振動板に
連結され超音波を発生して上記超音波振動板を超音波振
動させ洗浄液に浸漬した上記被洗浄物を超音波洗浄する
超音波振動子とを具備し、少なくとも洗浄液が接触する
上記洗浄槽の内壁面および上記超音波振動板面を電解研
磨加工面としたことを特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項2】上記洗浄槽の少なくとも内壁および上記超
音波振動板を形成する耐蝕性金属材は、ステンレス鋼で
あることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項3】上記電解研磨加工面は、機械加工と電解研
磨加工とを同時に行うことにより得られる複合電解研磨
加工面であることを特徴とする請求項1記載の超音波洗
浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26623891A JPH05109685A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26623891A JPH05109685A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05109685A true JPH05109685A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17428193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26623891A Pending JPH05109685A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05109685A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0708694A1 (en) * | 1993-07-16 | 1996-05-01 | Cfmt, Inc. | Static megasonic cleaning system for cleaning objects |
KR100338895B1 (ko) * | 1996-05-29 | 2002-07-18 | 페터 옐리히, 울리히 비블 | 유체컨테이너에서기판을처리하기위한장치 |
US6675817B1 (en) * | 1999-04-23 | 2004-01-13 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Apparatus for etching a glass substrate |
-
1991
- 1991-10-15 JP JP26623891A patent/JPH05109685A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0708694A1 (en) * | 1993-07-16 | 1996-05-01 | Cfmt, Inc. | Static megasonic cleaning system for cleaning objects |
EP0708694A4 (en) * | 1993-07-16 | 1996-10-02 | Cfmt Inc | STATIC MEGASONIC CLEANING SYSTEM FOR CLEANING OBJECTS |
KR100338895B1 (ko) * | 1996-05-29 | 2002-07-18 | 페터 옐리히, 울리히 비블 | 유체컨테이너에서기판을처리하기위한장치 |
US7132034B2 (en) * | 1998-03-16 | 2006-11-07 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Apparatus for etching a glass substrate |
US6675817B1 (en) * | 1999-04-23 | 2004-01-13 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Apparatus for etching a glass substrate |
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