JP2856998B2 - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
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- JP2856998B2 JP2856998B2 JP27418992A JP27418992A JP2856998B2 JP 2856998 B2 JP2856998 B2 JP 2856998B2 JP 27418992 A JP27418992 A JP 27418992A JP 27418992 A JP27418992 A JP 27418992A JP 2856998 B2 JP2856998 B2 JP 2856998B2
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- Japan
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- ultrasonic
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- cleaning
- cleaning liquid
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は超音波が印加された洗
浄液によって被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置に関す
る。
浄液によって被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程においては、種々
の微細加工の前後で、半導体ウエハに付着したサブミク
ロンオ−ダのパ−テイクルを洗浄除去する、洗浄が行わ
れる。この洗浄工程は、半導体装置の歩留まりを向上す
る上で、極めて重要である。
の微細加工の前後で、半導体ウエハに付着したサブミク
ロンオ−ダのパ−テイクルを洗浄除去する、洗浄が行わ
れる。この洗浄工程は、半導体装置の歩留まりを向上す
る上で、極めて重要である。
【０００３】このような洗浄を行う装置として従来より
バッチ式あるいはノズル式の超音波洗浄装置が知られて
いる。図１はバッチ式の超音波洗浄装置を示し、同図中
１は筒状の装置本体である。この装置本体１の底部には
振動板２が設けられている。この振動板２の外面には超
音波発振器３が接着などの手段によって取着されてい
る。この超音波発振器３には駆動電源４が接続されてい
る。この駆動電源４を作動させることで、上記振動板２
をＭＨｚ級の周波数で振動させることができる。上記装
置本体１内には洗浄液Ｌが入れられる。洗浄液Ｌとして
は、希フッ酸や有機アルカリと過酸化水素と水とを混合
した液などが用いられる。装置本体１内の洗浄液Ｌは上
記超音波発振器３で発生する超音波振動が振動板２を介
して印加される。したがって、上記装置本体１内に半導
体ウエハを収容すれば、その半導体ウエハを超音波振動
する洗浄液によって洗浄することができる。
バッチ式あるいはノズル式の超音波洗浄装置が知られて
いる。図１はバッチ式の超音波洗浄装置を示し、同図中
１は筒状の装置本体である。この装置本体１の底部には
振動板２が設けられている。この振動板２の外面には超
音波発振器３が接着などの手段によって取着されてい
る。この超音波発振器３には駆動電源４が接続されてい
る。この駆動電源４を作動させることで、上記振動板２
をＭＨｚ級の周波数で振動させることができる。上記装
置本体１内には洗浄液Ｌが入れられる。洗浄液Ｌとして
は、希フッ酸や有機アルカリと過酸化水素と水とを混合
した液などが用いられる。装置本体１内の洗浄液Ｌは上
記超音波発振器３で発生する超音波振動が振動板２を介
して印加される。したがって、上記装置本体１内に半導
体ウエハを収容すれば、その半導体ウエハを超音波振動
する洗浄液によって洗浄することができる。
【０００４】図２はノズル式の超音波振動装置を示し、
同図中１１は先端にノズル孔１１ａが形成された装置本
体である。この装置本体１１の基端側には振動板１２が
設けられている。この振動板１２の外面には超音波発振
器１３が接着などによって取着されている。この超音波
発振器１３には駆動電源１４が接続されている。この駆
動電源１４を作動させれば、上記振動板１２を超音波振
動させることができるようになっている。
同図中１１は先端にノズル孔１１ａが形成された装置本
体である。この装置本体１１の基端側には振動板１２が
設けられている。この振動板１２の外面には超音波発振
器１３が接着などによって取着されている。この超音波
発振器１３には駆動電源１４が接続されている。この駆
動電源１４を作動させれば、上記振動板１２を超音波振
動させることができるようになっている。
【０００５】上記装置本体１１の周壁の上記振動板１２
よりも先端側には供給管１５が接続されている。この供
給管１５から上記装置本体１１内には洗浄液Ｌが供給さ
れる。装置本体１１内に供給された洗浄液Ｌは、上記振
動板１２によって超音波振動が印加され、その先端のノ
ズル孔１１ａから流出する。したがって、ノズル孔１１
ａから流出する洗浄液Ｌを半導体ウエハの洗浄する面に
当てれば、その面を洗浄することができる。
よりも先端側には供給管１５が接続されている。この供
給管１５から上記装置本体１１内には洗浄液Ｌが供給さ
れる。装置本体１１内に供給された洗浄液Ｌは、上記振
動板１２によって超音波振動が印加され、その先端のノ
ズル孔１１ａから流出する。したがって、ノズル孔１１
ａから流出する洗浄液Ｌを半導体ウエハの洗浄する面に
当てれば、その面を洗浄することができる。
【０００６】ところで、従来の上述した超音波洗浄装置
においては、振動伝達板２、１２がステンレス（ＳＵ
Ｓ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などの金属あ
るいは石英によって形成されていた。
においては、振動伝達板２、１２がステンレス（ＳＵ
Ｓ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などの金属あ
るいは石英によって形成されていた。
【０００７】振動板２、１２が上記金属で形成されてい
る場合、洗浄液Ｌに上記金属が不純物として多量に溶出
するため、これら金属によって半導体ウエハの汚染を招
くということが生じる。また、石英の場合には洗浄液に
よってエッチングされるため、早期に交換をしなければ
ならないということがある。
る場合、洗浄液Ｌに上記金属が不純物として多量に溶出
するため、これら金属によって半導体ウエハの汚染を招
くということが生じる。また、石英の場合には洗浄液に
よってエッチングされるため、早期に交換をしなければ
ならないということがある。
【０００８】このような問題を解決するために、上記装
置本体１、１１や振動板２、１２を金属や石英に代わ
り、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、ＰＶＣなどのフッ素系の樹脂で
形成するということが行われている。しかしながら、バ
ッチ式やノズル式の装置において、超音波振動が洗浄液
を介して照射される部位をフッ素系の樹脂で形成する
と、その樹脂は超音波を吸収して変形や変質するという
ことがある。とくにバッチ式の装置の場合には振動板２
が超音波に晒されるため、フッ素樹脂とすることができ
ず、ノズル式では振動板１２だけでなく、装置本体１１
の内面も超音波振動に晒されるから、これらの部分をフ
ッ素系樹脂とすることができない。
置本体１、１１や振動板２、１２を金属や石英に代わ
り、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、ＰＶＣなどのフッ素系の樹脂で
形成するということが行われている。しかしながら、バ
ッチ式やノズル式の装置において、超音波振動が洗浄液
を介して照射される部位をフッ素系の樹脂で形成する
と、その樹脂は超音波を吸収して変形や変質するという
ことがある。とくにバッチ式の装置の場合には振動板２
が超音波に晒されるため、フッ素樹脂とすることができ
ず、ノズル式では振動板１２だけでなく、装置本体１１
の内面も超音波振動に晒されるから、これらの部分をフ
ッ素系樹脂とすることができない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の超
音波振動装置は、洗浄液によって侵されて金属が溶出し
たり、金属の溶出を防止するためにフッ素系樹脂を用い
ると、フッ素系樹脂は超音波によって変形や変質すると
いうことがある。
音波振動装置は、洗浄液によって侵されて金属が溶出し
たり、金属の溶出を防止するためにフッ素系樹脂を用い
ると、フッ素系樹脂は超音波によって変形や変質すると
いうことがある。
【００１０】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、金属の溶出を招くことが
ないばかりか、超音波を吸収して変形や変質を招くなど
のこともない超音波洗浄装置を提供することにある。
で、その目的とするところは、金属の溶出を招くことが
ないばかりか、超音波を吸収して変形や変質を招くなど
のこともない超音波洗浄装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、装置
本体に設けられた振動板に超音波発振器を取着し、この
超音波発振器を作動させることで上記本体内の洗浄液に
超音波を印加する超音波洗浄装置において、上記洗浄液
が接触する上記装置本体と振動板のうち、少なくとも上
記振動板を単結晶のサファイヤ（Ａｌ2 Ｏ3 ）で形成し
たことを特徴とする。
本体に設けられた振動板に超音波発振器を取着し、この
超音波発振器を作動させることで上記本体内の洗浄液に
超音波を印加する超音波洗浄装置において、上記洗浄液
が接触する上記装置本体と振動板のうち、少なくとも上
記振動板を単結晶のサファイヤ（Ａｌ2 Ｏ3 ）で形成し
たことを特徴とする。
【００１２】
【００１３】
【作用】請求項１の発明によれば、単結晶のサファイヤ
は洗浄液によって溶出されないことが実験により確認さ
れ、また超音波を照射しても、変形や変質しないことが
確認されたので、被洗浄物を精密に洗浄することがで
き、しかも装置の変形などを招くこともない。
は洗浄液によって溶出されないことが実験により確認さ
れ、また超音波を照射しても、変形や変質しないことが
確認されたので、被洗浄物を精密に洗浄することがで
き、しかも装置の変形などを招くこともない。
【００１４】
【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。
【００１５】この発明の第１の実施例は、図１に示すバ
ッチ式の超音波洗浄装置および図２に示すノズル式の超
音波洗浄装置において、各装置の洗浄液Ｌが接触する部
位を単結晶のサファイヤ（Ａｌ2 Ｏ3 ）によって形成し
た。
ッチ式の超音波洗浄装置および図２に示すノズル式の超
音波洗浄装置において、各装置の洗浄液Ｌが接触する部
位を単結晶のサファイヤ（Ａｌ2 Ｏ3 ）によって形成し
た。
【００１６】具体的には、図１に示すバッチ式の超音波
洗浄装置では、振動板２を単結晶のサファイヤで形成
し、装置本体１はフッ素系の樹脂で形成した。また、図
２に示すノズル式の超音波洗浄装置では、その装置本体
１１と振動板１２とを単結晶のサファイヤで形成し、供
給管１５はフッ素系の樹脂で形成した。
洗浄装置では、振動板２を単結晶のサファイヤで形成
し、装置本体１はフッ素系の樹脂で形成した。また、図
２に示すノズル式の超音波洗浄装置では、その装置本体
１１と振動板１２とを単結晶のサファイヤで形成し、供
給管１５はフッ素系の樹脂で形成した。
【００１７】この発明の第２の実施例は、図１に示すバ
ッチ式の超音波洗浄装置および図２に示すノズル式の超
音波洗浄装置において、各装置の洗浄液Ｌが接触する部
位をプラチナ（Ｐｔ）によって形成した。
ッチ式の超音波洗浄装置および図２に示すノズル式の超
音波洗浄装置において、各装置の洗浄液Ｌが接触する部
位をプラチナ（Ｐｔ）によって形成した。
【００１８】具体的には、図１に示すバッチ式の超音波
洗浄装置では、振動板２をプラチナで形成し、装置本体
１はフッ素系の樹脂で形成した。また、図２に示すノズ
ル式の超音波洗浄装置では、その装置本体１１と振動板
１２とをプラチナで形成し、供給管１５はフッ素系の樹
脂で形成した。つぎに、実験結果について説明する。
洗浄装置では、振動板２をプラチナで形成し、装置本体
１はフッ素系の樹脂で形成した。また、図２に示すノズ
ル式の超音波洗浄装置では、その装置本体１１と振動板
１２とをプラチナで形成し、供給管１５はフッ素系の樹
脂で形成した。つぎに、実験結果について説明する。
【００１９】まず、単結晶のサファイヤについて、つぎ
のような実験を行った。フッ素系樹脂によって形成され
た２つのビ−カを８０℃に熱されたＨＣｌ（塩酸）の１
０％溶液で１０分間洗浄し、ついで純水で１０分間リン
スする。洗浄リンスされた一方のビ−カに洗浄液として
用いられる希フッ酸を２００ｍｌ入れ、他方のビ−カに
は同じく洗浄液として用いられる、有機アルカリと過酸
化水素と水とを混合した液体２００ｍｌを収容した。
のような実験を行った。フッ素系樹脂によって形成され
た２つのビ−カを８０℃に熱されたＨＣｌ（塩酸）の１
０％溶液で１０分間洗浄し、ついで純水で１０分間リン
スする。洗浄リンスされた一方のビ−カに洗浄液として
用いられる希フッ酸を２００ｍｌ入れ、他方のビ−カに
は同じく洗浄液として用いられる、有機アルカリと過酸
化水素と水とを混合した液体２００ｍｌを収容した。
【００２０】つぎに、上記ビ−カに収容された希フッ酸
に含まれる各種金属のバックグランド、つまり資料を浸
漬する前の状態における金属成分を原子吸光分析法によ
ってＰＰＢ単位で測定した。その測定結果を表１のＡ欄
に示す。
に含まれる各種金属のバックグランド、つまり資料を浸
漬する前の状態における金属成分を原子吸光分析法によ
ってＰＰＢ単位で測定した。その測定結果を表１のＡ欄
に示す。
【００２１】つぎに、希フッ酸は常用温度である２５℃
とし、有機アルカリと過酸化水素と水とを混合した液体
は常用温度である６０℃以上に加熱する。そして、各ビ
−カにサファイヤを２時間浸漬したのち、これらビ−カ
の各液体中の金属成分を同じく原子吸光分析法によって
ＰＰｂ単位で測定した。希フッ酸の測定結果を上記表１
のＢ欄に示し、有機アルカリと過酸化水素と水溶液とを
混合した液体の測定結果を上記表１のＣ欄に示す。な
お、表１のＦ欄には検出限界値を示し、各測定欄におけ
る「−」で示される箇所は検出限界値以下であった。
とし、有機アルカリと過酸化水素と水とを混合した液体
は常用温度である６０℃以上に加熱する。そして、各ビ
−カにサファイヤを２時間浸漬したのち、これらビ−カ
の各液体中の金属成分を同じく原子吸光分析法によって
ＰＰｂ単位で測定した。希フッ酸の測定結果を上記表１
のＢ欄に示し、有機アルカリと過酸化水素と水溶液とを
混合した液体の測定結果を上記表１のＣ欄に示す。な
お、表１のＦ欄には検出限界値を示し、各測定欄におけ
る「−」で示される箇所は検出限界値以下であった。
【００２２】
【表１】
【００２３】以上の測定結果より明らかなように、いづ
れのビ−カの洗浄液においても、サイファイヤ（Ａｌ2
Ｏ3 ）の成分であるアルミニウム（Ａｌ）の測定値がバ
ックグランド値に対してほとんど変化しておらず、他の
測定成分についても溶出は見られない。つまり、サファ
イヤは上記２種類の洗浄液に対して溶出しないことが分
かる。したがって、各装置の洗浄液が接触する部分、つ
まりバッチ式の装置における本体１と振動板２およびノ
ズル式の装置における本体１１と振動板１２とをそれぞ
れ単結晶のサファイヤで形成すれば、洗浄液に金属が不
純物として溶出して半導体ウエハを汚損するのを防止で
きる。つまり、単結晶のサファイヤからは不純物が洗浄
液に溶出して半導体ウエハを汚染することがない。
れのビ−カの洗浄液においても、サイファイヤ（Ａｌ2
Ｏ3 ）の成分であるアルミニウム（Ａｌ）の測定値がバ
ックグランド値に対してほとんど変化しておらず、他の
測定成分についても溶出は見られない。つまり、サファ
イヤは上記２種類の洗浄液に対して溶出しないことが分
かる。したがって、各装置の洗浄液が接触する部分、つ
まりバッチ式の装置における本体１と振動板２およびノ
ズル式の装置における本体１１と振動板１２とをそれぞ
れ単結晶のサファイヤで形成すれば、洗浄液に金属が不
純物として溶出して半導体ウエハを汚損するのを防止で
きる。つまり、単結晶のサファイヤからは不純物が洗浄
液に溶出して半導体ウエハを汚染することがない。
【００２４】つぎに、サファイヤと同じようにしてプラ
チナ（Ｐｔ）を希フッ酸および有機アルカリと過酸化水
素と水との混合液に２時間浸漬したのちに、各液体の金
属溶出を測定した。プラチナが浸漬された希フッ酸の測
定結果を表１のＤ欄に示し、有機アルカリと過酸化水素
と水との混合液の測定結果を表１のＥ欄に示す。プラチ
ナの場合も、サファイヤと同様、測定した各種金属の溶
出が見られなかった。したがって、バッチ式の装置にお
ける本体１と振動板２およびノズル式の装置における本
体１１と振動板１２とをそれぞれプラチナで形成すれ
ば、サファイヤで形成した場合と同様、洗浄液に金属が
不純物として溶出して半導体ウエハを汚損するのを防止
できる。
チナ（Ｐｔ）を希フッ酸および有機アルカリと過酸化水
素と水との混合液に２時間浸漬したのちに、各液体の金
属溶出を測定した。プラチナが浸漬された希フッ酸の測
定結果を表１のＤ欄に示し、有機アルカリと過酸化水素
と水との混合液の測定結果を表１のＥ欄に示す。プラチ
ナの場合も、サファイヤと同様、測定した各種金属の溶
出が見られなかった。したがって、バッチ式の装置にお
ける本体１と振動板２およびノズル式の装置における本
体１１と振動板１２とをそれぞれプラチナで形成すれ
ば、サファイヤで形成した場合と同様、洗浄液に金属が
不純物として溶出して半導体ウエハを汚損するのを防止
できる。
【００２５】つぎに、各種材料の超音波に対する耐久性
を試験した。この試験は、図３に示すように容器２１に
純水を入れる。この容器２１の底部には、１．５ＭＨｚ
の超音波を発振する超音波発振器２２が取付けられ、こ
の超音波発振器２２には駆動電源２３が接続されてい
る。上記容器２１内には厚さが１mmのＰＴＦＥ、ＰＦ
Ａ、ＰＰ、ＰＶＣ、ＰＶＤＦ、アクリル樹脂、ＳＵＳ３
１６Ｌ、Ｔａおよびサファイヤの各種材料２４をそれぞ
れ吊り下げて浸漬した。そして、上記超音波発振器２２
に投入するパワ−を上げていったところ、サファイヤ、
Ｔａ、ＳＵＳ３１６Ｌ以外の材料は表面に変形が起きる
のが確認された。
を試験した。この試験は、図３に示すように容器２１に
純水を入れる。この容器２１の底部には、１．５ＭＨｚ
の超音波を発振する超音波発振器２２が取付けられ、こ
の超音波発振器２２には駆動電源２３が接続されてい
る。上記容器２１内には厚さが１mmのＰＴＦＥ、ＰＦ
Ａ、ＰＰ、ＰＶＣ、ＰＶＤＦ、アクリル樹脂、ＳＵＳ３
１６Ｌ、Ｔａおよびサファイヤの各種材料２４をそれぞ
れ吊り下げて浸漬した。そして、上記超音波発振器２２
に投入するパワ−を上げていったところ、サファイヤ、
Ｔａ、ＳＵＳ３１６Ｌ以外の材料は表面に変形が起きる
のが確認された。
【００２６】つまり、フッ素系等の有機系樹脂が超音波
によって直接、照射されると、変形を生じるから、その
ような樹脂によって各装置の振動板２、１２やノズル式
の装置本体１１などに上記有機系樹脂を用いても、その
性能を長期にわたって維持することができない。バッチ
式の装置においては、超音波発生器３からの超音波は洗
浄液Ｌ中を上方に向かって伝播し、装置本体１の内周面
を直接、照射することがないから、その装置本体１は洗
浄液によって侵されることのない、フッ素系の樹脂によ
って形成しても、とくに問題はない。
によって直接、照射されると、変形を生じるから、その
ような樹脂によって各装置の振動板２、１２やノズル式
の装置本体１１などに上記有機系樹脂を用いても、その
性能を長期にわたって維持することができない。バッチ
式の装置においては、超音波発生器３からの超音波は洗
浄液Ｌ中を上方に向かって伝播し、装置本体１の内周面
を直接、照射することがないから、その装置本体１は洗
浄液によって侵されることのない、フッ素系の樹脂によ
って形成しても、とくに問題はない。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、装置本体
に設けられた振動板に超音波発振器を取着し、この超音
波発振器を作動させることで上記本体内の洗浄液に超音
波を印加する超音波洗浄装置において、上記洗浄液が接
触する上記装置本体と振動板との、少なくとも上記振動
板を単結晶のサファイヤで形成した。
に設けられた振動板に超音波発振器を取着し、この超音
波発振器を作動させることで上記本体内の洗浄液に超音
波を印加する超音波洗浄装置において、上記洗浄液が接
触する上記装置本体と振動板との、少なくとも上記振動
板を単結晶のサファイヤで形成した。
【００２８】
【００２９】したがって、請求項１の発明によれば、単
結晶のサファイヤからは洗浄液に不純物となる金属が溶
出することがないから、被洗浄物を不純物によって汚す
ようなことなく、精密に洗浄することができる。しか
も、振動板だけでなく、装置本体も単結晶のサファイヤ
で形成すれば、これらが超音波によって照射されても、
変形や変質することがないなどの利点を有する。
結晶のサファイヤからは洗浄液に不純物となる金属が溶
出することがないから、被洗浄物を不純物によって汚す
ようなことなく、精密に洗浄することができる。しか
も、振動板だけでなく、装置本体も単結晶のサファイヤ
で形成すれば、これらが超音波によって照射されても、
変形や変質することがないなどの利点を有する。
【図１】バッチ式の超音波洗浄装置の構成図。
【図２】ノズル式の超音波洗浄装置の構成図。
【図３】各種材料の超音波振動に対する耐久性を試験す
る方法を示す説明図。
る方法を示す説明図。
１、１１…装置本体、２、１２…振動板、３、１３…超
音波発振器。
音波発振器。
Claims (1)
- 【請求項１】 装置本体に設けられた振動板に超音波発
振器を取着し、この超音波発振器を作動させることで上
記本体内の洗浄液に超音波を印加する超音波洗浄装置に
おいて、上記洗浄液が接触する上記装置本体と振動板の
うち、少なくとも上記振動板を単結晶のサファイヤ（Ａ
ｌ2 Ｏ3 ）で形成したことを特徴とする超音波洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27418992A JP2856998B2 (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27418992A JP2856998B2 (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 超音波洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124935A JPH06124935A (ja) | 1994-05-06 |
| JP2856998B2 true JP2856998B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=17538280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27418992A Expired - Lifetime JP2856998B2 (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2856998B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004025836B3 (de) * | 2004-05-24 | 2005-12-22 | Dr. Hielscher Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Einbringen von Ultraschall in ein fließfähiges Medium |
| TW200934602A (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-16 | Contrel Technology Co Ltd | Laser processing machine having cutting and guiding functions |
| CN108015663A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-05-11 | 湘潭大学 | 一种对蓝宝石薄片边缘进行抛光倒角的装置 |
| CN110449397A (zh) * | 2018-05-08 | 2019-11-15 | 蓝思科技股份有限公司 | 一种蓝宝石镜片清洗方法 |
| JP7231914B1 (ja) * | 2021-12-10 | 2023-03-02 | Ｂｄｐ株式会社 | 場所をとらない携帯可能超音波洗浄機及びこれを用いる洗浄方法 |
-
1992
- 1992-10-13 JP JP27418992A patent/JP2856998B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06124935A (ja) | 1994-05-06 |
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