JPH10172948A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JPH10172948A JPH10172948A JP33549296A JP33549296A JPH10172948A JP H10172948 A JPH10172948 A JP H10172948A JP 33549296 A JP33549296 A JP 33549296A JP 33549296 A JP33549296 A JP 33549296A JP H10172948 A JPH10172948 A JP H10172948A
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- Japan
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- cleaning
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄槽の表面が変質したり、変形を生じない
超音波洗浄装置を提供することである。 【解決手段】 洗浄槽（内槽）１の外側にメガソニック
超音波発振板４を取り付けた外槽３を設け、外槽３と洗
浄槽（内槽）１の間に脱気水５を満たし、脱気水５を介
してメガソニック超音波を洗浄槽（内槽）１に照射する
と共に、さらに、メガソニック超音波発振板４が取り付
けられた外槽３の底板３ａと洗浄槽（内槽）１の間に温
度制御された脱気水５を連続通水する超音波洗浄装置の
構成とし、メガソニック超音波の照射による洗浄槽（内
槽）１の温度上昇を防止する。これによって、特にフッ
酸系の洗浄液２の温度上昇を防止でき、また、ＰＦＡ製
の洗浄槽（内槽）１の変質、変形も防止できる。
超音波洗浄装置を提供することである。 【解決手段】 洗浄槽（内槽）１の外側にメガソニック
超音波発振板４を取り付けた外槽３を設け、外槽３と洗
浄槽（内槽）１の間に脱気水５を満たし、脱気水５を介
してメガソニック超音波を洗浄槽（内槽）１に照射する
と共に、さらに、メガソニック超音波発振板４が取り付
けられた外槽３の底板３ａと洗浄槽（内槽）１の間に温
度制御された脱気水５を連続通水する超音波洗浄装置の
構成とし、メガソニック超音波の照射による洗浄槽（内
槽）１の温度上昇を防止する。これによって、特にフッ
酸系の洗浄液２の温度上昇を防止でき、また、ＰＦＡ製
の洗浄槽（内槽）１の変質、変形も防止できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハの洗
浄等に用いる超音波洗浄装置に関する。
浄等に用いる超音波洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体ウェーハのＳｉ０2エ
ッチング工程にフッ酸処理が用いられており、最近はフ
ッ酸系洗浄液として、例えばフッ酸＋過酸化水素＋界面
活性剤混合液で洗浄し、ウェーハ上の異物を除去する技
術も開発されている。この、異物の洗浄時に、洗浄液に
メガソニック超音波（０．８ＭＨｚ以上）を照射するこ
とで異物の除去力を向上できることも知られている。
ッチング工程にフッ酸処理が用いられており、最近はフ
ッ酸系洗浄液として、例えばフッ酸＋過酸化水素＋界面
活性剤混合液で洗浄し、ウェーハ上の異物を除去する技
術も開発されている。この、異物の洗浄時に、洗浄液に
メガソニック超音波（０．８ＭＨｚ以上）を照射するこ
とで異物の除去力を向上できることも知られている。
【０００３】しかしながら、フッ酸系洗浄液を満たす処
理槽は一般的にはＰＦＡ（ＰｅｒＦｌｕｏｒｏ Ａｌｋ
ｏｘｙ）に代表される樹脂製であるために、メガソニッ
ク超音波を照射してもその伝搬性が悪く、洗浄効果を高
めるためには高パワーのメガソニック超音波の照射が必
要になる。その結果、メガソニック超音波照射時にＰＦ
Ａ洗浄槽の温度が上昇し、フッ酸系洗浄液の温度上昇を
招きフッ酸のエッチング量を変化させ被加工物のバラツ
キの原因となる。
理槽は一般的にはＰＦＡ（ＰｅｒＦｌｕｏｒｏ Ａｌｋ
ｏｘｙ）に代表される樹脂製であるために、メガソニッ
ク超音波を照射してもその伝搬性が悪く、洗浄効果を高
めるためには高パワーのメガソニック超音波の照射が必
要になる。その結果、メガソニック超音波照射時にＰＦ
Ａ洗浄槽の温度が上昇し、フッ酸系洗浄液の温度上昇を
招きフッ酸のエッチング量を変化させ被加工物のバラツ
キの原因となる。
【０００４】また、ＰＦＡ洗浄槽の表面が変質し異物発
生の原因となったり、洗浄槽自体の変形を招く。石英製
や金属製の洗浄槽ではメガソニック超音波の伝搬性も良
く温度上昇も少ないが、フッ酸でエッチングされたり腐
食されてしまうために使用できない。
生の原因となったり、洗浄槽自体の変形を招く。石英製
や金属製の洗浄槽ではメガソニック超音波の伝搬性も良
く温度上昇も少ないが、フッ酸でエッチングされたり腐
食されてしまうために使用できない。
【０００５】また、液体中のメガソニック超音波の伝搬
は、液体に溶けている気体成分（溶存酸素や溶存窒素）
の量に影響され、溶存気体成分の多い液体では、メガソ
ニック超音波の照射によって気泡が発生し、超音波の伝
搬を阻害する。
は、液体に溶けている気体成分（溶存酸素や溶存窒素）
の量に影響され、溶存気体成分の多い液体では、メガソ
ニック超音波の照射によって気泡が発生し、超音波の伝
搬を阻害する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明が解決
しようとする課題は、洗浄槽の表面が変質したり、変形
を生じない超音波洗浄装置を提供することである。
しようとする課題は、洗浄槽の表面が変質したり、変形
を生じない超音波洗浄装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】洗浄槽の外側にメガソニ
ック超音波発振板を取り付けた外槽を設け、外槽と洗浄
槽の間に液を満たし、その液を介してメガソニック超音
波を洗浄槽に照射すると共に、さらに、メガソニック超
音波発振板が取り付けられた外槽の底板と洗浄槽の間に
温度制御された液を連続通水する超音波洗浄槽の構成と
し、メガソニック超音波の照射による洗浄槽の温度上昇
を防止する。これによって、フッ酸系の洗浄液の温度上
昇を防止でき、また、ＰＦＡ洗浄槽の変質、変形も防止
できる。
ック超音波発振板を取り付けた外槽を設け、外槽と洗浄
槽の間に液を満たし、その液を介してメガソニック超音
波を洗浄槽に照射すると共に、さらに、メガソニック超
音波発振板が取り付けられた外槽の底板と洗浄槽の間に
温度制御された液を連続通水する超音波洗浄槽の構成と
し、メガソニック超音波の照射による洗浄槽の温度上昇
を防止する。これによって、フッ酸系の洗浄液の温度上
昇を防止でき、また、ＰＦＡ洗浄槽の変質、変形も防止
できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下に本発明の好適な実施の形態
について図１を参照しつつ説明する。ＰＦＡ樹脂から成
る洗浄槽（内槽）１内にフッ酸系の洗浄液２を満たし、
この洗浄槽（内槽）１の外側を覆うように外槽３を配置
し、この外槽３の外側下面にメガソニック超音波をする
メガソニック超音波発振板４を取り付ける。洗浄槽（内
槽）１の底板１ａと外槽３の底板３ａとの間には温度制
御された脱気水５を連続通水する。
について図１を参照しつつ説明する。ＰＦＡ樹脂から成
る洗浄槽（内槽）１内にフッ酸系の洗浄液２を満たし、
この洗浄槽（内槽）１の外側を覆うように外槽３を配置
し、この外槽３の外側下面にメガソニック超音波をする
メガソニック超音波発振板４を取り付ける。洗浄槽（内
槽）１の底板１ａと外槽３の底板３ａとの間には温度制
御された脱気水５を連続通水する。
【０００９】この連続通水は外槽３の底板３ａの一部に
脱気水回収路６となる管を設けて、脱気水回収路６に真
空脱気装置や膜脱気装置から成る溶存気体除去部７を設
け、回収した脱気水中に溶存する気体を除去する。そし
て、溶存気体が除去された脱気水は脱気水供給路８とな
る管を通じて、さらに通水温度制御部９を介して外槽３
の底板３ａの一部に設けた開口から供給するごとくなさ
れている。
脱気水回収路６となる管を設けて、脱気水回収路６に真
空脱気装置や膜脱気装置から成る溶存気体除去部７を設
け、回収した脱気水中に溶存する気体を除去する。そし
て、溶存気体が除去された脱気水は脱気水供給路８とな
る管を通じて、さらに通水温度制御部９を介して外槽３
の底板３ａの一部に設けた開口から供給するごとくなさ
れている。
【００１０】通水温度制御部９には脱気水回収路６の途
中に設けた脱気水の温度計測部１０からの温度データと
洗浄槽（内槽）１の洗浄液の温度を計測する温度計測部
１１からの洗浄液の温度データを受けて、脱気水供給路
８の温度を制御して外槽３と洗浄槽（内槽）１の間の脱
気水５の温度を洗浄槽の変質や変形などの影響を与え
ず、かつ、洗浄液２の温度を上昇させない温度に設定す
る。フッ酸系洗浄液での処理は通常、室温処理（２３
℃）であるので、この温度が一定に保たれるよう、通水
温度を制御する。
中に設けた脱気水の温度計測部１０からの温度データと
洗浄槽（内槽）１の洗浄液の温度を計測する温度計測部
１１からの洗浄液の温度データを受けて、脱気水供給路
８の温度を制御して外槽３と洗浄槽（内槽）１の間の脱
気水５の温度を洗浄槽の変質や変形などの影響を与え
ず、かつ、洗浄液２の温度を上昇させない温度に設定す
る。フッ酸系洗浄液での処理は通常、室温処理（２３
℃）であるので、この温度が一定に保たれるよう、通水
温度を制御する。
【００１１】また脱気水供給路８の途中には、溶存気体
計測部１２を設けモニターする。この内槽（洗浄槽）１
内には洗浄液として、希フッ酸十過酸化水素＋界面活性
剤の混合液とし、被洗浄処理物１３として、半導体ウェ
ーハを入れる。そして、洗浄処理中はメガソニック超音
波発振板４からメガソニック超音波４ａが照射される。
計測部１２を設けモニターする。この内槽（洗浄槽）１
内には洗浄液として、希フッ酸十過酸化水素＋界面活性
剤の混合液とし、被洗浄処理物１３として、半導体ウェ
ーハを入れる。そして、洗浄処理中はメガソニック超音
波発振板４からメガソニック超音波４ａが照射される。
【００１２】洗浄液２として、フッ酸系洗浄液以外に
も、例えば、アンモニア＋過酸化水素混合液を用いるこ
とも可能であり、その場合にもメガソニック超音波照射
による洗浄液温度の上昇が防止でき、また、メガソニッ
ク超音波の伝搬性を高めることができ、また、洗浄槽
（内槽）１はＰＦＡ樹脂製に限らず、石英製など、洗浄
液に合わせて選択できる。
も、例えば、アンモニア＋過酸化水素混合液を用いるこ
とも可能であり、その場合にもメガソニック超音波照射
による洗浄液温度の上昇が防止でき、また、メガソニッ
ク超音波の伝搬性を高めることができ、また、洗浄槽
（内槽）１はＰＦＡ樹脂製に限らず、石英製など、洗浄
液に合わせて選択できる。
【００１３】
【発明の効果】フッ酸系洗浄液での処理においてメガソ
ニック超音波の照射による温度上昇が防止でき、メガソ
ニック超音波照射が可能となり、洗浄効果が向上する。
メガソニック超音波の伝搬性が向上し洗浄効果が向上す
る。他の洗浄液を用いた場合においても、メガソニック
超音波の伝搬性が向上し、洗浄による被洗浄物に与える
処理効果のバラツキを低減できる。
ニック超音波の照射による温度上昇が防止でき、メガソ
ニック超音波照射が可能となり、洗浄効果が向上する。
メガソニック超音波の伝搬性が向上し洗浄効果が向上す
る。他の洗浄液を用いた場合においても、メガソニック
超音波の伝搬性が向上し、洗浄による被洗浄物に与える
処理効果のバラツキを低減できる。
【図１】本発明の超音波洗浄装置の模式図。
１…洗浄槽（内槽）、２…洗浄液、３…外槽、１ａ，３
ａ…底板、４…メガソニック超音波発振板、４ａ…メガ
ソニック超音波、５…脱気水、６…脱気水回収路、７…
溶存気体除去部、８…脱気水供給路、９…通水温度制御
部、１０，１１…温度計測部、１２…溶存気体計測部、
１３…被洗浄処理物
ａ…底板、４…メガソニック超音波発振板、４ａ…メガ
ソニック超音波、５…脱気水、６…脱気水回収路、７…
溶存気体除去部、８…脱気水供給路、９…通水温度制御
部、１０，１１…温度計測部、１２…溶存気体計測部、
１３…被洗浄処理物
Claims (5)
- 【請求項１】 洗浄液を満たした洗浄槽と、 前記洗浄槽との間に間隔をあけて配置した外槽と、 前記外槽の底板部に設けたメガソニック発振板とを具備
し、 前記洗浄槽と外槽との間に脱気した液を満たしたことを
特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項２】 前記外槽の底板に脱気水回収路を設け、 該脱気水回収路に溶存気体除去部を繋ぎ、 該溶存気体除去部に通水温度制御部を繋ぎ、 該通水温度制御部を経た脱気を前記外槽の底板に設けた
開口から供給するごとくなしたことを特徴とする請求項
１に記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項３】 前記通水温度制御部に脱気水回収路の脱
気水の温度データを供給する温度計測部と前記洗浄槽内
の洗浄液の温度データを供給する温度計測部とを具備し
たことを特徴とする請求項２に記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項４】 洗浄液がフッ素酸系であることを特徴と
する請求項１に記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項５】 前記溶存気体除去部に続く脱気水供給路
に溶存気体計測部を具備したことを特徴とする請求項３
に記載の超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33549296A JPH10172948A (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33549296A JPH10172948A (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10172948A true JPH10172948A (ja) | 1998-06-26 |
Family
ID=18289186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33549296A Pending JPH10172948A (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10172948A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008160012A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| WO2008136537A1 (ja) | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Nippon Steel Corporation | 鋼板の洗浄方法及び鋼板の連続洗浄装置 |
| JP2010073848A (ja) * | 2008-09-18 | 2010-04-02 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| CN102698983A (zh) * | 2012-05-08 | 2012-10-03 | 常州天合光能有限公司 | 一种太阳能级硅片的清洗方法 |
| CN103223406A (zh) * | 2012-01-27 | 2013-07-31 | 硅电子股份公司 | 清洗装置、仪器和方法 |
-
1996
- 1996-12-16 JP JP33549296A patent/JPH10172948A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008160012A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| WO2008136537A1 (ja) | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Nippon Steel Corporation | 鋼板の洗浄方法及び鋼板の連続洗浄装置 |
| US9476128B2 (en) | 2007-05-01 | 2016-10-25 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Method of cleaning steel sheet and continuous cleaning system of steel sheet |
| JP2010073848A (ja) * | 2008-09-18 | 2010-04-02 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| US20160052025A1 (en) * | 2012-01-27 | 2016-02-25 | Siltronic Ag | Ultrasonic cleaning method |
| EP2620230A1 (en) * | 2012-01-27 | 2013-07-31 | Siltronic AG | Cleaning apparatus, equipment, and method |
| US20130192628A1 (en) * | 2012-01-27 | 2013-08-01 | Siltronic Ag | Cleaning apparatus, equipment, and method |
| CN103223406B (zh) * | 2012-01-27 | 2015-09-09 | 硅电子股份公司 | 清洗装置、仪器和方法 |
| TWI501821B (zh) * | 2012-01-27 | 2015-10-01 | Siltronic Ag | 清潔裝置、儀器和方法 |
| CN103223406A (zh) * | 2012-01-27 | 2013-07-31 | 硅电子股份公司 | 清洗装置、仪器和方法 |
| US9662687B2 (en) * | 2012-01-27 | 2017-05-30 | Siltronic Ag | Ultrasonic cleaning method |
| US10137483B2 (en) | 2012-01-27 | 2018-11-27 | Siltronic Ag | Ultrasonic cleaning method |
| CN102698983A (zh) * | 2012-05-08 | 2012-10-03 | 常州天合光能有限公司 | 一种太阳能级硅片的清洗方法 |
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