JP2010153541A - 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】超音波洗浄装置1は、上部が開口された略直方体の箱状容器であって、その内部に洗浄液を貯留する洗浄槽10と、内部に水を貯留すると共に洗浄槽10を収容する外槽15と、洗浄槽10の内部に配設され、洗浄すべき被処理体としての半導体ウエハAを支持する支持部材20と、外槽15の外部に配設され、洗浄槽10内部に超音波を発振する超音波発振装置60を備える。洗浄槽10は、超音波発振装置60からの超音波を透過する側面部12bと、側面部12bに対向して配され、超音波発振装置60からの超音波を反射する側面部12aとを有している。そして、超音波発振装置60は、外槽15に貯留された水を介して洗浄槽10に超音波を発振し、且つ洗浄槽10の側面部12bから側面部12aに向かって超音波を伝播させる。
【選択図】図1
Description
透過率(T)=(ρ1c1/ρ3c3)(4/X)
但し、X=(1+ ρ1c1/ρ3c3)^2×cos2k1L+(ρ2c2/ρ3c3+ ρ1c1/ρ2c2)^2×sin2k2L
ρ1,ρ2,ρ3:物質(媒質)の密度
c1,c2,c3:物質(媒質)の音速
L:物質(媒質)の厚み
k=ω/c, ω=2πf
の数式で求められる透過率の75%以上を有する厚みであり、前記第2面部の厚みは、上記式で求められる透過率50%以下を有する厚みであることを特徴とする。
透過率(T)=(ρ1c1/ ρ3c3)(4/X) ・・・(1)
但し、X=(1+ ρ1c1/ρ3c3)^2×cos2k1L+(ρ2c2/ρ3c3+ ρ1c1/ρ2c2)^ 2×sin2k2L
ρ:物質(媒質)の密度
c:物質(媒質)の音速
L:物質(媒質)の厚み
k=ω/c, ω=2πf
この数式(1)を用いて、透過率、媒質1の密度ρ1及び音速c1、媒質2の密度ρ2及び速度c2、媒質3の密度ρ3及び音速c3、並びに超音波の周波数から、媒質2の厚みLを決定することができる。
10 洗浄槽
15 外槽
20 支持部材
30 固定部材
40 液供給部
50 ヒーター
60 超音波発振装置
11 底面部
12 側面部
12a,12b 一対の側面部
Claims (8)
- 洗浄液を貯留する洗浄槽と、
液体を貯留すると共に前記洗浄槽を収容する外槽と、
前記洗浄槽の内部に配設され、洗浄すべき被処理体を支持する支持部材と、
前記外槽の外部に配設され、前記外槽の内部に所定周波数の超音波を発振する超音波発振部とを備え、
前記洗浄槽は、前記超音波発振部からの超音波を透過する厚みを有する第1面部と、前記第1面部に対向して配され、前記超音波発振部からの超音波を反射する厚みを有する第2面部とを有し、
前記超音波発振部は、前記外槽に貯留された水を介して前記洗浄槽に超音波を発振し、且つ前記洗浄槽の前記第1面部から前記第2面部に向かって超音波を伝播させることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 前記洗浄槽は、上部が開口された箱状容器であって、前記第1面部は側面部であり、前記第2面部は前記側面部と対向する他の側面部であることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
- 前記洗浄槽は、上部が開口された箱状容器であって、底面部と、前記洗浄槽の上部に配設された蓋部とを有し、
前記第1面部は底面部であり、第2面部は前記蓋部であることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。 - 前記第1面部の厚みは、前記外槽内に貯留される液体を媒質1、前記洗浄槽の材質を媒質2、前記洗浄液を媒質3としたとき、
透過率(T)=(ρ1c1/ρ3c3)(4/X)
但し、X=(1+ ρ1c1/ρ3c3)^2×cos2k1L+(ρ2c2/ρ3c3+ ρ1c1/ρ2c2)^2×sin2k2L
ρ1,ρ2,ρ3:物質(媒質)の密度
c1,c2,c3:物質(媒質)の音速
L:物質(媒質)の厚み
k=ω/c, ω=2πf
で求められる透過率の75%以上を有する厚みであり、前記第2面部の厚みは、上記式で求められる透過率50%以下を有する厚みであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の超音波洗浄装置。 - 前記洗浄槽内に配設され、前記洗浄液を循環させる循環装置を更に備え、
前記被処理体の近傍における前記洗浄液の液流れの方向は、前記超音波の進行方向と略直交していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の超音波洗浄装置。 - 前記洗浄槽は、二酸化珪素(SiO2)を主成分とする材料から成り、前記洗浄槽を収容する外槽は、樹脂及びステンレス鋼のいずれかを主成分とする材料から成ることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波発振部は、周波数が450kHz〜3MHzの超音波を発振することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の超音波洗浄装置。
- 洗浄槽内の被処理体を超音波で洗浄する超音波洗浄方法であって、
前記洗浄槽を収容する外槽の外部から所定周波数の超音波を発振する発振行程と、
前記外槽に貯留された液体を介して、前記超音波に前記洗浄槽の第1面部を透過させる透過行程と、
前記第1面部に対向して配された前記洗浄槽の第2面部で超音波を反射する反射行程とを有することを特徴とする超音波洗浄方法。
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JP2008329235A JP2010153541A (ja) | 2008-12-25 | 2008-12-25 | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 |
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