JPH10109073A - 高周波洗浄装置 - Google Patents
高周波洗浄装置Info
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- JPH10109073A JPH10109073A JP26417696A JP26417696A JPH10109073A JP H10109073 A JPH10109073 A JP H10109073A JP 26417696 A JP26417696 A JP 26417696A JP 26417696 A JP26417696 A JP 26417696A JP H10109073 A JPH10109073 A JP H10109073A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 伝播水中での高周波音波の透過率を高めて高
周波音波を洗浄槽内の洗浄水に効率よく伝播させること
が可能な超音波洗浄装置を提供する。 【解決手段】 脱気水からなる伝播水３が収容された外
槽１と、前記外槽１内に底部が前記外槽１底部から所望
距離隔てるように収納され、内部に洗浄液９が収容され
た洗浄槽１０と、前記外槽１に連結された脱気水を生成
するための脱気水生成手段１４と、前記外槽１の底部に
配置され、前記伝播水３を通して前記洗浄液９に高周波
音波を付与するための振動板２と、前記振動板２の下面
に取着された振動子４と、この振動子４を駆動するため
の高周波発振器５とを具備したことを特徴としている。
周波音波を洗浄槽内の洗浄水に効率よく伝播させること
が可能な超音波洗浄装置を提供する。 【解決手段】 脱気水からなる伝播水３が収容された外
槽１と、前記外槽１内に底部が前記外槽１底部から所望
距離隔てるように収納され、内部に洗浄液９が収容され
た洗浄槽１０と、前記外槽１に連結された脱気水を生成
するための脱気水生成手段１４と、前記外槽１の底部に
配置され、前記伝播水３を通して前記洗浄液９に高周波
音波を付与するための振動板２と、前記振動板２の下面
に取着された振動子４と、この振動子４を駆動するため
の高周波発振器５とを具備したことを特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ガラス基板、
半導体ウェハや磁気ディスク等の被洗浄物を高周波洗浄
するための装置に関する。
半導体ウェハや磁気ディスク等の被洗浄物を高周波洗浄
するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶ガラス基板、半導体ウェハ、
磁気ディスク等の被洗浄物を洗浄するには、高周波振動
子により振動する振動板を有する洗浄槽内に洗浄液を収
容し、高周波音波の作用により前記洗浄液内に収容され
た被洗浄物表面のパーティクル等を除去することが行わ
れている。
磁気ディスク等の被洗浄物を洗浄するには、高周波振動
子により振動する振動板を有する洗浄槽内に洗浄液を収
容し、高周波音波の作用により前記洗浄液内に収容され
た被洗浄物表面のパーティクル等を除去することが行わ
れている。
【０００３】しかしながら、前述した構造の高周波洗浄
装置では被洗浄物が収納される洗浄槽内に振動板が直接
取り付けられているため、前記振動板からのメタルイオ
ンの溶出や振動板の締結部に用いられるパッキング（ガ
スケット）からのパーティクル発生に伴う二次汚染の問
題があった。
装置では被洗浄物が収納される洗浄槽内に振動板が直接
取り付けられているため、前記振動板からのメタルイオ
ンの溶出や振動板の締結部に用いられるパッキング（ガ
スケット）からのパーティクル発生に伴う二次汚染の問
題があった。
【０００４】このようなことから、伝播水が収容された
外槽と、この外槽内に底部が前記外槽底部から所望距離
隔てるように収納され、内部に洗浄液が収容された洗浄
槽と、前記外槽の底部に配置され、前記伝播水を通して
前記洗浄液に高周波音波を付与するための振動板と、前
記振動板の下面に取着され、高周波発振器により振動さ
れる振動子とを備えた高周波洗浄装置が知られている。
外槽と、この外槽内に底部が前記外槽底部から所望距離
隔てるように収納され、内部に洗浄液が収容された洗浄
槽と、前記外槽の底部に配置され、前記伝播水を通して
前記洗浄液に高周波音波を付与するための振動板と、前
記振動板の下面に取着され、高周波発振器により振動さ
れる振動子とを備えた高周波洗浄装置が知られている。
【０００５】しかしながら、前記伝播水が収容された外
槽を洗浄槽の底部を覆うように配置した構造の高周波洗
浄装置においては、高周波音波の発振時に、前記伝播水
に溶解したガス成分が高周波音波の伝播の減衰原因にな
るため、高周波音波を効率よく洗浄槽内の洗浄水に伝播
することができなくなる。また、ガス成分は音波による
キャビテーション作用により気泡となって前記洗浄槽底
面に付着し、音波透過を阻害して前記洗浄液内に収納さ
れた被洗浄物への洗浄力を低下させる。
槽を洗浄槽の底部を覆うように配置した構造の高周波洗
浄装置においては、高周波音波の発振時に、前記伝播水
に溶解したガス成分が高周波音波の伝播の減衰原因にな
るため、高周波音波を効率よく洗浄槽内の洗浄水に伝播
することができなくなる。また、ガス成分は音波による
キャビテーション作用により気泡となって前記洗浄槽底
面に付着し、音波透過を阻害して前記洗浄液内に収納さ
れた被洗浄物への洗浄力を低下させる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、伝播水中で
の高周波音波の透過性（伝播性）を高めて高周波音波を
洗浄槽内の洗浄水に効率よく伝播させることが可能な超
音波洗浄装置を提供しようとするものである。
の高周波音波の透過性（伝播性）を高めて高周波音波を
洗浄槽内の洗浄水に効率よく伝播させることが可能な超
音波洗浄装置を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる高周波洗
浄装置は、脱気水からなる伝播水が収容された外槽と、
前記外槽内に底部が前記外槽底部から所望距離隔てら
れ、かつ前記外槽内の伝播水に接触した状態で収納さ
れ、内部に洗浄液が収容された洗浄槽と、前記外槽に連
結された脱気水を生成するための脱気水生成手段と、前
記外槽の底部に配置され、前記伝播水を通して前記洗浄
液に高周波音波を付与するための振動板と、前記振動板
の下面に取着された振動子と、この振動子を駆動するた
めの高周波発振器とを具備したことを特徴とするもので
ある。
浄装置は、脱気水からなる伝播水が収容された外槽と、
前記外槽内に底部が前記外槽底部から所望距離隔てら
れ、かつ前記外槽内の伝播水に接触した状態で収納さ
れ、内部に洗浄液が収容された洗浄槽と、前記外槽に連
結された脱気水を生成するための脱気水生成手段と、前
記外槽の底部に配置され、前記伝播水を通して前記洗浄
液に高周波音波を付与するための振動板と、前記振動板
の下面に取着された振動子と、この振動子を駆動するた
めの高周波発振器とを具備したことを特徴とするもので
ある。
【０００８】前記脱気水生成手段は、ガス溶存濃度を１
０ｐｐｍ以下に制御する機能を有することが好ましい。
前記洗浄槽は、その底面が前記振動板と平行になるよう
に配置される。
０ｐｐｍ以下に制御する機能を有することが好ましい。
前記洗浄槽は、その底面が前記振動板と平行になるよう
に配置される。
【０００９】前述した本発明に係わる超音波洗浄装置に
よれば、洗浄槽が収納される外槽内に脱気水生成手段か
ら伝播水としての脱気水、つまり溶存ガスが除去された
純水を供給する構成にすることによって、前記振動子で
前記振動板を振動させて発生させた高周波音波を前記伝
播水内を効率よく伝播できる。また、前記高周波音波の
キャビテーション作用により前記伝播水に気泡が発生す
るのを防止できるため、この気泡に起因する高周波音波
の減衰を回避できる。したがって、前記振動板からの高
周波音波を伝播水を通して洗浄槽内の洗浄液に効率よく
伝播させることができるため、前記洗浄液内に収納され
た被洗浄物表面の不純物、パーティクル等を良好に除去
して精密洗浄を行うことができる。
よれば、洗浄槽が収納される外槽内に脱気水生成手段か
ら伝播水としての脱気水、つまり溶存ガスが除去された
純水を供給する構成にすることによって、前記振動子で
前記振動板を振動させて発生させた高周波音波を前記伝
播水内を効率よく伝播できる。また、前記高周波音波の
キャビテーション作用により前記伝播水に気泡が発生す
るのを防止できるため、この気泡に起因する高周波音波
の減衰を回避できる。したがって、前記振動板からの高
周波音波を伝播水を通して洗浄槽内の洗浄液に効率よく
伝播させることができるため、前記洗浄液内に収納され
た被洗浄物表面の不純物、パーティクル等を良好に除去
して精密洗浄を行うことができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の好ましい実施例を図１を参照
して詳細に説明する。外槽１は、中間付近に振動板２が
配置され、前記振動板２を底とする上部側には脱気水か
らなる伝播水３が収容されている。振動子４は、前記振
動板２の下面に取り付けられている。高周波発振器５
は、前記振動子４に接続されている。第１オーバーフロ
ー部６は、前記外槽１の周囲に取り付けられている。第
１ドレイン管７は、前記オーバーフロー部６の底部に連
結されている。
して詳細に説明する。外槽１は、中間付近に振動板２が
配置され、前記振動板２を底とする上部側には脱気水か
らなる伝播水３が収容されている。振動子４は、前記振
動板２の下面に取り付けられている。高周波発振器５
は、前記振動子４に接続されている。第１オーバーフロ
ー部６は、前記外槽１の周囲に取り付けられている。第
１ドレイン管７は、前記オーバーフロー部６の底部に連
結されている。
【００１１】上端に第２オーバーフロー部８を有し、洗
浄液（例えば純水）９が収容された洗浄槽１０は、前記
外槽１にその底部が前記振動板２と所望の距離隔てるよ
うに設置されている。なお、前記洗浄槽１０の底面は前
記振動板２と平行になるように配置されている。第２ド
レイン管１１は、前記第２オーバーフロー部８の底部に
連結され、かつその下端は前記第１オーバーフロー部６
内に挿入されている。
浄液（例えば純水）９が収容された洗浄槽１０は、前記
外槽１にその底部が前記振動板２と所望の距離隔てるよ
うに設置されている。なお、前記洗浄槽１０の底面は前
記振動板２と平行になるように配置されている。第２ド
レイン管１１は、前記第２オーバーフロー部８の底部に
連結され、かつその下端は前記第１オーバーフロー部６
内に挿入されている。
【００１２】洗浄液、例えば純水を供給するための純水
供給管１２は、一端が純水の供給源に接続され、他端が
前記洗浄槽１０の上方に位置するように配置されてい
る。前記純水供給管１２の途中から分岐された分岐管１
３は、脱気水生成手段である脱気水生成塔１４の下部に
連結されている。この脱気水生成塔１４は、内部に多数
の中空糸が上下方向に配列して装填され、かつ前記各中
空糸はポリテトロフルオロエチレンからなり、１μｍ以
下の微細な孔が開口されている。バキュームポンプ１５
は、前記脱気水生成塔１４に連結されている。つまり、
前記分岐管１３からの純水は前記脱気水生成塔１４内に
装填された複数の中空糸内を流通し、前記バキュームポ
ンプ１５により前記中空糸の外側の気体を吸引排気する
ことによって前記純水中に溶解した各種のガスが前記中
空糸の微細な孔を通して排出、脱気される。前記脱気水
生成塔１４の上部には、脱気水供給管１６が連結され、
かつその先端は前記外槽１の上方に位置するように配置
されている。
供給管１２は、一端が純水の供給源に接続され、他端が
前記洗浄槽１０の上方に位置するように配置されてい
る。前記純水供給管１２の途中から分岐された分岐管１
３は、脱気水生成手段である脱気水生成塔１４の下部に
連結されている。この脱気水生成塔１４は、内部に多数
の中空糸が上下方向に配列して装填され、かつ前記各中
空糸はポリテトロフルオロエチレンからなり、１μｍ以
下の微細な孔が開口されている。バキュームポンプ１５
は、前記脱気水生成塔１４に連結されている。つまり、
前記分岐管１３からの純水は前記脱気水生成塔１４内に
装填された複数の中空糸内を流通し、前記バキュームポ
ンプ１５により前記中空糸の外側の気体を吸引排気する
ことによって前記純水中に溶解した各種のガスが前記中
空糸の微細な孔を通して排出、脱気される。前記脱気水
生成塔１４の上部には、脱気水供給管１６が連結され、
かつその先端は前記外槽１の上方に位置するように配置
されている。
【００１３】次に、前述した図１に示す高周波洗浄装置
の作用を説明する。まず、図示しないカセットに複数枚
の被洗浄物（例えば半導体ウェハ）１７を垂直に立てて
配置し、前記カセットを前記洗浄槽１０内に設置する。
純水を純水供給管１２を通して洗浄槽１０内に供給し、
その上端から第２オーバーフロー部８にオーバーフロー
させる。前記第２オーバーフロー部８に流入された純水
は、第２ドレンイン管１１を通して第１オーバーフロー
部６に排出され、さらに第２ドレイン管７を介して外部
に排出される。前記純水供給管１２への純水の供給にお
いて、純水は分岐管１３から前記脱気水生成塔１４内に
供給される。この時、純水は前記生成塔１４内に装填さ
れた複数の中空糸内を流通し、バキュームポンプ１５を
作動して前記中空糸の外側の気体を吸引排気することに
よって前記純水中に溶解した酸素等の各種のガスが脱気
される。脱気された純水（伝播水）は、前記生成塔１４
の上部から脱気水供給管１６を通して外槽１内に供給さ
れる。前記外槽１内の伝播水３は、その上部付近から前
記第１オーバーフロー部６にオーバーフローされ、第１
ドレイン管７を通して外部に排出される。
の作用を説明する。まず、図示しないカセットに複数枚
の被洗浄物（例えば半導体ウェハ）１７を垂直に立てて
配置し、前記カセットを前記洗浄槽１０内に設置する。
純水を純水供給管１２を通して洗浄槽１０内に供給し、
その上端から第２オーバーフロー部８にオーバーフロー
させる。前記第２オーバーフロー部８に流入された純水
は、第２ドレンイン管１１を通して第１オーバーフロー
部６に排出され、さらに第２ドレイン管７を介して外部
に排出される。前記純水供給管１２への純水の供給にお
いて、純水は分岐管１３から前記脱気水生成塔１４内に
供給される。この時、純水は前記生成塔１４内に装填さ
れた複数の中空糸内を流通し、バキュームポンプ１５を
作動して前記中空糸の外側の気体を吸引排気することに
よって前記純水中に溶解した酸素等の各種のガスが脱気
される。脱気された純水（伝播水）は、前記生成塔１４
の上部から脱気水供給管１６を通して外槽１内に供給さ
れる。前記外槽１内の伝播水３は、その上部付近から前
記第１オーバーフロー部６にオーバーフローされ、第１
ドレイン管７を通して外部に排出される。
【００１４】以上のように前記外槽１内に伝播水３が満
たされ、かつ前記洗浄槽１０内に純水（洗浄液）９が満
たされた時に、高周波発振器５をオンして前記外槽１の
振動板２下面に取り付けた振動子４を振動させると、前
記振動板２から例えば０．７〜５ＭＨｚの高周波音波が
前記外槽１内の伝播水３を通して前記洗浄槽１０内の洗
浄液９に放射される。高周波音波の前記伝播水３への放
射において、前記伝播水３は脱気された純水からなり、
高周波音波の伝播の減衰要因になるガス成分が除去され
るので、前記伝播水３中で高周波音波の伝播性を高める
ことができる。また、前記伝播水は脱気された純水から
なるため、高周波音波のキャビテーション作用により伝
播水中に気泡が発生するのを防止することができる。そ
の結果、気泡が前記洗浄槽１０底部に付着して超音波の
透過が阻害されるのを防止することができる。このよう
に高周波音波を前記外槽１内の伝播水３を通して前記洗
浄槽１０内の洗浄液９に効率よく伝播させることができ
るため、前記洗浄槽１０内の複数枚のウェハ１７表面を
良好に洗浄でき、かつ前記ウェハ１７表面から除去され
たパーティクル等の汚染物を前記洗浄液９と共に前記洗
浄槽１０のオーバーフロー部８からオーバーフローさ
れ、第２ドレイン管１１、第１オーバーフロー部６およ
び第１管ドレイン管７を通して外部に排出することがで
きる。
たされ、かつ前記洗浄槽１０内に純水（洗浄液）９が満
たされた時に、高周波発振器５をオンして前記外槽１の
振動板２下面に取り付けた振動子４を振動させると、前
記振動板２から例えば０．７〜５ＭＨｚの高周波音波が
前記外槽１内の伝播水３を通して前記洗浄槽１０内の洗
浄液９に放射される。高周波音波の前記伝播水３への放
射において、前記伝播水３は脱気された純水からなり、
高周波音波の伝播の減衰要因になるガス成分が除去され
るので、前記伝播水３中で高周波音波の伝播性を高める
ことができる。また、前記伝播水は脱気された純水から
なるため、高周波音波のキャビテーション作用により伝
播水中に気泡が発生するのを防止することができる。そ
の結果、気泡が前記洗浄槽１０底部に付着して超音波の
透過が阻害されるのを防止することができる。このよう
に高周波音波を前記外槽１内の伝播水３を通して前記洗
浄槽１０内の洗浄液９に効率よく伝播させることができ
るため、前記洗浄槽１０内の複数枚のウェハ１７表面を
良好に洗浄でき、かつ前記ウェハ１７表面から除去され
たパーティクル等の汚染物を前記洗浄液９と共に前記洗
浄槽１０のオーバーフロー部８からオーバーフローさ
れ、第２ドレイン管１１、第１オーバーフロー部６およ
び第１管ドレイン管７を通して外部に排出することがで
きる。
【００１５】特に、純水を前記生成塔１４内に装填され
た複数の中空糸内に流通し、バキュームポンプ１５を作
動して前記中空糸の外側の気体を吸引排気し、前記純水
中に溶解した酸素等の各種のガスが前記中空糸の微細な
孔を通して排出、脱気する際、各種ガスの溶存濃度が１
０ｐｐｍ以下に制御することによって、気泡発生に起因
する高周波音波の減衰を効果的に防止することができ
る。このような伝播水中の各種ガスの溶存濃度と洗浄槽
内の洗浄液に伝達される音圧との関係を以下の実験によ
り求めた。
た複数の中空糸内に流通し、バキュームポンプ１５を作
動して前記中空糸の外側の気体を吸引排気し、前記純水
中に溶解した酸素等の各種のガスが前記中空糸の微細な
孔を通して排出、脱気する際、各種ガスの溶存濃度が１
０ｐｐｍ以下に制御することによって、気泡発生に起因
する高周波音波の減衰を効果的に防止することができ
る。このような伝播水中の各種ガスの溶存濃度と洗浄槽
内の洗浄液に伝達される音圧との関係を以下の実験によ
り求めた。
【００１６】図２は、振動板から伝播水を通して洗浄槽
内の洗浄液に伝達される音圧を測定するための実験装置
である。寸法が３００ｍｍＷ×５００ｍｍＤ×５０ｍｍ
Ｈの外槽２１は、中間付近に振動板２２が配置され、前
記振動板２２を底とする上部側には伝播水２３が収容さ
れている。振動子２４は、前記振動板２２の下面に取り
付けられている。高周波発振器２５は、前記振動子２４
に接続されている。洗浄液（例えば純水）２６が収容さ
れた２３０ｍｍＷ×３８０ｍｍＤ×２７０ｍｍＨの寸法
の洗浄槽２７は、前記外槽２１にその底部が前記振動板
２２と所望の距離隔て、かつ平行になるように設置され
ている。エアーポンプ２８に連結されたエアー供給管２
９の下端は、前記伝播水２３内に浸漬されている。音圧
センサ３０の下端は、前記洗浄液２６内に浸漬されてい
る。音圧を電圧として出力する変換器３１は、前記音圧
センサ３０に接続されている。
内の洗浄液に伝達される音圧を測定するための実験装置
である。寸法が３００ｍｍＷ×５００ｍｍＤ×５０ｍｍ
Ｈの外槽２１は、中間付近に振動板２２が配置され、前
記振動板２２を底とする上部側には伝播水２３が収容さ
れている。振動子２４は、前記振動板２２の下面に取り
付けられている。高周波発振器２５は、前記振動子２４
に接続されている。洗浄液（例えば純水）２６が収容さ
れた２３０ｍｍＷ×３８０ｍｍＤ×２７０ｍｍＨの寸法
の洗浄槽２７は、前記外槽２１にその底部が前記振動板
２２と所望の距離隔て、かつ平行になるように設置され
ている。エアーポンプ２８に連結されたエアー供給管２
９の下端は、前記伝播水２３内に浸漬されている。音圧
センサ３０の下端は、前記洗浄液２６内に浸漬されてい
る。音圧を電圧として出力する変換器３１は、前記音圧
センサ３０に接続されている。
【００１７】このような実験装置において、各種ガスの
溶存濃度が１ｐｐｍ、３ｐｐｍ、６ｐｐｍ、９ｐｐｍ、
１２ｐｐｍおよび１５ｐｐｍの伝播水２３を前記外槽２
１内に７．５リットル収容し、純水（洗浄液）２６を前
記洗浄槽２７内に約２３．５リットル収容した。なお、
各種ガスの溶存濃度が３ｐｐｍ、６ｐｐｍ、９ｐｐｍ、
１２ｐｐｍおよび１５ｐｐｍの伝播水の調製は、各種ガ
スの溶存濃度が１ｐｐｍの伝播水にエアーをエアーポン
プ２８からエアー供給管２９を通して前記伝播水にバブ
リングすることにより行った。この後、前記高周波発振
器２５をオンして前記外槽２１の振動板２２下面に取り
付けた振動子２４を振動させ、前記振動板２２から例え
ば１ＭＨｚの高周波音波を前記各伝播水２３を通して前
記洗浄槽２７内の洗浄液２６に放射し、その音圧を前記
洗浄液２６に浸漬した音圧センサ３０で検出し、音圧測
定器３１で音圧を電圧として出力とし、前記伝播水の各
種ガス（例えば酸素、窒素、炭酸ガス）の溶存濃度と音
圧（電圧）との関係を求めた。その結果を下記表１に示
す。
溶存濃度が１ｐｐｍ、３ｐｐｍ、６ｐｐｍ、９ｐｐｍ、
１２ｐｐｍおよび１５ｐｐｍの伝播水２３を前記外槽２
１内に７．５リットル収容し、純水（洗浄液）２６を前
記洗浄槽２７内に約２３．５リットル収容した。なお、
各種ガスの溶存濃度が３ｐｐｍ、６ｐｐｍ、９ｐｐｍ、
１２ｐｐｍおよび１５ｐｐｍの伝播水の調製は、各種ガ
スの溶存濃度が１ｐｐｍの伝播水にエアーをエアーポン
プ２８からエアー供給管２９を通して前記伝播水にバブ
リングすることにより行った。この後、前記高周波発振
器２５をオンして前記外槽２１の振動板２２下面に取り
付けた振動子２４を振動させ、前記振動板２２から例え
ば１ＭＨｚの高周波音波を前記各伝播水２３を通して前
記洗浄槽２７内の洗浄液２６に放射し、その音圧を前記
洗浄液２６に浸漬した音圧センサ３０で検出し、音圧測
定器３１で音圧を電圧として出力とし、前記伝播水の各
種ガス（例えば酸素、窒素、炭酸ガス）の溶存濃度と音
圧（電圧）との関係を求めた。その結果を下記表１に示
す。
【００１８】 表１ 各種ガスの溶存濃度(ppm) １ ３ ５ ９ 12 15 測定器からの出力(mV) 2.5 2.5 2.4 1.75 0.45 0.6 前記表１から明らかなように伝播水中の各種ガスの溶存
濃度を１０ｐｐｍ以下にすることにより振動板からの高
周波音波を伝播水を通して洗浄槽内の洗浄液に良好に伝
播できることがわかる。
濃度を１０ｐｐｍ以下にすることにより振動板からの高
周波音波を伝播水を通して洗浄槽内の洗浄液に良好に伝
播できることがわかる。
【００１９】したがって、本発明の超音波洗浄装置によ
れば前記振動板２を振動して高周波音波を外槽１内の脱
気された純水からなる伝播水３に放射させることによっ
て、前記伝播水３中での高周波音波の伝播性を高めるこ
とができるため、前記洗浄液１０に効率よく伝播させて
その内に収納されたウェハ１８表面の不純物、パーティ
クル等を良好に除去し、精密洗浄することができる。
れば前記振動板２を振動して高周波音波を外槽１内の脱
気された純水からなる伝播水３に放射させることによっ
て、前記伝播水３中での高周波音波の伝播性を高めるこ
とができるため、前記洗浄液１０に効率よく伝播させて
その内に収納されたウェハ１８表面の不純物、パーティ
クル等を良好に除去し、精密洗浄することができる。
【００２０】さらに、洗浄槽１０内からオーバーフロー
した洗浄液を第２オーバーフロー部８、第２ドレイン管
１１、第１オーバーフロー部６および第１ドレイン管７
を通して排出することによって、前記洗浄液が外槽１内
の伝播水３内に混入されるのを防ぐことができるため、
前記振動板２からの高周波音波を効率よく前記洗浄槽１
０内の洗浄液に伝播させることができる。
した洗浄液を第２オーバーフロー部８、第２ドレイン管
１１、第１オーバーフロー部６および第１ドレイン管７
を通して排出することによって、前記洗浄液が外槽１内
の伝播水３内に混入されるのを防ぐことができるため、
前記振動板２からの高周波音波を効率よく前記洗浄槽１
０内の洗浄液に伝播させることができる。
【００２１】さらに、脱気水生成塔１４で生成された脱
気水を脱気水供給管１６を通して常時、前記外槽１内に
供給して、第１オーバーフロー部６および第１ドレイン
管７から排出するようにすれば、伝播水３を前記外槽１
内に滞留させることによる大気中からの酸素等の各種ガ
スの伝播水への溶解を防止することができるため、洗浄
工程中において高い高周波音波の伝播性を維持すること
ができる。
気水を脱気水供給管１６を通して常時、前記外槽１内に
供給して、第１オーバーフロー部６および第１ドレイン
管７から排出するようにすれば、伝播水３を前記外槽１
内に滞留させることによる大気中からの酸素等の各種ガ
スの伝播水への溶解を防止することができるため、洗浄
工程中において高い高周波音波の伝播性を維持すること
ができる。
【００２２】さらに、高周波音波を伝播水に付与する際
に気泡発生を防止できるため、気泡除去を目的として前
記洗浄槽１０の底面を傾斜させることなく、前記振動板
２と平行に配置できる。
に気泡発生を防止できるため、気泡除去を目的として前
記洗浄槽１０の底面を傾斜させることなく、前記振動板
２と平行に配置できる。
【００２３】なお、前述した実施例では脱気水生成手段
として複数の中空糸を内蔵した脱気水生成塔およびバキ
ュームポンプにより構成したが、別の形態の脱気水生成
手段を用いてもよい。
として複数の中空糸を内蔵した脱気水生成塔およびバキ
ュームポンプにより構成したが、別の形態の脱気水生成
手段を用いてもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば伝
播水での高周波音波の伝播性（透過性）を高めることに
より高周波音波を洗浄槽内の洗浄水に効率よく伝播させ
て前記洗浄槽内の被洗浄物表面の不純物、パーティクル
等を良好に除去し、精密洗浄を行うことができ、ひいて
は半導体装置、液晶表示装置や磁気ディスクの製造等の
洗浄工程に有効に適用することが可能な高周波洗浄装置
を提供することができる。
播水での高周波音波の伝播性（透過性）を高めることに
より高周波音波を洗浄槽内の洗浄水に効率よく伝播させ
て前記洗浄槽内の被洗浄物表面の不純物、パーティクル
等を良好に除去し、精密洗浄を行うことができ、ひいて
は半導体装置、液晶表示装置や磁気ディスクの製造等の
洗浄工程に有効に適用することが可能な高周波洗浄装置
を提供することができる。
【図１】本発明に係わる高周波洗浄装置を示す概略断面
図。
図。
【図２】振動板から伝播水を通して洗浄槽内の洗浄液に
伝達される音圧を測定するための実験装置を示す概略断
面図。
伝達される音圧を測定するための実験装置を示す概略断
面図。
１、２１…外槽、 ２、２２…振動板 ３、２３…伝播水、 ５、２５…高周波発振器、 ９、２６…洗浄液、 １０、２７…洗浄槽、 １４…脱気水生成塔、 １７…被洗浄物（半導体ウェハ）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 照幸 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１ 大日本スクリーン製造株式会社 野洲事業所内 (72)発明者 上野 隆 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１ 大日本スクリーン製造株式会社 野洲事業所内
Claims (2)
- 【請求項１】 脱気水からなる伝播水が収容された外槽
と、 前記外槽内に底部が前記外槽底部から所望距離隔てら
れ、かつ前記外槽内の伝播水に接触した状態で収納さ
れ、内部に洗浄液が収容された洗浄槽と、 前記外槽に連結された脱気水を生成するための脱気水生
成手段と、 前記外槽の底部に配置され、前記伝播水を通して前記洗
浄液に高周波音波を付与するための振動板と、 前記振動板の下面に取着された振動子と、 この振動子を駆動するための高周波発振器とを具備した
ことを特徴とする高周波洗浄装置。 - 【請求項２】 前記脱気水生成手段は、ガス溶存濃度を
１０ｐｐｍ以下に制御する機能を有することを特徴とす
る請求項１記載の高周波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26417696A JP3349636B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 高周波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26417696A JP3349636B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 高周波洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10109073A true JPH10109073A (ja) | 1998-04-28 |
| JP3349636B2 JP3349636B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=17399525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26417696A Expired - Fee Related JP3349636B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 高周波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3349636B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007250726A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体 |
| JP2008243342A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の超音波洗浄装置および超音波洗浄方法、磁気ディスク製造方法ならびに磁気ディスク |
| JP2010046570A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Japan Organo Co Ltd | 超音波処理装置用供給液の製造装置、超音波処理装置用供給液の製造方法及び超音波処理システム |
| JP2011147917A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 超音波洗浄方法と超音波洗浄装置、および超音波洗浄に用いる伝播水の製造方法 |
| US9958786B2 (en) | 2003-04-11 | 2018-05-01 | Nikon Corporation | Cleanup method for optics in immersion lithography using object on wafer holder in place of wafer |
| CN108714595A (zh) * | 2018-05-31 | 2018-10-30 | 珠海和丰智能设备有限公司 | 探头仿生清洗机构 |
-
1996
- 1996-10-04 JP JP26417696A patent/JP3349636B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9958786B2 (en) | 2003-04-11 | 2018-05-01 | Nikon Corporation | Cleanup method for optics in immersion lithography using object on wafer holder in place of wafer |
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| US8347901B2 (en) | 2006-03-15 | 2013-01-08 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning method, substrate cleaning system and program storage medium |
| US9358588B2 (en) | 2006-03-15 | 2016-06-07 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning method, substrate cleaning system and program storage medium |
| JP2008243342A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の超音波洗浄装置および超音波洗浄方法、磁気ディスク製造方法ならびに磁気ディスク |
| JP2010046570A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Japan Organo Co Ltd | 超音波処理装置用供給液の製造装置、超音波処理装置用供給液の製造方法及び超音波処理システム |
| JP2011147917A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 超音波洗浄方法と超音波洗浄装置、および超音波洗浄に用いる伝播水の製造方法 |
| CN108714595A (zh) * | 2018-05-31 | 2018-10-30 | 珠海和丰智能设备有限公司 | 探头仿生清洗机构 |
| CN108714595B (zh) * | 2018-05-31 | 2023-09-15 | 珠海和丰智能设备有限公司 | 探头仿生清洗机构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3349636B2 (ja) | 2002-11-25 |
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