KR19980087148A - 바닥 광택 중합체 조성물 - Google Patents

바닥 광택 중합체 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR19980087148A
KR19980087148A KR1019980017803A KR19980017803A KR19980087148A KR 19980087148 A KR19980087148 A KR 19980087148A KR 1019980017803 A KR1019980017803 A KR 1019980017803A KR 19980017803 A KR19980017803 A KR 19980017803A KR 19980087148 A KR19980087148 A KR 19980087148A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
weight
parts
floor
composition
meth
Prior art date
Application number
KR1019980017803A
Other languages
English (en)
Inventor
윌리 라우
마이클 드웨인 켈리
데니스 폴 로라
데이비드 랄프 헤인리
Original Assignee
에들러 마크 에스.
롬 앤드 하스 캄파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에들러 마크 에스., 롬 앤드 하스 캄파니 filed Critical 에들러 마크 에스.
Publication of KR19980087148A publication Critical patent/KR19980087148A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/12—Polymerisation in non-solvents
    • C08F2/16—Aqueous medium
    • C08F2/22—Emulsion polymerisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F20/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F20/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1812—C12-(meth)acrylate, e.g. lauryl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1818—C13or longer chain (meth)acrylate, e.g. stearyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10—Esters; Ether-esters
    • C08K5/101—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids
    • C08K5/103—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids with polyalcohols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C08L33/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00—Polishing compositions
    • C09G1/04—Aqueous dispersions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00—Polishing compositions
    • C09G1/06—Other polishing compositions
    • C09G1/14—Other polishing compositions based on non-waxy substances
    • C09G1/16—Other polishing compositions based on non-waxy substances on natural or synthetic resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/37—Polymers
    • C11D3/3746—Macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C11D3/3757—(Co)polymerised carboxylic acids, -anhydrides, -esters in solid and liquid compositions
    • C11D3/3765—(Co)polymerised carboxylic acids, -anhydrides, -esters in solid and liquid compositions in liquid compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1804—C4-(meth)acrylate, e.g. butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate or tert-butyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1811—C10or C11-(Meth)acrylate, e.g. isodecyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate or 2-naphthyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

왁스 대체용으로 바닥 광택 조성물로 유용한 중합체 조성물이 개시된다. 상기 조성물은 바닥 광택제내에서 개선된 보수 특성을 갖으며 미끄럽지 않은 바닥 광택제를 제공한다.

Description

바닥 광택 중합체 조성물
본 발명은 중합체 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 바닥 광택 조성물로 유용한 중합체 조성물에 관한 것이다.
바닥 광택 조성물은 저항 특성 및 유지 반응을 증진시키도록 왁스를 전형적으로 포함한다. 왁스-함유 광택제로 코팅된 바닥이 보행 교통에 노출됨에 따라, 광택제는 마모(scuff)되게 되고 블랙 힐 마크(black heel mark)를 일으킨다. 손상된 광택제의 보수는 전형적으로 연마기의 사용을 통하여 시도되었다. 상기 보수는 마모와 블랙 마크를 제거하고, 광택제의 광택을 증진시키며, 광택제를 긁지 않을 것이 요망된다. 왁스-함유 바닥 광택제가 연마 공정을 통하여 보수될 수 있다 하더라도, 개선된 보수 특성을 제공하는 바닥 광택 조성물에 대한 필요가 계속되어 왔다.
왁스를 함유하는 바닥 광택 조성물은 미끄러울 수 있다. 상기 미끄러운 표면은 미끄러짐 및 낙상으로 인하여 유해한 결과를 낳을 것이다. 미끄럽지 않은 바닥 광택 조성물에 대한 필요성이 계속되어 왔다. 바닥 광택 조성물에 유사결정도(pseudocrystallinity)를 갖는 연질, 소수성 에멀션 중합체 조성물의 첨가는 바닥 광택제의 보수 특성을 개선시킬 것이며 바닥 광택제를 덜 미끄럽게 할 것이다. 이와 같은 유사결정도를 갖는 연질 소수성 에멀션 중합체 조성물은 중합체를 제조하는데 필요한 단량체의 소수성으로 인하여 제조되기가 어려웠다.
미국 특허 제 5,521,266에서는 소수성 단량체로 부터 중합체를 형성하는 방법이 개시되어 왔다. 개시된 방법은 물에 대한 낮은 용해도를 갖는 착물 단량체에 소수성 공동을 갖는 고분자 유기 화합물을 이용한다. 이는 에멀션 중합에 의해 물에 대한 용해도가 낮은 단량체로 부터 중합체를 형성할 수 있다. 중합체를 형성하기 위해 이 방법에서 사용하기 적절한 단량체로는 라우릴 메타크릴레이트를 포함한다.
종래 기술에서 개시되었음에도 불구하고, 바닥 광택 조성물에서 사용하기 위한 유사 결정도를 갖는 연성 소수성 에멀션 중합체 조성물이 계속 필요시되어 왔다.
본 발명자들은 예기치않게도 본 발명의 중합체 조성물의 사용이 바닥 광택 조성물내에서 왁스의 양을 감소시키는 반면, 바닥 광택에 대한 보수 특성을 증진시키고 바닥 광택제를 덜 미끄럽게 할 수 있음을 발견하였다.
본 발명은 중합 유니트로서 a)최소 하나의 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르 9.5-100중량부; b)최소 하나의 에틸렌계 불포화 단량체 0-90중량부; c)최소 하나의 에틸렌계 불포화 산 함유 단량체 혹은 그 염 0-90중량부; 및
d)최소 하나의 알칼리 용해성 수지 0-60중량부;로 이루어지는 중합체 조성물이 제공된다.
또다른 견지에 의하면, 본 발명은 a)중합 유니트로서, 최소 하나의 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르 9.5-100중량부; 최소 하나의 에틸렌계 불포화 단량체 0-90중량부; 최소 하나의 에틸렌계 불포화 산 함유 단량체 혹은 그 염 0-90중량부; 및 최소 하나의 알칼리 용해성 수지 0-60중량부;를 b)알칼리 용해성 수지 0-90중량부; c)에멀션 중합체 바닥 마감 전색제(vehicle) 10-90중량부; 및 d)물 10-80중량부;와 혼합함을 포함하여 이루어지는 바닥 광택 조성물 제조 방법이 제공된다.
본 발명은 또한 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제 10-90중량부, 알칼리 용해성 수지 0-90중량부, 중합 유니트로서, 최소 하나의 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르 9.5-100중량부; 최소 하나의 에틸렌계 불포화 단량체 0-90중량부; 최소 하나의 에틸렌계 불포화 산 함유 단량체 혹은 그 염 0-90중량부; 최소 하나의 알칼리 용해성 수지 0-60중량부; 및 물 10-80중량부;를 포함하는 중합체 조성물 10-90중량부,로 이루어진 바닥 광택 조성물이 제공된다.
본 발명의 조성물은 단일 단계 혹은 다단계 공정으로 제조될 수 있다. 상기 공정은 미국 특허 제 5,521,266에 기술된 공정과 같은 에멀션 중합일 수 있다. 이 공정은 또한 미국 특허 제 5,539,021에 기술된 바와 같이 에멀션화에 이어 용액 중합, 소(mini)-에멀션 중합, 혹은 확대에멀션 중합일 수 있다. 에멀션 중합이 바람직하다. 본 적용처내의 시료를 제조하는데 사용되는 공정으로는, 제1 단계에서는 단량체 에멀션 및 과황산나트륨을 메틸-β-시클로덱스트린(CD), 탈이온수 및 계면활성제 함유 용액에 첨가함으로써 제조되었다. 상기 제1 단계는 85℃에서 반응되었다. 제2 단계는 상기 반응된 제1 단계에 제2 단량체 에멀션을 제조하고 상기 제2 단량체 에멀션과 과황산나트륨 용액을 공급함으로써 제조되었다. 상기 제2 단계는 85℃에서 반응되었다.
본 발명의 중합체 조성물은 중합 유니트로서, 최소 하나의 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르를 0-100중량부, 바람직하게는 40-99중량부, 보다 바람직하게는 90-98중량부로 함유하는 조성물이다. 바람직하게는 상기 (메트)아크릴산의 알킬 에스테르가 (메트)아크릴산의 C16-C30알킬 에스테르인 것이다. 보다 바람직하게는 상기 (메트)아크릴산의 알킬 에스테르가 (메트)아크릴산의 C16-C18알킬 에스테르인 것이다. 적절한 (메트)아크릴산의 알킬 에스테르는 세틸 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트, 베헤닐(behenyl) (메트)아크릴레이트 및 에이코실 (메트)아크릴레이트를 포함한다. 바닥 광택제에 있어서 이로운 특성은 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르를 하나 이상 이용하여 얻어질 수 있다.
본 발명의 중합체 조성물은 중합 유니트로서, 최소 하나의 에틸렌계 불포화 단량체를 0-90중량부, 바람직하게는 0-50중량부, 보다 바람직하게는 1-20중량부를 또한 함유한다. 본 발명의 중합체 조성물을 제조하는데 사용하기 적절한 에틸렌계 불포화 단량체로는 한정하는 것은 아니나, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 데실 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트 및 히드록시프로필 아크릴레이트를 포함하는 (메트)아크릴산 에스테르 단량체; 아크릴아미드 혹은 치환된 아크릴아미드; 스티렌 혹은 치환된 스티렌; 비닐 아세테이트 혹은 기타 비닐 에스테르; 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, N-비닐 피롤리돈과 같은 비닐 단량체; 및 아크릴로니트릴 혹은 메타크릴로니트릴;을 포함한다. 부틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트 및 스티렌이 바람직하다. 보다 바람직한 것은 부틸 아크릴레이트 및 메틸 메타크릴레이트이다.
본 발명의 중합체 조성물은 또한 중합 유니트로서, 에틸렌계 불포화 산 함유 단량체 혹은 그 염을 0-90중량부, 바람직하게는 0-50중량부, 보다 바람직하게는 1-15중량부를 함유한다. 적절한 에틸렌계 불포화 산 함유 단량체로는 한정하는 것은 아니나, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 포스포에틸 메타크릴레이트, 2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판술폰산, 소디움 비닐 술포네이트, 이타콘산, 퓨마르산, 말레산, 모노메틸 이타코네이트, 모노메틸 퓨마레이트, 모노부틸 퓨마레이트 및 말레산 무수물을 포함한다. 아크릴산과 메타크릴산이 바람직하다. 메타크릴산이 보다 바람직하다.
본 발명의 중합체 조성물은 또한 알칼리 용해성 수지를 0-60중량부, 바람직하게는 0-40중량부, 보다 바람직하게는 0-20중량부를 함유한다. 본 발명에 유용한 알칼리 용해성 수지는 전형적으로는 중량 평균분자량이 500,000미만, 바람직하게는 100,000미만, 보다 바람직하게는 50,000미만인 것이다.
본 발명의 중합체 조성물은 바닥 광택 조성물에 유용하다. 바닥 광택 조성물은 전형적으로는 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제, 물, 알칼리 용해성 수지, 살생물제, 폴리에틸렌 왁스, 폴리프로필렌 왁스 및 합착 용매를 함유하는 에멀션이다. 본 발명의 상기 조성물은 페인트, 목재 코팅제, 잉크를 포함하는 건축 및 공업용 코팅제; 접착제; 마스틱(mastics); 플라스틱; 플라스틱 첨가제; 석유 첨가제; 등과 같은 적용처에 또한 유용하다.
본 발명의 중합체 조성물은 전형적으로는 바닥 광택 조성물에 본 발명의 중합체 조성물 10-90중량부를 혼합함으로써 바닥 광택 조성물에 전형적으로 사용된다. 바람직하게는 본 발명의 중합체 조성물 10-50중량부를 바닥 광택 조성물에 혼합하는 것이 좋다. 보다 바람직하게는 본 발명의 중합체 조성물 15-25중량부를 바닥 광택 조성물에 혼합시키는 것이 좋다.
에멀션 중합체 바닥 마감 전색제는 단일 단계 혹은 다단계 에멀션 중합에 의해 제조될 수 있다. 에멀션 중합 공정은 이 기술 분야에 알려져 있으며, 예를 들면 미국 특허 제 5,346,954에 개시되어 있다. 다-단계 중합체 공정은 또한 이 기술 분야에 알려져 있으며, 예를 들면 미국 특허 제 4,325,856, 4,654,397 및 4,814,373에 개시되어 있다. 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제 제조시 사용하기에 적절한 단량체로는 한정하는 것은 아니나, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트를 포함하는 아크릴산 에스테르 단량체; 아크릴아미드 혹은 치환된 아크릴아미드; 스티렌 혹은 치환된 스티렌; 비닐 아세테이트 혹은 기타 비닐 에스테르; 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, N-비닐 피롤리돈과 같은 비닐 단량체; 및 아크릴로니트릴 혹은 메타크릴로니트릴;을 포함한다.
에멀션 중합된 중합체의 중량을 기준으로 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 퓨마르산, 말레산 및 말레산 무수물과 같은 공중합된 에틸렌계 불포화된 산 단량체의, 예를 들어 0.1-10중량%의 낮은 수준이 또한 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제에 사용될 수 있다.
사슬 전달제는 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제의 분자량을 조절하는데 사용될 수 있다. 적절한 사슬 전달제로는 예를 들어 도데실메르캅탄과 같은 메르캅탄류이다. 사슬 전달제는 중합성 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1-10%가 사용될 수 있다.
필름 형성을 저해하지 않는다면, 예를 들어 폴리아지리딘, 폴리이소시아네이트, 폴리카보이미드, 폴리아민 및 다가 금속 화합물과 같은 통상의 교차결합제가 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제에 사용될 수 있다. 교차결합제는 전형적으로는 중합체 고형분의 중량을 기준으로 0.05-25%가 사용된다.
Rhoplexⓡ1421, Acrysolⓡ644 및 AcrysolⓡPlus와 같은 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제가 충격 저항을 갖는 경질 필름을 제공하도록 바닥 광택 조성물에 전형적으로 사용된다. 바닥 광택제에 전형적으로 사용되는 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제의 범위는 10-90중량부이다. 바람직하게는 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제 50-90중량부가 바닥 광택제에 사용되는 것이 좋다. 보다 바람직하게는 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제 70-90중량부가 바닥 광택제에 사용되는 것이 좋다.
알칼리 용해성 수지는 미국 특허 제3,037,952에 개시되어 있다. 알칼리 용해성 수지란 전형적으로는 중량 평균 분자량이 500,000미만, 바람직하게는 100,000미만, 보다 바람직하게는 50,000미만인 수지를 의미한다. 상기 알칼리 용해성 수지는 중량 기초하여 전형적으로 수지의 10% 이상 존재하는 산 작용기를 함유한다. 상기 알칼리 용해성 수지는 전형적으로는 pH 6-10의 범위에서 반투명 용액을 맑게 한다. 상기 알칼리 용해성 수지는 상술된 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제로서 동일한 공정 및 동일한 물질에 의해 제조될 수 있다.
바닥 광택제에 전형적으로 사용되는 알칼리 용해성 수지의 범위는 0-90중량부이다. 바람직하게는 알칼리 용해성 수지 5-50중량부가 바닥 광택제로 사용된다. 보다 바람직하게는 알칼리 용해성 수지 10-30중량부가 바닥 광택제로 사용된다.
합착제는 전형적으로 바닥 광택제내에서 필름 형성을 돕는데 사용된다. 적절한 합착제로는 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르 및 트리프로필렌 글리콜 메틸 에테르를 포함한다. 합착제는 바닥 광택 조성물내에서 전형적으로 0.1-10중량부로 이용된다.
KathonⓡCG/ICP와 같은 살생물제가 병내에 있는 동안에 조성물을 보존가공하기 위하여 상기 바닥 광택 조성물에 첨가될 수 있다. 살생물제는 전형적으로는 0.01-0.2중량%로 바닥 광택 조성물에 사용된다.
마모 및 블랙 마크 저항성을 제공하도록 EpoleneⓡE-43N 및 A-C 325N과 같은 왁스 에멀션이 전형적으로 바닥 광택 조성물에 사용된다. 왁스 에멀션은 고형분을 기준으로 바닥 광택 조성물내에 10-90중량부로 이용된다. 바람직하게는 왁스 에멀션의 고형분 기준으로 10-50중량부가 바닥 광택제내에 이용되는 것이 좋다. 보다 바람직하게는 왁스 에멀션의 고형분 기준으로 10-20중량부가 바닥 광택제에 사용되는 것이 좋다.
본 발명의 중합체 조성물이 바닥 광택 조성물에 도입될 때, 결과 바닥 광택제는 개선된 보수 특성 및 미끄러짐 저항성을 갖는다.
하기 약어가 사용된다:
LMA= 라우릴 메타크릴레이트, SMA = 스테아릴 메타크릴레이트, St = 스티렌,
MMA = 메틸 메타크릴레이트, BA = 부틸 아크릴레이트, MAA = 메타크릴산,
IBOMA = 이소보닐 메타크릴레이트, nDDM = n-도데실 메르캅탄,
Id. = 시료 식별 번호, CD = 메틸-β-시클로덱스트린, g = 그램,
℃ = 섭씨 온도, NH4OH = 수성 암모니아, J-678 = Joncrylⓡ-678,
Comp = 비교예, BMR = 블랙 마크 저항성, SR = 마모 저항성,
LC = 긴 사슬 (메트)아크릴레이트 = 메타크릴레이트 및 아크릴레이트.
하기표는 본 특허 출원 및 그 공급원내에서 사용된 물질을 열거하였다.
물질 작용 공급원
TritonⓡXN-45S 음이온성 계면활성제 Union Carbide
PluronicⓡL31 계면활성제 BASF
Joncrylⓡ-678 알칼리 용해성 수지 SC Johnson
SiponateⓡDS-4 계면활성제 Rhone-Poulenc
Rhoplexⓡ1421 중합체 Rohm and Haas
Acrysolⓡ644 중합체 Rohm and Haas
AcrysolⓡPlus 중합체 Rohm and Haas
KathonⓡCG/ICP 살생물제 Rohm and Haas
Poly Emulsionⓡ325N35 왁스 ChemCor
EpoleneⓡE-43N 왁스 ChemCor
FluoradⓡFC-129 계면 활성제 3M Company
SE-21 실리콘 Wacker Silicones Corporation
(실시예 1)
단계 1을 위해서는, 탈이온수 400g, TritonⓡXN-45S 음이온성 계면활성제(T#1) 및 CD 28.6g을 기계적 교반기, 온도 제어 장치, 응축기, 단량체와 개시제 공급 라인 및 질소 유입구가 장착된 4구를 갖는 4ℓ 둥근 바닥 플라스크에 실온하에 유입하였다. 내용물을 질소 쓸기하에 교반하면서 85℃까지 가열하였다. 탈이온수 31.3g, TritonⓡXN-45S 음이온성 계면활성제 0.4g, LMA 33.8g, BA 7.5g, MMA 33g 및 MAA 0.75g로된 단량체 에멀션을 별도로 제조하였다. 탈이온수 25g에 용해시킨 탄산나트륨 0.35중량%(단계 1 및 단계 2내 총 단량체 중량 기준)의 용액 및 탈이온수 30g에 용해시킨 과황산나트륨 0.35중량%(단계 1 및 2내 총 단량체 중량 기초)의 용액을 반응 용기에 도입하였다. 상기 단량체 에멀션을 탈이온수 210g에 용해된 과황산나트륨 0.05%(단계 1 및 단계 2내 총 단량체 중량 기준으로)의 개시제 용액과 함께 20분간에 걸쳐 공급하였다.
단계 2를 위해서는, 탈이온수 625g, TritonⓡXN-45S 음이온성 계면활성제 7.8g 및 하기표 1에 의한 단량체를 단량체 에멀션을 제조하였다. 단계 1 단량체 에멀션의 공급 종료 직후, 단계 2 단량체 에멀션을 과황산나트륨 개시제 용액과 함께 3시간에 걸쳐 공급하였다.
Id. LMA SMA BA MMA St IBOMA nDDM MAA T#1
1 0 1395 0 75 0 0 0 30 11.9
2 0 139 0 75 0 0 7.5 30 11.9
3 0 975 0 510 0 0 0 15 11.9
4 705 690 0 75 0 0 0 30 11.9
5 1020 375 0 75 0 0 0 30 11.9
6 0 780 0 705 0 0 0 15 11.9
7 0 675 150 660 0 0 0 15 24.5
8 0 525 150 150 660 0 0 15 24.5
9 0 600 150 150 585 0 0 15 24.5
10 0 675 150 150 510 0 0 15 24.5
11 0 750 150 150 435 0 0 15 24.5
12 0 675 0 150 0 650 0 15 24.5
13* 1395 0 0 75 0 0 0 30 11.9
*는 시험용 비교예 3(LMA)
(실시예 2)
용기내에서 물, 계면활성제, J-678, CD 및 NH4OH를 혼합시켜 바닥 광택에 시험하는 시료의 제2 셋트를 제조하였다. 그런 다음 상기 용기에 물에 용해된 과황산암모늄의 용액을 첨가하였다. 최종적으로, 물, 계면활성제 및 SMA를 함유하는 단량체 에멀션과 물에 용해된 과황산암모늄 용액을 용기에 첨가하였다. 단량체를 85℃에서 반응시켰다.
실시예 1에서 사용한 것과 동일한 장치를 이용하여, 탈이온수 1,543g을 실온에서 반응 플라스크내에 도입하였다. 내용물을 질소 쓸기하에 교반하면서 55℃까지 가열하였다. 55℃에서, 하기표 2에 열거된 NH4OH, CD, J-678 및 PluronicⓡL31 16g을 반응 용기내로 도입하였다. 내용물을 55℃에서 2시간동안 교반하고 85℃까지 가열하였다. 탈이온수 104g, SiponateⓡDS-4 23%용액 2.8g, 하기표 2에 열거된 SMA 및 Pluronic L31 16g을 함유하는 단량체 에멀션을 별도로 제조하였다. 탈이온수 25g에 과황산암모늄 7g을 용해시킨 용액을 용기에 첨가하였다. 그런 다음 단량체 에멀션을 5.5g/분의 속도로 용기에 첨가하였다. 탈이온수 165g에 과황산암모늄 7g을 용해시킨 개시제 용액을 1g/분의 속도로 동시 공급하였다.
Id NH4OH(28%) CD(50%) J-678 SMA
14 37.1 0 160 640
15 92.8 14.9 400 400
16 37.1 14.9 160 640
(실시예 3)-바닥 광택 적용 및 시험
바닥 광택제를 다음과 같은 배합에 의해 제조하였다:
첨가순 물질 중량%
물 30.73
KathonⓡCG/ICP 0.03
Acrysolⓡ644(42%) 5.52
FluoradⓡFC-129(50%) 0.02
디에틸렌 글리콜 에틸 에테르 5.78
트리프로필렌 글리콜 메틸 에테르 1.02
Rhoplexⓡ1421(38%) 45.76
EpoleneⓡE-43N(40%) 4.35
Poly Emulsionⓡ325N35(35%) 4.97
SE-21 0.02
상기 시료는 시험용 비교예 2이다. 본 발명의 시료를 위해서, 본 발명의 중합체 조성물의 동일 중량을 EpoleneⓡE-43N과 Poly Emulsionⓡ325N35로 치환하였다. 알칼리 용해성 수지를 갖는 본 발명의 시료를 위해서는, AcrysolⓡPlus의 동일 중량을 Acrysolⓡ644로 치환하였다. 왁스가 없는 대조 시료(시험용 비교예 1)를 위하여, Rhoplexⓡ1421 수준을 EpoleneⓡE-43N과 Poly Emulsionⓡ325N35를 제거하기 위한 근거에 기초하여 동일 중량으로 증가시켰다.
상기 바닥 광택제를 비닐 석면 타일 바닥을 갖는 복도에 입히기 위하여 시험하였다. 상기 복도에서 우선 잔류하는 광택을 제거하였다. 그런 다음 바닥을 다음과 같이 재광택내었다:
벗겨진 바닥을 복도 결(flow)의 정규 방향에 수직으로 동일한 단면으로 분할하였다. 각 단면에 시험하려는 광택제의 코팅을 적용하였다. 광택제는 대략 186㎡/3.8ℓ의 비로 모헤어(mohair) 적용기로 적용하였다. 앞선 코팅을 건조시키기 위하여 1시간동안 건조시킨 다음 광택제로 3회 추가 코팅을 적용하였다.
광택낸 타일 바닥을 1일 교통량이 800-1,200인 지역에 적용하였다. 교통에 적용한 다음 마모 및 블랙힐 마크 저항성의 견지에서 광택제의 전체 내구성을 개선된 성능의 상승 순서대로 1-10 등급으로 매주 등급화하였다. 마모는 마모 마크의 수, 크기 및 깊이에 기초하여 등급화하였다. 블랙 마크 등급은 블랙 마크의 수, 크기 및 명암에 기초하였다. 그런 다음 상기 광택제를 교통 손상을 보수하도록 대략 2,100 회전/분으로 작동하는 프로판 동력을 갖춘 연마기로 고속 연마하였다. 보수는 고속 연마의 결과로서, 전체 광택 증가, 마모 및 블랙 마크 제거 및 긁힘 관점에서 주관적으로 등급화하였다. 바닥 광택제를 함유하는 비 알칼리 용해성 수지를 갖는 시험 결과를 하기표 3에 나타내었다. 바닥 광택제를 함유하는 알칼리 용해성 수지를 갖는 시험 결과를 하기표 4에 나타내었다.
시료 SR BMR 보수 LC 메타크릴레이트
비교예 1 4 6 양호 없음
비교예 2 7 9 우수 없음
비교예 3 6 7 양호 LMA
1 7 9 매우 우수 SMA
3 6 8 매우 우수 SMA
4 8 9 탁월 SMA/LMA
상기 데이터는 본 발명의 조성물이 마모 저항성 및 블랙 마크 저항성의 견지에서 성능은 잃지 않으면서 알칼리 용해성 수지가 없는 바닥 광택제내에서 왁스를 대체할 수 있음을 입증한다. 본 발명의 조성물로 제조된 바닥 광택제는 종래의 바닥 광택제를 함유하는 왁스보다 보수 특성이 훨씬 좋다.
시료 SR BMR 보수 LC 메타크릴레이트
비교예 1 5 5 불량 없음
비교예 2 7 8 양호 없음
16 8 8 양호 SMA
15 9 8 우수 SMA
상기 데이터는 본 발명의 조성물이 마모 저항성 및 블랙 마크 저항성의 견지에서 성능을 잃지 않으면서 바닥 광택제를 함유하는 알칼리 용해성 수지내 왁스를 대체할 수 있다. 본 발명의 조성물로 제조된 바닥 광택제는 종래의 바닥 광택제를 함유하는 왁스보다 보수 특성이 훨씬 좋다.
상기 시료를 또한 미끄러짐 저항성에 대하여 시험하였다. 3가지 비닐 조성물 타일을 코팅하려는 부위의 중앙에 퍼들(puddle)로 광택제의 4ml 분량을 적용함으로써 바닥 광택제로 코팅하였다. Johnson and Johnson 2인치×2인치 12-꼬임(ply) 게이지를 가능한한 대다수의 광택제를 흡수하도록 하였다. 상기 광택제는 포화된 게이지 패드(pad)로 타일의 표면에 걸쳐 균일하게 먼저 상하로, 그런 다음 교차 방향 스트로크로 분산시켰다. 타일에 시험 광택제를 적용하는데 어떠한 압력도 사용하지 않았다. 광택제를 70℉/55% 상대 습도 항온 조건에서 건조시킨 다음, 제1 코팅과 동일한 방법으로 제2 코팅을 적용하였다. 타일을 밤새 건조시킨 다음, 시험을 수행하였다.
시험은 James 마찰 시험기상에서 수행하였다. 미끄러짐 저항성은 마찰의 정적 계수로서 수치 0.00-1.00으로 기록하였다. 상기 수치는 각 측정사이에 타일을 90。씩 회전시키면서, 광택제상에서 4회 측정조작한 평균값이다. 수치가 1.00에 가까울수록, 광택제가 덜 미끄러운 것이다. 시험 결과를 하기표 5에 나타내었다.
Id 미끄러짐 저항성
비교예 2 0.63
비교예 1 0.9
3 0.85
1 0.81
상기 결과는 본 발명의 조성물이 바닥 광택제를 함유한 왁스보다 좋은 미끄러짐 저항성을 갖는 바닥 광택제를 제공함을 입증한다.
상기한 바에 따르면, 바닥 광택제내에서 개선된 보수 특성을 제공하며 미끄럽지 않은 바닥 광택제를 제공할 수 있다.

Claims (5)

  1. 중합 유니트로서
    a)최소 하나의 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르 9.5-100중량부;
    b)최소 하나의 에틸렌계 불포화 단량체 0-90중량부;
    c)최소 하나의 에틸렌계 불포화 산 함유 단량체 혹은 그 염 0-90중량부; 및
    d)최소 하나의 알칼리 용해성 수지 0-60중량부;로 이루어지는 중합체 조성물
  2. 제1항에 있어서, 상기 조성물은
    a)최소 하나의 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르 40-99중량부;
    b)메틸 메타크릴레이트 및 부틸 아크릴레이트로 이루어지는 그룹으로 부터 선택된 최소 하나 이상의 단량체 0-50중량부; 및
    c)메타크릴산 0-50중량부;로 이루어짐을 특징으로 하는 조성물
  3. 제1항에 있어서, 상기 조성물은
    a)스테아릴 (메트)아크릴레이트 90-98중량부;
    b)메틸 메타크릴레이트 1-20중량부; 및
    c)메타크릴산 1-15중량부;로 이루어짐을 특징으로 하는 조성물
  4. a)중합 유니트로서, 최소 하나의 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르 9.5-100중량부; 최소 하나의 에틸렌계 불포화 단량체 0-90중량부; 최소 하나의 에틸렌계 불포화 산 함유 단량체 혹은 그 염 0-90중량부; 및 최소 하나의 알칼리 용해성 수지 0-60중량부;를
    b)알칼리 용해성 수지 0-90중량부;
    c)에멀션 중합체 바닥 마감 전색제 10-90중량부; 및
    d)물 10-80중량부;와 혼합시킴을 포함하는 바닥 광택 조성물 제조 방법
  5. 에멀션 중합체 바닥 마감 전색제 10-90중량부, 알칼리 용해성 수지 0-90중량부, 중합 유니트로서, 최소 하나의 (메트)아크릴산의 C16-C40알킬 에스테르 9.5-99중량부; 최소 하나의 에틸렌계 불포화 단량체 0-90중량부; 최소 하나의 에틸렌계 불포화 산 함유 단량체 혹은 그 염 0-90중량부; 최소 하나의 알칼리 용해성 수지 0-60중량부; 및 물 10-80중량부;를 포함하는 중합체 조성물 10-90중량부,로 이루어진 바닥 광택 조성물
KR1019980017803A 1997-05-21 1998-05-18 바닥 광택 중합체 조성물 KR19980087148A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US4726197P 1997-05-21 1997-05-21
US60/047,261 1997-05-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR19980087148A true KR19980087148A (ko) 1998-12-05

Family

ID=21947957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980017803A KR19980087148A (ko) 1997-05-21 1998-05-18 바닥 광택 중합체 조성물

Country Status (12)

Country Link
US (1) US6040409A (ko)
EP (1) EP0879852B1 (ko)
JP (1) JPH10330574A (ko)
KR (1) KR19980087148A (ko)
CN (1) CN1201806A (ko)
AR (1) AR012685A1 (ko)
AU (1) AU743666B2 (ko)
BR (1) BR9801658A (ko)
CA (1) CA2237839A1 (ko)
DE (1) DE69821052T2 (ko)
ES (1) ES2213876T3 (ko)
ZA (1) ZA983899B (ko)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2297929T3 (es) * 1998-07-10 2008-05-01 Basf Corporation Procedimiento continuo de polimerizacion en masa y de esterificacion y composiciones que incluyen el producto0 polimero.
DK1100835T3 (da) 1998-07-10 2004-10-04 Johnson Polymer Llc Fremgangsmåde til fremstilling af polymerer ved frit radikal-polymerisation og kondensations-reaktion og apparat samt produkter, der er relateret dertil
EP1020502A1 (en) * 1999-01-13 2000-07-19 Rohm And Haas Company The use of polymers as furniture polishes
DE60025361T2 (de) 1999-07-14 2006-07-27 Johnson Polymer, Inc., Sturtevant Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von epoxy - (meth)acryl - styrolpolymeren und ihre verwendung in beschichtungsmassen
US6683129B1 (en) * 2000-03-31 2004-01-27 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Salt sensitive aqueous emulsions
US6605681B1 (en) 2000-07-12 2003-08-12 Johnson Polymer, Inc. Process for the continuous production of epoxylated addition polymers, and powder and liquid coating applications containing epoxylated addition polymers
EP1182235A1 (en) 2000-08-24 2002-02-27 Rohm And Haas Company Exterior finishing composition, grout, and trowel paste
AU9133401A (en) * 2000-11-28 2002-05-30 Rohm And Haas Company Hydrophobic absorbing polymers and process
US6664327B2 (en) 2001-01-10 2003-12-16 Rohm And Haas Company Aqueous composition for wood stain
JP2002322391A (ja) * 2001-04-26 2002-11-08 Jsr Corp 水性被覆剤組成物および床用艶出し剤組成物
CA2390952C (en) * 2001-07-02 2006-07-11 Rohm And Haas Company Compositions and process for retaining active ingredients comprising networked structured polymers
US7063895B2 (en) 2001-08-01 2006-06-20 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Hydrophobically modified solution polymers and their use in surface protecting formulations
CN1311009C (zh) * 2001-11-15 2007-04-18 三星电子株式会社 添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物抛光物体的方法
JP4104931B2 (ja) * 2002-07-29 2008-06-18 ジョンソンディバーシー株式会社 水性床用樹脂分散体およびそれを用いたフロアーポリッシュ組成物
JP2004091713A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Jsr Corp 艶出し剤用組成物
US7998970B2 (en) 2004-12-03 2011-08-16 Proteosys Ag Use of finasteride, dutasteride and related compounds for the prevention or treatment of neurologically-associated disorders
DE102005034508A1 (de) * 2005-05-30 2006-12-07 wfk-Forschungsinstitut für Reinigungstechnologie e.V. Verfahren zur Immobilisierung von Kontaminaten auf Oberflächen
CN102421811B (zh) * 2009-06-04 2016-05-18 日信化学工业株式会社 氯乙烯基树脂乳液、水性油墨及记录用纸
US8680224B2 (en) * 2010-02-01 2014-03-25 Johns Manville Formaldehyde-free protein-containing binder compositions
JP5697089B2 (ja) * 2011-02-22 2015-04-08 国立大学法人 長崎大学 長鎖（メタ）アクリレート系エマルションの製造方法
CN102660197B (zh) * 2012-04-20 2014-11-05 上海皇宇科技发展有限公司 一种皮革光亮剂及皮革光亮湿巾
CN102977790B (zh) * 2012-12-21 2015-01-07 青岛文创科技有限公司 一种抛光剂
US10053597B2 (en) 2013-01-18 2018-08-21 Basf Se Acrylic dispersion-based coating compositions
US12043756B2 (en) 2017-04-28 2024-07-23 Bond Distributing, Ltd. Electron beam irradiation process and polymerizable stain applied to wood planking

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1003363A (en) * 1961-03-28 1965-09-02 Rohm & Haas Coating compositions
JPH01182338A (ja) * 1988-01-14 1989-07-20 Nippon Oil & Fats Co Ltd ポリプロピレン樹脂組成物
US5246972A (en) * 1990-04-06 1993-09-21 Dow Corning Corporation Polish containing highly adsorptive polymer
US5085695A (en) * 1990-07-13 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Protective furniture polish composition
JPH06234955A (ja) * 1993-02-09 1994-08-23 Nippon Shokubai Co Ltd 水性つや出し剤
US5521266A (en) * 1994-10-28 1996-05-28 Rohm And Haas Company Method for forming polymers
DE19533269A1 (de) * 1995-09-08 1997-03-13 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Polymerisaten in wäßrigem Medium

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10330574A (ja) 1998-12-15
AU6488998A (en) 1998-11-26
DE69821052D1 (de) 2004-02-19
EP0879852A1 (en) 1998-11-25
US6040409A (en) 2000-03-21
AU743666B2 (en) 2002-01-31
BR9801658A (pt) 1999-10-05
ES2213876T3 (es) 2004-09-01
DE69821052T2 (de) 2004-10-28
ZA983899B (en) 1998-11-13
AR012685A1 (es) 2000-11-08
CA2237839A1 (en) 1998-11-21
EP0879852B1 (en) 2004-01-14
CN1201806A (zh) 1998-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR19980087148A (ko) 바닥 광택 중합체 조성물
EP1897895B1 (en) Aqueous amphiphilic copolymer emulsions having controlled viscosity and methods for making the same
CN102070959B (zh) 水性涂料组合物
PL169280B1 (pl) Wodna emulsja polimeru blonotwórczego PL PL
CA2245792A1 (en) Polymer compositions
EP1609830A1 (en) Aqueous compositions with polyvalent metal ions and dispersed polymers
JPS63450B2 (ko)
AU758481B2 (en) Process of improving the leveling of a floor polish composition
JPH055083A (ja) 被覆材組成物
JP2619175B2 (ja) 被覆用水性エマルション及び被覆剤組成物
JP6352817B2 (ja) キレート官能基を有するコーティング組成物
JP4279450B2 (ja) サルフェートおよびスルホネート含有コポリマーを用いる床磨き用ビヒクル組成物
MXPA98003989A (es) Composiciones de polimero
JPH0832857B2 (ja) 被覆剤組成物
JP2016098358A (ja) フロアーポリッシュ用水性樹脂
JP2006137914A (ja) 水性コーティング剤組成物
JPS6154070B2 (ko)
KR100326231B1 (ko) 환경 친화형 아크릴-스티렌계 공중합체와 이를 이용한 광택제 조성물
JP2725685B2 (ja) 被覆材組成物
JP2002188060A (ja) 水性艶出し剤組成物
JP2005298787A (ja) 固体表面保護剤組成物
JPH04154878A (ja) 艶出し剤組成物
JP2001214151A (ja) 熱可逆性粘性制御材料
JP2002256011A (ja) 水分散体およびその製造方法
MXPA99001645A (es) Proceso para mejorar el nivelado de una composicion de barnizpara pisos

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid