KR19980021123A - 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광신호 자체를 직접 증폭하는 광증폭기용 광섬유 모재 및 일반 광섬유 모재를 제조시에 석영관을 균일하게 냉각시킬 수 있는 냉각 장치에 관한 것이다. 석영관의 외측면에 냉매를 균일하게 분사시키므로 균일한 다공질층을 형성하여 광증폭기용 광섬유의 굴절률 분포를 균일하게 형성시킬 수 있는 냉각 장치를 제공하는데 있다. 내부화학 기상 퇴적법으로 광증폭기용 광섬유 모재를 제조할 때 상기 광증폭기용 광섬유 모재를 만들기 위해 석영관을 냉각시키는 냉각장치는 냉매가 공급되어지고 상기 석영관이 선반에 장착된 후에도 착탈이 가능하도록 제1분사부 및 제2분사부로 구성된 분사부와, 상기 분사부의 내측면에는 냉매를 분사시키기 위한 적어도 1개 이상의 노즐이 형성되며, 상기 분사부의 노즐로 부터 분사된 냉매를 받아주는 냉매받이와, 상기 분사부와 냉매받이를 연결하면서 상기 분사부를 지지하는 브라켓과, 상기 분사부를 상기 브라켓에 연결하면서 상기 제1분사부와 제2분사부를 각각 상,하 방향으로 동작시키는 제1연결축 및 제2연결축과, 상기 분사구 외측면의 구멍에 연결되어 상기 냉매를 공급시키는 냉매공급관과, 상기 냉매공급관에 주입되는 냉매의 유량을 조절하는 유량계와, 상기 냉매받이로 부터 빠져나오는 냉매를 저장하는 냉매저장통으로 구성되어 있다.

Description

광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
본 발명은 내부화학기상퇴적법(MCVD: modified chemical vapor deposition)으로 광섬유 모재를 제조하는 장치에 관한 것으로서, 특히 광신호 자체를 직접 증폭하는 광증폭기용 광섬유 모재 및 일반 광섬유 모재를 제조시에 석영관을 균일하게 냉각시킬 수 있는 냉각 장치에 관한 것이다.
초고속 정보 통신망의 구성이나 장거리 통신망의 구성시에 장거리를 전송하게 되거나 한 지점에서 여러 방향으로 분기할 경우 초기의 광신호의 세기가 감소하여 이를 크게 증폭할 필요가 생기게 된다. 이 경우 반도체 증폭기와 광증폭기가 사용될 수 있는데 상기 광증폭기는 복잡한 신호의 처리 없이 광신호를 직접 크게 증폭할 수 있기 때문에 현재 초고속 정보 통신망의 구성시에 필수 요소로서 각광 받고 있다. 이러한, 광증폭기는 내부에서 광신호를 증폭시키는 매질인 어븀(Er)첨가 광섬유등의 광증폭기용 광섬유를 사용하고 있다.
상기 어븀(Er)첨가 광섬유는 여러가지 방법으로 제조될 수 있지만 현시점에서 가장 많이 사용되어지고, 또한 신뢰성이 있는 내부화학기상퇴적법(MCVD: Modified Chemical Vapor Deposition)으로 제조되어 진다.
따라서, 도 1을 참조하여 내부화학기상퇴적법(MCVD: Modified Chemical Vapor Deposition)을 이용한 광증폭기용 광섬유 모재(preform)의 제조 방법을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 준비된 석영관(50)을 고정용 척에 고정시킨 후, 상기 석영관(50) 내부로 원료 공급계에서 산소의 기류로 수송된 SiCl4나 GeCl4및 적정량의 첨가 화학 케미칼(chemical)로 조성된 원료가스(80)를 흘려주면서 상기 석영관(50)을 회전시키고 버너(82)로 석영관(50) 외벽을 가열하면 상기 석영관(50) 내부에 가장 온도가 높은 고온영역(hot zone)(78)이 형성된다. 그후, 상기 원료가스(80)가 고온영역(78)을 지나면서 반응하여 입자화되어진다. 이때, 반응식은 SiCl4+ O2→ SiO2+ 2Cl2, GeCl4+ O2→ GeO2+ 2Cl2이다
그후, 상기 입자들이 진행하다가 열적 연동(thermophoresis)에 의하여 온도가 낮은 앞쪽 석영관(50)의 안쪽면에 부착되어진다. 이때, 상기 버너(82)를 원료가스(80)의 흐름 방향과 같은 방향으로 적정한 속도로 이동시키면, 입자화되는 반응은 상기 버너(82)를 따라 계속 진행되고 따라서 상기 입자의 내부 부착도 석영관(50)의 내측면에 계속 진행되어진다. 동시에, 상기 버너(82)가 지나가는 부분은 버너(82)의 높은 열에 의하여 부착된 입자가 소결(sintering)되어 유리 상태로 변환되어진다.
상기와 같은 과정을 좀더 상세히 설명하면, 통상의 광섬유 모재는 위와 같은 반응에 의하여 석영관(50)의 내측면에 불순물 침투를 막아주는 크래드(clad)(72)층이 알맞은 두께로 먼저 형성된 후에 상기 원료가스(80)의 성분을 달리하여 상기 석영관(50) 내부로 흘려보내면 빛이 직접 도파되는 부분인 코아(core)(74)층이 형성되어진다. 다음에, 상기 석영관(50)의 외측에서 2000℃ 이상의 온도로 가열하여 석영관(50)을 수축시키는 콜랩스(collpase) 과정을 거친 후, 다시 상기 석영관(50)을 막대 형태로 만드는 클로즈(close) 과정을 거쳐 광섬유 모재가 제조되어진다.
상기 내부화학기상퇴적법으로 광증폭기용 광섬유 모재로 제조할려면, 액침법 또는 기체상태 첨가법 및 졸-겔(sol-gel)법 등으로 제조할 수 있다.
이때, 상기 광증폭기용 광섬유를 제조하기 위하여 액침법을 사용할려면, 먼저 코아층을 증착시킨 후에 완전히 소결되지 않은 입자 상태의 다공질층(porous layer)을 형성하여야 한다. 그후, 상기 다공질층에 용액을 부어주면 용액의 특정한 성분이 다공질층에 침투되어 광섬유 모재의 특성을 변화시키게 되는데 이 다공질층의 균일성, 밀도, 입자 크기, 두께 및 부착도 등이 최종적인 광섬유 특성에 막대한 영향을 미치게 된다.
따라서, 상기 광증폭용 광섬유 모재를 제조하기 위한 첫단계인 다공질층(porous layer)을 형성시키기 위하여 종래에는 도 2에 도시된 바와 같이 버너의 뒷부분에 냉각 공급장치를 설치하였다.
즉, 도1에서 설명한 바와 같이 내부화학기상퇴적법으로 석영관(50)의 내측면에 불순물 침투를 막아주는 크래드(clad)(72)층과, 빛이 직접 도파되는 부분인 코아(core)(74)층을 형성시킨다. 그후, 다공질층(76) 형성을 위해 버너(82)를 원료가스(80)의 흐름 방향과 반대 방향으로 진행시키면서 상기 버너(82)의 뒷부분에 설치된 냉매 공급장치(70)에서 석연관(50)의 상단으로 부터 냉매(48)를 흘려주어 상기 석영관(50)을 냉각시켜 도 2에 도시된 바와 같이 크래드(72)층 상부면에 다공질층(76)을 서서히 형성시킨다.
위와 같은 종래의 다공질층 형성 방법은 상기 냉매 공급장치(70)에서 석영관(50)의 한쪽 방향으로만 냉매(48)를 분사시키기 때문에 상기 석영관(50)의 내부가 균일하게 냉각되지 못하여 크래드(74)층의 상부면에 부착되는 다공질층(76)이 불균일하게 형성되며, 이에 따라 광증폭기용 광섬유의 불균일한 균절률 분포로 인해 반사손실이 감소되는 문제점이 있었다.
도 3은 종래 기술의 제2실시예에 따른 다공질층을 형성시키기 위한 냉매 공급장치의 구성을 나타낸 개략도로서, 상기 냉매 공급장치는 다공질층을 형성시키기는 매개체인 냉매(48)가 저장되어 있는 냉매저장통(60)과, 상기 냉매저장통(60)의 상부면에는 상기 냉매(48)를 노즐 지지대(64) 측으로 흘려보내는 연결관(62)이 설치된다.
또한, 상기 연결관(62)의 일측 끝에는 상기 냉매(48)를 석영관(50)의 외부면에 분사시키는 노즐(66)이 방사형으로 다수개 설치된 노즐 지지대(64)가 설치되어 있다. 이때, 상기 노즐(66)은 상기 노즐 지지대(64)의 내측면에 직접 형성되지 않고 중심축 방향으로 돌출되도록 설치되어 있다.
상기와 같이 구성된 냉매 공급장치에 의해서 다공질층을 형성시키는 방법은 먼저, 제어부에서 상기 냉매저장통(60)으로 일정한 압력을 가한 후, 상기 압력으로 냉매(48)를 연결관(62) 측으로 유입시킨다. 그후, 상기 냉매(48)는 연결관(62)을 따라 흘러 노즐 지지대(64)의 내부로 유입되어지며, 그후, 상기 냉매(48)는 각각의 노즐(66)을 통하여 석영관(50)의 외부면에 분사되어지므로서 상기 석영관(50) 내부면에 형성된 크래드(74)층의 상부면에 다공질층(76)이 부착되어 형성되어진다.
위와 같이 구성된 냉매 공급장치는 냉매(48)를 석영관(50)에 분사시키는 노즐(66)을 노즐 지지대(64)에 별도로 부착하므로서 상기 노즐 지지대(64)의 가공 및 상기 노즐(66)을 노즐 지지대(64)의 내측면에 동심원상으로 배열하기가 대단히 어려우며, 이로인해 조립 공수의 증가로 생산성이 감소되며, 또한 상기 노즐 지지대(64)가 하나의 환형으로 구성되어 있기 때문에 상기 석영관(50)을 선반에 완전히 장착시킨 후에는 공정진행 중에 상기 석영관(50)의 착,탈이 불가능한 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 본 발명의 목적은 석영관의 외측면에 냉매를 균일하게 분사시키므로 균일한 다공질층을 형성하여 광증폭기용 광섬유의 굴절률 분포를 균일하게 형성시킬 수 있는 냉각 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 냉각장치의 분사부 내측면에 방사형으로 노즐을 균일하게 직접 형성하므로 공정간의 편차를 최소화시키고, 냉각장치의 구조를 단순화시킬 수 있는 냉각 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 냉매가 분사되는 냉각장치의 분사부를 상단부와 하단부로 각각 분리하므로 공정 진행 중에 석영관의 착,탈이 용이한 냉각 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 냉각장치의 분사부에 공급되어지는 냉매를 상단부와 하단부로 분리하여 공급하므로 필요 부분으로만 냉매의 흐름이 가능하도록 한 냉각 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 내부화학기상퇴적법으로 광섬유 모재를 제조시 다공질층 형성 및 증착 효율을 향상시킬 수 있는 냉각 장치를 제공하는데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 내부화학 기상 퇴적법으로 광섬유 모재를 제조할 때 상기 광섬유 모재를 만들기 위해 석영관을 냉각시키는 냉각장치는 냉매가 공급되어지고 상기 석영관이 선반에 장착된 후에도 착탈이 가능하도록 하나 또는 둘 이상의 부분으로 분리될 수 있는 분사부와, 상기 분사부의 내측면에 냉매를 분사시키기 위한 적어도 1개 이상의 노즐이 형성됨을 특징으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 내부화학 기상 퇴적법으로 광증폭기용 광섬유 모재를 제조할 때 상기 광증폭기용 광섬유 모재를 만들기 위해 석영관을 냉각시키는 냉각장치는 냉매가 공급되어지고 상기 석영관이 선반에 장착된 후에도 착탈이 가능하도록 제1분사부 및 제2분사부로 구성된 분사부와, 상기 분사부의 내측면에는 냉매를 분사시키기 위한 적어도 1개 이상의 노즐이 형성되며, 상기 분사부의 노즐로 부터 분사된 냉매를 받아주는 냉매받이와, 상기 분사부와 냉매받이를 연결하면서 상기 분사부를 지지하는 브라켓과, 상기 분사부를 상기 브라켓에 연결하면서 상기 제1분사부와 제2분사부를 각각 상,하 방향으로 동작시키는 제1연결축 및 제2연결축과, 상기 분사구 외측면의 구멍에 연결되어 상기 냉매를 공급시키는 냉매공급관과, 상기 냉매공급관에 주입되는 냉매의 유량을 조절하는 유량계와, 상기 냉매받이로 부터 빠져나오는 냉매를 저장하는 냉매저장통으로 구성된 것을 특징으로 한다,
도 1은 통상적으로 사용되는 내부화학기상퇴적법(MCVD: modified chemical vapor deposition)으로 광섬유 모재가 제조되는 과정을 나타낸 개략도.
도 2는 종래 기술의 제1실시예에 따른 냉매 공급장치에 의해서 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위한 첫단계인 다공질층(porous layer)을 형성시키는 과정을 나타낸 개략도.
도 3은 종래 기술의 제2실시예에 따른 다공질층을 형성시키기 위한 냉매 공급장치의 구성을 나타낸 개략도.
도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 다공질층(porous layer)을 형성시키기 위한 냉각 장치의 구성을 나타낸 사시도.
도 5는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 냉각 장치에 의해서 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위한 첫단계인 다공질층을 형성시키는 과정을 나타낸 개략도.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10: 냉각장치.12: 제1분사부
14: 제2분사부16: 노즐
18: 제1구멍20: 제2구멍
22: 제1연결축24: 제2연결축
26: 제1나사구멍28: 제2나사구멍
30: 나사32: 브라켓
34: 제1힌지36: 제2힌지
38: 냉매공급관40: 냉매받이
42: 유량계44: 배수구
46: 냉매저장통48: 냉매
50: 석영관76: 다공질층
78: 분사부
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 우선, 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 동일한 부호가 사용되고 있음에 유의해야 한다. 그리고, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 다공질층(porous layer)을 형성시키기 위한 냉각 장치의 구성을 나타낸 사시도이다. 도 5는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 냉각 장치에 의해서 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위한 첫단계인 다공질층을 형성시키는 과정을 나타낸 개략도이다.
도 4에 된 바와 같이, 상기 냉각장치(10)에는 냉매공급관(38)을 통해 물 또는 질소가스의 냉매(48)가 공급되어지고 상기 석영관(50)이 선반에 장착된 후에도 상, 하 방향으로 착,탈이 가능하도록 하기 위해 제1분사부(12)와 제2분사부(14)로 분리된 분사부(78)가 설치된다. 이때, 상기 분사부(14)는 좌,우 방향으로 분리될 수 있도록 설치될 수 있고 또는 몇개의 부분으로 분리할 수도 있도록 설치되어 있다.
상기 제1분사부(12)와 제2분사(14)의 내측면에는 냉매(48)를 균일하고 일정하게 분사시키기 위해 대칭적이면서 방사형의 등간격으로 적어도 1개 이상의 노즐(16)이 형성된다, 이때, 상기 노즐(16)은 상기 석영관(50)을 균일하게 냉각시켜 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위한 다공질층(76)을 균일하게 형성시키기 위해 원주 방향으로 한줄 또는 두줄 이상으로 형성되어 있다.
또한, 상기 제1분사부(12)의 일측면에는 냉매(48)를 제1분사부(12) 측으로 흘려보내는 제1냉매공급관(38a)이 끼워져 고정되기 위한 제1구멍(18)이 형성되고, 상기제2분사부(14)의 일측면에는 냉매(48)를 제2분사부(14) 측으로 흘려보내는 제2냉매공급관(38b)이 끼워져 고정되기 위한 제2구멍(20)이 형성된다,
이때, 상기 제1냉매공급관(38a)과 제2냉매공급관(38b)은 1개의 라인(line)인 냉매공급관(38)에 연결되어 동시에 냉매(48)를 공급 받을 수 있으며, 또는 상기 제1냉매공급관(38a)과 제2냉매공급관(38b)이 따로따로 설치되어 상기 냉매(48)를 개별적으로 공급받을 수 있도록 설치될 수도 있다.
상기 분사부(78)의 하부에는 상기 제1분사부(12)와 제2분사부(14)의 각각의 노즐(16)로 부터 분사된 냉매(48)를 받아주는 냉매받이(40)가 설치된다. 상기 냉매받이(40)의 일측면에는 상기 분사부(78)와 냉매받이(40)를 연결하면서 상기 분사부(78)를 지지하는 브라켓(32)이 상부 방향으로 설치된다. 이때, 상기 브라켓(32)은 상기 분사부(78)가 좌,우 방향으로 이동하면서 상기 석영관(50)을 냉각시키기 위하여 세로 방향으로 이동되도록 상기 냉매받이(40)에 설치되어 있다. 이때, 상기 냉매(48)가 기체일 경우에는 상기 냉매받이(40)와 냉매저장통(46)과 배수구(44)가 냉각장치(10)로 부터 분리되어진다.
상기 제1분사부(12)의 일측면 끝에는 상기 브라켓(32)에 제1분사부(12)를 연결하면서 상기 제1분사부(12)를 상,하 방향으로 동작시키는 제1연결축(22)이 제1힌지(34)에 의해 상기 브라켓(32)의 상부에 설치된다. 또한, 상기 제2분사부(14)의 일측면 끝에는 상기 브라켓(32)에 제2분사부(14)를 연결하면서 상기 제2분사부(14)를 상,하 방향으로 동작시키는 제2연결축(24)이 제2힌지(36)에 의해 상기 브라켓(32)의 상부에 설치된다.
이때, 상기 제1연결축(22)과 상기 제2연결축(24)의 상부면에는 상기 석영관(50)을 냉각시키기 위하여 제1분사부(12)와 제2분사부(14)가 결합되어질 때 상,하 방향으로의 유동을 방지하기 위한 나사(30)가 체결되는 제1나사구멍(26)과 제2나사구멍(28)이 각각 형성되어 있다.
또한, 상기 냉매공급관(38)에는 주입되는 냉매(48)의 유량을 조절하는 유량계(42)가 설치되어 있으며, 상기 냉매받이(40)의 일측에는 냉매받이(40)로 부터 빠져나오는 냉매(48)를 저장하여 버리거나 또는 재활용할 수 있도록 저장하는 냉매저장통(46)이 배수구(44)에 연결되어 있다.
여기서, 상기 냉각장치(10)는 내부화학기상퇴적법으로 제조되어지는 모든 광섬유 모재의 석영관을 냉각시키는 공정에 적용되며, 또한 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위해 다공질층을 형성시키는 공정에도 적용되며, 또한 어븀첨가 광섬유 모재를 제조하기 위해 다공질층을 형성시키는 공정에도 적용될 수 있다.
따라서, 본 명세서에서는 상기 냉각장치를 이용하여 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위해 석영관을 냉각시켜 다공질층을 형성시키는 방법을 설명하겠다.
먼저, 석영관(50)을 선반에 고정시킨 후, 내부화학기상퇴적법으로 석영관(50)의 내측면에 불순물 침투를 막아주는 크래드(72)층과, 빛이 직접 도파되는 부분인 코아(74)층을 형성시킨다. 그후, 다공질층(76) 형성을 위해 상기 제1분사부(12)와 제2분사부(14) 사이에 석영관(50)을 끼운 후, 상기 제1분사부(12)에 연결된 제1연결축(22)을 제1힌지(34)를 중심으로 하부방향으로 동작시키고 상기 제2분사부(14)에 연결된 제2연결축(24)을 제2힌지(36)를 중심으로 상부방향으로 동작시킨다.
그후, 상기 제1분사부(12)와 제1분사부(14)가 접촉되어지면 나사(30)로 체결하여 분사부(78)를 고정시킨다. 이때, 다시 상기 석영관(50)을 빼내고 싶을 때는 나사(30)를 풀어 상기 제1분사부(12)와 제2분사부(14)를 분리시키면 된다.
그후, 도 5에 도시된 바와 같이 유량계(42)의 조절된 양 만큼의 냉매(48)가 냉매공급관(38) 측으로 유입되어지며, 상기 냉매(48)는 제1냉매공급관(38a)을 따라 제1분사부(12)의 내부로 유입되어지고 동시에 상기 제2냉매공급관(38b)을 따라 제2분사부(14)의 내부로 유입되어진다.
그후, 상기 냉매(48)는 다수의 노즐(16)을 통해 상기 석영관(50)의 외측면에 골고루 분사되어 석영관(50)의 내측면을 균일하게 냉각시킨다. 그후, 계속되는 냉매(48)의 분사로 인해 상기 석영관(50) 내부의 크래드(72)층 상부면에는 다공질층(76)이 증착되어진다.
이때. 상기 석영관(50)을 냉각시키고 남은 냉매(48)는 냉매받이(40) 측으로 떨어져 모이게 되고, 상기 냉매(48)는 다시 배수구(44)를 통해 냉매저장통(46)으로 유입되어진다.
상술한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치는 냉매를 석영관에 분사시키는 노즐이 분사구의 내측면에 방사형의 대칭적으로 형성되어 있기 때문에 상기 석영관을 균일하게 냉각시켜 다공질층을 항상 균일하게 증착시킬 수 있으며, 상기 석영관을 냉각시키는 냉각장치의 노즐을 별도로 분사부에 부착시키지 않고 상기 분사부 내측면에 직접 형성시키므로서 재료비 및 가공비의 절감을 기할 수 있으며, 또한 별도 부착에 의한 가공상의 난이성을 해결하고 가공시 편차에 의한 기능상의 문제를 예방할 수 있다.
또한, 상기 분사부가 제1분사와 제2분사부로 분리되어 있기 때문에 상기 석영관이 선반에 장착된 후에도 착,탈이 가능하여 실제 공정에서 사용하기가 편리하며, 또한 상기 제1분사부와 제2분사부에 별도로 냉매가 공급되어질 수 있기 때문에 필요시 한 부분에만 냉매를 공급할 수 있으며, 또한 냉매받이에 설치된 브라켓이 세로 방향으로 이동할 수 있기 때문에 상기 분사부가 석영관의 길이 방향으로 이동이 가능하여 최적의 조건으로 상기 석영관을 냉각시킬 수 있도록 냉각장치의 위치를 조절할 수 있는 효과가 있다.

Claims (12)

  1. 내부화학 기상 퇴적법으로 광섬유 모재를 제조할 때 상기 광섬유 모재를 만들기 위해 석영관을 냉각시키는 냉각 장치에 있어서,
    상기 냉각장치(10)는 냉매(48)가 공급되어지고 상기 석영관(50)이 선반에 장착된 후에도 착탈이 가능하도록 하나 또는 둘 이상의 부분으로 분리될 수 있는 분사부(78)와, 상기 분사부(78)의 내측면에 냉매(48)를 분사시키기 위한 적어도 1개 이상의 노즐(16)이 형성됨을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 냉각장치(10)는 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위한 다공질층(76)을 형성시키는데 사용되어짐을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 분사부(78)는 상기 석영관(50)이 선반에 장착된 후에도 상,하 방향으로 착탈이 가능하도록 제1분사부(12)와 제2분사부(14)로 구성된 것을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 노즐(16)은 상기 석영관(50)을 균일하게 냉각시켜 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위한 다공질층(76)을 균일하게 형성시키기 위하여 상기 분사부(78)의 원주 방향으로 한줄 또는 두줄 이상으로 형성된 것을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 노즐(16)은 상기 분사구(78)의 내면에 대칭적이면서 방사형으로 등간격으로 형성됨을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 냉각장치(10)의 분사부(78)에 공급되어지는 냉매(48)는 물 또는 질소가스가 사용됨을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  7. 내부화학 기상 퇴적법으로 광섬유 모재를 제조할 때 상기 광섬유 모재를 만들기 위해 석영관을 냉각시키는 냉각 장치에 있어서,
    상기 냉각장치(10)는 냉매(48)가 공급되어지고 상기 석영관(50)이 선반에 장착된 후에도 착탈이 가능하도록 하나 또는 둘 이상의 부분으로 분리될 수 있는 분사부(78)와, 상기 분사부(78)의 내측면에 냉매(48)를 분사시키기 위한 적어도 1개 이상의 노즐(16)이 형성되며, 상기 분사부(78)를 지지하는 브라켓(32)과, 상기 분사부(78)의 노즐(16)로 부터 분사된 냉매(48)를 받아주는 냉매받이(40)로 구성된 것을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 냉각장치(10)는 광증폭기용 광섬유 모재를 제조하기 위한 다공질층(76)을 형성시키는데 사용되어짐을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  9. 내부화학 기상 퇴적법으로 광증폭기용 광섬유 모재를 제조할 때 상기 광증폭기용 광섬유 모재를 만들기 위해 석영관을 냉각시키는 냉각 장치에 있어서,
    상기 냉각장치(10)는 냉매(48)가 공급되어지고 상기 석영관(50)이 선반에 장착된 후에도 착탈이 가능하도록 제1분사부(12) 및 제2분사부(14)로 구성된 분사부(78)와, 상기 분사부(78)의 내측면에는 냉매(48)를 분사시키기 위한 적어도 1개 이상의 노즐(16)이 형성되며, 상기 분사부(78)의 노즐(16)로 부터 분사된 냉매(48)를 받아주는 냉매받이(40)와, 상기 분사부(78)와 냉매받이(40)를 연결하면서 상기 분사부(78)를 지지하는 브라켓(32)과, 상기 분사부(78)를 상기 브라켓(32)에 연결하면서 상기 제1분사부(12)와 제2분사부(14)를 각각 상,하 방향으로 동작시키는 제1연결축(22) 및 제2연결축(24)과, 상기 분사구(78) 외측면의 구멍에 연결되어 상기 냉매(48)를 공급시키는 냉매공급관(38)과, 상기 냉매공급관(38)에 주입되는 냉매(48)의 유량을 조절하는 유량계(42)와, 상기 냉매받이(40)로 부터 빠져나오는 냉매(48)를 저장하는 냉매저장통(46)으로 구성된 것을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제1연결축(22)의 일측 끝은 상기 제1분사부(12)를 상,하 방향으로 동작시키기 위하여 제1힌지(34)로 상기 브라켓(32)에 결합되며, 상기 제2연결축(24)의 일측 끝은 상기 제2분사부(14)를 상,하 방향으로 동작시키기 위하여 제2힌지(36)로 상기 브라켓(32)에 결합되어짐을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  11. 제9항에 있어서, 상기 제1분사부(12)와 제2분사부(14)가 결합되어질 때 상,하 방향으로의 유동을 방지하기 위해 나사(30)를 체결하여 상기 제1연결축(22)과 제2연결축(24)을 서로 고정시킴을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
  12. 제9항에 있어서, 상기 냉각장치(10)는 어븀첨가 광섬유 모재를 제조하는데 사용되어짐을 특징으로 하는 광섬유 모재를 제조시 사용되는 냉각 장치.
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