JP3222098B2 - 光ファイバ母材の製造に用いられる冷却装置 - Google Patents
光ファイバ母材の製造に用いられる冷却装置Info
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＭＣＶＤ(Modified
Chemical Vapor Deposition)によって光ファイバ母材を
製造する装置に係り、特に、光ファイバ母材製造時に石
英管を冷却する冷却装置に関する。
Chemical Vapor Deposition)によって光ファイバ母材を
製造する装置に係り、特に、光ファイバ母材製造時に石
英管を冷却する冷却装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光信号の増幅には半導体増幅器とファイ
バ増幅器が用いられるが、ファイバ増幅器の方が複雑な
光信号を無処理で増幅することができるので、超高速通
信網などで広く使用されている。このファイバ増幅器
は、エルビウム( Ｅｒ) 添加光ファイバなどの増幅用光
ファイバを用いたものである。
バ増幅器が用いられるが、ファイバ増幅器の方が複雑な
光信号を無処理で増幅することができるので、超高速通
信網などで広く使用されている。このファイバ増幅器
は、エルビウム( Ｅｒ) 添加光ファイバなどの増幅用光
ファイバを用いたものである。
【０００３】エルビウム添加光ファイバの製法は各種あ
るが、現時点で最も多く用いられ且つ信頼性の高い製法
がＭＣＶＤ（内付け）による製法である。図１及び図２
を参照して、そのＭＣＶＤ法を利用した増幅用光ファイ
バ母材(preform) の製造につき説明する。
るが、現時点で最も多く用いられ且つ信頼性の高い製法
がＭＣＶＤ（内付け）による製法である。図１及び図２
を参照して、そのＭＣＶＤ法を利用した増幅用光ファイ
バ母材(preform) の製造につき説明する。
【０００４】図１に示すように、チャックに固定した石
英管５０内にＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、及び適正量の添
加物からなる原料ガス８０を酸素流にのせて流し、そし
て石英管５０を回転させながらバーナー８２で外から加
熱する。すると、その加熱により管内にホットゾーン(h
ot zone)７８が形成され、ここを通過する原料ガス８０
が反応して粒子化する。このときの反応式はＳｉＣｌ４
＋Ｏ２→ＳｉＯ２＋２Ｃｌ２，ＧｅＣｌ４＋Ｏ２→Ｇｅ
Ｏ２＋２Ｃｌ２である。反応後の粒子は、熱的連動(the
rmophoresis)によって温度の低いバーナー後方の管内壁
に付着する。
英管５０内にＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、及び適正量の添
加物からなる原料ガス８０を酸素流にのせて流し、そし
て石英管５０を回転させながらバーナー８２で外から加
熱する。すると、その加熱により管内にホットゾーン(h
ot zone)７８が形成され、ここを通過する原料ガス８０
が反応して粒子化する。このときの反応式はＳｉＣｌ４
＋Ｏ２→ＳｉＯ２＋２Ｃｌ２，ＧｅＣｌ４＋Ｏ２→Ｇｅ
Ｏ２＋２Ｃｌ２である。反応後の粒子は、熱的連動(the
rmophoresis)によって温度の低いバーナー後方の管内壁
に付着する。
【０００５】バーナー８２を原料ガス８０の流れていく
方へ適切な速度で移動させると、前記反応がバーナー８
２の進行に沿って続くとともに、バーナー８２が通過し
た部分は管内壁に付着した粒子が焼結(sintering) して
ガラス状態になっていく。
方へ適切な速度で移動させると、前記反応がバーナー８
２の進行に沿って続くとともに、バーナー８２が通過し
た部分は管内壁に付着した粒子が焼結(sintering) して
ガラス状態になっていく。
【０００６】この工程を利用して、石英管５０の内壁に
不純物浸透を防止するクラッド層７２を形成した後に、
違う成分の原料ガス８０を流して導波部分であるコア層
７４を形成する。そして、石英管５０の外側から２００
０℃以上の加熱を加えて収縮させるコラプス工程を実施
し、さらにクローズ工程で石英管５０を棒状にして光フ
ァイバ母材ができあがる。
不純物浸透を防止するクラッド層７２を形成した後に、
違う成分の原料ガス８０を流して導波部分であるコア層
７４を形成する。そして、石英管５０の外側から２００
０℃以上の加熱を加えて収縮させるコラプス工程を実施
し、さらにクローズ工程で石英管５０を棒状にして光フ
ァイバ母材ができあがる。
【０００７】増幅用光ファイバ母材を製造する場合に
は、上記工程に加えて液浸法、気体状態添加法、ゾル−
ゲル(sol-gel) 法などが使用される。液浸法を用いる場
合は、コア層を形成した後に完全には焼結させない粒子
状態の多孔質層(porous layer)を形成する必要がある。
すなわちその多孔質層に溶液を注ぎ、溶液の特定成分を
多孔質層に浸透させて光ファイバ母材の特性を調整す
る。この多孔質層の均一性、密度、粒子サイズ、厚さ、
付着度などが最終的な光ファイバ特性に影響してくる。
は、上記工程に加えて液浸法、気体状態添加法、ゾル−
ゲル(sol-gel) 法などが使用される。液浸法を用いる場
合は、コア層を形成した後に完全には焼結させない粒子
状態の多孔質層(porous layer)を形成する必要がある。
すなわちその多孔質層に溶液を注ぎ、溶液の特定成分を
多孔質層に浸透させて光ファイバ母材の特性を調整す
る。この多孔質層の均一性、密度、粒子サイズ、厚さ、
付着度などが最終的な光ファイバ特性に影響してくる。
【０００８】このような増幅用光ファイバ母材を製造す
るための一段階である多孔質層形成のために、図２に示
す冷却装置を使用する。
るための一段階である多孔質層形成のために、図２に示
す冷却装置を使用する。
【０００９】すなわち、図１の方式で石英管５０の内壁
にクラッド層７２とコア層７４を形成した後、今度はバ
ーナー８２を原料ガス８０の流れとは逆の方へ進めなが
ら、そのバーナー８２の後方に冷却装置７０を配置して
石英管５０の上から冷媒４８を吹き付ける。これによ
り、石英管５０を冷却しつつコア層７4 の上に多孔質層
７６を徐々に形成していく。
にクラッド層７２とコア層７４を形成した後、今度はバ
ーナー８２を原料ガス８０の流れとは逆の方へ進めなが
ら、そのバーナー８２の後方に冷却装置７０を配置して
石英管５０の上から冷媒４８を吹き付ける。これによ
り、石英管５０を冷却しつつコア層７4 の上に多孔質層
７６を徐々に形成していく。
【００１０】ところがこの場合、冷媒４８の吹き付けが
石英管５０の片側からだけになるので石英管５０の内部
冷却が均一にならず、多孔質層７６が不均一で増幅用光
ファイバの屈折率分布が悪くなり、反射損失(reflcetio
n loss) が増加するという問題点があった。このため
に、図３に示すような冷却装置が提案されている。
石英管５０の片側からだけになるので石英管５０の内部
冷却が均一にならず、多孔質層７６が不均一で増幅用光
ファイバの屈折率分布が悪くなり、反射損失(reflcetio
n loss) が増加するという問題点があった。このため
に、図３に示すような冷却装置が提案されている。
【００１１】図示の冷却装置は、冷媒タンク６０に貯え
た冷媒４８をチューブ６２でノズル台６４へ流す構成
で、ノズル台６４は石英管５０を囲う円形とされ、多数
のノズル６６が放射状に配置されている。各ノズル６６
は、ノズル台６４の中心へ向かって突出させてあり、石
英管５０の外壁に冷媒４８を吹き付ける。この冷却装置
によれば、冷媒タンク６０に圧力をかけることで冷媒４
８がチューブ６２を通ってノズル台６４へ送られ、そし
て多数のノズル６６から石英管５０の周囲にまんべんな
く噴射される。したがって冷却が均一化され、良好な多
孔質層７６を得ることができる。
た冷媒４８をチューブ６２でノズル台６４へ流す構成
で、ノズル台６４は石英管５０を囲う円形とされ、多数
のノズル６６が放射状に配置されている。各ノズル６６
は、ノズル台６４の中心へ向かって突出させてあり、石
英管５０の外壁に冷媒４８を吹き付ける。この冷却装置
によれば、冷媒タンク６０に圧力をかけることで冷媒４
８がチューブ６２を通ってノズル台６４へ送られ、そし
て多数のノズル６６から石英管５０の周囲にまんべんな
く噴射される。したがって冷却が均一化され、良好な多
孔質層７６を得ることができる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな図３の冷却装置にも、次にあげる解決課題が残され
ている。
うな図３の冷却装置にも、次にあげる解決課題が残され
ている。
【００１３】ノズル台６４の内側にノズル６６を形成す
る加工が難しく、特に、各ノズル６６の突出方向（噴射
方向）を同心円状にあわせる加工が大変で生産性が悪
い。また、ノズル台６４がリングになっており石英管５
０は端からしか挿入できないので、チャックに取り付け
た石英管５０から途中で外すことができない。
る加工が難しく、特に、各ノズル６６の突出方向（噴射
方向）を同心円状にあわせる加工が大変で生産性が悪
い。また、ノズル台６４がリングになっており石英管５
０は端からしか挿入できないので、チャックに取り付け
た石英管５０から途中で外すことができない。
【００１４】本発明はこれらの課題を解決するもので、
その目的は、冷媒の均一噴射で石英管内の均一冷却を可
能とするとともに、より作りやすく、石英管着脱など作
業性に優れた冷却装置を提供する。
その目的は、冷媒の均一噴射で石英管内の均一冷却を可
能とするとともに、より作りやすく、石英管着脱など作
業性に優れた冷却装置を提供する。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、光ファ
イバ母材の製造時に石英管を長手方向に冷却していく冷
却装置において、石英管を均一冷却するように配設され
た噴射孔を内側面に有する複数の噴射片に分割可能とし
た噴射部を備えることを特徴とする。その噴射部の噴射
片それぞれにチューブから冷媒を供給するようにしてお
くことができる。噴射孔は、石英管周囲の円周方向に１
列以上設けることができ、放射状で等間隔に設けておく
とよい。
イバ母材の製造時に石英管を長手方向に冷却していく冷
却装置において、石英管を均一冷却するように配設され
た噴射孔を内側面に有する複数の噴射片に分割可能とし
た噴射部を備えることを特徴とする。その噴射部の噴射
片それぞれにチューブから冷媒を供給するようにしてお
くことができる。噴射孔は、石英管周囲の円周方向に１
列以上設けることができ、放射状で等間隔に設けておく
とよい。
【００１６】噴射部は、２つの噴射片に分割し、冷却後
の冷媒を受ける冷媒受けに立設したブラケットで支持す
ることができる。この場合、各噴射片の基端部に形成し
た支持アームをブラケットに支持させるようにし、特
に、各支持アームはブラケットにヒンジ接続して各噴射
片を回動可能にするのがよい。このときには支持アーム
を互いにネジ止めすることにより噴射片を固定するよう
にする。
の冷媒を受ける冷媒受けに立設したブラケットで支持す
ることができる。この場合、各噴射片の基端部に形成し
た支持アームをブラケットに支持させるようにし、特
に、各支持アームはブラケットにヒンジ接続して各噴射
片を回動可能にするのがよい。このときには支持アーム
を互いにネジ止めすることにより噴射片を固定するよう
にする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施形態を詳細に説明する。
の実施形態を詳細に説明する。
【００１８】図４に、冷却装置の構成を斜視図で示して
ある。そして、これを使用した増幅用光ファイバ母材を
製造する過程について図５に示している。
ある。そして、これを使用した増幅用光ファイバ母材を
製造する過程について図５に示している。
【００１９】この冷却装置１０では、流量調節用の流量
計４２を途中にもつチューブ３８を通じて水や窒素ガス
の冷媒４８が噴射部７８へ供給される。噴射部７８は、
各半円状の第１噴射片１２と第２噴射片１４に分割可能
となっており、ネジ３０で一体化する構造である。な
お、噴射部７８の分割数は場合に応じて３分割や４分割
の２分割以上とすることが可能である。
計４２を途中にもつチューブ３８を通じて水や窒素ガス
の冷媒４８が噴射部７８へ供給される。噴射部７８は、
各半円状の第１噴射片１２と第２噴射片１４に分割可能
となっており、ネジ３０で一体化する構造である。な
お、噴射部７８の分割数は場合に応じて３分割や４分割
の２分割以上とすることが可能である。
【００２０】第１噴射片１２と第２噴射片１４の内側面
には、等間隔放射状にしてそれぞれ１以上の噴射孔１６
が対称的に配設されている。これにより、冷媒４８が石
英管５０へ均一に吹き付けられる。噴射孔１６は、円周
方向１列あるいは２列以上で設けてもよい。チューブ３
８は途中で分岐し、第１チューブ３８ａが第１噴射片１
２の供給孔１８へはめ込まれて冷媒４８を供給し、第２
チューブ３８ｂが第２噴射片１４の供給孔２０へはめ込
まれて冷媒４８を供給する。なお、本例のように１本の
チューブ３８を分岐させてもよいし、各噴射片１２，１
４それぞれに１本ずつチューブ３８をつないでもよい。
には、等間隔放射状にしてそれぞれ１以上の噴射孔１６
が対称的に配設されている。これにより、冷媒４８が石
英管５０へ均一に吹き付けられる。噴射孔１６は、円周
方向１列あるいは２列以上で設けてもよい。チューブ３
８は途中で分岐し、第１チューブ３８ａが第１噴射片１
２の供給孔１８へはめ込まれて冷媒４８を供給し、第２
チューブ３８ｂが第２噴射片１４の供給孔２０へはめ込
まれて冷媒４８を供給する。なお、本例のように１本の
チューブ３８を分岐させてもよいし、各噴射片１２，１
４それぞれに１本ずつチューブ３８をつないでもよい。
【００２１】噴射部７８の下部には、噴射孔１６から噴
射された冷媒４８を受ける冷媒受け４０が設けられる。
この冷媒受け４０の端部からブラケット３２が延設され
て噴射部７８を支持している。ブラケット３２は、噴射
部７８の高さ調整を行えるようにスライドするようにし
てある。
射された冷媒４８を受ける冷媒受け４０が設けられる。
この冷媒受け４０の端部からブラケット３２が延設され
て噴射部７８を支持している。ブラケット３２は、噴射
部７８の高さ調整を行えるようにスライドするようにし
てある。
【００２２】第１噴射片１２は、基端部に支持アーム２
２を有し、該支持アーム２２がヒンジ３４にて回動可能
にブラケット３２へ取り付けられている。また、第２噴
射片１４も支持アーム２４を有し、ヒンジ３６にて回動
可能にブラケット３２の第１噴射片１２よりも下側へ取
り付けられている。第１噴射片１２の支持アーム２２に
はネジ３０の通し孔３０が形成されるとともに第２噴射
片１４の支持アーム２４にはネジ穴２８が形成され、ネ
ジ３０によるネジ止めで第１噴射片１２と第２噴射片１
４が結合され動かないよう固定される。
２を有し、該支持アーム２２がヒンジ３４にて回動可能
にブラケット３２へ取り付けられている。また、第２噴
射片１４も支持アーム２４を有し、ヒンジ３６にて回動
可能にブラケット３２の第１噴射片１２よりも下側へ取
り付けられている。第１噴射片１２の支持アーム２２に
はネジ３０の通し孔３０が形成されるとともに第２噴射
片１４の支持アーム２４にはネジ穴２８が形成され、ネ
ジ３０によるネジ止めで第１噴射片１２と第２噴射片１
４が結合され動かないよう固定される。
【００２３】冷媒受け４０の下側には、冷媒受け４０か
ら排出される冷却後の冷媒４８を溜めて捨てるか、ある
いは循環使用するための冷媒タンク４６が排水口４４で
つながれている。なお、冷媒４８が気体である場合には
冷媒受け４０、冷媒タンク４６、排水口４４を分離する
ことが可能である。
ら排出される冷却後の冷媒４８を溜めて捨てるか、ある
いは循環使用するための冷媒タンク４６が排水口４４で
つながれている。なお、冷媒４８が気体である場合には
冷媒受け４０、冷媒タンク４６、排水口４４を分離する
ことが可能である。
【００２４】本冷却装置１０は、ＭＣＶＤによる光ファ
イバ母材製造の石英管冷却工程に広く適用され、特に、
増幅用光ファイバのファイバ母材製造の多孔質層形成工
程に適している。たとえば多孔質層形成工程に使用した
場合は次の手順となる。
イバ母材製造の石英管冷却工程に広く適用され、特に、
増幅用光ファイバのファイバ母材製造の多孔質層形成工
程に適している。たとえば多孔質層形成工程に使用した
場合は次の手順となる。
【００２５】まず、チャックに固定した石英管５０に対
しＭＣＶＤ法を実施し、管内壁にクラッド層７２及びコ
ア層７４を形成する。このクラッド及びコア形成後の石
英管５０を、開いた第１噴射片１２と第２噴射片１４と
の間に入れ、そして、ヒンジ３４，３６で回動させて第
１噴射片１２と第２噴射片１４を閉じ、ネジ３０でネジ
止めすると、石英管５０が噴射部７８のなすリング内に
挿入された状態となる。一旦入れた石英管５０を抜き出
したい場合は、ネジ３０を緩めて第１噴射片１２と第２
噴射片１４を開けば冷却装置１０を取り外すことが簡単
にできる。
しＭＣＶＤ法を実施し、管内壁にクラッド層７２及びコ
ア層７４を形成する。このクラッド及びコア形成後の石
英管５０を、開いた第１噴射片１２と第２噴射片１４と
の間に入れ、そして、ヒンジ３４，３６で回動させて第
１噴射片１２と第２噴射片１４を閉じ、ネジ３０でネジ
止めすると、石英管５０が噴射部７８のなすリング内に
挿入された状態となる。一旦入れた石英管５０を抜き出
したい場合は、ネジ３０を緩めて第１噴射片１２と第２
噴射片１４を開けば冷却装置１０を取り外すことが簡単
にできる。
【００２６】冷却装置１０を設置した後、流量計４２で
調節しながら冷媒４８を供給すると、第１チューブ３８
ａにより第１噴射片１２へ、第２チューブ３８ｂにより
第２噴射片１４へ、それぞれ等量が送り込まれる。各噴
射片１２，１４へ送られた冷媒４８は、均等に設けられ
た多数の噴射孔１６から石英管５０の外壁へ均一に吹き
付けられ、石英管５０を冷却する。これにより管内が均
一冷却され、コア層７4 の上に均質の多孔質層７６が形
成されていく。
調節しながら冷媒４８を供給すると、第１チューブ３８
ａにより第１噴射片１２へ、第２チューブ３８ｂにより
第２噴射片１４へ、それぞれ等量が送り込まれる。各噴
射片１２，１４へ送られた冷媒４８は、均等に設けられ
た多数の噴射孔１６から石英管５０の外壁へ均一に吹き
付けられ、石英管５０を冷却する。これにより管内が均
一冷却され、コア層７4 の上に均質の多孔質層７６が形
成されていく。
【００２７】冷却後の冷媒４８は冷媒受け４０に落ちて
集められ、排水口４４を通じて冷媒タンク４６に貯めら
れて廃棄あるいは再利用される。
集められ、排水口４４を通じて冷媒タンク４６に貯めら
れて廃棄あるいは再利用される。
【００２８】
【発明の効果】本発明による冷却装置は、冷媒の噴射孔
が石英管周囲に均等に配置されるので、石英管の均一冷
却が可能で多孔質層を均質形成することができる。そし
て、噴射片に噴射孔を直接形成した構造をもつので、加
工性がよく、材料費及び加工費の節約を可能とする。ま
た、噴射部が複数の噴射片に分割されているので、石英
管からの着脱が簡単で実際の工程で非常に利用しやす
い。さらに加えて、噴射片にそれぞれ冷媒を供給し得る
ので、必要であればいずれかの噴射片のみ冷媒供給をカ
ットすることも可能で、しかもブラケットによる高さ調
整で噴射片の位置調整を行えるので、各種最適条件を容
易に設定可能である。
が石英管周囲に均等に配置されるので、石英管の均一冷
却が可能で多孔質層を均質形成することができる。そし
て、噴射片に噴射孔を直接形成した構造をもつので、加
工性がよく、材料費及び加工費の節約を可能とする。ま
た、噴射部が複数の噴射片に分割されているので、石英
管からの着脱が簡単で実際の工程で非常に利用しやす
い。さらに加えて、噴射片にそれぞれ冷媒を供給し得る
ので、必要であればいずれかの噴射片のみ冷媒供給をカ
ットすることも可能で、しかもブラケットによる高さ調
整で噴射片の位置調整を行えるので、各種最適条件を容
易に設定可能である。
【図１】光ファイバ母材の製造過程を示す説明図。
【図２】従来技術の冷却装置を使用した増幅用光ファイ
バ母材製造の多孔質層形成工程の説明図。
バ母材製造の多孔質層形成工程の説明図。
【図３】従来技術の他の冷却装置の構成を示す概略図。
【図４】本発明による冷却装置の構成を示す斜視図。
【図５】図４の冷却装置を使用した増幅用光ファイバ母
材製造の多孔質層形成工程の説明図。
材製造の多孔質層形成工程の説明図。
１０ 冷却装置 １２ 第１噴射片 １４ 第２噴射片 １６ 噴射孔 １８，２０ 供給孔 ２２，２４ 支持アーム ２６ ネジ通し孔 ２８ ネジ穴 ３０ ネジ ３２ ブラケット ３４，３６ ヒンジ ３８ チューブ ４０ 冷媒受け ４２ 流量計 ４４ 排水口 ４６ 冷媒タンク ４８ 冷媒 ５０ 石英管 ７６ 多孔質層 ７８ 噴射部
Claims (9)
- 【請求項１】 光ファイバ母材の製造時に石英管を長手
方向に冷却していく冷却装置において、 石英管を均一冷却するように配設された噴射孔を内側面
に有する半円状の第１噴射片及び第２噴射片から構成さ
れ、分割して開いた第１噴射片と第２噴射片の間に石英
管を配置して両噴射片を閉じることでこれら第１噴射片
及び第２噴射片が石英管をとりまくリング状となる噴射
部を備え、第１噴射片及び第２噴射片のそれぞれにチューブから冷
媒を供給する ことを特徴とする冷却装置。 - 【請求項２】 増幅用光ファイバ母材製造の多孔質層形
成時に使用する請求項１記載の冷却装置。 - 【請求項３】 噴射孔は、石英管周囲の円周方向に１列
以上設けられる請求項１又は請求項２記載の冷却装置。 - 【請求項４】 噴射孔は、放射状で等間隔に設けられる
請求項３記載の冷却装置。 - 【請求項５】 冷媒として水又は窒素ガスを使用する請
求項１〜４のいずれか１項に記載の冷却装置。 - 【請求項６】 冷却後の冷媒を受ける冷媒受けに立設し
たブラケットで噴射部が支持される請求項５記載の冷却
装置。 - 【請求項７】 各噴射片の基端部に形成した支持アーム
をブラケットに支持させる請求項６記載の冷却装置。 - 【請求項８】 各支持アームがブラケットにヒンジ接続
されて各噴射片が回動可能とされる請求項７記載の冷却
装置。 - 【請求項９】 支持アームを互いにネジ止めすることに
より両噴射片をリング状に固定する請求項８記載の冷却
装置。
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| CN111940211B (zh) * | 2020-08-20 | 2021-11-23 | 电子科技大学中山学院 | 机械加工用管材喷漆修复装置、方法和该装置的关键结构 |
| CN112811794B (zh) * | 2020-12-31 | 2023-02-28 | 江苏先导微电子科技有限公司 | 一种淬火装置 |
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|---|---|---|---|---|
| US3097941A (en) | 1952-06-21 | 1963-07-16 | Union Carbide Corp | Method and apparatus for gas plating of metal on glass fibers |
| US3260586A (en) | 1962-10-22 | 1966-07-12 | Westinghouse Electric Corp | Glass tube cooling device and method of cooling glass tubing |
| US3561096A (en) | 1968-11-07 | 1971-02-09 | Allied Tube & Conduit Corp | Method of continuous tube forming and galvanizing |
| US4101300A (en) | 1975-11-27 | 1978-07-18 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for drawing optical fiber |
| JPS5311039A (en) | 1976-07-19 | 1978-02-01 | Hitachi Ltd | Controller of diameter of optical fiber |
| JPS5498256A (en) * | 1978-01-19 | 1979-08-03 | Nec Corp | Producing apparatus of optical fiber stock |
| JPS6016376B2 (ja) * | 1978-05-17 | 1985-04-25 | 日本電信電話株式会社 | 光フアイバ素材の製造方法 |
| JPS6045134B2 (ja) * | 1978-07-07 | 1985-10-08 | 古河電気工業株式会社 | 光フアイバ用ガラスの加工方法 |
| US4231777A (en) * | 1979-03-27 | 1980-11-04 | Western Electric Company, Inc. | Methods of and apparatus for heating a glass tube |
| DE3066736D1 (en) | 1979-04-23 | 1984-04-05 | Hayashi Uchimura | Castor support shaft |
| US4331462A (en) * | 1980-04-25 | 1982-05-25 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Optical fiber fabrication by a plasma generator |
| DE3027450C2 (de) * | 1980-07-19 | 1982-06-03 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Innenbeschichtung eines Glas-Substratrohres für die Herstellung eines Glasfaser-Lichtleiters |
| US4576622A (en) | 1983-11-28 | 1986-03-18 | Lothar Jung | Manufacture of preforms for energy transmitting fibers |
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| US4632574A (en) | 1985-01-02 | 1986-12-30 | Gte Laboratories Incorporated | Apparatus for fluidic support |
| US4594088A (en) | 1985-05-28 | 1986-06-10 | At&T Technologies, Inc. | Method and apparatus for making, coating and cooling lightguide fiber |
| DE3619379A1 (de) * | 1986-06-09 | 1986-12-18 | Martin Prof. Dr.-Ing. 4630 Bochum Fiebig | Verfahren und vorrichtungen zur herstellung von optischen glasgegenstaenden |
| US4894078A (en) | 1987-10-14 | 1990-01-16 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method and apparatus for producing optical fiber |
| CA1324260C (en) * | 1988-08-30 | 1993-11-16 | William Donald O'brien, Jr. | Methods of and apparatus for heating glassy tubes |
| DE4039578A1 (de) * | 1990-12-12 | 1992-06-17 | Kabelmetal Electro Gmbh | Anordnung zur herstellung einer vorform fuer glasfaser-lichtwellenleiter |
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| DE4212602A1 (de) | 1992-04-15 | 1993-10-21 | Sel Alcatel Ag | Lichtwellenleiter sowie Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung |
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1996
- 1996-09-13 KR KR1019960039868A patent/KR0168009B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-08-29 GB GB9718282A patent/GB2317171B/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-11 DE DE19740015A patent/DE19740015B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-12 CN CN97118624A patent/CN1073972C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-12 FR FR9711376A patent/FR2753444B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-12 RU RU97115626A patent/RU2138452C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-09-15 US US08/929,471 patent/US6338259B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-16 JP JP25030597A patent/JP3222098B2/ja not_active Expired - Fee Related
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