KR102531216B1 - 스크라이브 장치 - Google Patents
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Abstract
(과제) 테이블 상에 재치된 원형 기판의 기울기를 자동적으로 정확하게 수정할 수 있는 스크라이브 장치를 제공한다.
(해결 수단) 원형 기판 (W) 을 회전 가능한 테이블 (1) 에 재치하고, 표면의 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 을 따라 커터 휠 (10) 또는 레이저를 사용하여 스크라이브함으로써 분단용의 균열을 형성하는 스크라이브 장치 (A) 로서, 원형 기판 (W) 의 둘레 가장자리에, 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 과 평행하고 원중심점 (P) 을 지나는 선 상에 절결부 (K) 가 형성되고, 테이블 (1) 상에 재치한 원형 기판 (W) 을 관찰하여, 그 외형 형상을 검출 가능한 각도 보정용 카메라 (15) 에 의해 얻어진 화상 데이터를 해석 처리함으로써, 커터 휠 (10) 의 스크라이브 방향에 대한 원형 기판 (W) 의 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 의 경사 각도 (α) 를 검출하여, 이 경사 각도 (α) 가 제로가 되도록 테이블 (1) 을 회전 조작시키는 컴퓨터 (C) 의 제어부 (18) 를 구비한다.
(해결 수단) 원형 기판 (W) 을 회전 가능한 테이블 (1) 에 재치하고, 표면의 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 을 따라 커터 휠 (10) 또는 레이저를 사용하여 스크라이브함으로써 분단용의 균열을 형성하는 스크라이브 장치 (A) 로서, 원형 기판 (W) 의 둘레 가장자리에, 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 과 평행하고 원중심점 (P) 을 지나는 선 상에 절결부 (K) 가 형성되고, 테이블 (1) 상에 재치한 원형 기판 (W) 을 관찰하여, 그 외형 형상을 검출 가능한 각도 보정용 카메라 (15) 에 의해 얻어진 화상 데이터를 해석 처리함으로써, 커터 휠 (10) 의 스크라이브 방향에 대한 원형 기판 (W) 의 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 의 경사 각도 (α) 를 검출하여, 이 경사 각도 (α) 가 제로가 되도록 테이블 (1) 을 회전 조작시키는 컴퓨터 (C) 의 제어부 (18) 를 구비한다.
Description
본 발명은, 유리, 실리콘, 세라믹, 화합물 반도체 등의 취성 재료로 이루어지는 원형 기판에 분단용의 균열 (크랙) 을 가공하는 스크라이브 장치에 관한 것이다. 특히 본 발명은, 원형의 반도체 기판 (반도체 웨이퍼) 으로부터 칩 등의 단위 제품을 분단하기 위한 균열을 가공하는 스크라이브 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 마더 기판이 되는 반도체 기판으로부터 칩 (단위 제품) 을 잘라내는 공정에서는, 먼저, 스크라이브 장치의 흡착 테이블 상에 반도체 기판을 재치 (載置) 하고, 그 표면에 커터 휠이나 레이저를 스크라이브 예정 라인 (스크라이브 스트리트) 을 따라 스크라이브함으로써, 서로 직교하는 X 방향 및 Y 방향의 스크라이브 라인 (균열) 을 형성한다. 그 후, 브레이크 장치에 의해 스크라이브 라인의 반대측의 면으로부터 브레이크 바를 가압하여 기판을 휘게 함으로써, 반도체 기판을 사각형의 칩으로 분단한다 (특허문헌 1 그리고 특허문헌 2 참조).
스크라이브 장치의 흡착 테이블에 반도체 기판을 재치할 때에는, 커터 휠의 주행 방향과 스크라이브 예정 라인의 평행도가 바르게 일치하도록 위치 결정할 필요가 있다.
반도체 기판이 사각형인 경우에는, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 스크라이브 예정 라인 (S) 이 반도체 기판 (W1) 의 측변을 따라 평행하게 설계되어 있으므로, 흡착 테이블 (1) 상에 스크라이브 방향을 따른 복수의 위치 결정 핀 (30) 을 형성해 두고, 이 위치 결정 핀 (30) 에 측변을 맞추어 반도체 기판 (W1) 을 재치함으로써, 손으로 간단히 위치 결정할 수 있다.
그러나, 반도체 기판이 원형인 경우에는 상기와 같은 위치 결정 핀을 사용할 수 없다. 이 때문에 종래에는, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 기판 (W2) 의 중심을 지나는 스크라이브 예정 라인 (S') 에 맞추어 기판 (W2) 의 주연부에 노치 (V 홈) 또는 오리엔테이션 플랫 (평평한 절결) 등의 표지가 되는 절결부 (K) 를 형성함과 함께, 흡착 테이블 (1) 상에 L 형 블록 (32) 을 장착한다. 그리고, 절결부 (K) 를 지나는 스크라이브 예정 라인 (S') 이 L 형 블록 (32) 의 한변과 평행이 되도록 절결부 (K) 를 보면서 수작업으로 위치 맞춤을 실시하고 있다. 그러나, 이 위치 맞춤 작업은 매우 번거로움과 함께, 고정밀도로 실시하기 위해서는 고도의 숙련 기술을 필요로 한다.
또한, 대부분의 경우, 반도체 기판에서는 분단되는 각각의 칩 표면에 회로 등의 전자 소자가 형성되어 있으므로, 이들을 구분하는 스크라이브 스트리트, 즉 스크라이브 예정 라인은, 격자상의 모양으로 나타나 있어 눈으로 판별하는 것이 가능하지만, 모양으로 시인할 수 없는 경우라도, 기판의 둘레 가장자리에 형성한 절결부 등을 기준으로 하여 스크라이브 예정 라인의 방향을 판단하고 있다.
상기한 종래 과제를 감안하여, 본 발명에서는, 테이블 상에 재치된 원형 기판의 기울기를 자동적으로 정확히 수정할 수 있는 스크라이브 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에서는 다음과 같은 기술적 수단을 강구하였다. 즉 본 발명은, 취성 재료로 이루어지는 원형 기판을 회전 가능한 테이블에 재치하고, 그 표면을 스크라이브 예정 라인을 따라 커터 휠 또는 레이저를 사용하여 스크라이브함으로써 분단용의 균열을 스크라이브 예정 라인을 따라 형성하는 스크라이브 장치로서, 상기 원형 기판의 둘레 가장자리에, 상기 스크라이브 예정 라인과 평행하고 상기 원형 기판의 중심점을 지나는 선 상에 표지가 되는 절결부가 형성되고, 상기 테이블 상에 재치한 상기 원형 기판을 관찰하여 그 외형 형상을 검출할 수 있는 각도 보정용 카메라가 설치되고, 상기 각도 보정용 카메라에 의해 얻어진 화상 데이터를 해석 처리하고, 상기 커터 휠의 스크라이브 방향에 대한 상기 원형 기판의 스크라이브 예정 라인의 경사 각도를 검출하여, 이 경사 각도가 제로가 되도록 상기 테이블을 회전 조작시키는 컴퓨터의 제어부를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 각도 보정용 카메라에 의해 얻어진 외형 형상으로부터 상기 원형 기판의 중심점을 구하고, 이 중심점과 상기 절결부의 위치로부터 상기 경사 각도를 검출하도록 형성되어 있는 구성으로 하는 것이 좋다.
본 발명에 의하면, 스크라이브 예정 라인의 스크라이브 가공에 앞서, 테이블 상에 재치된 반도체 기판의 기울기가 자동적으로 수정되므로, 종래와 같은 번거롭고 또한 시간을 필요로 하는 수작업에 의한 위치 결정 조작의 공정을 생략할 수 있어, 효율적이고 정밀도가 높은 스크라이브를 신속히 실시할 수 있다.
또, 테이블 상에 재치된 원형 기판의 위치와 크기를 알 수 있으므로, 커터 휠이나 레이저의 공주행 부분을 없애고 원형 기판의 원내 영역만을 효율적으로 스크라이브할 수 있다.
또 본 발명에서는, 상기 각도 보정용 카메라에 의한 검출에 의해 경사 각도가 수정된 상기 원형 기판의 스크라이브 예정 라인에 대하여, 상기 커터 휠 또는 레이저의 위치 맞춤을 실시하기 위한 파인 카메라가 설치되어 있는 구성으로 하는 것이 좋다.
이로써, 커터 휠 또는 레이저를 스크라이브 예정 라인을 따라 정확하게 스크라이브할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 스크라이브 장치의 1 실시양태를 나타내는 개략적 정면도와 주요부의 측면도이다.
도 2 는, 스크라이브 장치의 동작의 제 1 단계를 평면에서 보아 나타내는 설명도이다.
도 3 은, 도 2 와 동일한 제 2 단계를 나타내는 설명도이다.
도 4 는, 도 2 와 동일한 제 3 단계를 나타내는 설명도이다.
도 5 는, 도 2 와 동일한 제 4 단계를 나타내는 설명도이다.
도 6 은, 본 발명의 스크라이브 장치를 사용한 작업의 흐름을 나타내는 플로 차트이다.
도 7 은, 본 발명의 스크라이브 장치에 있어서의 컴퓨터를 나타내는 블록도이다.
도 8 은, 라인 스캔 카메라를 나타내는 이미지도이다.
도 9 는, 에어리어 카메라를 나타내는 이미지도이다.
도 10 은, 종래의 각형 반도체 기판의 위치 결정 수단을 나타내는 사시도이다.
도 11 은, 종래의 원형 반도체 기판의 위치 결정 수단을 나타내는 사시도이다.
도 2 는, 스크라이브 장치의 동작의 제 1 단계를 평면에서 보아 나타내는 설명도이다.
도 3 은, 도 2 와 동일한 제 2 단계를 나타내는 설명도이다.
도 4 는, 도 2 와 동일한 제 3 단계를 나타내는 설명도이다.
도 5 는, 도 2 와 동일한 제 4 단계를 나타내는 설명도이다.
도 6 은, 본 발명의 스크라이브 장치를 사용한 작업의 흐름을 나타내는 플로 차트이다.
도 7 은, 본 발명의 스크라이브 장치에 있어서의 컴퓨터를 나타내는 블록도이다.
도 8 은, 라인 스캔 카메라를 나타내는 이미지도이다.
도 9 는, 에어리어 카메라를 나타내는 이미지도이다.
도 10 은, 종래의 각형 반도체 기판의 위치 결정 수단을 나타내는 사시도이다.
도 11 은, 종래의 원형 반도체 기판의 위치 결정 수단을 나타내는 사시도이다.
이하, 본 발명의 상세를 도면에 나타낸 실시형태에 기초하여 설명한다. 본 실시예에 있어서의 스크라이브 대상인 원형 기판은, 유리 웨이퍼와 실리콘 웨이퍼를 적층한 이미지 센서용의 반도체 기판 (W) 으로 한다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 반도체 기판 (W) 에는 회로 등의 전자 소자를 구비한 칩이 격자상으로 배치되고, 이들 칩을 구분하는 X - Y 방향의 라인이 스크라이브 예정 라인 (스크라이브 스트리트) (S1, S2) 이 된다. 그리고, 반도체 기판 (W) 의 중심점 (P) 을 지나는 어느 일방의 스크라이브 예정 라인, 본 실시예에서는 스크라이브 예정 라인 (S1) 상 또한 반도체 기판 (W) 의 주연부에, 노치 또는 오리엔테이션 플랫 등의 표지가 되는 절결부 (K) 가 형성되어 있다.
도 1 의 (a), (b) 는 본 발명에 관련된 스크라이브 장치 (A) 의 일 실시예를 나타내는 것으로, 반도체 기판 (W) 을 재치하여 유지하는 테이블 (1) 을 구비하고 있다. 테이블 (1) 의 표면에는 다수의 에어 흡인공 (도시 생략) 이 형성되고, 이 흡인공을 에어 흡인함으로써 반도체 기판 (W) 이 흡착 유지되도록 형성되어 있다.
또, 테이블 (1) 은, 수평한 레일 (2) 을 따라 Y 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있고, 모터 (3) 에 의해 회전하는 나사축 (4) 에 의해 구동된다. 또한 테이블 (1) 은, 모터를 내장하는 회전 구동부 (5) 에 의해 수평면 내에서 회동 (回動) 할 수 있도록 되어 있다.
테이블 (1) 을 사이에 두고 형성되어 있는 양측의 지지 기둥 (6, 6) 과, X 방향으로 수평으로 연장되는 빔 (7) 을 구비한 브릿지 (8) 가 테이블 (1) 상에 걸쳐 있도록 하여 형성되어 있다. 빔 (7) 에는, X 방향으로 수평으로 연장되는 가이드 (9) 가 형성되어 있다. 이 가이드 (9) 에, 반도체 기판 (W) 에 스크라이브 예정 라인을 따른 균열을 가공하기 위한 커터 휠 (10) 을 유지하는 스크라이브 헤드 (11) 가 장착되어 있다. 스크라이브 헤드 (11) 는, 모터 (12) 를 구동원으로 하는 이동 기구 (도시 생략) 에 의해 가이드 (9) 를 따라 X 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 커터 휠 (10) 은 스크라이브 헤드 (11) 에 형성된 승강 기구 (도시 생략) 에 의해 반도체 기판 (W) 을 향해 승강할 수 있도록 형성되어 있다.
또, 커터 휠 (10) 과 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 의 위치 맞춤을 실시하기 위한 파인 카메라 (14) 가 상기 커터 휠 (10) 의 스크라이브 헤드 (11) 에 장착되어 있다. 이로써, 커터 휠 (10) 과 함께 X 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다.
또한, 테이블 (1) 의 상방에는 반도체 기판 (W) 의 외형 형상을 검출할 수 있는 각도 보정용 카메라가 설치되어 있다. 본 실시예에서는, 이 각도 보정용 카메라로서 라인 스캔 카메라 (15) 가 사용된다. 라인 스캔 카메라 (15) 는, 브릿지 (8) 로부터 Y 방향으로 돌출된 스테이 (16) 의 선단에 유지되고, Y 방향으로 이동하는 테이블 (1) 의 Y 축 라인 상방에 위치하도록 배치되어 있다.
라인 스캔 카메라 (15) 에는 피사체의 촬영 부위를 비추기 위한 조명등 (17) 이 부설되어 있다. 조명등 (17) 은 정반사광 광원 (17a) 과, 확산 반사광 광원 (17b) 의 조합으로 이루어지고, 정반사광은 하프 미러 (17c) 를 통해 피사체가 되는 반도체 기판 (W) 을 향해 조사된다. 이 2 개의 광원에 의해 작은 전력으로 효과적으로 피사부를 비출 수 있다. 또한, 정반사광은 하프 미러 (17c) 를 통하지 않고 직접 피사체를 향해 조사하도록 해도 된다.
라인 스캔 카메라 (15) 는, 도 8 의 이미지도에서 나타내는 바와 같이, 촬상 소자로서 라인 센서 (1 차원 CCD) (15a) 를 사용하고 있고, 피사체가 되는 반도체 기판 (W) 을 테이블 (1) 에 의해 화살표 방향 (Y 방향) 으로 이동시키면서, 라인 (15b) 의 화상을 1 개씩 도입함으로써 반도체 기판 (W) 의 전체 이미지를 조립한다.
라인 스캔 카메라 (15) 에 도입된 화상 데이터는, 스크라이브 장치 (A) 에 부설되는 컴퓨터 (C) (도 7 참조) 의 제어부 (18) 에 의해 연산 처리된다. 그리고, 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 이 테이블 (1) 의 X 축 또는 Y 축에 대하여 기울어져 있는 경우에는, 테이블 (1) 의 회동에 의해 보정된다. 또한, 그 상세에 대해서는 후술한다.
스크라이브 장치 (A) 에 부설된 컴퓨터 (C) 는, 상기한 제어부 (18) 에 더하여, 도 7 의 블록도에 나타내는 바와 같이 입력부 (19) 와 표시부 (20) 를 구비하고 있다. 제어부 (18) 는, CPU, RAM, ROM 등의 컴퓨터 하드웨어에 의해 실현되고, 상기한 스크라이브 장치 (A) 의 라인 스캔 카메라 (15) 나 파인 카메라 (14) 에 의한 촬영이나 화상 데이터의 연산 처리 이외에, 테이블 (1) 의 회전이나 Y 축방향으로의 이동, 커터 휠 (10) 에 의한 스크라이브 동작 등, 각부 기구의 동작 전반의 제어를 실시한다. 입력부 (19) 는 오퍼레이터가 스크라이브 장치 (A) 에 대하여 여러 가지 조작 지시나 데이터를 입력하기 위한 것이고, 표시부 (20) 는 처리 메뉴나 동작 상황을 표시하기 위한 것이다.
다음으로, 상기한 스크라이브 장치 (A) 에 의한 반도체 기판 (W) 의 스크라이브 동작의 흐름을 도 2 ∼ 도 5 의 동작 설명도 및 도 6 의 플로 차트에 기초하여 설명한다.
먼저, 도 1, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 반도체 기판 (W) 을 테이블 (1) 상에 재치하고 흡착 유지시킨다 (스텝 1).
이 때, 다음에 실시되는 라인 스캔 카메라 (15) 에 의한 촬상 영역 범위 내이면, 테이블 (1) 상의 어떤 위치에 재치해도 되지만, 보정시의 테이블 회전량을 작게 하기 위해, 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 의 어느 것이 테이블 (1) 의 X - Y 축방향과 대체로 평행이 되도록 재치하는 것이 좋다. 도 2 에서는, 절결부 (K) 를 갖는 스크라이브 예정 라인 (S1) 이 테이블 (1) 의 X 축과 대체로 평행이 되도록 재치되어 있다.
이어서, 도 3, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 테이블 (1) 에 의해 반도체 기판 (W) 을 Y 축방향으로 이동시키면서 라인 스캔 카메라 (15) 에 의해 반도체 기판 (W) 을 스캔한다. 스캔된 화상 데이터는 컴퓨터 (C) 의 제어부 (18) 에 의해 연산 처리되어 전체 이미지의 외형 형상으로부터 반도체 기판 (W) 의 중심점 (P) 이 구해지고, 이 중심점 (P) 으로부터 절결부 (K) 를 잇는 직선 (L1) 과, 테이블 (1) 의 X 축방향을 따른 직선 (L2) 의 각도, 즉, 반도체 기판 (W) 의 스크라이브 예정 라인 (S1) 의 경사 각도 (α) 가 구해진다 (스텝 2).
이어서, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 경사 각도 (α) 가 제로가 되도록 테이블 (1) 을 반시계 방향으로 회동시킨다. 이로써, 반도체 기판 (W) 의 스크라이브 예정 라인 (S1) 과 커터 휠 (10) 의 스크라이브 방향의 평행도를 일치시킬 수 있다 (스텝 3).
이 후, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 반도체 기판 (W) 은 테이블 (1) 을 이동시킴으로써 커터 휠 (10) 에 의한 스크라이브 위치에 이송된다 (스텝 4).
그리고, 파인 카메라 (14) 에 의해 스크라이브 예정 라인 (S1) 을 관찰하여 제어부 (18) 에 의해 커터 휠 (10) 과 스크라이브 예정 라인 (S1) 의 위치 맞춤이 실시된다 (스텝 5).
스크라이브 예정 라인의 개수나 피치는 미리 결정되어 있으므로, 파인 카메라 (14) 에 의한 위치 맞춤은 한번만으로 가능하고, 설정된 피치를 테이블 (1) 에서 순차 이동시킴으로써 모든 스크라이브 예정 라인 (S1) 을 스크라이브할 수 있다. 스크라이브 예정 라인 (S1) 의 스크라이브가 완료된 후, 테이블 (1) 을 90 도 회전하여 스크라이브 예정 라인 (S2) 의 스크라이브가 실시된다 (스텝 6).
또한, 파인 카메라 (14) 에 의해 관찰할 수 있는 얼라이먼트 마크를 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 상에 미리 형성해두도록 해도 된다.
이상 서술한 바와 같이, 본 발명의 스크라이브 장치 (A) 에서는, 커터 휠 (10) 에 의한 스크라이브에 앞서, 테이블 (1) 상에 재치된 반도체 기판 (W) 의 기울기가 자동적으로 수정되므로, 종래와 같이 번거롭고 시간을 필요로 하는 수작업의 위치 결정 조작을 생략할 수 있어, 고정밀도의 스크라이브를 신속히 실시할 수 있다. 또, 테이블 상에 재치된 원형 기판의 위치와 크기를 알 수 있으므로, 커터 휠이나 레이저의 공주행 부분을 없애 원형 기판의 원내 영역만을 효율적으로 스크라이브할 수 있다.
또한, 상기 실시예에서는, 각도 보정용 카메라로서 넓은 시야 영역을 높은 분해능으로 얻을 수 있는 라인 스캔 카메라 (15) 를 사용하였지만, 원형의 반도체 기판 (W) 의 외형 형상을 양호한 정밀도로 검출할 수 있는 성능을 갖는 카메라이면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 9 에 나타내는 고정밀도의 2 차원 센서 (21a) 를 구비한 에어리어 카메라 (21) 를 사용하는 것도 가능하다.
또, 상기 실시예에서는, 반도체 기판 (W) 의 스크라이브 예정 라인 (S1, S2) 을 스크라이브하는 수단으로서 커터 휠 (10) 을 사용하였지만, 이것 대신에 공지된 레이저를 사용하도록 해도 된다.
이상, 본 발명의 대표적인 실시예에 대해 설명하였지만, 본 발명은 반드시 상기 실시형태에 특정되는 것이 아니며, 그 목적을 달성하고, 청구범위를 일탈하지 않는 범위 내에서 적절히 수정, 변경하는 것이 가능하다.
본 발명은, 원형의 반도체 기판으로부터 칩 등의 단위 제품을 분단하기 위한 균열을 가공하는 스크라이브 장치에 이용된다.
A : 스크라이브 장치
C : 컴퓨터
K : 절결부
P : 중심점
S1 : 스크라이브 예정 라인
S2 : 스크라이브 예정 라인
W : 반도체 기판 (원형 기판)
α : 경사 각도
1 : 테이블
10 : 커터 휠
14 : 파인 카메라
15 : 라인 스캔 카메라 (각도 보정용 카메라)
C : 컴퓨터
K : 절결부
P : 중심점
S1 : 스크라이브 예정 라인
S2 : 스크라이브 예정 라인
W : 반도체 기판 (원형 기판)
α : 경사 각도
1 : 테이블
10 : 커터 휠
14 : 파인 카메라
15 : 라인 스캔 카메라 (각도 보정용 카메라)
Claims (4)
- 취성 재료로 이루어지는 원형 기판을 회전 가능한 테이블에 재치하고, 그 표면을 스크라이브 예정 라인을 따라 커터 휠 또는 레이저를 사용하여 스크라이브함으로써 분단용의 균열을 스크라이브 예정 라인을 따라 형성하는 스크라이브 장치로서,
상기 원형 기판의 둘레 가장자리에, 상기 스크라이브 예정 라인과 평행하고 상기 원형 기판의 중심점을 지나는 선 상에 표지가 되는 절결부가 형성되고,
상기 테이블 상에 재치한 상기 원형 기판을 관찰하여, 그 외형 형상을 검출할 수 있는 각도 보정용 카메라가 설치되고,
상기 각도 보정용 카메라에 의해 얻어진 화상 데이터를 해석 처리하고, 상기 원형 기판의 전체 이미지를 조립하고, 상기 전체 이미지의 외형 형상으로부터 상기 커터 휠 또는 레이저에 의한 스크라이브 방향에 대한 상기 원형 기판의 스크라이브 예정 라인의 경사 각도를 검출하여, 이 경사 각도가 제로가 되도록 상기 테이블을 회전 조작시키고, 상기 원형 기판의 원내 영역만을 스크라이브 시키는 컴퓨터의 제어부를 구비하고 있는 스크라이브 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 각도 보정용 카메라에 의해 얻어진 외형 형상으로부터 상기 원형 기판의 중심점을 구하고, 이 중심점과 상기 절결부의 위치로부터 상기 경사 각도를 검출하도록 형성되어 있는 스크라이브 장치. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 각도 보정용 카메라에 의한 검출에 의해 경사 각도가 수정된 상기 원형 기판의 스크라이브 예정 라인에 대하여, 상기 커터 휠 또는 레이저의 위치 맞춤을 실시하기 위한 파인 카메라가 설치되어 있는 스크라이브 장치. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 각도 보정용 카메라가 라인 스캔 카메라인 스크라이브 장치.
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---|---|---|---|---|
CN107139212A (zh) * | 2017-06-01 | 2017-09-08 | 东舟技术(深圳)有限公司 | 人形机器人姿态校准装置 |
CN108361502A (zh) * | 2018-04-20 | 2018-08-03 | 深圳市晶向科技有限公司 | 玻璃切割机的摄像头调校装置及方法 |
CN109129386A (zh) * | 2018-07-10 | 2019-01-04 | 伯恩光学(惠州)有限公司 | 划线机 |
CN112223239A (zh) * | 2020-09-08 | 2021-01-15 | 黄城明 | 一种料盘方格划线器 |
CN112873160B (zh) * | 2021-01-07 | 2022-06-07 | 公元管道(浙江)有限公司 | 一种管材划线装置 |
CN118372382B (zh) * | 2024-06-26 | 2024-09-17 | 江苏华芯智造半导体有限公司 | 一种基于机器视觉的半导体晶圆智能切割系统 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008153086A1 (ja) | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Nikon Corporation | 基板検出装置、基板位置決め装置、これらを有する基板貼り合わせ装置、ウェハ外形検出装置、ウェハ位置決め装置、及び、ウェハ外形検出装置及びウェハ外形検出装置を有するウェハ貼り合せ装置 |
JP2010161117A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状物の研削方法 |
JP2010177691A (ja) * | 2010-04-02 | 2010-08-12 | Lintec Corp | アライメント装置及びアライメント方法 |
JP2011181721A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Yaskawa Electric Corp | ウエハアライメント装置 |
JP5606780B2 (ja) | 2010-04-23 | 2014-10-15 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56100445A (en) * | 1980-01-14 | 1981-08-12 | Nec Corp | Manufacture of semiconductor device |
JPS57198629A (en) * | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Toshiba Corp | Dicing equipment |
JPH0680727B2 (ja) * | 1984-03-31 | 1994-10-12 | 東芝精機株式会社 | ペレットボンディング装置 |
JPH07240453A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-12 | Seiko Seiki Co Ltd | 半導体ウエハ加工装置 |
JP2002134587A (ja) * | 2000-10-26 | 2002-05-10 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送機構及び処理システム |
DE10128630A1 (de) * | 2001-06-13 | 2003-01-02 | Freiberger Compound Mat Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Orientierung einer kristallografischen Ebene relativ zu einer Kristalloberfläche sowie Vorrichtung und Verfahren zum Trennen eines Einkristalls in einer Trennmaschine |
JP4199471B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2008-12-17 | Juki株式会社 | 半導体ウエハ加工装置及び半導体ウエハの加工方法 |
JP3779237B2 (ja) | 2002-07-04 | 2006-05-24 | 住友電気工業株式会社 | 基板切断方法及び基板切断装置 |
JP4296885B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2009-07-15 | オムロン株式会社 | 円形物におけるマーク検出方法、ノッチ検出方法、半導体ウェーハの向き検査方法、および半導体ウェーハの向き検査装置 |
KR101152763B1 (ko) * | 2003-12-29 | 2012-06-18 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | 스크라이브 라인 형성기구, 스크라이브 헤드 및 스크라이브 장치 |
CN101068666B (zh) * | 2004-10-13 | 2011-05-04 | 三星钻石工业株式会社 | 脆性材料基板的划线方法和划线装置以及脆性材料基板的切断系统 |
TWI454433B (zh) * | 2005-07-06 | 2014-10-01 | Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd | A scribing material for a brittle material and a method for manufacturing the same, a scribing method using a scribing wheel, a scribing device, and a scribing tool |
JP2007183358A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Olympus Corp | 光学素子の位置調整装置 |
JP2007201642A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-09 | Kyocera Mita Corp | 画像読取装置およびそれを備える画像形成装置 |
JP4809744B2 (ja) * | 2006-09-19 | 2011-11-09 | 東京エレクトロン株式会社 | ウエハの中心検出方法及びその方法を記録した記録媒体 |
US20080220590A1 (en) * | 2007-03-06 | 2008-09-11 | Texas Instruments Incorporated | Thin wafer dicing using UV laser |
JP2008251114A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Nidec Sankyo Corp | 光ヘッド装置 |
JP2011082354A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
JP5588748B2 (ja) * | 2010-06-02 | 2014-09-10 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
JP2013008796A (ja) * | 2011-06-23 | 2013-01-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの加工方法 |
CN103472680B (zh) * | 2012-06-08 | 2016-03-30 | 上海微电子装备有限公司 | 硅片预对准装置 |
JP6159549B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2017-07-05 | 中村留精密工業株式会社 | ワークの外周加工装置 |
JP6185813B2 (ja) | 2013-09-30 | 2017-08-23 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | イメージセンサ用ウエハ積層体の分断方法並びに分断装置 |
JP2014060429A (ja) * | 2013-11-13 | 2014-04-03 | Nikon Corp | ウェハ貼り合わせ装置、ウェハ貼り合わせ方法 |
-
2015
- 2015-06-23 JP JP2015125655A patent/JP6610026B2/ja active Active
-
2016
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- 2016-02-23 CN CN201610096911.8A patent/CN106272320B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008153086A1 (ja) | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Nikon Corporation | 基板検出装置、基板位置決め装置、これらを有する基板貼り合わせ装置、ウェハ外形検出装置、ウェハ位置決め装置、及び、ウェハ外形検出装置及びウェハ外形検出装置を有するウェハ貼り合せ装置 |
JP2013258423A (ja) | 2007-06-12 | 2013-12-26 | Nikon Corp | 基板検出装置、基板位置決め装置、これらを有する基板貼り合わせ装置、ウェハ外形検出装置、ウェハ位置決め装置、及び、ウェハ外形検出装置及びウェハ外形検出装置を有するウェハ貼り合せ装置 |
JP2010161117A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状物の研削方法 |
JP2011181721A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Yaskawa Electric Corp | ウエハアライメント装置 |
JP2010177691A (ja) * | 2010-04-02 | 2010-08-12 | Lintec Corp | アライメント装置及びアライメント方法 |
JP5606780B2 (ja) | 2010-04-23 | 2014-10-15 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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