KR102088651B1

KR102088651B1 - 침상체 및 침상체의 제조 방법

Info

Publication number: KR102088651B1
Application number: KR1020147023666A
Authority: KR
Inventors: 히로유키 가토; 다카코 야마모토; 요시카즈 다로우라
Original assignee: 도판 인사츠 가부시키가이샤
Priority date: 2012-02-29
Filing date: 2013-02-01
Publication date: 2020-03-16
Also published as: EP2821096B1; WO2013129028A1; EP2821096A4; CN104136067A; JPWO2013129028A1; US20140361459A1; JP6277953B2; US9849271B2; EP2821096A1; KR20140130450A

Abstract

본 발명은 침상의 돌기부와, 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하고, 상기 돌기부는 적어도 키토산과 유기산을 포함하고, 생체에 저부하이고 피부에 천자한 후에 미세한 형상을 유지하는 것이 가능한 침상체에 관한 것이다.

Description

침상체 및 침상체의 제조 방법{NEEDLE-LIKE MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING NEEDLE-LIKE MATERIAL}

본 발명은, 침상체 및 침상체의 제조 방법에 관한 것이다.

피부 상에서 약제 등의 송달물을 침투시켜 체내에 송달물을 투여하는 경피 흡수법은, 인체에 통증을 부여하는 일이 없고, 간편하게 송달물을 투여할 수 있는 방법으로서 알려져 있다.

일본 특허 공개 소 48-93192호 공보에는, 경피 투여의 분야에 있어서, ㎛ 오더의 침이 형성된 침상체를 사용하여 피부에 천자하여, 피부 내에 약제 등을 투여하는 방법이 개시되어 있다.

국제 공개 제2008/013282호 팸플릿에는, 침상체의 제조 방법이 개시되어 있다. 이 방법은, 기계 가공을 사용하여 원판을 제작하고, 이 원판으로부터 전사판을 형성하고, 이 전사판을 사용하여 전사 가공 성형을 행하여 침상체를 제조한다.

국제 공개 제2008/004597호 팸플릿에는, 별도의 침상체의 제조 방법이 개시되어 있다. 이 방법은, 에칭법을 사용하여 원판을 제작하고, 이 원판으로부터 전사판을 형성하고, 이 전사판을 사용하여 전사 가공 성형을 행하여 침상체를 제조한다.

그런데, 침상체를 구성하는 재료는 가령 파손된 침상체가 체내에 잔류한 경우에도, 인체에 악영향을 미치지 않는 재료인 것이 바람직하다. 이로 인해, 국제 공개 제2008/020632호 팸플릿에는 침상체 재료로서 키틴·키토산 등의 생체 적합 재료를 사용하는 것이 개시되어 있다.

키틴은 게나 새우 등의 갑각류의 껍데기에 포함되는 성분이며, 키토산은 그의 탈아세틸화물이다. 키틴과 키토산과의 사이에 명확한 경계선은 없지만, 일반적으로 키틴의 탈아세틸화가 70％ 이상인 것이 키토산이라고 불린다.

침상체는, 송달하는 약제, 증상에 대한 처방 등, 용도에 따라서는 생체 내에서 용해성, 비용해성을 나타내는 것이 요구된다. 용해성, 비용해성 중 어느 것이어도, 높은 생체 적합성이 요구된다.

본 발명은 높은 생체 적합성을 구비하는 키토산을 포함하는, 생체에 저부하인 침상체를 제공하는 것을 과제로 한다.

본 발명은 내수성이 높고, 피부에 천자한 후에도 미세한 형상을 유지하는 것이 가능한 생체에 저부하인 침상체의 제조 방법을 제공한다.

본 발명은 내수성이 높고, 생체에 저부하이고 피부에 천자한 후에 미세한 형상을 유지하는 것이 가능한 침상체의 제조 공정 중, 내수성을 높이는 공정에 필요한 기간을 단축하는 제법 방법을 제공한다.

본 발명의 제1 형태에 따르면, 침상의 돌기부와, 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하고, 상기 돌기부는 적어도 키토산과 시트르산을 포함하는 침상체가 제공된다.

본 발명의 제2 형태에 따르면, 침상의 돌기부와 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하는 침상체의 제조 방법으로서,

(a) 침상의 오목부를 구비한 오목판을 준비하는 공정과,

(b) 키토산 및 산을 포함하는 액상의 침상체 재료를 제조하는 공정과,

(c) 상기 오목판에 상기 액상의 침상체 재료를 충전하는 공정과,

(d) 상기 오목판에 충전된 상기 액상의 침상체 재료를 건조하고, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고형물을 얻는 공정과,

(e) 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물을 상기 오목판으로부터 탈리하는 공정과

(f) 탈리한 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물을 알코올 수용액에 침지하는 공정

을 포함하는 침상체의 제조 방법이 제공된다.

본 발명의 제3 형태에 따르면, 침상의 돌기부와 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하는 침상체의 제조 방법으로서,

(a) 침상의 오목부를 구비한 오목판을 준비하는 공정과,

(f) 탈리한 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물 중의 키토산을 아세틸화하는 공정

을 포함하는 침상체의 제조 방법이 제공된다.

본 발명의 제4 형태에 따르면, 침상의 돌기부와 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하는 침상체의 제조 방법으로서,

(a) 침상의 오목부를 구비한 오목판을 준비하는 공정과,

(b) 키토산, 제1 산 및 제2 산을 포함하는 액상의 침상체 재료를 제조하는 공정과,

(e) 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물을 상기 오목판으로부터 탈리하는 공정과,

을 포함하며,

상기 제1 산은 3가 이상의 카르복실산, 또는 수 평균 분자량이 110 이상의 디카르복실산이고,

상기 제2 산은 모노카르복실산, 또는 수 평균 분자량이 110 미만의 디카르복실산인 침상체의 제조 방법이 제공된다.

도 1은 제1 실시 형태에 따른 침상체의 개략 단면도이다.
도 2는 실시예 1에 있어서의 침상체의 제조 공정을 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 실시예 1에 있어서의 침상체의 제조 공정을 나타내는 개략 단면도이다.
도 4는 실시예 7에 있어서의 침상체의 제조 공정을 나타내는 개략 단면도이다.
도 5는 실시예 7에 있어서의 침상체의 제조 공정을 나타내는 개략 단면도이다.
도 6은 실시예 15에 있어서의 침상체의 제조 공정을 나타내는 개략 단면도이다.
도 7은 실시예 15에 있어서의 침상체의 제조 공정을 나타내는 개략 단면도이다.

이하, 본 발명의 실시 형태에 따른 침상체 및 침상체의 제조 방법을 상세하게 설명한다.

(제1 실시 형태)

제1 실시 형태에 따른 침상체는, 침상의 돌기부와, 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하고, 돌기부는 적어도 키토산과 시트르산을 포함한다.

제1 실시 형태에 따른 침상체를 도 1을 참조하여 구체적으로 설명한다. 침상체(1)는, 침상의 돌기부(2)와 이 돌기부(2)를 지지하는 지지 기판(3)을 구비한다. 돌기부(2)는 적어도 키토산과 시트르산을 포함한다.

돌기부의 재료에 포함되는 주요 성분인 키토산은, 생체 적합성을 구비하는 것이고, 키토산, 키틴·키토산, 키틴·키토산 유도체, 글루코사민, 글루코사민 유도체로부터 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개 이상을 사용할 수 있다. 키틴과 키토산과의 사이에 명확한 경계선은 없지만, 일반적으로 키틴의 탈아세틸화가 70％ 이상인 것이 키토산이라고 불린다. 탈아세틸화는, 공지된 방법에 의해 행할 수 있다.

키토산·키틴·키토산, 키틴·키토산 유도체, 글루코사민 유도체는, 게, 새우 등의 갑각류 유래의 것, 균사류·미생물 산생의 식물 유래의 것, 및 그것들을 출발 원료로 한 것 등을 사용할 수 있다. 키토산, 키틴·키토산 및 키틴·키토산 유도체는, 피부에 대하여 미용 효과를 나타내는 동시에 살균 효과, 항균 효과를 갖기 때문에, 침상체의 돌기부의 재료로서 바람직하게 사용할 수 있다.

돌기부의 재료에는, 키토산 이외에 시트르산을 포함한다. 시트르산은 생체에 안전해서, 나아가 식품 첨가물로서 널리 알려져 있는 산이다. 이로 인해, 사용자의 안심감이 얻어진다는 효과가 있다.

제1 실시 형태에 따른 키토산과 시트르산을 포함하는 침상체는, 후술하는 알코올 수용액 침지 공정을 행한, 물에 대하여 난용성인 형태 (1)과, 알코올 침지 공정을 행하지 않은, 물에 대하여 가용성인 형태 (2)로 크게 구별된다.

물에 대하여 난용성인 형태 (1)의 침상체는, 피부에 천자했을 때에 침상체가 용해되지 않는다. 따라서, 침상체를 피부에 천자하고, 당해 침상체를 피부로부터 제거한 후에, 송달물을 피부에 투여할 수 있다. 또한, 미리 침상체 표면에 송달물을 도포 형성하고, 표면에 송달물이 형성된 침상체를 피부에 천자함으로써, 송달물을 피부에 투여할 수도 있다.

한편, 물에 대하여 가용성인 형태 (2)의 침상체는, 피부에 천자했을 때에 용해한다. 가용성의 침상체에 있어서는, 키토산과 시트르산을 포함하는 침상체는 추가로 송달물을 포함시킬 수 있다. 송달물을 추가로 포함하는 침상체는, 피부에 천자했을 때에 침상체가 용해함으로써, 피부에 송달물을 투여할 수 있다. 또한, 물에 대하여 가용성인 침상체는 1회 천자했을 때에 돌기부가 소실하기 때문에, 침상체의 사용자가 2회 피부에 천자하는 것을 방지할 수 있다는 효과를 발휘한다.

또한, 본 발명에 있어서의 송달물로서는, 예를 들면 생리 활성 물질이나 화장품 조성물 등을 들 수 있다. 송달물은, 생물 제제도 포함하는 것으로 한다. 여기서, 생물 제제란 인간이나 동물의 세포나 세포 조직 등에서 유래하는 원료 또는 재료를 사용한 약물의 분류를 말한다.

제1 실시 형태는, 휨이 없는 침상체를 얻을 수 있는 효과도 있다. 침상체는, 휨이 발생한 경우에는 피부에의 천자 성능이 저하하는 점에서 휨이 없는 것이 바람직하다.

키토산과 시트르산에 의해 침상체를 제작한 경우에는, 시트르산의 양에 의해 침상체의 색미가 변화한다. 이로 인해, 색미에 의해 공정 관리 및 품질 관리를 행할 수 있다는 효과도 있다. 특히, 후술하는 바와 같이 시트르산의 양을 특정한 범위로 한 경우에는, 침상체를 화장품 용도, 또는 의료품 용도로서 최적인 백색으로 할 수 있다.

돌기부에 포함되는 시트르산의 양은, 0.5질량％ 이상 40질량％ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 침상체에 포함되는 시트르산의 양을 40질량％ 이하로 함으로써, 침상체가 생체 내에서 용해되는 가용성의 침상체로 되는 것을 방지하여, 천자 후에도 미세한 침상체의 형상을 유지할 수 있다.

돌기부에 포함되는 시트르산의 양은, 0.5질량％ 이상 30질량％ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 시트르산의 양을 30질량％ 이하로 한 경우에는, 침상체를 백색으로 할 수 있다. 그 결과, 청결감이 있고, 사용자의 피부에의 천자 시의 저항감을 부드럽게 할 수 있다.

또한, 침상체가 생체 내에서 용해되는 것을 방지하는 관점에서는, 침상체에 포함되는 시트르산의 양은 적으면 적은 쪽이 바람직하다. 그러나, 침상체의 시트르산량이 0.5질량％ 미만으로 하면, 시트르산을 제거하기 위하여 생산성이 저하될 우려가 있다.

제1 실시 형태에 따른 침상체는, 키토산 및 시트르산 이외에, 다른 유기산을 포함하는 것을 허용한다. 침상체에 포함되는 다른 유기산의 예는, 아세트산, 숙신산, 락트산, 글리옥실산, 타르타르산, 피루브산, 옥살로숙신산, 옥살로아세트산, 아세토아세트산, 레불린산, 옥소글루타르산을 포함한다. 침상체 중의 유기산의 함유량(질량％)은 이온크로마토그래피에 의해 구할 수 있다.

제1 실시 형태에 따른 침상체에 있어서, 돌기부(1)는 피부를 천자하기에 적합한 형상일 수 있다. 돌기부(1)는, 예를 들면 원추, 각추, 원기둥, 각기둥, 연필 형상(몸통체부가 기둥 형상이고, 선단부가 송곳 형상인 것) 등의 형상을 갖는다. 또한, 돌기부는 (1) 지지 기판 상에 1개 존재하는 형태, (2) 지지 기체 상에 복수개 임립한 형태 중 어느 것일 수도 있다.

지지 기판 상에 돌기부가 복수 임립한 경우, 각 돌기부는 어레이 형상으로 배열하는 것이 바람직하다. 여기서, 「어레이 형상」이란, 각 단위 침상체가 나열해 있는 상태를 나타낸다. 예를 들면, 격자 배열, 최밀 충전 배열, 동심원형 배열, 랜덤 배열 등을 포함한다.

제1 실시 형태에 따른 침상체의 사용에 있어서, 침상체의 삽입 위치 및 방향을 고정하기 위한 어플리케이터를 설치할 수 있다.

제1 실시 형태에 따른 침상체는, 돌기부에 구멍을 형성할 수도 있다. 구멍은, 지지 기판의 이면까지 관통하는 구멍이거나, 미관통 구멍일 수도 있다. 또한, 지지 기판에 구멍을 형성할 수도 있다. 구멍은, 지지 기판의 이면까지 달하는 관통 구멍이거나, 미관통 구멍일 수도 있다.

제1 실시 형태에 따른 침상체에 있어서, 돌기부의 치수는 피부에 천자 구멍을 형성하기에 적합한 가늘기와 길이를 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 도 1에 나타내는 돌기부(2)의 높이(H)는 10㎛ 이상 1000㎛ 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 돌기부의 높이(H)는, 지지 기판으로부터 돌기부의 선단부까지의 거리이다.

돌기부의 높이(H)는, 상기 범위 내에서 침상체를 천자했을 때에 형성되는 천자 구멍을 피부 내의 어느 정도의 깊이까지 형성할지를 고려하여 결정하는 것이 바람직하다.

특히, 침상체를 천자했을 때에 형성되는 천자 구멍을 「각질층 내」에 머무르게 하는 경우, 침상체의 돌기부의 높이(H)는 예를 들면 10㎛ 이상 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 30㎛ 이상 200㎛ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다.

또한, 침상체를 천자했을 때에 형성되는 천자 구멍이 「각질층을 관통하고, 또한 신경층에 도달하지 않는 길이」에 그치는 경우, 침상체의 돌기부의 높이(H)는 200㎛ 이상 700㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200㎛ 이상 500㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 200㎛ 이상 300㎛ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다.

또한, 침상체를 천자했을 때에 형성되는 천자 구멍을 「천자 구멍이 진피에 도달하는 길이」로 하는 경우, 침상체의 돌기부의 높이(H)는 200㎛ 이상 500㎛ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 또한, 침상체를 천자했을 때에 형성되는 천자 구멍을 「천자 구멍이 표피에 도달하는 길이」의 경우, 침상체의 돌기부의 높이(H)는 200㎛ 이상 300㎛ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다.

돌기부의 폭(D)은, 1㎛ 이상 300㎛ 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 돌기부의 폭(D)은, 상기 범위 내에서 침상체를 천자했을 때에 형성되는 천자 구멍을 피부 내의 어느 정도의 깊이까지 형성하는지 등을 고려하여 결정하는 것이 바람직하다.

돌기부의 폭(D)은, 돌기부를 기판면과 평행하게 투영했을 때의 지지 기판과 접하고 있는 돌기부의 길이 중 최대의 길이이다. 예를 들면, 돌기부가 원추상인 경우, 돌기부와 지지 기판과 접하고 있는 면의 원 직경이 폭(D)이 된다. 돌기부가 정사각추인 경우, 돌기부와 지지 기판과 접하고 있는 면의 정사각형의 대각선이 폭(D)이 된다. 또한, 돌기부가 원기둥인 경우, 돌기부와 지지 기판과 접하고 있는 면의 원 직경이 폭(D)이 된다. 돌기부가 정사각 기둥인 경우, 돌기부와 지지 기판과 접하고 있는 면의 정사각형의 대각선이 폭(D)이 된다.

종횡비는, 1 이상 10 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 종횡비(A)란, 돌기부의 길이(H)와 폭(D)을 사용하여, A=H/D로 정의된다.

실시 형태에 따른 침상체에 있어서, 돌기부가 뿔 형상과 같이 선단각을 갖고, 각질층을 관통시키는 경우, 돌기부의 선단각 θ는 5° 이상 30° 이하, 보다 바람직하게는 10° 이상 20° 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 또한, 선단각 θ는 돌기부를 지지 기판면과 평행하게 투영했을 때의 각도(꼭지각) 중 최대인 것을 가리킨다.

제1 실시 형태에 따른 침상체에 있어서, 지지 기판은 돌기부의 재료와 동일한 것이 바람직하다. 지지 기판과 돌기부를 동일 재료로 형성함으로써, 지지 기판과 돌기부를 일체적으로 성형하는 것이 가능해진다.

지지 기판은, 하층에 상기 돌기부의 재료와 상이한 재료를 적층한 다층 구조일 수도 있다. 복수종의 재료를 적층함으로써, 이하에 설명하는 것처럼 복수의 재료의 물성을 살린 지지 기판으로 하는 것이 가능해진다.

(1) 돌기부가 형성되는 상층을 돌기부와 동일한 재료로 형성하고, 하층을 가요성이 많은 재료로 형성한 지지 기판은, 지지 기판을 롤 형상으로 구부릴 수 있다.

(2) 상층을 하층보다도 전성이 큰 재료로 형성한 지지 기판은, 롤 형상으로 구부릴 수 있다.

(3) 상층을 하층보다도 수축이 작은 재료로 형성한 지지 기판도 롤 형상으로 구부릴 수 있다.

(4) 최하층을 유연성을 갖는 재료로 형성한 지지 기판을 구비한 침상체는, 그것들을 겹쳐서 보관해도 돌기부의 파손을 억제할 수 있다.

이어서, 제1 실시 형태에 따른 침상체의 제조 방법을 상세하게 설명한다.

<오목판의 준비 공정>

침상체의 형상을 결정하는 원판을 제작하고, 원판으로부터 원하는 침상체의 형상을 요철 반전시킨 오목판을 제작한다. 침상체의 형상을 결정하는 원판은, 침상체의 형상에 따라서 공지된 방법으로 제조할 수 있다. 원판은, 미세 가공 기술을 사용하여 형성할 수도 있다. 미세 가공 기술은, 예를 들면 리소그래피법, 습식 에칭법, 건식 에칭법, 샌드블라스트법, 레이저 가공법, 정밀 기계 가공법 등을 들 수 있다. 원판으로부터 오목판을 형성하기 위해서는, 공지된 형상 전사법을 사용할 수 있다. 예를 들면, (1) Ni 전주법에 의한 Ni제 오목판의 형성, (2) 용융한 수지를 사용한 전사 성형 등을 들 수 있다.

<액상의 침상체 재료의 제조 공정>

생체 적합성의 키토산을 시트르산의 수용액에 용해시켜 키토산 및 시트르산을 포함하는 액상의 침상체 재료를 제조한다.

액상의 침상체 재료는, 오목판에 유입할 수 있는 정도의 유동성을 갖는 것이 바람직하고, 겔 상태일 수도 있다.

키토산 및 시트르산의 배합 비율은, 키토산이 양호하게 용해된 액상의 침상체 재료가 얻어지는 비율로 적절히 시트르산의 양을 조정할 수 있다. 구체적으로는, 키토산 및 시트르산의 배합 비율은 키토산 30 내지 50질량％, 시트르산 50 내지 70질량％로 하는 것이 바람직하다.

<액상의 침상체 재료의 충전 공정>

오목판에 액상의 침상체 재료를 충전한다. 충전 방법은, 오목판의 형상 및 치수에 따라 적절히 공지된 방법을 선택할 수 있다. 예를 들면, 스핀 코팅법, 디스펜서를 사용하는 방법, 캐스팅법 등을 사용할 수 있다. 또한, 충전시에, 오목판의 주위 환경을 감압하 또는 진공하로 할 수도 있다.

<액상의 침상체 재료의 고화 공정>

오목판에 충전된 상기 액상의 침상체 재료를 건조하고, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물을 얻는다. 고화는, 상온에서의 건조라도 완결하지만, 가열 건조하여 제조 시간을 단축하는 것이 바람직하다. 가열 온도는, 기포가 침상체에 남는 것을 피하기 위해서, 수용액이 비등하지 않는 정도의 온도로 설정하는 것이 바람직하다. 이로 인해, 가열 온도는 50℃ 이상 90℃ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 가열은, 공지된 어느 가열 수단일 수도 있고, 예를 들면 액상의 침상체 재료가 충전된 오목판을 적재하는 핫 플레이트를 사용할 수 있다.

<침상체 재료를 포함하는 고화물의 탈리 공정>

침상체 재료를 포함하는 고화물을 상기 오목판으로부터 탈리한다. 탈리한 고화물은, 최종 형상인 침상체 형상을 갖는다.

탈리 방법은, 예를 들면 고화물을 오목판으로부터 물리적인 힘으로 박리하는 방법, 화학적으로 오목판을 선택적으로 용해하는 방법 등을 사용할 수 있다.

제1 실시 형태에 따른 침상체에 있어서, 그것이 생체 내에서 용해하는 것을 방지하고, 천자 후에도 미세한 침상체의 형상을 유지하기 위해서는, 탈리한 침상체 재료를 포함하는 고화물을 알코올 수용액에 침지하여, 침상체 내의 유기산을 일부 제거하는 것이 바람직하다.

<침상체 재료를 포함하는 고화물의 알코올 수용액 침지>

탈리한 침상체 재료를 포함하는 고화물을 알코올 수용액에 침지한다.

알코올은 물과 상용하는 것일 수 있고, 예를 들면 에탄올, 메탄올, 프로판올을 사용할 수 있다. 그 중에서도 생체 안전성의 면에서 에탄올을 사용하는 것이 바람직하다.

알코올 수용액은, 알코올 농도가 50 내지 90질량％인 것이 바람직하다. 알코올 수용액의 알코올 농도가 90질량％를 초과하면, 침상체 재료를 포함하는 고화물에 포함되는 산을 충분히 용출하는 것이 곤란해지고, 그의 침지 시간이 길어져서 생산성이 저하될 우려가 있다. 한편, 알코올 수용액의 알코올 농도를 50질량％ 미만으로 하면, 얻어지는 침상체가 팽윤할 우려가 있다.

알코올 수용액은 실온이어도 되지만, 고화물 중의 산의 용출을 촉진하기 위해서 가온하는 것이 바람직하다. 알코올 수용액으로서 에탄올 수용액을 사용한 경우에는, 가온은 40℃ 이상 60℃ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다.

고화물을 알코올 수용액에 침지하는 시간은, 알코올의 종류, 농도 등에 의해 일률적으로 규정할 수 없지만, 8시간 내지 5일간으로 하는 것이 바람직하다.

고화물을 알코올 수용액에 침지할 때, 농도가 높은 알코올 수용액과 그것보다 농도가 낮은 알코올 수용액에 순차 침지하는 복수 단계로의 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 농도 70질량％ 이상 90질량％ 이하의 알코올 수용액에 고형화물을 침지하고, 그 후 농도 50질량％ 이상 70질량％ 미만의 알코올 수용액에 고형화물을 옮겨서 침지한다. 이렇게 농도가 높은 알코올 수용액으로부터 농도가 낮은 알코올 수용액에의 복수단의 고화물의 침지 처리에 의해, 고화물의 주요 성분인 키토산의 용해를 억제하여 형상 안정화를 도모할 수 있다. 동시에, 고화물 중의 산의 용출을 촉진하는 것이 가능해진다.

키토산의 침상체를 오목판을 사용하여 제조하기 위해서는, 키토산을 산의 수용액에서 용해하여 액상의 침상체 재료를 미리 제조할 필요가 있다. 이러한 액상의 침상체 재료는 키토산뿐만 아니라 산도 포함한다. 이로 인해, 오목판에서의 성형 후의 건조, 고화 및 오목판으로부터의 탈리에 의해 얻어진 침상체 형상을 갖는 고화물은 키토산뿐만 아니라 산도 포함한다.

알코올 침지를 행하지 않는 침상체는, 산을 포함하기 때문에 내수성이 부족하고, 그대로 침상체로서 사용하면, 수분과의 접촉 또는 물에의 침지에 의해 용해한다. 그 결과, 생체 내에서 용해한다.

한편, 알코올 침지를 행한 생체 적합성의 키토산은 물에 용해되기 어려운 성질을 갖는다. 이로 인해, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 피부를 파손하는 일없이 천자할 수 있고, 또한 천자 후에도 미세한 형상(㎛ 오더의 미세한 3차원 구조)을 유지하는 것이 가능한 생체에 저부하인 침상체를 제조할 수 있다.

또한, 제1 실시 형태에 있어서, 「침상체가 물에 대하여 난용성인」이란, 「침상체를 pH7.5 인산 완충 용액(PBS)에 24시간 침지한 후, 침상체의 적어도 돌기부가 감소한 부피가 침지 전의 부피의 5％ 이하인」 것을 의미한다. 한편, 상기 조건을 만족하지 않는 것은 「침상체가 물에 대하여 가용성인」 것을 의미한다.

(제2 실시 형태)

이어서, 제2 실시 형태에 따른 침상체의 제조 방법을 상세하게 설명한다.

침상체는, 상기 제1 실시 형태에서 설명한 바와 같이 침상의 돌기부와 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비한다. 적어도 돌기부는, 키토산을 포함하는 재료로 형성된다. 여기에 기재된 돌기부의 상세는, 상기 제1 실시 형태에서 설명한 것과 동일하다.

본 발명자들은, 키토산과 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 침상체를 제조하는데 있어서, 침상체를 형성 후에 내수화 처리를 행함으로써, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 피부에 파손하지 않고 천자할 수 있고, 또한 천자 후에서도 미세한 형상(㎛ 오더의 미세한 3차원 구조)을 유지하는 것이 가능한, 생체에 저부하인 침상체를 제조할 수 있음을 발견하였다.

구체적으로는, 키토산과 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 침상체의 고화물을 형성하고, 이 고화물을 알코올 수용액에 침지하는 공정 또는 키토산과 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 침상체의 고화물을 형성하고, 이 고화물을 아세틸화하는 공정에 의해 내수화 처리를 행한다. 이 내수화 처리에 의해, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 피부에 파손되지 않고 천자할 수 있고, 또한 천자 후에서도 미세한 형상을 유지하는 것이 가능한, 생체에 저부하인 침상체를 제조할 수 있음을 발견하였다.

제2 실시 형태에서 제조되는 침상체의 적어도 돌기부는, 물에 대하여 난용성이다. 여기서, 「침상체의 적어도 돌기부가 수용매에 난용성인」이란, 「침상체를 pH7.5 인산 완충 용액(PBS)에 24시간 침지한 후, 침상체의 적어도 돌기부의 감소한 부피가 침지 전의 부피의 5％ 이하인」 것을 의미한다.

제2 실시 형태에 따른 침상체의 제조 방법을 각 공정에 따라, 이하에 상세하게 설명한다.

<오목판의 준비 공정>

침상체의 형상을 결정하는 원판을 제작하고, 원판으로부터 원하는 침상체의 형상을 요철 반전시킨 오목판을 제작한다. 이 공정은, 상기 제1 실시 형태에서 설명한 것과 동일하다.

<액상의 침상체 재료의 제조 공정>

생체 적합성의 키토산을 산의 수용액에서 용해시켜 키토산 및 산을 포함하는 액상의 침상체 재료를 제조한다.

액상의 침상체 재료는, 오목판에 유입할 수 있을 정도의 유동성을 갖는 것이 바람직하고, 겔 상태일 수도 있다.

키토산은, 상기 제1 실시 형태에서 설명한 것과 동일한 것을 사용할 수 있다.

산은, 유기산 또는 무기산을 사용할 수 있다. 유기산의 예는 아세트산, 숙신산, 시트르산, 락트산, 타르타르산, 글리옥실산, 피루브산, 옥살로숙신산, 옥살로아세트산, 아세토아세트산, 레불린산, 옥소글루타르산을 포함한다. 무기산의 예는 염산, 황산을 포함한다.

키토산 및 산의 배합 비율은, 키토산이 양호하게 용해된 액상의 침상체 재료를 얻는 관점에서 산의 종류에 따라 적절히 조정된다.

<액상의 침상체 재료의 충전 공정>

오목판에 액상의 침상체 재료를 충전한다. 이 충전 방법은, 상기 제1 실시 형태에서 설명한 것과 동일하다.

<액상의 침상체 재료의 고화 공정>

오목판에 충전된 상기 액상의 침상체 재료를 건조하고, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물을 얻는다. 이 공정도, 상기 제1 실시 형태에서 설명한 것과 동일하다.

<침상체 재료를 포함하는 고화물의 탈리 공정>

침상체 재료를 포함하는 고화물을 상기 오목판으로부터 탈리한다. 탈리한 고화물은 최종 형상인 침상체 형상을 갖는다.

<침상체 재료를 포함하는 고화물의 내수화 처리 공정>

침상체 재료를 포함하는 고화물을 내수화 처리한다. 내수화 처리는, (1) 키토산과 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 침상체의 고화물을 형성하고, 이 고화물을 알코올 수용액에 침지하는 공정, 또는 (2) 키토산과 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 침상체의 고화물을 형성하고, 이 고화물을 아세틸화하는 공정 중 어느 하나에 의해 행할 수 있다.

<내수화 처리 (1)>

키토산과 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 형성한 침상체의 고화물을 알코올 수용액에 침지한다.

침상체의 고화물을 침지하는 알코올, 알코올 수용액의 농도, 온도 및 고화물을 알코올 수용액에 침지하는 시간은, 상기 제1 실시 형태에서 설명한 것과 동일하다.

고화물을 알코올 수용액에 침지할 때, 상기 제1 실시 형태에서 설명한 것과 동일하게 농도가 높은 알코올 수용액과 그것보다 농도가 낮은 알코올 수용액에 순차 침지하는 복수 단계로의 처리를 실시하는 것이 바람직하다.

생체 적합성의 키토산은 물에 용해되기 어려운 성질을 갖는다. 이로 인해, 키토산의 침상체를 오목판을 사용하여 제조하기 위해서는, 키토산을 산의 수용액에서 용해하여 액상의 침상체 재료를 미리 제조할 필요가 있다. 이러한 액상의 침상체 재료는, 키토산뿐만 아니라 산도 포함하기 때문에, 오목판에서의 성형 후의 건조, 고화 및 오목판으로부터의 탈리에 의해 얻어진 침상체 형상을 갖는 고화물은 키토산뿐만 아니라 산도 포함한다. 얻어진 고화물은, 산을 포함하기 때문에 내수성이 부족하고, 그대로 침상체로서 사용하면, 수분과의 접촉 또는 물에의 침지에 의해 용해한다. 그 결과, 생체 내에서 용해되어 생체에 대하여 고부하일 뿐만 아니라, 천자 후에 미세한 침상체의 형상을 유지할 수 없게 된다.

제2 실시 형태에 의하면, 전술한 고화물에 대하여 내수화 처리 (1)을 행함으로써, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 피부에 파손되지 않고 천자할 수 있고, 또한 천자 후에도 미세한 형상을 유지하는 것이 가능한, 생체에 저부하인 침상체를 제조할 수 있다.

<내수화 처리 (2)>

키토산과 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 형성한 침상체의 고화물을 아세틸화한다.

탈리한 침상체 재료를 포함하는 고화물을 아세틸화하는데 있어서는, 공지된 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 아세틸화는 침상체 재료를 포함하는 고화물을 무수 아세트산 및 메탄올의 혼합 용액에 침지하고, 그 후 혼합 용액으로부터 취출한 고화물을 메탄올에 침지하여 탈수를 행함으로써 아세틸화를 완료시킨다.

상기 혼합 용액은, 예를 들면 무수 아세트산 10 내지 20질량％ 및 메탄올 80 내지 90질량％를 혼합하여 제조하는 것이 바람직하다.

내수화 처리 (2)를 채용한 제2 실시 형태에 의하면, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 피부에 파손되지 않고 천자 할 수 있고, 또한 천자 후에도 미세한 형상을 유지하는 것이 가능한 생체에 저부하인 침상체를 제조할 수 있다.

즉, 생체 적합성의 키토산을 산의 수용액에서 용해하여 액상의 침상체 재료로 얻어진 침상체 형상을 갖는 고화물의 키토산을 아세틸화함으로써, 키토산의 수용성 요인이 되는 아미노기를 감소시킬 수 있다. 그 결과, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 피부에 파손되지 않고 천자할 수 있고, 또한 천자 후에도 미세한 형상(㎛ 오더의 미세한 3차원 구조)을 유지하는 것이 가능한 생체에 저부하인 침상체를 제조할 수 있다.

또한, 얻어진 아세틸화 키토산을 포함하는 침상체는, 아세틸화도가 35％ 이상 80％ 이하인 것이 바람직하다. 아세틸화 키토산의 아세틸화도를 35％ 미만으로 하면, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내는 적어도 돌기부를 갖는 침상체를 얻는 것이 곤란해질 우려가 있다. 한편, 아세틸화 키토산의 아세틸화도가 80％를 초과하면, 반응 시간이 길어져 생산성이 저하될 우려가 있다. 보다 바람직한 아세틸화도는 40％ 이상 70％ 이하이다.

(제3 실시 형태)

이어서, 제3 실시 형태에 따른 침상체의 제조 방법을 상세하게 설명한다.

키토산과 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 침상체를 제조하는데 있어서, 침상체를 형성 후에 내수화 처리를 행함으로써, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 피부에 파손되지 않고 천자할 수 있고, 또한 천자 후에도 미세한 형상(㎛ 오더의 미세한 3차원 구조)을 유지하는 것이 가능한 생체에 저부하인 침상체로 할 수 있다.

구체적으로는, 키토산과 제1 산 및 제2 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 침상체의 고화물을 형성하고, 이 고화물을 알코올 수용액에 침지하는 내수화 처리를 행함으로써, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 피부에 파손되지 않고 천자할 수 있고, 또한 천자 후에도 미세한 형상을 유지하는 것이 가능한 생체에 저부하인 침상체로 할 수 있다.

제3 실시 형태에서 제조되는 침상체의 적어도 돌기부는, 물에 대하여 난용성이다. 여기서, 「침상체의 적어도 돌기부가 수용매에 난용성인」이란, 「침상체를 pH7.4 인산 완충 생리 식염수(PBS)에 24시간 침지한 후, 침상체의 적어도 돌기부의 감소한 체적이 침지 전의 체적의 5％ 이하인」 것을 의미한다.

제3 실시 형태에 따른 침상체의 제조 방법을 각 공정에 따라, 이하에 상세하게 설명한다.

<오목판의 준비 공정>

<액상의 침상체 재료의 제조 공정>

생체 적합성의 키토산을 제1 산 및 제2 산의 수용액에서 용해시켜 키토산 및 그들의 산을 포함하는 액상의 침상체 재료를 제조한다. 액상의 침상체 재료는, 오목판에 유입할 수 있을 정도의 유동성을 갖는 것이 바람직하다. 단, 오목판에 유입할 수 있을 정도의 유동성을 갖는 것이라면, 조정한 침상체 재료는 액상이 아닌 겔상일 수도 있다.

제1 산은, 3가 이상의 카르복실산 또는 수 평균 분자량이 110 이상의 디카르복실산인 것이 바람직하다. 제2 산은, 모노카르복실산 또는 수 평균 분자량이 110 미만의 디카르복실산인 것이 바람직하다.

제1 산 및 제2 산은, 키토산을 수용액에 용해시키기 위하여 사용되고, 나아가, 후술하는 내수화 공정에 있어서 일부가 제거되어, 침상체에 내수성을 부여한다. 이때, 제1 산으로서 3가 이상의 카르복실산 또는 수 평균 분자량이 110 이상의 디카르복실산을 사용하고, 제2 산으로서 모노카르복실산 또는 수 평균 분자량이 110 미만의 디카르복실산을 사용함으로써 높은 내수성을 가질 뿐만 아니라, 피부에 천자 가능한 충분한 침 강도를 갖고, 피부에의 천자 후에 미세한 침상체의 형상을 유지할 수 있다. 게다가, 내수성을 높이는 공정에 필요로 하는 기간을 단축할 수 있다.

제1 산은 내수화 처리 후, 재료 중에 미량만 잔류함으로써, 침상체가 물에 불용이고, 또한 침상체에 충분한 강도를 부여하는 기능을 갖는 산에서 선택된다. 제1 산은, 생체 적합성을 고려하여, 시트르산, 타르타르산, 푸마르산, 말레산 중에서 선택하는 것이 바람직하다. 그 중에서도 제1 산으로서 시트르산을 사용하는 것이 바람직하다.

제2 산은 내수화 처리시, 재료에 제1 산만 사용한 경우보다 처리 시간을 단축하는 기능을 갖는 산에서 선택된다. 또한, 제2 산은 침상체 재료를 포함하는 고화물을 내수화 처리할 때, 침상체 재료를 포함하는 고화물로부터의 제1 산에 비하여 신속히 알코올 중에 용출하는 것이 바람직하다. 제2 산은, 생체 적합성을 고려하여 포름산, 아세트산, 프로피온산, 락트산, 옥살산, 말론산 중에서 선택하는 것이 바람직하다. 그 중에서도, 제2 산으로서 아세트산을 사용하는 것이 바람직하다.

가령, 산으로서 3가 이상의 카르복실산 또는 수 평균 분자량이 110 이상의 디카르복실산을 포함하는 제1 산만을 사용하여 침상체를 제조한 경우에는, 피부에 천자하기 충분한 침 강도를 구비하는 침상체를 얻을 수 있다. 그러나, 상기 제1 산이 키토산 내에 도입되기 쉽기 때문에, 후술하는 내수화 공정에서 침상체에 내수성을 부여하는데 필요로 하는 시간이 방대해진다.

한편, 산으로서 모노카르복실산 또는 수 평균 분자량이 110 미만의 디카르복실산을 포함하는 제2 산만을 사용하여 침상체를 제조한 경우에는, 후술하는 내수화 공정에서 침상체에 내수성을 부여하는데 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다. 그러나, 피부에 천자할 수 있는 충분한 침 강도를 구비하는 침상체를 얻을 수 없게 된다. 게다가, 침상체 자체에 휨이나 만곡이 생긴다.

본 발명자들은, 산으로서 제1 산과 제2 산을 병용함으로써, 충분한 침 강도를 구비하는 침상체를 짧은 시간에서 제조할 수 있음을 발견하였다.

키토산, 제1 산 및 제2 산의 배합 비율은, 키토산이 양호하게 용해된 액상의 침상체 재료를 얻는 관점 및 제2 산이 침상체 재료를 포함하는 고화물로부터 제1 산보다 신속히 알코올 중에 용출하는 관점으로부터 제1, 제2 산의 종류에 따라 적절히 조정된다.

<액상의 침상체 재료의 충전 공정>

<액상의 침상체 재료의 고화 공정>

<침상체 재료를 포함하는 고화물의 탈리 공정>

<침상체 재료를 포함하는 고화물의 내수화 처리 공정>

침상체 재료를 포함하는 고화물을 내수화 처리한다. 내수화 처리는, 키토산과 제1 산 및 제2 산을 포함하는 액상의 침상체 재료로 침상체의 고화물을 알코올 수용액에 침지시킴으로써 행해진다.

이상, 내수화 처리를 채용한 제3 실시 형태에 따르면, 물에 용해되기 어렵고, 높은 내수성을 나타내고, 충분한 침 강도를 갖고, 피부에 파손되지 않고 천자할 수 있고, 또한 천자 후에도 미세한 형상을 유지하는 것이 가능한 생체에 저부하인 침상체를 제조할 수 있다.

생체 적합성의 키토산은 물에 용해되기 어려운 성질을 갖는다. 이로 인해, 키토산의 침상체를, 오목판을 사용하여 제조하기 위해서는, 키토산을 산의 수용액에서 용해하여 액상의 침상체 재료를 미리 제조할 필요가 있다. 이러한 액상의 침상체 재료는, 키토산뿐만 아니라 산도 포함하기 때문에, 오목판에서의 성형 후의 건조, 고화 및 오목판으로부터의 탈리에 의해 얻어진 침상체 형상을 갖는 고화물은 키토산뿐만 아니라 산도 포함한다. 얻어진 고화물은, 산을 포함하기 때문에 내수성이 부족하고, 그대로 침상체로서 사용하면, 수분과의 접촉 또는 물에의 침지에 의해 용해한다. 그 결과, 생체 내에서 용해하여 생체에 대하여 고부하일뿐만 아니라, 천자 후에 미세한 침상체의 형상을 유지할 수 없게 된다.

제3 실시 형태는 산을 사용하여, 키토산을 수용액으로 하고, 침상체 고화물을 형성한 후에 알코올 침지에 의해 산을 제거하여, 내수성을 부여하고 있다. 이 공정에 있어서, 산으로서 침상체에 강도를 부여하는 제1 산, 내수화 처리 공정 시간을 단축하는 제2 산을 병용한다. 이에 의해, 내수성을 부여할뿐만 아니라, 피부에 천자하기에 충분한 침 강도를 갖고, 천자 후에 침이 미세한 침상체의 형상을 유지한 침상체를 단축한 시간에서 제조하는 것이 가능해진다.

이러한 제3 실시 형태에서 제조된 침상체는, 제1 산과 제2 산의 합계량이 침상체에 대하여 0.5질량％ 이상 40질량％ 이하의 범위로 포함하는 것이 바람직하다. 산의 합계량을 40질량％ 이하로 함으로써, 침상체에 내수성을 부여할 수 있다. 한편, 산의 합계량이 40질량％를 초과하는 경우에는, 침상체를 난용성으로 하는 것이 곤란해진다. 침상체를 내수성으로 하는 관점에서는, 침상체에 포함되는 산의 합계량은 적으면 적을수록 바람직하다. 그러나, 산의 합계량을 0.5질량％ 미만으로 하면, 침 강도가 작아져, 침이 꺾이거나, 구부러지거나 하여 피부에 천자하는 것이 곤란해진다.

이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 본 발명의 침상체 및 침상체의 제조 방법은 본 실시예로 한정되는 것은 아니다.

(실시예 1)

먼저, 실리콘 기판에 정밀 기계 가공을 실시하여 정사각추(높이: 150㎛, 저면: 60㎛×60㎛)이 1mm 간격으로 6열 6줄의 격자상으로 36개 배열한 돌기부를 형성하여 원판을 제작하였다. 계속해서, 상기 실리콘 기판으로부터 만들어진 원판에, 도금법에 의해 니켈막을 500㎛의 두께로 형성하였다. 그 후, 90℃로 가열한 농도 30질량％의 수산화칼륨 수용액으로 상기 원판을 용해, 제거하여 니켈을 포함하는 오목판(11)을 제작하였다(도 2의 (a) 도시).

또한, 키토산을 시트르산 수용액에 용해시켜 액상의 침상체 재료를 제조하였다. 이 액상의 침상체 재료(12)를 비이커(13)에 수용하였다(동일 도 2의 (a) 도시). 또한, 액상의 침상체 재료(12)는 물에 키토산 5질량％ 및 시트르산 10질량％의 비율로 용해한 조성을 갖고 있었다.

계속해서, 상기 오목판(11)에 상기 액상의 침상체 재료(12)를 스핀 코팅법을 사용하여 충전하였다(도 2의 (b) 도시). 계속해서, 액상의 침상체 재료(12)가 충전된 오목판(11)을 열원(14)을 사용하여 90℃, 10분간 가열하고, 침상체 재료(12)를 건조하고, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물(15)을 얻었다(도 2의 (c) 도시). 여기서, 열원(14)으로서, 핫 플레이트를 사용하였다

계속해서, 침상체 재료를 포함하는 고화물(15)을 오목판(11)으로부터 박리(탈리)하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물(15)을 취출하였다(도 2의 (d) 도시).

계속해서, 비이커(16) 내에 70질량％ 농도의 에탄올 수용액(17)을 수용하고, 이 에탄올 수용액(17)에 침상체 재료를 포함하는 고화물(15)을 18시간 침지하였다(도 3의 (e) 도시). 그 후, 에탄올 수용액(17)으로부터 고화물(15)을 취출하고, 자연 건조함으로써 도 3의 (f)에 나타내는 침상체(1)를 얻었다.

(실시예 2)

액상의 침상체 재료로서 물에 키토산 5질량％ 및 시트르산 10질량％의 비율로 용해한 조성의 것을 사용하고, 에탄올 수용액으로서 농도 90질량％의 것을 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

(실시예 3)

액상의 침상체 재료로서 물에 키토산 5질량％ 및 시트르산 10질량％의 비율로 용해한 조성의 것을 사용하고, 에탄올 수용액으로서 농도 70질량％의 것을 사용하여 9시간 침지한 뒤, 에탄올 수용액으로서 농도 50질량％의 것을 사용하여 9시간 침지한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

(실시예 4)

액상의 침상체 재료로서 물에 키토산 5질량％ 및 시트르산 10질량％의 비율로 용해한 조성의 것을 사용하고, 에탄올 수용액으로서 농도 70질량％로 40℃로 가온한 것을 사용하여 침지 시간을 8시간으로 한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

(실시예 5)

액상의 침상체 재료로서 물에 키토산 5질량％ 및 시트르산 6질량％의 비율로 용해한 조성의 것을 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

(실시예 6)

실시예 1과 동일한 액상의 침상체 재료(물에 키토산 5질량％ 및 시트르산 10질량％의 비율로 용해한 조성의 것)를 사용하고, 오목판으로부터의 탈리 후의 고화물을 에탄올 수용액에 침지하지 않은 것 이외에, 실시예 1과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

(비교예 1)

액상의 침상체 재료로서 물에 키토산 5질량％ 및 아세트산 3질량％의 비율로 용해한 조성의 것을 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

(비교예 2)

실시예 1과 동일한 액상의 침상체 재료(물에 키토산 5질량％ 및 아세트산 3질량％의 비율로 용해한 조성의 것)를 사용하고, 오목판으로부터의 탈리 후의 고화물을 에탄올 수용액에 침지하지 않은 것 이외에, 실시예 1과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

얻어진 실시예 1 내지 6 및 비교예 1, 2의 침상체에 대해서, 이하의 평가를 행하였다.

<침상체 중의 산의 양 측정>

침상체를 0.5mol％의 염산 수용액에 용해시켜, 얻어진 침상체 용해액을 이온크로마토그래피(DX-320, 니혼 다이오넥스사 제조)에 의해 정량 분석함으로써, 침상체 중의 산의 양을 구하였다. 그의 결과를 표 1에 병기하였다.

<확인 시험 1>

실시예 1 내지 6, 비교예 1, 2에서 얻어진 침상체에 대해서, pH7.5 인산 완충 용액(PBS)을 사용하여 불용화의 확인 시험을 행하였다. 즉, 침상체를 PBS에 24시간 침지하고, 침상체를 충분히 건조시킨 후, 침상체가 용해되고 있는지의 여부를 현미경으로 확인하였다.

<확인 시험 2>

실시예 1 내지 6, 비교예 1, 2에서 얻어진 침상체에 대해서, 인공 피부를 사용하여 불용화의 확인 시험을 행하였다. 즉, 침상체를 인공 피부에 천자하고, 3시간 정치하였다. 계속해서, 침상체를 인공 피부로부터 취출하고, 충분히 건조시킨 후, 침상체가 용해되고 있는지의 여부를 현미경으로 확인하였다.

<확인 시험 3>

실시예 1 내지 6, 비교예 1, 2에서 얻어진 침상체에 대해서, 육안에 의해 색미의 평가를 행하였다.

<확인 시험 4>

실시예 1 내지 6, 비교예 1, 2에서 얻어진 침상체에 대해서, 평면에 침상체를 정치하고, 평면으로부터 부상(浮上)까지의 침상체의 거리를 비접촉 형상 측정기(YP-21, 소니(SONY) 제조)를 사용하여 측정하였다. 이때, 부상의 거리가 1mm 이하인 것을 「휨 없음」으로 하고, 1mm보다 크고 2mm 미만의 것을 「일부 휨 있음」으로 하고, 부상의 거리가 2mm 이상인 것을 「크게 휘어짐」이라고 평가하였다. 부상의 거리가 2mm 이상의 「크게 휘어짐」은 천자 성능이 낮기 때문에 제품으로서 사용할 수 없는 것이다.

실시예 1 내지 6, 비교예 1, 2의 실험 조건을 하기 표 1에, 실험 결과를 하기 표 2에 각각 나타내었다.

상기 표 1, 표 2로부터 명백해진 바와 같이, 키토산과 산 수용액에 용해하여 성형한 후, 에탄올 수용액에 침지하여 제조한 실시예 1 내지 5의 침상체는, 확인 시험 1에 있어서 PBS에 용해되지 않는 것을 알 수 있었다. 이에 비해, 키토산과 산 수용액에 용해하여 성형한 후, 에탄올 수용액에 침지하지 않고 제조한 실시예 6의 침상체는 확인 시험 1에 있어서 PBS에 용해되고, 돌기부의 침상체 형상을 유지하지 않았다.

또한, 실시예 1 내지 5의 침상체에 대하여 pH7.5 인산 완충 용액(PBS)에 24시간 침지하기 전의 부피와 24시간 침지한 후의 부피를 측정하였다. 그 결과, 침지 후의 각 침상체의 감소 부피는, 모두 침지 전의 부피의 5％ 이하였다.

또한, 표 1로부터 명백해진 바와 같이 실시예 1 내지 5의 침상체는 확인 시험 2에 있어서 인공 피부에 용해되지 않는 것이 확인되었다. 이에 비해, 실시예 6의 침상체는 인공 피부에 용해되고, 돌기부의 침상체 형상을 유지하지 않았다. 단, 실시예 1 내지 6의 어느 쪽의 침상체도 피부의 천자는 양호하고, 천자시의 침상체는 충분한 강도를 갖는 것이었다.

또한, 실시예 1 내지 4의 침상체에 대해서는, 색미가 연한 백색 내지 백색이고, 청결감이 우수한 것이었다.

또한, 실시예 1 내지 5의 침상체에 대하여, 인공 피부에 천자하고 3시간 정치하기 전의 침상체의 부피와, 천자하고 3시간 정치한 후의 부피를 측정하였다. 그 결과, 천자하고 3시간 정치한 후의 각 침상체의 감소한 부피는, 모두 천자하고 정치하기 전의 부피의 5％ 이하였다.

이하의 실시예 7 내지 21에 있어서, 온도의 기재가 없는 에탄올 수용액의 온도는 20℃이다.

(실시예 7)

먼저, 실리콘 기판에 정밀 기계 가공을 실시하여 정사각추(높이: 150㎛, 저면: 60㎛×60㎛)가 1mm 간격으로 6열 6행의 격자상으로 36개 배열한 돌기부를 형성하여 원판을 제작하였다. 계속해서, 상기 실리콘 기판으로부터 만들어진 원판에, 도금법에 의해 니켈막을 500㎛의 두께로 형성하였다. 그 후, 90℃에서 가열한 농도 30질량％의 수산화칼륨 수용액으로 상기 원판을 용해하고, 제거하여 니켈을 포함하는 오목판(21)을 제작하였다.

또한, 키토산을 5질량％ 농도의 시트르산 수용액에 용해시켜 액상의 침상체 재료를 제조하였다. 이 액상의 침상체 재료(22)를 비이커(23)에 수용하였다(도 4의 (a) 도시). 또한, 액상의 침상체 재료(22)는 물에 대하여 키토산 5질량％ 및 시트르산 7질량％의 비율로 용해한 조성을 갖고 있었다.

계속해서, 상기 오목판(21)에 상기 액상의 침상체 재료(22)를 스핀 코팅법을 사용하여 충전하였다(도 4의 (b) 도시). 계속해서, 액상의 침상체 재료(22)가 충전된 오목판(21)을 열원(24)을 사용하여 90℃, 10분간 가열하고, 침상체 재료(22)를 건조, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 얻었다(도 4의 (c) 도시). 여기서, 열원(24)으로서, 핫 플레이트를 사용하였다.

계속해서, 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 오목판(21)으로부터 박리(탈리)하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 취출하였다(도 4의 (d) 도시).

계속해서, 비이커(26) 내에 90질량％ 농도의 에탄올 수용액(27)을 수용하고, 이 에탄올 수용액(27)에 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 18시간 침지하였다(도 5의 (e) 도시). 그 후, 에탄올 수용액(27)으로부터 고화물(25)을 취출하고, 자연 건조함으로써 도 5의 (f)에 나타내는 침상체(1)를 얻었다.

(실시예 8)

에탄올 수용액에 침지하는 공정에 있어서, 80질량％ 농도의 에탄올 수용액에 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 18시간 침지한 것 이외에, 실시예 7과 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 9)

에탄올 수용액에 침지하는 공정에 있어서, 70질량％ 농도의 에탄올 수용액에 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 16시간 침지한 것 이외에, 실시예 7과 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 10)

에탄올 수용액에 침지하는 공정에 있어서, 60질량％ 농도의 에탄올 수용액에 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 16시간 침지한 것 이외에, 실시예 7과 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 11)

에탄올 수용액에 침지하는 공정에 있어서, 50℃로 가온한 80질량％ 농도의 에탄올 수용액에 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 10시간 침지한 것 이외에, 실시예 7과 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 12)

에탄올 수용액에 침지하는 공정에 있어서, 80질량％ 농도의 에탄올 수용액에 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 5시간 침지하고, 추가로 60질량％ 농도의 에탄올 수용액에 침상체 재료를 포함하는 고화물(25)을 5시간 침지한 것 이외에, 실시예 7과 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(비교예 3)

실시예 7과 동일한 액상의 침상체 재료(물에 키토산 5질량％ 및 시트르산 7질량％의 비율로 용해한 조성의 것)를 사용하여, 오목판으로부터의 탈리 후의 고화물을 에탄올 수용액에 침지하지 않은 것 이외에, 실시예 7과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

(실시예 13)

먼저, 실리콘 기판에 정밀 기계 가공을 실시하여 정사각추(높이: 150㎛, 저면: 60㎛×60㎛)가 1mm 간격으로 6열 6행의 격자상으로 36개 배열한 돌기부를 형성하여 원판을 제작하였다. 계속해서, 상기 실리콘 기판으로부터 만들어진 원판에, 도금법에 의해 니켈막을 500㎛의 두께로 형성하였다. 그 후, 90℃로 가열한 농도 30질량％의 수산화칼륨 수용액으로 상기 원판을 용해하고, 제거하여 니켈을 포함하는 오목판을 제작하였다.

또한, 키토산을 5질량％ 농도의 아세트산 수용액에 용해시켜 액상의 침상체 재료를 제조하였다. 이 액상의 침상체 재료를 비이커에 수용하였다. 또한, 액상의 침상체 재료는 물에 키토산 5질량％ 및 아세트산 2.5질량％의 비율로 용해한 조성을 갖고 있었다.

계속해서, 상기 오목판에 상기 액상의 침상체 재료를 스핀 코팅법을 사용하여 충전하였다. 계속해서, 액상의 침상체 재료가 충전된 오목판을 열원을 사용하여 90℃, 10분간 가열하고, 침상체 재료를 건조, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물을 얻었다. 여기서, 열원으로서, 핫 플레이트를 사용하였다.

계속해서, 침상체 재료를 포함하는 고화물을 오목판으로부터 박리(탈리)하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물을 취출하였다.

계속해서, 비이커 내에 무수 아세트산 5g과 메탄올 40g의 혼합 용액을 수용하고, 이 혼합 용액에 침상체 재료를 포함하는 고화물을 2일간 침지하였다. 계속해서, 혼합 용액으로부터 고화물을 취출하고, 이 고화물을 비이커 내의 메탄올에 1일간 침지하였다. 그 후, 메탄올로부터 취출한 고화물을 자연 건조함으로써 침상체를 얻었다.

(실시예 14)

무수 아세트산 5g과 메탄올 40g의 혼합 용액에 침지하는 시간을 1일간으로 한 것 이외에, 실시예 13과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

(비교예 4)

침상체 재료를 포함하는 고화물을 무수 아세트산 5g과 메탄올 40g의 혼합 용액 및 메탄올에 침지하지 않은 것 이외에는, 실시예 13과 동일한 방법으로 침상체를 제조하였다.

얻어진 실시예 7 내지 14의 침상체에 대해서, pH7.5 인산 완충 용액(PBS)에 24시간 침지하기 전의 부피와 24시간 침지한 후의 부피를 측정하였다. 그 결과, 침지 후의 각 침상체의 감소 부피는, 모두 침지 전의 부피의 5％ 이하였다.

또한, 얻어진 실시예 7 내지 14 및 비교예 3, 4의 침상체에 대해서, 전술한 확인 시험 1, 2를 행하였다. 그의 결과를 하기 표 3에 나타내었다.

상기 표 3으로부터 명백해진 바와 같이, 실시예 7 내지 14의 침상체는 확인 시험 2에 있어서, 인공 피부에 용해되지 않는 것이 확인되었다. 이에 비해, 비교예 3의 침상체는 인공 피부에 용해되고, 돌기부의 침상체 형상을 유지할 수 없었다.

또한, 실시예 7 내지 12의 침상체에 대하여, 인공 피부에 천자하고 3시간 정치하기 전의 침상체의 부피와, 천자하고 3시간 정치한 후의 부피를 측정하였다. 그 결과, 천자하고 3시간 정치한 후의 각 침상체의 감소한 부피는, 모두 천자하고 정치하기 전의 부피의 5％ 이하였다.

또한, 실시예 13, 14 및 비교예 4에서 얻어진 침상체에 대해서, 콜로이드 적정에 의한 아세틸화도의 측정을 행하였다. 콜로이드 적정은, 지시약으로서 톨루이딘 블루 용액을 사용하여, 폴리비닐황산칼륨 용액으로 적정을 행하였다. 실시예 13, 14의 침상체는 아세틸화도가 각각 38％, 78％이고, 확인 시험 1에 있어서 PBS에 용해되지 않는 것을 알 수 있었다. 이에 비해, 키토산과 산 수용액에 용해하여 성형한 후, 무수 아세트산과 메탄올의 혼합 용액, 메탄올에 침지하지 않고 제조한 비교예 4의 침상체는 아세틸화도가 16％이고, 확인 시험 1에 있어서 PBS에 용해되고, 돌기부의 침상체 형상을 유지할 수 없었다.

(실시예 15)

먼저, 실리콘 기판에 정밀 기계 가공을 실시하여 정사각추(높이: 150㎛, 저면: 60㎛×60㎛)가 1mm 간격으로 6열 6행의 격자상으로 36개 배열한 돌기부를 형성하여 원판을 제작하였다. 계속해서, 상기 실리콘 기판으로부터 만들어진 원판에, 도금법에 의해 니켈막을 500㎛의 두께로 형성하였다. 그 후, 90℃에서 가열한 농도 30질량％의 수산화칼륨 수용액으로 상기 원판을 용해하고, 제거하여 니켈을 포함하는 오목판(31)을 제작하였다(도 6의 (a) 도시).

또한, 키토산을 시트르산 2.04질량％, 아세트산 1.27질량％의 산 혼합 수용액에 용해시켜 액상의 침상체 재료를 제조하였다. 이 액상의 침상체 재료(32)를 비이커(33)에 수용하였다(동일 도 6의 (a) 도시). 또한, 액상의 침상체 재료(32)는 물에 대하여 키토산 2.48질량％, 시트르산 1.99질량％ 및 아세트산 1.24질량％의 비율로 용해한 조성을 갖고 있었다.

계속해서, 상기 오목판(31)에 상기 액상의 침상체 재료(32)를 스핀 코팅법을 사용하여 충전하였다(도 6의 (b) 도시). 계속해서, 액상의 침상체 재료(32)가 충전된 오목판(31)을 예를 들면 금속을 포함하는 고열 전도성의 지지판(34) 상에 48시간 정치하고, 침상체 재료(32)를 자연 건조, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 얻었다(도 6의 (c) 도시).

계속해서, 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 오목판(31)으로부터 박리(탈리)하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 취출하였다(도 6의 (d) 도시).

계속해서, 비이커(36) 내에 70질량％ 농도의 에탄올 수용액(37)을 수용하고, 이 에탄올 수용액(37)에 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 16시간 침지하였다(도 7의 (e) 도시). 그 후, 에탄올 수용액(37)으로부터 고화물(35)을 취출하고, 자연 건조함으로써 도 7의 (f)에 나타내는 침상체(1)를 얻었다.

(실시예 16)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 2.05질량％, 아세트산 0.64질량％의 산 혼합 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.50질량％, 시트르산 2.00질량％ 및 아세트산 0.62질량％의 비율로 용해한 조성으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 17)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 2.31질량％, 아세트산 0.26질량％의 산 혼합 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.50질량％, 시트르산 2.25질량％ 및 아세트산 0.25질량％의 비율로 용해한 조성으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 18)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 2.05질량％, 포름산 0.64질량％의 산 혼합 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.50질량％, 시트르산 2.00질량％ 및 포름산 0.62질량％의 비율로 용해한 조성으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 19)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 2.31질량％, 포름산 0.26질량％의 산 혼합 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.50질량％, 시트르산 2.25질량％ 및 포름산 0.25질량％의 비율로 용해한 조성으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 20)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 2.05질량％, 아세트산 0.64질량％의 산 혼합 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.50질량％, 시트르산 2.00질량％ 및 아세트산 0.62질량％의 비율로 용해한 조성으로 하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 침지하는 시간을 8시간으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(실시예 21)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 2.05질량％, 포름산 0.64질량％의 산 혼합 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.50질량％, 시트르산 2.00질량％ 및 포름산 0.62질량％의 비율로 용해한 조성으로 하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 침지하는 시간을 8시간으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(비교예 5)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 3.18질량％ 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.48질량％, 시트르산 3.11질량％의 비율로 용해한 조성으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(비교예 6)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 3.18질량％ 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.48질량％, 시트르산 3.11질량％의 비율로 용해한 조성으로 하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 침지하는 시간을 96시간으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(비교예 7)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 3.18질량％ 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.48질량％, 시트르산 3.11질량％의 비율로 용해한 조성으로 하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 침지하는 시간을 120시간으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(비교예 8)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 아세트산 1.30질량％ 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.53질량％ 및 아세트산 1.27질량％의 비율로 용해한 조성으로 하고, 침상체 재료를 포함하는 고화물(35)을 침지하는 시간을 8시간으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

(비교예 9)

액상의 침상체 재료를 제조하는 공정에서 키토산을 시트르산 2.04질량％, 타르타르산 1.27질량％의 산 혼합 수용액에 용해시켜, 물에 대하여 키토산 2.48질량％, 시트르산 1.99질량％ 및 타르타르산 1.24질량％의 비율로 용해한 조성으로 하는 것 이외에, 실시예 15와 동일한 방법으로 침상체의 제작을 행하였다.

실시예 15 내지 21 및 비교예 5 내지 9에서 얻어진 침상체에 대해서, 이하의 확인 시험 5 내지 8을 행하였다.

<확인 실험 5>

실시예 15 내지 21 및 비교예 5 내지 9에서 얻어진 침상체에 대해서, 침 성형의 확인 실험을 행하였다. 즉, 침상체를 현미경으로 관찰하고, 침 및 기판에 있어서의 구부러짐, 비틀림, 수축, 파손의 유무를 확인하였다.

<확인 실험 6>

실시예 15 내지 21 및 비교예 5 내지 9에서 얻어진 침상체에 대해서, 침 및 기판의 변색 및 얼룩의 확인 실험을 행하였다. 즉, 침상체를 육안으로 관찰하고, 침 및 기판에 있어서의 변색 및 얼룩의 유무를 확인하였다.

<확인 실험 7>

실시예 15 내지 21 및 비교예 5 내지 9에서 얻어진 침상체에 대해서, 침 강도의 확인 실험을 행하였다. 즉, 침상체에 측면으로부터 침상체와 동등한 크기의 날을 사용하여 힘을 가하여, 구부러졌을 때의 힘을 측정하고, 7.0gw 이상의 값을 얻은 것을 합격으로 하였다. 한편, 7.0gw 미만의 것을 불합격으로 하였다.

<확인 실험 8>

실시예 15 내지 21 및 비교예 5 내지 9에서 얻어진 침상체에 대해서, 불용화의 확인 시험을 행하였다. 즉, 침상체를 순수 중에 30분간 침지한 후, 침상체를 순수 중에서 취출하고, 충분히 건조시킨 후, 침상체가 용해되고 있는지의 여부를 현미경에서 확인하였다. 이때, 용해되고 있는 모습을 확인할 수 없었던 것을 「불용」으로 하고, 복수개 있는 침의 1％ 이상이 용해된 것, 또는 침의 일부분이 용해된 것을 「일부 용해」로 하고, 침 형상이 소실된 것을 「용해」로 하였다.

실시예 15 내지 21 및 비교예 5 내지 9의 실험 조건을 하기 표 4에, 실험 결과를 하기 표 5에 각각 나타내었다.

또한, 실시예 15, 16, 17에서 얻어진 침상체에 대해서, 이하의 방법에 의해 산의 함유량을 구하였다.

침상체를 0.5％ HCl 수용액에 완전히 용해시키고, 추가로 1000배 희석한 용액을 이온 크로마토그래프에서 측정하여, 측정 결과를 1000배 함으로써 침상체 중의 제1, 제2 산을 정량하였다.

실시예 15의 침상체는, 침상체에 대하여 제1 산(시트르산)의 함유량은 25질량％이고, 제2 산의 함유량은 0.15질량％였다.

실시예 16의 침상체는, 침상체에 대하여 제1 산(시트르산)의 함유량은 26질량％이고, 제2 산의 함유량은 0.07질량％였다.

실시예 17의 침상체는, 침상체에 대하여 제1 산(시트르산)의 함유량은 31질량％이고, 제2 산의 함유량은 0.02질량％였다.

또한, 실시예 15 내지 17의 침상체에 대하여 pH7.4 인산 완충 생리 식염수(PBS)에 24시간 침지하기 전의 부피와 24시간 침지한 후의 부피를 측정하였다. 그 결과, 침지 후의 각 침상체의 감소 부피는, 침지 전의 부피의 5％ 이하였다.

상기 표 4, 표 5의 결과로부터 본 발명의 침상체(실시예 15 내지 21)는 충분히 내수성이 높고, 피부에 천자하기에 충분한 침 강도를 갖고, 천자 후에 미세한 침상체의 형상을 유지하고, 또한 내수성을 높이는 공정에 필요로 하는 시간을 16시간으로 할 수 있었다.

이에 비해, 제2 산을 포함하지 않는 침상체(비교예 5 내지 7, 9)는 내수성, 침 강도는 충분하지만, 내수성을 높이는 공정에 필요로 하는 시간이 방대한 것이 되었다. 또한, 비교예 9의 침상체에서는, 침상체가 만곡하고 있는 모습이 확인되었다.

한편, 제1 산을 포함하지 않는 침상체(비교예 8)는 침 강도를 충분한 것으로 할 수 없고, 기판의 수축에 의한 휨도 확인되었다.

이상 설명한 바와 같이 실시 형태에 따른 침상체는, 미세한 침상체를 필요로 하는 여러 분야에 이용 가능하다. 예를 들면, MEMS 디바이스, 광학 부재, 시료 지그, 창약, 의료 용도, 화장품, 미용 용도 등에 이용하는 침상체로서 응용을 기대할 수 있다.

Claims

침상의 돌기부와 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하는 침상체의 제조 방법으로서,
(a) 침상의 오목부를 구비한 오목판을 준비하는 공정과,
(b) 키토산 및 산을 포함하는 액상의 침상체 재료를 제조하는 공정과,
(c) 상기 오목판에 상기 액상의 침상체 재료를 충전하는 공정과,
(d) 상기 오목판에 충전된 상기 액상의 침상체 재료를 건조하고, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물을 얻는 공정과,
(e) 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물을 상기 오목판으로부터 탈리하는 공정과
(f) 탈리한 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물을 알코올 수용액에 침지하는 공정
을 포함하는 침상체의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 알코올은 에탄올, 메탄올 또는 프로판올로부터 선택되는 침상체의 제조 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 알코올 수용액의 농도는 50 내지 90질량％인 침상체의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 (f)의 공정이, 농도가 높은 알코올 수용액과 그것보다 농도가 낮은 알코올 수용액에 순차 침지하는 복수 단계의 공정인 침상체의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 키토산은 키토산, 키틴·키토산, 키틴·키토산 유도체, 글루코사민, 글루코사민 유도체로부터 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 재료를 포함하는 침상체의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 산은 아세트산, 숙신산, 시트르산, 락트산, 타르타르산, 글리옥실산, 피루브산, 옥살로숙신산, 옥살로아세트산, 아세토아세트산, 레불린산, 옥소글루타르산, 염산 또는 황산으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산인 침상체의 제조 방법.
침상의 돌기부와 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하는 침상체의 제조 방법으로서,
(a) 침상의 오목부를 구비한 오목판을 준비하는 공정과,
(b) 키토산 및 산을 포함하는 액상의 침상체 재료를 제조하는 공정과,
(c) 상기 오목판에 상기 액상의 침상체 재료를 충전하는 공정과,
(d) 상기 오목판에 충전된 상기 액상의 침상체 재료를 건조하고, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물을 얻는 공정과,
(e) 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물을 상기 오목판으로부터 탈리하는 공정과
(f) 탈리한 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물 중의 키토산을 아세틸화하는 공정
을 포함하는 침상체의 제조 방법.
제7항에 있어서, 상기 키토산은 키토산, 키틴·키토산, 키틴·키토산 유도체, 글루코사민, 글루코사민 유도체로부터 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 재료를 포함하는 침상체의 제조 방법.
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 산은 아세트산, 숙신산, 시트르산, 락트산, 타르타르산, 글리옥실산, 피루브산, 옥살로숙신산, 옥살로아세트산, 아세토아세트산, 레불린산, 옥소글루타르산, 염산 또는 황산으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산인 침상체의 제조 방법.
침상의 돌기부와 이 돌기부를 지지하는 지지 기판을 구비하는 침상체의 제조 방법으로서,
(a) 침상의 오목부를 구비한 오목판을 준비하는 공정과,
(b) 키토산 및 제1 산, 제2 산을 포함하는 액상의 침상체 재료를 제조하는 공정과,
(c) 상기 오목판에 상기 액상의 침상체 재료를 충전하는 공정과,
(d) 상기 오목판에 충전된 상기 액상의 침상체 재료를 건조하고, 고화하여 침상체 재료를 포함하는 고화물을 얻는 공정과,
(e) 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물을 상기 오목판으로부터 탈리하는 공정과,
(f) 탈리한 상기 침상체 재료를 포함하는 고화물을 알코올 수용액에 침지하는 공정
을 포함하며,
상기 제1 산이 3가 이상의 카르복실산, 또는 수 평균 분자량이 110 이상의 디카르복실산이고,
상기 제2 산이 모노카르복실산, 또는 수 평균 분자량이 110 미만의 디카르복실산인 침상체의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 제1 산이 시트르산, 타르타르산, 푸마르산, 말레산으로부터 선택되고, 상기 제2 산이 포름산, 아세트산, 프로피온산, 락트산, 옥살산, 말론산으로부터 선택되는 침상체의 제조 방법.
제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 제1 산이 시트르산인 침상체의 제조 방법.
제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 제2 산이 아세트산인 침상체의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 제1 산과 상기 제2 산의 합계량이 침상체에 대하여 0.5질량％ 이상 40질량％ 이하인 침상체의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 알코올이 메탄올, 에탄올 또는 프로판올로부터 선택되는 침상체의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 알코올 수용액의 농도는 50질량％ 이상 90질량％ 이하인 침상체의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 키토산은 키토산, 키틴·키토산, 키틴·키토산 유도체, 글루코사민, 글루코사민 유도체로부터 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 재료인 침상체의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 돌기부와 상기 지지 기판은 동일한 조성의 재료로 이루어지는 침상체의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 돌기부는 높이 10㎛ 이상 1000㎛ 이하의 침 형상을 갖는 침상체의 제조 방법.
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