KR101834069B1 - 광학 필름 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 과제는, 표면 경도가 높고 내찰상성이 우수하며 헤이즈가 낮은 광학 필름을 제공하는 것이다. 또한, 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 광학 필름은, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 또한 상기 하드 코팅층이, 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하는 것을 특징으로 한다.

Description

광학 필름 및 그 제조 방법{OPTICAL FILM, AND METHOD FOR PRODUCING SAME}
본 발명은, 표면 경도가 높고 내찰상성이 우수하며 헤이즈가 낮은 광학 필름, 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 표시 장치에 있어서, 대형화, 박막화나 플렉시블화 등의 요구가 강하여, 편광판을 포함하는 각 부재의 고기능화가 진행되고 있다.
유기 일렉트로루미네센스 소자(이하, 유기 EL 소자라고도 함)를 탑재하는 화상 표시 장치에 조합되는 편광판은, 일반적으로 두개의 보호 필름 사이에 편광자가 배치된 구성을 갖고, 편광판에 반사 방지 기능을 부가하기 위해서, 유기 EL 소자측에 위상차를 부여한 보호 필름이 사용되고 있다. 또한, 액정 표시 장치(LCD)는, 액정 셀과, 그것을 끼움 지지하는 한 쌍의 편광판을 갖고 있다. 이들 표시 장치에 사용되고 있는 편광판 중, 특히 시인측의 편광판은, 표면의 흠집 발생을 방지하기 위해서, 높은 내찰상성을 가질 것이 요구되고 있다.
기재 필름으로서, 종래 셀룰로오스 아세테이트 필름이 널리 사용되고 있었다. 그러나, 이 필름은 흡습성이나 투습성을 갖는다는 결점을 갖고 있다. 시클로올레핀계 수지는, 이러한 결점이 적고, 내수성, 내열성, 투명성이나 치수 안정성 등이 양호하기 때문에, 보호 필름용의 우수한 열가소성 수지로서 주목받고 있다. 그러나, 시클로올레핀계 수지를 광학 필름으로서 사용할 경우, 표면 경도가 충분하지 않아 흠집이 생기기 쉽다는 문제가 있었다.
이 대책으로서, 시인측의 편광판에 사용되는 광학 필름의 표면 경도를 높이는 것이 검토되고 있다. 광학 필름의 표면 경도를 높이기 위해서, 기재 필름 상에 하드 코팅층을 적층하는 기술로서, 예를 들어 특허문헌 1에는, 시클로올레핀 필름 상의 하드 코팅층에, 미립자를 함유시킴으로써, 내블로킹성이나 내찰상성을 향상시키는 기술이 개시되어 있다. 또한, 특허문헌 2에는, 하드 코팅층의 도포 전에 특정한 조건을 만족하는 용제와의 접촉 공정을 거쳐서 시클로올레핀계 고분자 필름을 제조하는 제조 방법이 개시되어 있다.
그러나, 이들 기술은, 시클로올레핀계 수지를 포함하는 기재 상에 하드 코팅층을 형성한 광학 필름의 표면 경도를 높여 내찰상성을 개선하기에는 충분하지 않았다.
일본 특허 공개 제2013-186236호 공보 일본 특허 공개 제2014-70211호 공보
본 발명은, 상기 문제·상황을 감안하여 이루어진 것이며, 그 해결 과제는, 표면 경도가 높고 내찰상성이 우수하며 헤이즈가 낮은 광학 필름을 제공하는 것이다. 또한, 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해, 상기 문제의 원인 등에 대하여 검토하는 과정에 있어서, 하드 코팅층에 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유시키고, 또한 기재 필름의 시클로올레핀계 수지에 특정량의 저분자 화합물을 함유시킴으로써, 광학 필름의 표면 경도를 높여 내찰상성을 크게 향상할 수 있음을 알아내어 본 발명에 이르렀다.
즉, 본 발명에 따른 상기 과제는, 이하의 수단에 의해 해결된다.
1. 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 또한 상기 하드 코팅층이, 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
2. 상기 수지층에 포함되는 상기 저분자량 화합물이, 자외선 흡수제인 것을 특징으로 하는 제1항에 기재된 광학 필름.
3. 상기 하드 코팅층 중에 포함되는, 상기 실리카 입자의 상기 자외선 경화 수지에 대한 질량비의 값(실리카 입자/자외선 경화 수지)이 10/90 내지 50/50의 범위 내인 것을 특징으로 하는 제1항에 기재된 광학 필름.
4. 상기 실리카 입자의 평균 1차 입경이, 200㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 제1항에 기재된 광학 필름.
5. 상기 하드 코팅층의 두께가, 2 내지 15㎛의 범위 내인 것을 특징으로 하는 제1항에 기재된 광학 필름.
6. 23℃·55％ RH의 환경 하, 광파장 550㎚에 있어서의 면 내 방향의 리타데이션 값(Ro(550))이, 하기 식 (1)을 만족하는 것을 특징으로 하는 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름.
식 (1): 100㎚≤Ro(550)≤170㎚
7. 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름을 제조하는 제조 방법이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 상기 하드 코팅층이 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하며, 또한 상기 자외선 경화 수지와 상기 실리카 입자를 함유하는 도포액의 용제로서 알코올, 에스테르, 에테르 또는 케톤 중 적어도 2종의 용제를 사용하여 조제한 도포액을 도포하는 공정을 거쳐서 하드 코팅층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법.
8. 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름을 제조하는 제조 방법이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 상기 하드 코팅층이 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하며, 또한 상기 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지를 용해한 용액을 기체(基體) 상에 유연하는 공정을 거쳐서 제막하여, 상기 수지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법.
9. 상기 제막 후에 권취된 필름 원단을 권출하여, 경사 방향으로 연신하는 공정을 거쳐, 상기 수지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 제8항에 기재된 광학 필름의 제조 방법.
본 발명의 상기 수단에 의해, 표면 경도가 높고 내찰상성이 우수하며 헤이즈가 낮은 광학 필름을 제공할 수 있다. 또한, 그 제조 방법을 제공할 수 있다.
본 발명의 효과의 발현 기구 내지 작용 기구에 대해서는, 명확하게 되어 있지는 않지만, 이하와 같이 추정하고 있다.
기재 필름의 시클로올레핀계 수지에 특정량의 저분자 화합물을 함유시킴으로써 표면 경도를 크게 증가할 수 있는 것은, 시클로올레핀계 수지에 저분자량 화합물을 첨가함으로써, 시클로올레핀계 수지의 자유 체적을 이 첨가제가 잘 상용하여 매립할 수 있어, 수지층의 밀도가 증가하기 때문이라고 생각된다. 또한, 하드 코팅층에 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유시킴으로써, 표면 경도가 높고 내찰상성이 우수한 광학 필름을 실현할 수 있는 것으로 추정하고 있다.
도 1은 광학 필름의 구성의 일례를 도시하는 도면.
도 2a는 경사 연신 가능한 텐터의 일례를 도시하는 도면.
도 2b는 경사 연신 가능한 텐터의 다른 일례를 도시하는 도면.
도 3은 액정 표시 장치의 구성의 일례를 도시하는 도면.
본 발명의 광학 필름은, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 또한 상기 하드 코팅층이, 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하는 것을 특징으로 한다. 이 특징은, 제1항 내지 제9항까지의 청구항에 관한 발명에 공통되는 기술적 특징이다.
본 발명의 실시 형태로서는, 본 발명의 효과 발현의 관점에서, 상기 수지층에 포함되는 상기 저분자량 화합물이, 자외선 흡수제인 것이 바람직하다. 또한, 하드 코팅층 중에 포함되는, 상기 실리카 입자의 상기 자외선 경화 수지에 대한 질량비의 값(실리카 입자/자외선 경화 수지)이 10/90 내지 50/50의 범위 내인 것이, 높은 표면 경도와 낮은 헤이즈를 양립시키는 데 있어서 바람직하다. 또한, 상기 실리카 입자의 평균 1차 입경이, 200㎚ 이하인 것이 헤이즈와 내찰상성을 양립시키는 관점에서 바람직하다.
또한 상기 하드 코팅층의 두께가, 2 내지 15㎛의 범위 내인 것이 편광판을 박막화하는 경향인 점에서 바람직하다.
또한, 23℃·55％ RH의 환경 하, 광파장 550㎚에 있어서의 면 내 방향의 리타데이션 값(Ro(550))이 상기 식 (1)을 만족하는 것이, 유기 일렉트로루미네센스 소자의 반사 방지 용도의 보호 필름으로서 사용하기 위해 바람직하다.
또한 본 발명의 광학 필름을 제조하는 광학 필름의 제조 방법으로서는, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름을 제조하는 제조 방법이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 상기 하드 코팅층이 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하며, 또한 상기 자외선 경화 수지와 상기 실리카 입자를 함유하는 도포액의 용제로서 알코올, 에스테르, 에테르 또는 케톤 중 적어도 2종의 용제를 사용하여 조제한 도포액을 도포하는 공정을 거쳐서 하드 코팅층을 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지를 용해한 용액을 기체 상에 유연하는 공정을 거쳐서 제막하고, 상기 수지층을 형성하는 제조 방법인 것이 바람직하다. 또한, 제막 후에 권취된 필름 원단을 권출하여, 경사 방향으로 연신하는 공정을 거쳐, 수지층을 형성하는 제조 방법인 것이 바람직하다.
이하, 본 발명과 그 구성 요소, 및 본 발명을 실시하기 위한 형태·양태에 대하여 상세한 설명을 한다. 또한, 본원에 있어서, 「내지」는, 그 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 의미로 사용한다.
《광학 필름의 개요》
본 발명의 광학 필름은, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 또한 상기 하드 코팅층이, 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하는 것을 특징으로 한다.
도 1은 본 발명의 광학 필름의 일례이다. 본 발명의 광학 필름(1)은, 수지층(2)을 기재 필름으로 하고, 수지층(2) 상에 하드 코팅층(3)을 갖고 있다.
광학 필름(1)의 두께는, 10 내지 100㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 15 내지 50㎛의 범위 내이다. 또한, 하드 코팅층의 두께는 2 내지 15㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 2 내지 8㎛의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.
본 발명자는, 시클로올레핀계 수지에, 저분자량 화합물을 함유시킴으로써, 시클로올레핀 필름의 표면 경도가 증가하는 현상을 알아냈다. 이러한 현상은, 셀룰로오스에스테르계 수지에서는 볼 수 없는 것으로, 시클로올레핀계 수지의 특징이다. 이와 같이, 표면 경도가 증가하는 현상은, 명확하지는 않지만 수지의 자유 체적을 이들 첨가제가 잘 상용하여 매립함으로써 기재 밀도가 증가함에 따른 것으로 추정된다. 이 때문에 하드 코팅층을 갖는 본 발명의 광학 필름의 내찰상성이 개선되는 것이라 추정된다.
《저분자량 화합물》
본 발명의 광학 필름은, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고 있다.
시클로올레핀계 수지에 첨가하는 저분자량 화합물의 중량 평균 분자량 Mw가 100 미만이면 표면 경도를 높일 수 없다. 또한, 중량 평균 분자량 Mw 10000을 초과하는 경우, 헤이즈가 높아져 버린다. 바람직하게는 저분자량 화합물의 중량 평균 분자량 Mw가 300 내지 2500의 범위 내이다. 또한, 본 발명에 있어서, 저분자량 화합물이 중합체가 아닐 경우, 중량 평균 분자량은 저분자량 화합물의 분자량을 나타낸다.
이들 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1질량％ 이상 첨가함으로써 시클로올레핀계 수지의 표면 경도를 증가시킬 수 있다. 첨가량이 5.0질량％를 넘어도, 표면 경도는 저하되고, 또한 헤이즈도 상승하므로 바람직하지 않다. 바람직하게는, 저분자량 화합물을 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.5 내지 3.0질량％의 범위 내에서 첨가하는 것이다.
중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물에 특별히 제한은 없지만, 자외선 흡수제, 폴리에스테르계 화합물, 및 푸라노오스 구조 또는 피라노오스 구조를 갖는 화합물의 군에서 선택되는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 저분자량 화합물이 자외선 흡수제인 것이다.
<자외선 흡수제>
본 발명에 바람직하게 사용되는 자외선 흡수제의 구체예로서는, 예를 들어 옥시벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 살리실산 에스테르계 화합물, 벤조페논계 화합물, 시아노아크릴레이트계 화합물, 트리아진계 화합물 및 니켈 착염계 화합물 등을 들 수 있고, 특히 이것들에 한정되는 것은 아니며, 이 이외의 자외선 흡수제도 사용된다. 이들 중에서는 벤조트리아졸계 화합물이 바람직하다.
벤조트리아졸계 자외선 흡수제로서는 하기 화학식 (1)로 표시되는 화합물을 사용할 수 있다.
Figure 112016040345647-pat00001
식 중, R1, R2, R3, R4 및 R5는 동일해도 되고 상이해도 되며, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 히드록시기, 알킬기, 알케닐기, 아릴기, 알콕시기, 아실옥시기, 아릴옥시기, 알킬티오기, 아릴티오기, 모노 또는 디알킬아미노기, 아실아미노기 또는 5 내지 6원의 복소환기를 나타내고, R4와 R5는 폐환하여 5 내지 6원의 탄소 환을 형성해도 된다.
이하에 화학식 (1)로 표시되는 벤조트리아졸계 화합물의 자외선 흡수제의 구체예를 들지만, 본 발명은 이것들에 한정되지 않는다.
2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3",4",5",6"-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2-메틸렌비스(4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀), 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 시판품으로는, BASF 재팬사 제조의 티누빈 928, 티누빈 109 및 티누빈 171 등을 들 수 있다.
또한 본 발명에 따른 자외선 흡수제 중 하나인 벤조페논계 자외선 흡수제로서는 하기 화학식 (2)로 표시되는 화합물을 사용할 수 있다.
Figure 112016040345647-pat00002
식 중, Y는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 및 페닐기를 나타내고, 이들 알킬기, 알케닐기 및 페닐기는 치환기를 갖고 있어도 된다. A는 수소 원자, 알킬기, 알케닐기, 페닐기, 시클로알킬기, 알킬카르보닐기, 알킬술포닐기 또는 -CO(NH)n -1-D기를 나타내고, D는 알킬기, 알케닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. m 및 n은 1 또는 2를 나타낸다.
상기에 있어서, 알킬기로서는 예를 들어, 탄소수 24까지의 직쇄 또는 분지의 지방족기를 나타내고, 알콕시기로서는 예를 들어, 탄소수 18까지의 알콕시기이고, 알케닐기로서는 예를 들어, 탄소수 16까지의 알케닐기이며 예를 들어 알릴기, 2-부테닐기 등을 나타낸다. 또한, 알킬기, 알케닐기, 페닐기로의 치환분으로서는 할로겐 원자, 예를 들어 클로르, 브롬, 불소 원자 등, 히드록시기, 페닐기(이 페닐기에는 알킬기 또는 할로겐 원자 등을 치환하고 있어도 됨) 등을 들 수 있다.
이하에 화학식 (2)로 표시되는 벤조페논계 화합물의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.
2,4-디히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-히드록시-5-벤조일페닐메탄)
본 발명에서는, 특히 분자 내에 3개 이상의 방향족환(예를 들어, 벤젠환 등) 또는 시클로알킬환(예를 들어, 시클로헥산환 등)을 갖는 자외선 흡수제인 것이 바람직하다.
트리아진계 자외선 흡수제로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-(2-히드록시-4-프로폭시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-(2-히드록시-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-헥실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-벤질옥시페닐)-1,3,5-트리아진, [2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-(헥실)옥시페놀](티누빈 1577FF, BASF 재팬사 제조), [2-[4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-(옥틸옥시)페놀](CYASORB UV-1164, 사이텍인더스트리즈 제조), 티누빈 405(BASF 재팬사 제조) 등을 들 수 있다.
<폴리에스테르계 화합물>
본 발명에 사용되는 폴리에스테르계 화합물로서는, 적어도 1종의 벤젠모노카르복실산 및 적어도 1종의 탄소수 2 내지 12의 알킬렌글리콜과의 축합 중합으로 얻은 폴리에스테르계 화합물인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 프탈산, 아디프산, 적어도 1종의 벤젠모노카르복실산 및, 적어도 1종의 탄소수 2 내지 12의 알킬렌글리콜과의 축합 중합으로 얻은 폴리에스테르계 화합물이다.
폴리에스테르계 화합물에 있어서의 벤젠모노카르복실산 성분으로서는, 예를 들어 벤조산, 파라tert-부틸벤조산, 오르토톨루일산, 메타톨루일산, 파라톨루일산, 디메틸벤조산, 에틸벤조산, 노르말프로필벤조산, 아미노벤조산, 아세톡시벤조산 등이 있고, 이것들은 각각 1종 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다. 벤조산인 것이 가장 바람직하다.
탄소수 2 내지 12의 알킬렌글리콜 성분으로서는, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 트리메틸올에탄, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,2-프로판디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올(네오펜틸글리콜), 2,2-디에틸-1,3-프로판디올(3,3-디메틸올펜탄), 2-n-부틸-2-에틸-1,3프로판디올(3,3-디메틸올헵탄), 3-메틸-1,5-펜탄디올1,6-헥산디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 1,10-데칸디올, 1,12-도데칸디올 등이 있고, 이들 글리콜은, 1종 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용된다. 특히 1,2-프로필렌글리콜이 바람직하다.
이들 폴리에스테르계 화합물은, 최종적인 화합물의 구조로서 아디프산 잔기 및 프탈산 잔기를 갖고 있는 것이 바람직하다. 이러한 폴리에스테르계 화합물을 제조할 때에는, 디카르복실산의 산 무수물 또는 에스테르화물로서 반응시켜도 된다. 이러한 폴리에스테르계 화합물은, 일본 특허 공개 제2008-69225호 공보, 일본 특허 공개 제2008-88292호 공보 및 일본 특허 공개 제2008-115221호 공보 등을 참고로 하여 합성할 수 있다.
<푸라노오스 구조 또는 피라노오스 구조를 갖는 화합물>
본 발명에 따른 푸라노오스 구조 또는 피라노오스 구조를 갖는 화합물로서는, 푸라노오스 구조 또는 피라노오스 구조를 적어도 하나 갖고, 당해 푸라노오스 구조 또는 피라노오스 구조가 1 내지 12개 결합한 화합물 중의 히드록시기의 전부 또는 일부를 에스테르화한 당에스테르를 포함한다. 바람직하게는 히드록시기의 전부를 에스테르화한 당에스테르이다.
바람직한 「푸라노오스 구조 또는 피라노오스 구조를 적어도 하나 갖고, 당해 푸라노오스 구조 또는 피라노오스 구조가 1 내지 12개 결합한 화합물」의 예로서는, 예를 들어 이하와 같은 것을 들 수 있지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
글루코오스, 갈락토오스, 만노오스, 프룩토오스, 크실로오스, 아라비노오스, 락토오스, 수크로오스, 셀로비오스, 셀로트리오스, 말토트리오스, 라피노오스 등을 들 수 있지만, 특히 푸라노오스 구조와 피라노오스 구조 양쪽을 갖는 것이 바람직하다. 예로서는 수크로오스를 들 수 있다.
《시클로올레핀계 수지》
본 발명의 광학 필름은, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층을 갖는다. 본 발명에 따른 시클로올레핀계 수지로서는, 다음과 같은 구조를 갖는 시클로올레핀 단량체의 (공)중합체를 들 수 있다.
Figure 112016040345647-pat00003
(식 중, R1 내지 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄화수소기, 할로겐 원자, 히드록시기, 에스테르기, 카르복시기, 알콕시기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 실릴기, 또는 극성기(즉, 할로겐 원자, 히드록시기, 에스테르기, 알콕시기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 또는 실릴기)로 치환된 탄화수소기임. 단, R1 내지 R4는, 2개 이상이 서로 결합하여, 불포화 결합, 단환 또는 다환을 형성하고 있어도 되고, 이 단환 또는 다환은, 이중 결합을 갖고 있어도 되며, 방향환을 형성해도 됨. R1과 R2, 또는 R3과 R4가, 알킬리덴기를 형성하고 있어도 됨. p, m은 0 이상의 정수임)
상기 화학식 (3) 중, R1 및 R3이 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10, 더욱 바람직하게는 1 내지 4, 특히 바람직하게는 1 내지 2의 탄화수소기를 나타낸다. R2 및 R4가 수소 원자 또는 1가의 유기기이고, R2 및 R4 중 적어도 하나는 수소 원자 또는 탄화수소기 이외의 극성을 갖는 극성기를 나타낸다. m은 0 내지 3의 정수, p는 0 내지 3의 정수이며, 보다 바람직하게는 m+p=0 내지 4, 더욱 바람직하게는 0 내지 2, 특히 바람직하게는 m=1, p=0인 것이다. m=1, p=0인 특정 단량체는, 얻어지는 시클로올레핀계 수지의 유리 전이 온도가 높고 또한 기계적 강도도 우수하게 되는 점에서 바람직하다.
상기 특정 단량체의 극성기로서는, 카르복시기, 히드록시기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시카르보닐기, 아미노기, 아미드기, 시아노기 등을 들 수 있고, 이들 극성기는 메틸렌기 등의 연결기를 통하여 결합되어 있어도 된다. 또한, 카르보닐기,에테르기, 실릴에테르기, 티오에테르기, 이미노기 등 극성을 갖는 2가의 유기기가 연결기로 되어 결합되어 있는 탄화수소기 등도 극성기로서 들 수 있다. 이들 중에서는, 카르복시기, 히드록시기, 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기가 바람직하고, 특히 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기가 바람직하다.
또한, R2 및 R4 중 적어도 하나가 식 -(CH2)nCOOR로 표시되는 극성기인 단량체는, 얻어지는 시클로올레핀계 수지가 높은 유리 전이 온도와 낮은 흡습성 및 각종 재료와의 우수한 밀착성을 갖게 되는 점에서 바람직하다. 상기 특정한 극성기에 관한 식에 있어서, R은 탄소 원자수 1 내지 12, 더욱 바람직하게는 1 내지 4, 특히 바람직하게는 1 내지 2의 탄화수소기, 바람직하게는 알킬기이다.
공중합성 단량체의 구체예로서는, 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로헵텐, 시클로옥텐, 디시클로펜타디엔, 노르보르넨 등의 시클로올레핀을 들 수 있다.
시클로올레핀의 탄소수로서는, 4 내지 20이 바람직하고, 더욱 바람직한 것은 5 내지 12이다.
본 발명에 있어서, 시클로올레핀계 수지는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.
본 발명에 따른 시클로올레핀계 수지의 바람직한 분자량은, 고유 점도 [η]inh로 0.2 내지 5dL/g, 더욱 바람직하게는 0.3 내지 3dL/g, 특히 바람직하게는 0.4 내지 1.5dL/g이며, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(Mn)은 8000 내지 100000, 더욱 바람직하게는 10000 내지 80000, 특히 바람직하게는 12000 내지 50000이며, 중량 평균 분자량(Mw)은 20000 내지 300000, 더욱 바람직하게는 30000 내지 250000, 특히 바람직하게는 40000 내지 200000의 범위인 것이 적합하다.
고유 점도 [η]inh, 수 평균 분자량 및 중량 평균 분자량이 상기 범위에 있음으로써, 시클로올레핀계 수지의 내열성, 내수성, 내약품성, 기계적 특성과, 시클로올레핀 필름으로서의 성형 가공성이 양호해진다.
본 발명에 따른 시클로올레핀계 수지의 유리 전이 온도(Tg)로서는, 통상 110℃ 이상, 바람직하게는 110 내지 350℃, 더욱 바람직하게는 120 내지 250℃, 특히 바람직하게는 120 내지 220℃이다. Tg가 110℃ 이상인 경우에는, 고온 조건 하에서의 사용, 또는 코팅, 인쇄 등의 2차 가공에 의해 변형되는 일이 없다. 한편, Tg가 350℃ 이하이면, 성형 가공이 용이해지고, 또한 성형 가공 시의 열에 의해 수지가 열화되는 일이 없다.
광학 필름은, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층을 기재 필름으로서 갖는다. 수지층 중에 50질량％ 이상이 시클로올레핀계 수지인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80 내지 99질량％의 범위 내이다.
시클로올레핀계 수지에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 예를 들어 일본 특허 공개 평9-221577호 공보, 일본 특허 공개 평10-287732호 공보에 기재되어 있는 특정한 탄화수소계 수지, 또는, 공지된 열가소성 수지, 열가소성 엘라스토머, 고무질 중합체, 고무 입자 등의 첨가제를 포함해도 된다.
이상 설명한 시클로올레핀계 수지는, 시판품을 바람직하게 사용할 수 있고, 시판품의 예로서는, JSR(주)에서 아톤(ARTON) G, 아톤 F, 아톤 R 및 아톤 RX라는 상품명으로 시판되고 있고, 또한 닛본제온(주)에서 제오노아(ZEONOR) ZF14, ZF16, 제오넥스(ZEONEX) 250 또는 제오넥스 280이라는 상품명으로 시판되고 있으며, 이것들을 사용할 수 있다.
<미립자>
기재 필름인 수지층에, 표면의 미끄럼성 등을 부여하기 위해서, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 미립자(매트제)를 함유시킬 수도 있다. 미립자는, 무기 화합물로 구성되어도 되고, 수지로 구성되어도 된다.
무기 화합물의 예에는, 이산화 규소, 이산화 티타늄, 산화 알루미늄, 산화 지르코늄, 탄산 칼슘, 탈크, 클레이, 소성 카올린, 소성 규산 칼슘, 수화 규산 칼슘, 규산 알루미늄, 규산 마그네슘 및 인산 칼슘 등을 들 수 있다.
수지의 예에는, 실리콘 수지, 불소 수지 및 아크릴 수지가 포함된다. 그 중에서도 실리콘 수지가 바람직하고, 특히 삼차원의 망상 구조를 갖는 것이 바람직하며, 예를 들어 토스펄 103, 동 105, 동 108, 동 120, 동 145, 동 3120 및 동 240(이상 도시바실리콘(주) 제조)의 상품명으로 시판되고 있는 것을 들 수 있다.
이들 중에서도, 필름의 탁도를 낮출 수 있는 점에서, 이산화 규소의 미립자가 바람직하다. 이산화 규소의 미립자의 예로는, 에어로실 R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600(이상 닛본에어로실(주) 제조)을 들 수 있고, 필름의 헤이즈를 낮게 유지하면서 마찰 계수를 낮추는 효과가 큰 점에서, 바람직하게는 에어로실 200V, 에어로실 R972V이다.
《하드 코팅층》
본 발명의 광학 필름은, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖고, 또한 상기 하드 코팅층이, 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유한다. 높은 표면 경도를 갖는 수지층 상에 하드 코팅층을 가짐으로써, 광학 필름의 내충격성이나 취급 용이성 등을 향상시킬 수 있다.
<자외선 경화 수지>
자외선 경화 수지로서는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 단량체를 포함하는 성분이 바람직하게 사용된다. 자외선 조사에 의해, 기계적 막 강도(내찰상성, 연필 경도)가 우수한 하드 코팅층을 형성할 수 있다.
예를 들어, 유기 실리콘계, 멜라민계, 에폭시계, 아크릴레이트계, 다관능(메트)아크릴계 화합물 등의 유기계 하드 코팅 재료; 이산화 규소 등의 무기계 하드 코팅 재료 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 접착력이 양호하고, 생산성이 우수한 관점에서, (메트)아크릴레이트계 및 다관능(메트)아크릴계 화합물의 하드 코팅 형성 재료의 사용이 바람직하다. 여기서 (메트)아크릴이란 아크릴 및 메타크릴을 나타낸다.
(메트)아크릴레이트는, 중합성 불포화기를 분자 내에 하나 갖는 것, 두개 갖는 것, 세개 이상 갖는 것, 중합성 불포화기를 분자 내에 세개 이상 함유하는 (메트)아크릴레이트 올리고머를 들 수 있다. 예를 들어, 다관능 아크릴레이트로서, 펜타에리트리톨 다관능 아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 다관능 아크릴레이트, 펜타에리트리톨 다관능 메타크릴레이트, 및 디펜타에리트리톨 다관능 메타크릴레이트 등을 사용할 수 있다. (메트)아크릴레이트는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상의 것을 사용해도 된다.
또한, 본 발명에 따른 하드 코팅층 중에는, 본 발명의 효과가 손상되지 않는 범위에서, 각종 첨가제를 필요에 따라서 더 배합할 수 있다. 예를 들어, 산화 방지제, 자외선 안정제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 레벨링제, 대전 방지제 등을 사용할 수 있다.
레벨링제는, 특히 하드 코팅층을 도포 시공할 때, 표면 요철 저감에 효과적이다. 레벨링제로서는, 예를 들어 실리콘계 레벨링제로서, 디메틸폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체가 적합하다.
상기 자외선 안정제로서는, 예를 들어 자외선에 대한 안정성이 높은 힌더드 아민계 자외선 안정제가 적절하게 사용된다. 하드 코팅층이 자외선 안정제를 함유함으로써, 자외선에 의해 발생하는 라디칼, 활성 산소 등이 불활성화되어, 자외선 안정성, 내후성 등을 향상시킬 수 있다.
상기 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 살리실산계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, 트리아진계 자외선 흡수제, 벤조옥사지논계 자외선 흡수제 등을 들 수 있고, 이들 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 분산성의 관점에서, 트리아진계 자외선 흡수제, 벤조옥사지논계 자외선 흡수제가 바람직하다. 또한, 상기 자외선 흡수제로서는, 분자쇄에 자외선 흡수기를 갖는 중합체도 적절하게 사용된다. 이러한 분자쇄에 자외선 흡수기를 갖는 중합체를 사용함으로써 자외선 흡수제의 블리드 아웃 등에 의한 자외선 흡수 기능의 열화를 방지할 수 있다. 이 자외선 흡수기로서는, 벤조트리아졸기, 벤조페논기, 시아노아크릴레이트기, 트리아진기, 살리실레이트기, 벤질리덴말로네이트기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 벤조트리아졸기, 벤조페논기, 트리아진기가 특히 바람직하다.
<실리카 입자>
본 발명의 광학 필름은, 하드 코팅층이 실리카 입자를 함유한다. 하드 코팅층 중에 포함되는, 실리카 입자의 자외선 경화 수지에 대한 질량비의 값(실리카 입자/자외선 경화 수지)은 10/90 내지 50/50의 범위 내인 것이 바람직하다. 이 비의 값이 10/90 이상인 것이, 하드 코팅층의 경도를 높이는 점에서 바람직하고, 50/50 이하임으로써, 헤이즈나 내찰상성을 열화시키는 일이 없는 점에서 바람직하다.
실리카 입자는, 평균 1차 입경이 200㎚ 이하인 것이, 헤이즈와 표면 경도를 양립시키는 데 있어서 바람직하다. 바람직하게는 5 내지 100㎚, 보다 바람직하게는 10 내지 50㎚의 범위 내이다.
또한, 실리카 입자는, 입자 표면이 미처리된 것이어도 표면 경도는 상승하지만, 표면의 일부에 유기 성분이 피복되고, 당해 유기 성분에 의해 도입된 반응성의 중합성 불포화기를 표면에 갖는 실리카 입자인 것이 바람직하다.
(중합성 불포화기 함유 화합물에 의해 피복된 반응성 실리카 입자)
본 실시 형태에 있어서 바람직하게 사용되는 평균 1차 입경 5 내지 200㎚의 실리카 입자로서는, 적어도 표면의 일부에 유기 성분이 피복되고, 당해 유기 성분에 의해 도입된 반응성의 중합성 불포화기를 표면에 갖는 실리카 입자를 들 수 있다.
표면 수식되어 있지 않은 실리카 입자로서는, 공지된 것을 사용할 수 있다. 또한, 그 형상은, 구상이어도 되고 부정형인 것이어도 되며, 통상의 콜로이달 실리카에 한하지 않고 중공 입자, 다공질 입자, 코어/쉘형 입자 등이어도 상관없지만, 콜로이달 실리카가 바람직하다.
실리카 입자의 분산매는, 물 또는 유기 용매가 바람직하다. 유기 용매로서는, 메탄올, 이소프로필알코올, 에틸렌글리콜, 부탄올, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, γ-부티로락톤 등의 에스테르류; 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류 등의 유기 용제를 들 수 있고, 이들 중에서 알코올류 및 케톤류가 바람직하다. 이들 유기 용제는, 단독 또는 2종 이상 혼합하여 분산매로서 사용할 수도 있다.
시판품으로서는, 예를 들어 콜로이달 실리카로서, 닛산카가쿠코교(주) 제조 IPA-ST, IPA-ST-L, IPA-ST-ZL, MEK-ST-L, MEK-ST-MS 등을 들 수 있다.
반응성 실리카 입자는, 상술한 바와 같은 콜로이달 실리카를, 반응성의 중합성 불포화기를 갖는 유기 화합물로 표면 처리함으로써 얻어진다. 즉, 여기에서는, 실리카 입자의 표면을 피복하는 유기 성분이란, 표면 처리에 사용하는, 반응성의 중합성 불포화기를 갖는 유기 화합물 유래의 유기 성분을 가리킨다.
실리카 입자의 표면을 유기 성분으로 피복하기 위해 표면 처리에 사용하는 유기 화합물로서는, 중합성 불포화기를 갖는 유기 화합물이다. 중합성 불포화기로서는, 히드록시기, 카르복시기, 아미노기, 에폭시기, 이소시아네이트기, (메트)아크릴로일, 비닐기 중 어느 2종 이상의 것이 바람직하고, 히드록시기, 카르복시기, 이소시아네이트기 중 어느 하나와 (메트)아크릴로일기인 것이 특히 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서, (메트)아크릴레이트란, 메타크릴레이트 또는 아크릴레이트를 의미한다.
또한, 중합성 불포화기를 갖는 유기 화합물의 구체예로서는, 예를 들어 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란 등의 커플링제; 아크릴산 메틸, 아크릴산-2-에틸헥실, 아크릴산 메톡시에틸, 아크릴산 부톡시에틸, 아크릴산 부틸, 아크릴산 메톡시부틸, 아크릴산 페닐 등의 아크릴산 에스테르류, 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 프로필, 메타크릴산 메톡시에틸, 메타크릴산 에톡시메틸, 메타크릴산 페닐, 메타크릴산 라우릴 등의 메타크릴산 에스테르류, 아크릴산-2-(N,N-디에틸아미노)에틸, 메타크릴산-2-(N,N-디메틸아미노)에틸, 아크릴산-2-(N,N-디벤질아미노)메틸, 아크릴산-2-(N,N-디에틸아미노)프로필 등의 불포화 치환산의 치환 아미노알코올에스테르류; 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등의 불포화 카르복실산 아미드; 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트 등의 화합물; 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트 등의 다관능성 화합물; 및/또는, 분지중에 2개 이상의 티올기를 갖는 폴리티올 화합물(예를 들어 트리메틸올프로판트리티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리티오프로필레이트, 펜타에리트리톨테트라티오글리콜 등)을 들 수 있다.
이렇게 중합성 불포화기를 갖는 반응성 실리카 입자를 사용함으로써, 바인더 수지와 실리카 입자의 가교, 실리카 입자끼리의 가교가 일어나, 경도의 향상, 입자의 탈락을 방지한다는 효과가 얻어진다. 또한, 수식된 실리카 입자를 사용함으로써 내약품성의 향상도 도모할 수 있다.
상기 유기 성분은, 실리카 입자의 응집을 억제하고, 또한 실리카 입자 표면으로 반응성 관능기를 많이 도입하여 하드 코팅층의 경도를 향상시키는 점에서, 입자 표면의 거의 전체를 피복하고 있는 것이 바람직하다. 이러한 관점에서, 실리카 입자를 피복하고 있는 상기 유기 성분은, 반응성 실리카 입자 중에 1.00×10-3g/㎡ 이상 포함되는 것이 바람직하다.
당해 피복하고 있는 유기 성분의 비율은, 통상적으로 건조 분체를 공기 중에서 완전히 연소시킨 경우의 질량 감소의 항량값으로서, 예를 들어 공기 중에서 실온으로부터 통상 800℃까지의 열 질량 분석에 의해 구할 수 있다. 또한, 단위 면적당 유기 화합물량은, 이하의 방법에 의해 구할 수 있다. 먼저, 시차열 질량 분석(DTG)에 의해, 유기 성분 질량을 무기 성분 질량으로 나눈 값(유기 성분 질량/무기 성분 질량)을 측정한다. 이어서, 무기 성분 질량과 사용한 실리카의 비중으로부터 무기 성분 전체의 체적을 계산한다. 또한, 피복 전의 실리카 입자가 진구 형상이라고 가정하고, 피복 전의 실리카 입자의 평균 입경으로부터 피복 전의 실리카 1개당 체적 및 표면적을 계산한다. 이어서, 무기 성분 전체의 체적을 피복 전의 실리카 입자 1개당 체적으로 나눔으로써, 반응성 실리카 입자의 개수를 구한다. 또한, 유기 성분 질량을 반응성 실리카 입자의 개수로 나눔으로써, 반응성 실리카 입자 1개당 유기 성분량을 구한다. 마지막으로, 반응성 실리카 입자 1개당 유기 성분 질량을, 피복 전의 실리카 입자 1개당 표면적으로 나눔으로써, 단위 면적당 유기 성분량을 구할 수 있다.
적어도 표면의 일부에 유기 성분이 피복되고, 당해 유기 성분에 의해 도입된 중합성 불포화기를 표면에 갖는 반응성 실리카 입자를 조제하는 방법으로서는, 당해 실리카 입자에 도입하고자 하는 중합성 불포화기의 종류 등에 따라, 종래 공지된 방법을 적절히 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 후술하는 실시예에 기재한 방법 등에 의해 반응성 실리카 입자를 조제하는 것이 가능하다.
또한, 반응성 실리카 입자로서는, 분산매를 함유하지 않는 분말 상태를 사용해도 되지만, 분산 공정을 생략할 수 있고, 생산성이 높은 점에서 미립자를 용제 분산 졸로 한 것을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 반응성 실리카 입자의 시판품으로서는, 닛산카가쿠코교(주) 제조: MIBK-SD, MIBK-SDMS, MIBK-SDL, IPA-ST, IPA-SDMS 등을 들 수 있다.
또한, 평균 1차 입경은, 레이저 회절·산란법 등에 의해 측정할 수 있다. 예를 들어, 입도 분포계 Microtrac(닛키소(주) 제조) 등을 사용해서 d55를 사용할 수 있다. 실리카 입자가 표면 수식된 경우에는, 표면 수식을 포함한 입자의 입경을 본 발명에 있어서의 입경으로 한다.
《수지층의 제조 방법》
기재 필름으로서, 수지층은 임의의 방법으로 제조될 수 있지만, 비교적 분자량이 큰 수지여도 제막하기 쉽거나, 또한 첨가제를 수지층 중에 균일하게 첨가하기 쉽다는 등의 점에서, 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지를 용해한 용액을 기체 상에 유연하는 공정을 거쳐서 제막하여, 상기 수지층을 형성하는 것이 바람직하다. 즉, 용액 유연법으로 제조되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제막 후에 권취된 필름 원단을 권출하고, 경사 방향으로 연신하는 공정을 거쳐, 상기 수지층을 형성하는 것이, 유기 일렉트로루미네센스 소자의 반사 방지 용도의 보호 필름으로서 사용하기 위해 바람직하다.
수지층은, 1) 상술한 각 성분을 용제에 용해시켜서 도프액을 조제하는 공정, 2) 도프액을 무단의 기체 상에 유연하는 공정, 3) 유연한 도프를 건조한 후, 박리하여 막형물(원단)을 얻는 공정, 4) 막형물을 건조 및 연신하는 공정을 거쳐서 제조될 수 있다.
또한, 이하의 기재에 있어서, 본 발명에 따른 수지층만의 필름을 수지 필름이라고도 한다.
상기 1)의 공정에 사용되는 용제로서는, 예를 들어 클로로포름, 디클로로메탄 등의 염소계 용제; 톨루엔, 크실렌, 벤젠, 및 이것들의 혼합 용제 등의 방향족 계 용제; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올, 2-부탄올 등의 알코올계 용제; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 디옥산, 시클로헥사논, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK), 아세트산 에틸, 디에틸에테르; 등을 들 수 있다.
용액 유연법에서는, 도프 중의 시클로올레핀계 수지의 농도는, 농도가 높은 편이 기체에 유연한 후의 건조 부하를 저감할 수 있어서 바람직하지만, 시클로올레핀계 수지의 농도가 너무 높으면 여과 시의 부하가 증가하여, 여과 정밀도가 나빠진다. 이들을 양립하는 농도로서는, 10 내지 35질량％가 바람직하고, 더욱 바람직하게는, 15 내지 25질량％의 범위 내이다. 유연(캐스트) 공정에서의 기체는, 표면을 경면 마무리한 것이 바람직하고, 스테인리스 스틸 벨트 또는 주물로 표면을 도금 마무리한 드럼이 바람직하게 사용된다.
캐스트의 폭은 1 내지 4m의 범위 내로 할 수 있다. 유연 공정의 기체의 표면 온도는 -50℃ 내지 용매가 비등하여 발포되지 않는 온도 이하로 설정된다. 온도가 높은 편이 웹의 건조 속도를 빠르게 할 수 있으므로 바람직하다. 또한 이 온도 범위 내이면, 웹이 발포되거나, 평면성이 열화되거나 할 염려가 없다.
바람직한 기체 온도로서는 0 내지 100℃의 범위 내에서 적절히 결정되며, 5 내지 30℃의 범위 내가 더욱 바람직하다. 또는, 냉각함으로써 웹을 겔화시켜서 잔류 용제를 많이 포함한 상태에서 드럼으로부터 박리하는 것도 바람직한 방법이다. 기체의 온도를 제어하는 방법은 특별히 제한되지 않지만, 온풍 또는 냉풍을 불어대는 방법이나, 온수를 기체의 이측에 접촉시키는 방법이 있다. 온수를 사용하는 편이 열의 전달이 효율적으로 행해지기 때문에, 기체의 온도가 일정해질 때까지의 시간이 짧아 바람직하다.
온풍을 사용하는 경우에는 용제의 증발 잠열에 의한 웹의 온도 저하를 고려하여, 용제의 비점 이상의 온풍을 사용하면서, 발포도 방지하면서 목적으로 하는 온도보다도 높은 온도의 바람을 사용하는 경우가 있다.
특히, 유연부터 박리할 때까지의 동안에 기체의 온도 및 건조풍의 온도를 변경하여, 효율적으로 건조를 행하는 것이 바람직하다.
수지 필름이 양호한 평면성을 나타내기 위해서는, 기체로부터 웹을 박리할 때의 잔류 용제량은 10 내지 150질량％의 범위 내가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 20 내지 40질량％ 또는 60 내지 130질량％의 범위 내이며, 특히 바람직하게는, 20 내지 30질량％ 또는 70 내지 120질량％의 범위 내이다.
잔류 용제량은 하기 식으로 정의된다.
잔류 용제량(질량％)={(M-N)/N}×100
또한, M은 웹 또는 필름을 제조 중 또는 제조 후의 임의의 시점에서 채취한 시료의 질량이고, N은 M을 115℃에서 1시간 가열한 후의 질량이다.
또한, 수지 필름의 건조 공정에 있어서는, 웹을 기체로부터 박리하고, 또한 건조하여, 잔류 용제량을 1질량％ 이하로 하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.1질량％ 이하이고, 특히 바람직하게는 0 내지 0.01질량％의 범위 내이다.
필름 건조 공정으로는 일반적으로 롤러 건조 방식(상하에 배치한 다수의 롤러에 웹을 교대로 통과시켜 건조시키는 방식)이나 텐터 방식으로 웹을 반송시키면서 건조하는 방식이 채용된다.
연신 공정에서는, 최대 연신 방향(연신율이 최대가 되는 방향)의 연신율은, 바람직하게는 5 내지 80％, 보다 바람직하게는 12 내지 60％의 범위 내로 할 수 있다. 예를 들어, 서로 직교하는 2축 방향으로 연신하는 경우, 반송 방향(MD 방향)으로 0 내지 60％, 폭 방향(TD 방향)으로 5 내지 70％로 할 수 있다. 연신율(％)은 하기 식으로 정의된다.
연신율(％)={(연신 후의 필름의 (연신 방향) 길이- 연신 전의 필름의 (연신 방향) 길이)/연신 전의 필름의 (연신 방향) 길이)}×100
연신 온도는, 120 내지 180℃, 바람직하게는 140 내지 180℃, 보다 바람직하게는 145 내지 165℃의 범위 내로 할 수 있다.
연신 개시 시의 막형물(필름 원단이라고도 함)의 잔류 용매는, 헤이즈의 상승을 억제하는 관점에서, 바람직하게는 5질량％ 미만, 보다 바람직하게는 4질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 2질량％ 이하로 할 수 있다. 연신 개시 시의 잔류 용매를 5질량％ 미만으로 유지하기 위해서는, 유연한 도프를 기체로부터 박리하여, 반송하는 과정에 있어서 상기 건조 공정을 마련해 용매를 증발시키는 것이 바람직하다.
막형물을 연신하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 복수의 롤에 주속 차를 생기게 하고, 그 사이에 롤 주속 차를 이용하여 MD 방향으로 연신하는 방법이나; 텐터에 의해 막형물의 양단을 클립이나 핀으로 고정하고, 클립이나 핀의 간격을 TD 방향으로 확장하여 연신하는 방법 등이어도 된다. 그 중에서도, TD 방향의 연신은, 텐터에 의해 행하는 것이 바람직하고, 핀 텐터여도 클립 텐터여도 된다.
또한, 제막 후에 권취된 필름 원단을 권출하고, 경사 연신 가능한 텐터를 사용하여, 경사 방향으로 연신하는 공정을 거쳐서 수지층을 형성할 수도 있다.
경사 연신 가능한 텐터는, 필름 원단을, 오븐에 의한 가열 환경 하에서, 그 진행 방향(필름 폭 방향의 중점의 이동 방향)에 대하여 경사 방향으로 폭을 넓히는 장치이다. 이 텐터는, 오븐과, 필름을 반송하기 위한 파지구가 주행하는 좌우 한 쌍의 레일과, 당해 레일 위를 주행하는 다수의 파지구를 구비하고 있다. 필름 롤로부터 풀어내져, 텐터의 입구부에 순차 공급되는 필름의 양단을, 파지구로 파지하고, 오븐 내로 필름을 유도하여, 텐터의 출구부에서 파지구로부터 필름을 개방한다. 파지구로부터 개방된 필름은 권취 코어에 권취된다. 한 쌍의 레일은, 각각 무단 형상의 연속 궤도를 갖고, 텐터의 출구부에서 필름의 파지를 개방한 파지구는, 외측을 주행하여 차례로 입구부로 되돌려지도록 되어 있다.
도 2a 및 도 2b는, 경사 연신 가능한 텐터의 일례이다. 도 2a로 대표되는 바와 같이, 연신 장치 입구측의 가이드 롤(12-1)에 의해 방향이 제어된 필름 원단(4)은, 외측의 필름 보유 유지 개시점(8-1), 내측의 필름 보유 지지 개시점(8-2)의 위치에서 파지구에 의해 파지된다.
좌우 한 쌍의 파지구는 서로 등속도로, 경사 연신 장치(6)에서 외측의 필름 파지구의 궤적(7-1), 내측의 필름 파지구의 궤적(7-2)으로 표시되는 경사 방향으로 반송, 연신되어, 외측의 필름 파지 종료점(9-1), 내측의 필름 파지 종료점(9-2)에 의해 파지를 해방하고, 연신 장치 출구측의 가이드 롤(12-2)에 의해 반송이 제어되어, 경사 연신 필름(5)이 형성된다. 연신 시의 필름의 가열 온도, 파지구의 주행 속도 및 토탈 연신 배율은, 상기한 범위와 같은 범위를 채용할 수 있다. 도면 중, 필름 원단은, 필름의 이송 방향(14-1)에 대하여 필름의 연신 방향(14-2)의 각도(14)(풀어내기 각도 θi)로 경사 연신된다.
본 발명의 실시 형태에 따른 제조 방법에서 사용되는 경사 연신 텐터에 있어서, 특히 도 2a, 도 2b와 같이 텐터 내부에서, 파지구의 궤적을 규제하는 레일에는, 종종 큰 굴곡율이 요구된다. 급격한 굴곡에 의한 파지구끼리의 간섭, 또는 국소적인 응력 집중을 피할 목적에서, 굴곡부에서는 파지구의 궤적이 원호를 그리도록 하는 것이 바람직하다.
도 2a에서 도시되는 경사 연신 텐터에 있어서는, 필름 원단의 텐터 입구에서의 진행 방향(14-1)은, 연신 후의 필름의 텐터 출측에서의 진행 방향과 상이하다. 풀어내기 각도 θi는, 텐터 입구에서의 진행 방향(14-1)과 연신 후의 필름의 연신 방향(14-2)이 이루는 각도이다.
도 2b에서 도시되는 경사 연신 텐터에 있어서는, 필름 원단의 텐터 입구에서의 진행 방향(14-1)은, 텐터 내에서 풀어내기 각도 θi로 텐터 입구에서의 진행 방향과는 상이한 방향으로 전환되어 반송된다. 그 후 반송 방향이 더 전환되어, 최종적으로는 연신 후의 필름의 텐터 출측에서의 진행 방향과 일치하는 궤적을 취한다. 본 발명에 있어서는, 상술한 바와 같이 바람직하게는 10 내지 80°의 배향각 θ를 갖는 필름을 제조하기 위해서, 풀어내기 각도 θi는, 10°<θi <60°, 바람직하게는 15°<θi <50°로 설정된다. 풀어내기 각도 θi를 상기 범위로 함으로써, 얻어지는 필름의 폭 방향의 광학 특성의 변동이 양호해진다(작아진다).
기타 공정에 대해서는, 공지된 용액 유연법; 예를 들어 일본 특허 공개 제2012-48214호의 단락 0109 내지 0140과 마찬가지로 할 수 있다.
<하드 코팅층을 갖는 광학 필름의 제조 방법>
하드 코팅층을 갖는 광학 필름은, 1) 상술한 수지 필름을 준비하는 공정과, 2) 당해 수지 필름 상에 하드 코팅용 도포액(활성 에너지선 경화물층용 도포액)을 도포한 후, 건조 및 경화시켜서 활성 에너지선 경화물층인 하드 코팅층을 얻는 공정을 거쳐 제조될 수 있다.
상기 1)의 수지 필름을 준비하는 공정은 상술한 바와 같다. 상기 2)의 공정에서는, 상기 자외선 경화 수지와 상기 실리카 입자를 함유하는 도포액의 용제로서 알코올, 에스테르, 에테르 또는 케톤 중 적어도 2종의 용제를 사용하여 조제한 도포액을 도포하는 것이 건조 불균일을 경감하는 데 있어서 바람직하다.
상기 2)의 공정에 사용되는 용제로서는, 예를 들어 클로로포름, 디클로로메탄 등의 염소계 용제; 톨루엔, 크실렌, 벤젠, 및 이들의 혼합 용제 등의 방향족계 용제; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올(IPA), n-부탄올, 2-부탄올 등의 알코올계 용제; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME), 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 디옥산, 시클로헥사논, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK), 아세트산 에틸, 디에틸에테르; 등을 들 수 있다.
알코올, 에스테르, 에테르 또는 케톤 중 적어도 2종의 용제를 사용하여 용해한 용액을 기체 상에 유연할 때, 1종류는 케톤류인 것이 바람직하고, 케톤류 중에서도 메틸에틸케톤(MEK)이 UV 경화 수지의 용해성의 관점에서 바람직하다. 또한, 다른 1종류는 에테르류인 것이 바람직하고, 에테르류 중에서도 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)가 고비점이고 건조가 느려서 불균일 억제 효과의 관점에서 바람직하다.
상기 2)의 활성 에너지선 경화층용 도포액의 도포는, 예를 들어 디핑법, 다이 코터법, 와이어바법, 스프레이법 등의 임의의 수단으로 행할 수 있다. 도포 후의 건조는 공지의 방법으로 행할 수 있다.
상기 2)의 활성 에너지선 경화층용 도포액의 도막의 경화는, 활성 에너지선을 조사하여 행할 수 있다. 활성 에너지선(바람직하게는 자외선)을 조사하는 광원의 예에는, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 카본 아크 등, 메탈 할라이드 램프, 크세논 램프 등을 들 수 있다. 조사광량은 20 내지 10000mJ/㎠ 정도이면 되고, 바람직하게는 50 내지 2000mJ/㎠이다. 조사 시간은, 바람직하게는 0.5초 내지 5분, 작업 효율 등의 관점에서 보다 바람직하게는 3초 내지 2분으로 할 수 있다.
하드 코팅층의 드라이층 두께로서는, 층 두께가 2 내지 15㎛의 범위 내가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 내지 8㎛의 범위 내이다.
<편광자>
편광자는, 일정 방향의 편파면의 광만을 통과하는 소자이며, 현재 알려져 있는 대표적인 편광자는, 폴리비닐알코올계 편광 필름이다. 폴리비닐알코올계 편광 필름에는, 폴리비닐알코올계 필름에 요오드를 염색시킨 것과, 2색성 염료를 염색시킨 것이 있다.
폴리비닐알코올계 편광 필름은, 폴리비닐알코올계 필름을 1축 연신한 후, 요오드 또는 2색성 염료로 염색한 필름(바람직하게는 붕소 화합물로 내구성 처리를 더 실시한 필름)이어도 되고; 폴리비닐알코올계 필름을 요오드 또는 2색성 염료로 염색한 후, 1축 연신한 필름(바람직하게는, 붕소 화합물로 내구성 처리를 더 실시한 필름)이어도 된다. 편광자의 흡수축은, 필름의 연신 방향과 평행하다.
예를 들어, 일본 특허 공개 제2003-248123호 공보, 일본 특허 공개 제2003-342322호 공보 등에 기재된 에틸렌 단위의 함유량 1 내지 4몰％, 중합도 2000 내지 4000, 비누화도 99.0 내지 99.99몰％의 에틸렌 변성 폴리비닐알코올 등이 사용된다. 그 중에서도, 열수 절단 온도가 66 내지 73℃인 에틸렌 변성 폴리비닐알코올 필름이 바람직하게 사용된다.
편광자의 두께는, 5 내지 30㎛인 것이 바람직하고, 편광판을 박형화하기 위함 등의 이유로, 10 내지 20㎛인 것이 보다 바람직하다.
<편광판>
본 발명에 있어서는, 본 발명의 광학 필름을 보호 필름으로서 사용하고, 편광자를 개재하여 다른 기재 필름과 접합하여 사용할 수도 있지만, 편광자를 개재하여 위상차 필름을 접합한 편광판으로서 사용하는 것이 바람직하다. 나아가, 본 발명의 광학 필름에 위상차를 갖게 하여 편광자와 접합함으로써 편광판으로 하는 것도 바람직하다.
본 발명에 따른 편광판은, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치에 바람직하게 적용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름은, 23℃·55％ RH의 환경 하, 광파장 550㎚에 있어서의 면 내 방향의 리타데이션 값(Ro(550))이 하기 식 (1)을 만족하는 것이 바람직하다.
식 (1): 100㎚≤Ro(550)≤170㎚
Ro(550)가 식 (1)을 만족함으로써, 위상차 필름은 λ/4 위상차 필름으로서 기능한다. 편광자의 흡수축과 λ/4 위상차 필름의 지상축과의 이루는 각을 45°로 접합한 원편광판을 사용함으로써 외광의 반사를 억제하는 기능을 부여할 수 있다. 이것을 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치에 사용함으로써, 전극에 의한 반사광이 방지되어, 우수한 유기 EL 표시 장치를 제작할 수 있다.
바람직하게는, 파장 550㎚에서 측정한 면 내의 위상차값 Ro(550)가 120 내지 160㎚의 범위 내인 것이며, Ro(550)가 130 내지 150㎚인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 액정 표시 장치에 사용하는 경우에는, 본 발명의 광학 필름을 편광판 보호 필름으로서 사용하고, 이것을 편광자를 개재하여 다른 위상차 필름과 접합한 편광판을 사용하는 것이 바람직하다. 위상차 필름의 리타데이션 값은, 조합되는 액정 셀의 종류에 따라 다르지만, 예를 들어 23℃·55％ RH의 조건 하, 파장 550㎚에서 측정되는 면 내 방향의 리타데이션 값 Ro(550)는 20 내지 100㎚인 것이 바람직하고, 두께 방향의 리타데이션 값 Rth(550)는 70 내지 300㎚인 것이 바람직하다. 리타데이션이 상기 범위일 경우, 예를 들어 VA형 액정 셀 등의 위상차 필름으로서 적합하다.
면 내 방향의 리타데이션 값 Ro 및 두께 방향의 리타데이션 값 Rth는, 각각 이하의 식으로 정의된다.
식 (I): Ro=(nx-ny)×d(㎚)
식 (II): Rth={(nx+ny)/2-nz}×d(㎚)
(식 (I) 및 (II)에 있어서,
nx는, 필름의 면 내 방향에 있어서 굴절률이 최대가 되는 지상축 방향 x에 있어서의 굴절률을 나타내고;
ny는, 필름의 면 내 방향에 있어서 상기 지상축 방향 x와 직교하는 방향 y에 있어서의 굴절률을 나타내고;
nz는, 필름의 두께 방향 z에 있어서의 굴절률을 나타내고;
d(㎚)는 필름의 두께를 나타냄)
리타데이션 값 Ro 및 Rth는, 예를 들어 이하의 방법에 의해 구할 수 있다.
1) 광학 필름을, 23℃·55％ RH에서 조습한다. 조습 후의 광학 필름의 평균 굴절률을 아베 굴절계 등으로 측정한다.
2) 조습 후의 광학 필름에, 당해 필름 표면의 법선에 평행하게 측정 파장 550㎚의 광을 입사시켰을 때의 Ro를, KOBRA-21DH, 오지케이소쿠키키(주)로 측정한다.
3) KOBRA-21ADH에 의해, 광학 필름의 면 내의 지상축을 경사축(회전축)으로 하여, 당해 필름의 표면의 법선에 대하여 θ의 각도(입사각(θ))로부터 측정 파장 550㎚의 광을 입사시켰을 때의 리타데이션 값 R(θ)을 측정한다. 리타데이션 값 R(θ)의 측정은, θ가 0 내지 50°의 범위에서, 10°마다 6점 행할 수 있다. 면 내 지상축이란, 필름 면 내 중의 굴절률이 최대가 되는 축을 말하고, KOBRA-21ADH에 의해 확인할 수 있다.
4) 측정된 Ro 및 R(θ)과, 상술한 평균 굴절률과 막 두께로부터, KOBRA-21ADH에 의해, nx, ny 및 nz를 산출하고, 측정 파장 550㎚에서의 Rth를 산출한다. 리타데이션 값의 측정은, 23℃·55％ RH 조건 하에서 행할 수 있다.
리타데이션 값은 연신 배율을 바꾸는 등에 의해 조정할 수 있다.
편광판은, 편광자와 본 발명의 광학 필름을, 접착제를 개재하여 접합하는 공정과; 접합한 적층물을 소정의 크기로 재단하는 공정을 거쳐 얻을 수 있다. 접합에 사용되는 접착제는, 완전 비누화형 폴리비닐알코올 수용액(물풀)이어도 되고, 활성 에너지선 경화성 접착제를 사용하여 행해도 된다. 물풀을 사용하는 경우에는, 시클로올레핀 필름을 코로나 방전 처리 장치를 사용하여 코로나 처리하는 것이, 접착성을 향상시키는 데 있어서 바람직하다.
《액정 표시 장치》
액정 표시 장치는, 액정 셀과, 그것을 끼움 지지하는 한 쌍의 편광판을 포함한다.
도 3은 액정 표시 장치의 기본적인 구성의 일례를 도시하는 모식도이다. 도 3에 도시되는 바와 같이, 액정 표시 장치(100)는, 액정 셀(30)과, 그것을 끼움 지지하는 제1 편광판(50) 및 제2의 편광판(70)과, 백라이트(90)를 포함한다.
액정 셀(30)의 표시 모드는, 예를 들어 STN, TN, OCB, HAN, VA(MVA, PVA), IPS 등의 다양한 표시 모드이면 되고, 높은 콘트라스트를 얻기 위해서는 VA(MVA, PVA) 모드인 것이 바람직하다.
제1 편광판(50)은, 제1 편광자(51)와, 제1 편광자(51)의 액정 셀과는 반대측의 면에 배치된 광학 필름(53(F1))과, 제1 편광자(51)의 액정 셀측의 면에 배치된 광학 필름(55(F2))을 포함한다.
제2 편광판(70)은, 제2 편광자(71)와, 제2 편광자(71)의 액정 셀측의 면에 배치된 광학 필름(73(F3))과, 제2 편광자(71)의 액정 셀과는 반대측의 면에 배치된 광학 필름(75(F4))을 포함한다. 광학 필름(55(F2)와 73(F3))의 한쪽은, 필요에 따라 생략될 수 있다.
그리고, 광학 필름(53(F1)과 75(F4)) 중 적어도 한쪽; 바람직하게는 광학 필름(53(F1))이 본 발명의 광학 필름일 수 있다. 광학 필름(53(F1))은, 기재 필름(53A)과, 하드 코팅층으로서 활성 에너지선 경화물층(53B)을 갖고, 또한 기재 필름(53A)이 제1 편광자(51)와 접하고 있다. 광학 필름(53(F1))이 본 발명의 광학 필름인 액정 표시 장치는, 표면의 내찰상성이 높으므로, 표시 화면에 상처을 내기 어렵게 할 수 있다.
《유기 일렉트로루미네센스 표시 장치》
유기 일렉트로루미네센스 표시 장치에 있어서는, 본 발명의 광학 필름을 구비할 수 있다.
유기 일렉트로루미네센스 표시 장치에 적용 가능한 유기 EL 소자의 개요에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2013-157634호 공보, 일본 특허 공개 제2013-168552호 공보, 일본 특허 공개 제2013-177361호 공보, 일본 특허 공개 제2013-187211호 공보, 일본 특허 공개 제2013-191644호 공보, 일본 특허 공개 제2013-191804호 공보, 일본 특허 공개 제2013-225678호 공보, 일본 특허 공개 제2013-235994호 공보, 일본 특허 공개 제2013-243234호 공보, 일본 특허 공개 제2013-243236호 공보, 일본 특허 공개 제2013-242366호 공보, 일본 특허 공개 제2013-243371호 공보, 일본 특허 공개 제2013-245179호 공보, 일본 특허 공개 제2014-003249호 공보, 일본 특허 공개 제2014-003299호 공보, 일본 특허 공개 제2014-013910호 공보, 일본 특허 공개 제2014-017493호 공보, 일본 특허 공개 제2014-017494호 공보 등에 기재되어 있는 구성을 들 수 있다.
본 발명의 광학 필름은, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치로서뿐만 아니라, 터치 패널을 구비한 화상 표시 장치나, 플라즈마 디스플레이 등의 화상 표시 장치 등의 보호 필름으로서도 바람직하게 사용할 수 있다.
[실시예]
이하, 실시예를 들어서 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예에 있어서 「부」 또는 「％」의 표시를 사용하는데, 특별히 언급이 없는 한 「질량부」 또는 「질량％」를 나타낸다.
[실시예 1]
이하의 실시예에서 사용한 화합물을 그 약호와 함께 나타낸다.
저분자량 화합물
L1: 4-히드록시스티렌
L3: 하기 PE1의 n=10, m=1의 화합물
L4: 하기 PE2의 n=45의 화합물
L5: 에틸렌글리콜
L6: 메틸메타크릴레이트/아크릴로일모르폴린(몰비 8/2)의 공중합체 자외선 흡수제
UV1: 티누빈 928(BASF 재팬 가부시키가이샤 제조)
UV2: 티누빈 109(BASF 재팬 가부시키가이샤 제조)
UV3: 티누빈 171(BASF 재팬 가부시키가이샤 제조)
UV4: 티누빈 405(BASF 재팬 가부시키가이샤 제조)
푸라노오스 구조 또는 피라노오스 구조를 갖는 화합물
FP1: 수크로오스벤조에이트
FP2: 아세틸수크로오스
FP3: 수크로오스디아세테이트(헥사부티레이트)
또한, 상기 FP1 내지 3은 히드록시기를 모두 에스테르화한 당에스테르이다.
폴리에스테르계 화합물
Figure 112016040345647-pat00004
수지(시클로올레핀계 수지)
COP1: 시클로올레핀계 수지(ARTON G7810, JSR(주) 제조)
COP2: 시클로올레핀계 수지(ARTON RX4500, JSR(주) 제조)
COP3: 시클로올레핀계 수지(ARTON R5000, JSR(주) 제조)
실리카 입자
A: 하기 제조예 A에서 조제한 반응성 무기 미립자 A(평균 1차 입경 13㎚의 실리카 입자)
B: 하기 제조예 B에서 조제한 반응성 무기 미립자 B(평균 1차 입경 46㎚의 실리카 입자)
C: 하기 제조예 C에서 조제한 반응성 무기 미립자 C(평균 1차 입경 87㎚의 실리카 입자)
D: 평균 입경 12㎚의 실리카 입자(닛산카가쿠코교(주) 제조, 스노우텍N)
[실리카 입자의 조제]
(제조예 A: 반응성 무기 미립자 A의 조제)
(1) 표면 흡착 이온 제거
수 분산 콜로이달 실리카(닛산카가쿠코교(주) 제조, 스노우텍N, 평균 입경 12㎚, pH 9.0 내지 10.0)를 양이온 교환 수지(미쓰비시카가쿠(주) 제조, 다이아이온 SK1B) 500g을 사용해서 3시간 이온 교환을 행하였다. 이어서, 음이온 교환 수지(미쓰비시카가쿠(주) 제조, SA20A) 300g을 사용해서 3시간 이온 교환을 행하였다. 그 후, 이온 교환수를 사용하여 세정함으로써, 고형분 농도 20질량％의 실리카 미립자 수 분산체를 얻었다. Na2O 함유량은 5ppm이었다.
(2) 표면 처리(단량체의 도입)
상기 (1)의 처리를 행한 무기 미립자의 수 분산체 20g에 300ml의 이소프로판올, 4.0g의 3,6,9-트리옥사데칸산 및 4.0g의 메타크릴산을 첨가하고, 1시간 교반하였다. 얻어진 혼합액을 60℃에서 6시간 가열하면서 교반함으로써, 무기 미립자에 메타크릴로일기가 도입된 무기 미립자 분산체를 얻었다. 얻어진 무기 미립자 분산체를 로터리 증발기를 사용하여 증류수 및 이소프로판올, 메타크릴산을 증류 제거시켜, 건고되지 않도록 용제 1로서 메틸에틸케톤을 첨가하고, 고형분 40질량％의 실리카 분산 메틸에틸케톤 용액을 얻었다. 잔류하는 물이나 이소프로판올은 0.1질량％ 이하로 하였다. 얻어진 반응성 무기 미립자 A는, 입도 분석계(닛키소(주) 제조 Microtrac)에 의해 측정하고, 평균 1차 입경은 d55=13㎚였다.
(제조예 B: 반응성 무기 미립자 B의 조제)
(1) 표면 흡착 이온 제거
수 분산 콜로이달 실리카(닛산카가쿠코교(주) 제조, 스노우텍 OL, 평균 1차 입경 44㎚, pH 2.0 내지 4.0)를 사용하여, 제조예 1과 마찬가지로 표면 흡착 이온을 제거한 무기 미립자의 수분산액을 얻었다.
(2) 표면 처리(단량체의 도입)
제조예 A에 있어서, 메타크릴산을 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(사토마(주) 제조, SR399)로 변경하고, 제조예 A와 마찬가지의 방법으로 표면 처리를 행하여, 표면 처리된 고형분 40질량％의 메틸이소부틸케톤 분산액 B를 얻었다.
얻어진 반응성 무기 미립자 B는, 상기 입도 분석계에 의해 측정한 결과, d55=46㎚의 평균 1차 입경이었다.
(제조예 C: 반응성 무기 미립자 C의 조제)
수 분산 콜로이달 실리카(닛산카가쿠코교(주) 제조, 스노우텍 ZL, 평균 입경 85㎚, pH 9.0 내지 10.0)를 로터리 증발기를 사용하여 물에서 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환을 행하여, 실리카 미립자 20질량％의 분산액을 얻었다. 이 메틸이소부틸케톤 분산액 100질량부에 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란을 20질량부 첨가하고, 50℃에서 1시간 가열 처리하였다. 증발기를 사용하여 메틸이소부틸케톤 및 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란을 증류 제거시켜, 건고되지 않도록 메틸에틸케톤을 첨가함으로써, 표면 처리된 고형분 40질량％의 메틸이소부틸케톤 분산액 C를 얻었다.
얻어진 반응성 무기 미립자 C는, 상기 입도 분석계에 의해 측정한 결과, d55=87㎚의 평균 1차 입경이었다.
[하드 코팅층 도포액]
(하드 코팅층 도포액 1(HC1))의 조제)
하기 조성의 하드 코팅층 도포액(1)을 조제하였다. 자외선 경화형 수지와 계면 활성제와 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 혼합한 후, 당해 혼합액을 30분간 교반하여, 하드 코팅층 도포액(1)을 조제하였다.
자외선 경화형 수지(A-DPH, 신나카무라카가쿠 제조) 60질량부
계면 활성제(서플론 S-651, AGC세이미케미컬사 제조) 0.1질량부
실리카 입자 A(메틸에틸케톤 40질량％ 분산품) 100질량부
프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME: 용제 2) 40질량부
《광학 필름 1의 제작》
[주 도프의 조제]
하기 조성의 주 도프를 조제하였다. 우선 가압 용해 탱크에 디클로로메탄과에탄올을 첨가하였다. 디클로로메탄과 에탄올의 혼합 용액이 들어간 가압 용해 탱크에 시클로올레핀계 수지를 교반하면서 투입하였다. 이것을 가열하고, 교반하면서, 완전히 용해하고, 이것을 아즈미로시(주) 제조의 아즈미로시 No.244를 사용하여 여과해서, 주 도프를 조제하였다.
(주 도프)
COP1 100질량부
디클로로메탄 200질량부
에탄올 10질량부
이상의 성분을 밀폐 용기에 투입하고, 교반하면서 용해하여 주 도프를 조제하였다. 이어서, 무단 벨트 유연 장치를 사용하여, 도프를 온도 31℃, 1800㎜ 폭으로 스테인리스 벨트 기체 상에 균일하게 유연하였다. 스테인리스 벨트의 온도는 28℃로 제어하였다.
스테인리스 벨트 기체 상에서, 유연(캐스트)한 필름 중의 잔류 용제량이 30％가 될 때까지 용제를 증발시켰다. 이어서, 박리 장력 128N/m으로, 스테인리스 벨트 기체 상으로부터 박리하였다. 박리한 필름 원단의 연신 개시 시의 잔류 용제는 5질량％였다. 이어서, 건조 존을 다수의 롤러로 반송시키면서 건조를 종료시키고, 텐터 클립에 물린 단부를 레이저 커터로 슬릿하고, 그 후, 권취하여, 두께 30㎛의 수지 필름 1을 제작하였다.
상기에서 얻어진 수지 필름 1의 편면에, 마이크로 그라비아를 사용하여 하드 코팅층 도포액(1)을 드라이 막 두께 5㎛가 되도록 도포하여, 건조하였다.
이어서, 고압 수은 램프를 사용하여, 대기 하에서 당해 도막에 광량 270mJ/㎠로 자외선 조사하여 경화하고, 수지 필름 1에 하드 코팅층이 형성된 광학 필름 1을 제작하였다.
《광학 필름 2의 제작》
광학 필름 1의 제작에 있어서 주 도프를 이하와 같이 바꾼 것 외에는 광학 필름 1의 제작과 마찬가지로 하여 수지 필름 2 및 광학 필름 2를 제작하였다.
(주 도프)
COP1 100질량부
디클로로메탄 200질량부
L1 5질량부
에탄올 10질량부
그 외에는 광학 필름 1의 제작과 마찬가지로 하여 수지 필름 2 및 광학 필름 2를 제작하였다.
《광학 필름 3 내지 39의 제작》
광학 필름 2의 제작에 있어서, 주 도프에 포함되는 시클로올레핀계 수지(표 1, 2에서는 수지라고 약기함)의 종류, 첨가제의 종류와 그 양, 및 하드 코팅층 중의 실리카 입자와 자외선 경화 수지(UV 수지)의 비율, 실리카 입자의 종류, 하드 코팅층 도포액에 사용한 용매, 하드 코팅층의 두께를 표 1 및 표 2와 같이 바꾸어, 광학 필름 2의 제작과 마찬가지로 하여 수지 필름 3 내지 39 및 광학 필름 3 내지 39를 제작하였다. 또한, 하드 코팅층 도포액에 사용한 용매는 100질량부가 되도록 조제하였다.
《광학 필름의 평가》
제작한 광학 필름 1 내지 39에 대하여 연필 경도, 내찰상성, 헤이즈 및 건조 불균일의 평가를 행하였다.
<연필 경도>
JIS K 5600의 규격(긁기 경도(연필법))에 따라서 실시하였다. 연필을 45도의 각도로 하고, 750g의 하중을 가하여, 각 하드 코팅 필름 시료 표면의 스크래치 시험을 행하였다. 「H」 이상이면 실용에 제공할 수 있다.
<내찰상성>
이하의 조건에서 문지르기 테스트를 행함으로써, 내찰상성을 평가하였다. 23℃·55％ RH의 환경 하 하드 코팅층 표면을 500g/㎠의 하중을 가한 스틸 울(닛폰 스틸울(주) 제조, #0000)로 10 왕복시켜서, 흠집의 발생 유무를 육안으로 관찰하고, 이하의 랭크를 부여하여 평가하였다. ○ 이상이면 실용에 제공할 수 있다.
◎: 1개 미만의 흠집
○: 2개 이상 4개 미만의 흠집
△: 5개 이상 8개 미만의 흠집
×: 8개 이상의 흠집
<헤이즈>
JIS K 7165에 따라서 실시하였다. 샘플을 D65 광원을 사용하여 헤이즈 미터(상품명 NDH2000, 닛본덴쇼쿠코교 가부시키가이샤 제조)로 측정하고, 이하의 랭크를 부여하여 평가하였다. ○ 이상이면 실용에 제공할 수 있다.
◎: 0.2％ 미만
○: 0.2％ 이상 0.5％ 미만
△: 0.5％ 이상 1.0％ 미만
×: 1.0％ 이상
<건조 불균일>
광학 필름의 표면을 관찰하여 불균일을 이하와 같이 하여 평가하였다. 점착제가 구비된 흑색 PET 필름을 광학 필름의 이면에 부착하고, 형광등 아래에서 육안 평가에 의해 평가하였다. 그 결과를 이하와 같이 랭크를 부여하여 평가하였다. ○ 이상이면 실용에 제공할 수 있다.
◎: 주의 깊게 보아도 불균일은 보이지 않음
○: 주의 깊게 보면 불균일이 부분적으로 확인됨
△: 약한 불균일이 있음
×: 불균일이 확인됨
이상의 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.
또한 표 중, IPA는 이소프로판올, 초 에틸은 아세트산 에틸을 나타낸다. 또한, 분자량의 란은, 저분자량 화합물의 중량 평균 분자량을 나타내고, 저분자량 화합물이 중합물이 아닌 경우에는, 화합물의 분자량을 기재하였다.
Figure 112016040345647-pat00005
Figure 112016040345647-pat00006
표 1 및 표 2로부터 본 발명의 광학 필름은, 표면 경도가 높고 내찰상성이 우수하며 헤이즈가 낮은 것을 알 수 있다. 또한, 2종의 용제를 사용하여 조제한 도포액을 도포하는 공정을 거쳐서 하드 코팅층을 형성한 경우, 건조 불균일이 좋은 것을 알 수 있다.
[실시예 2]
《광학 필름 101의 제작》
광학 필름 12의 제작에 있어서, 필름 원단을 박리한 후, 박리한 필름 원단을, 160℃의 조건 하에서 폭 방향으로 40％ 1축 연신하였다. 그 밖에는 편광판 보호 필름 12의 제작과 마찬가지로 하여 수지 필름 101 및 광학 필름 101을 제작하였다.
《광학 필름 102의 제작》
광학 필름 12의 제작에 있어서, 필름 원단을 박리한 후, 박리한 필름 원단을, 160℃의 조건 하에서 도 2a에 도시한 텐터를 사용하여, 연신의 방향을 길이 방향에 대하여 45도의 방향으로 60％ 경사 연신하였다. 그 밖에는 편광판 보호 필름 12의 제작과 마찬가지로 하여 수지 필름 102 및 광학 필름 102를 제작하였다.
《광학 필름 12, 101, 102의 평가》
(리타데이션의 측정)
제작한 광학 필름 101, 102 및 실시예 1에서 제작한 광학 필름 12에 대해서, 엘립소미터(M-150, 니혼분코(주) 제조)를 사용하여, 각각 파장 550㎚에 있어서의 면 내 방향의 리타데이션 값 Ro와 두께 방향의 리타데이션 값 Rth를 측정하였다. 각각의 측정은 폭 방향 10점에서 행하여 평균값을 구하였다.
또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 제작한 광학 필름 101, 102 및 12를 실시예 1과 마찬가지의 방법, 및 동일한 평가 기준으로, 연필 경도, 내찰상성, 헤이즈 및 건조 불균일의 평가를 행하였다.
결과를 표 3에 나타낸다.
Figure 112016040345647-pat00007
표 3으로부터, 본 발명의 광학 필름은, 표면 경도가 높고 내찰상성이 우수하며 헤이즈가 낮은 것을 알 수 있다. 또한, 광학 필름 101, 102는 위상차 필름으로서 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치에 유용한 것을 알 수 있다.
본 발명의 광학 필름은, 표면 경도가 높고 내찰상성이 우수하며 헤이즈가 낮은 특징을 갖고, 편광판, 액정 표시 장치에 바람직하게 적용할 수 있다.
1: 광학 필름
2: 수지층
3: 하드 코팅층
4: 필름 원단
5: 연신 필름
6: 경사 연신 텐터
7-1: 외측의 필름 파지 수단의 궤적
7-2: 내측의 필름 파지 수단의 궤적
8-1: 외측의 필름 파지 개시점
8-2: 내측의 필름 파지 개시점
9-1: 외측의 필름 파지 종료점
9-2: 내측의 필름 파지 종료점
10-1: 외측 경사 연신 개시점
10-2: 내측 경사 연신 개시점
11-1: 외측 경사 연신 종료점
11-2: 내측 경사 연신 종료점
11-3: 외측 가로 연신 존 종점
12-1: 텐터 입구측의 가이드 롤
12-2: 텐터 출구측의 가이드 롤
13: 필름의 연신 방향
14-1: 경사 연신 전의 필름의 반송 방향
14-2: 경사 연신 후의 필름의 반송 방향
15: 좌우 파지구끼리의 반송 속도가 상이한 부분
W0: 경사 연신 전의 필름 폭 길이
W: 경사 연신 후의 필름 폭 길이
30: 액정 셀
50: 제1 편광판
51: 제1 편광자
53: 광학 필름(F1)
55: 광학 필름(F2)
70: 제2 편광판
71: 제2 편광자
73: 광학 필름(F3)
75: 광학 필름(F4)
90: 백라이트
100: 액정 표시 장치

Claims (9)

  1. 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 또한 상기 하드 코팅층이, 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하고, 또한 상기 광학 필름이, 23℃·55％ RH의 환경 하, 광파장 550㎚에 있어서의 면 내 방향의 리타데이션 값(Ro(550))이, 하기 식 (1)을 만족하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
    식 (1): 100㎚≤Ro(550)≤170㎚
  2. 제1항에 있어서,
    상기 수지층에 포함되는 상기 저분자량 화합물이, 자외선 흡수제인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 하드 코팅층 중에 포함되는, 상기 실리카 입자의 상기 자외선 경화 수지에 대한 질량비의 값(실리카 입자/자외선 경화 수지)이 10/90 내지 50/50의 범위 내인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 실리카 입자의 평균 1차 입경이, 200㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 하드 코팅층의 두께가, 2 내지 15㎛의 범위 내인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  6. 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지층 상에 하드 코팅층을 갖는 광학 필름을 제조하는 제조 방법이며, 상기 수지층이, 중량 평균 분자량 Mw가 100 내지 10000의 범위 내인 저분자량 화합물을 상기 시클로올레핀계 수지에 대하여 0.1 내지 5.0질량％의 범위 내에서 함유하고, 상기 하드 코팅층이 자외선 경화 수지와 실리카 입자를 함유하며, 또한 상기 시클로올레핀계 수지를 함유하는 수지를 용해한 용액을 기체(基體) 상에 유연하는 공정을 거쳐서 제막하고, 상기 제막 후에 권취된 필름 원단을 권출하여, 경사 방향으로 연신하는 공정을 거쳐, 상기 수지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018180163A (ja) * 2017-04-07 2018-11-15 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、偏光板、表示装置および光学フィルムの製造方法
JP7115867B2 (ja) 2018-02-22 2022-08-09 日本化工塗料株式会社 環状オレフィン系樹脂基材を含む積層体、及び環状オレフィン系樹脂基材を含む積層体の製造方法
KR20200096528A (ko) * 2017-12-08 2020-08-12 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 가요성 하드코트
CN112805337B (zh) * 2018-10-03 2022-10-28 柯尼卡美能达株式会社 树脂组合物和电子设备
JP7326958B2 (ja) * 2019-07-22 2023-08-16 コニカミノルタ株式会社 積層フィルムおよびその製造方法
JPWO2021111814A1 (ko) * 2019-12-06 2021-06-10

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101127952B1 (ko) * 2011-03-16 2012-03-23 에스케이씨 주식회사 광학용 하드코팅 필름

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004149782A (ja) * 2002-10-09 2004-05-27 Mitsubishi Chemicals Corp 熱可塑性樹脂組成物及びそれを用いてなる成形体
JP2007217667A (ja) * 2006-01-17 2007-08-30 Sekisui Chem Co Ltd 熱可塑性樹脂フィルム、位相差フィルム及び偏光子保護フィルム
JP2008304904A (ja) * 2007-05-07 2008-12-18 Jsr Corp 偏光板
US8597780B2 (en) * 2007-08-10 2013-12-03 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Hard coat film
JP2010015045A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Sumitomo Chemical Co Ltd 楕円偏光板ロールおよびその製造方法、ならびに楕円偏光板付き液晶基板ロールおよび表示装置
JP2010186124A (ja) * 2009-02-13 2010-08-26 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、表示装置
JP5678965B2 (ja) * 2010-11-05 2015-03-04 コニカミノルタ株式会社 前面板付き液晶表示装置の製造方法、前面板付き液晶表示装置
JP2012108394A (ja) * 2010-11-18 2012-06-07 Nippon Zeon Co Ltd ハードコート層を有する反射防止積層体
JP5884563B2 (ja) 2012-03-07 2016-03-15 日本ゼオン株式会社 ハードコートフィルム
JP6308721B2 (ja) * 2012-03-30 2018-04-11 日東電工株式会社 偏光フィルム、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2014070211A (ja) 2012-10-01 2014-04-21 Mitsubishi Chemicals Corp ハードコート付きシクロオレフィン系高分子フィルムの製造方法
US9475947B2 (en) * 2013-03-15 2016-10-25 Google Technology Holdings LLC Siloxane coating for a display lens assembly for mobile devices

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101127952B1 (ko) * 2011-03-16 2012-03-23 에스케이씨 주식회사 광학용 하드코팅 필름

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