CN106094061B - 光学膜及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于提供一种表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的光学膜。另外，本发明的课题在于提供其制造方法。本发明的光学膜的特征在于，是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜，上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，并且上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。

Description

光学膜及其制造方法
技术领域
本发明涉及表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的光学膜及其制造方法。
背景技术
近年来，对显示装置强烈要求大型化、薄膜化、挠性化等，包含偏振片的各部件的高功能化不断发展。
组合于搭载有机电致发光元件(以下，也称为有机EL元件)的图像显示装置的偏振片，一般具有在2个保护膜间配置有起偏器的构成，为了对偏振片附加防反射功能，有机EL元件侧使用赋予了相位差的保护膜。另外，液晶显示装置(LCD)具有液晶单元和夹持该液晶单元的一对偏振片。对于这些显示装置中使用的偏振片中的特别是视觉辨认侧的偏振片，为了防止表面带伤，要求具有高耐擦伤性。
作为基材膜，以往一直广泛使用乙酸纤维素膜。但是，该膜具有具备吸湿性、透湿性的缺点。环烯烃系树脂由于该缺点少，耐水性、耐热性、透明性、尺寸稳定性等良好，因此作为用于保护膜的优异的热塑性树脂受到关注。然而，使用环烯烃系树脂作为光学膜时，存在表面硬度不充分而容易带伤的问题。
作为其对策，正在研究提高视觉辨认侧的偏振片所使用的光学膜的表面硬度。作为为了提高光学膜的表面硬度而在基材膜上层叠硬涂层的技术，例如，专利文献1中公开了通过使环烯烃膜上的硬涂层含有微粒来提高抗粘连性、耐擦伤性的技术。另外，专利文献2中公开了在涂布硬涂层前经由与满足特定的条件的溶剂接触的工序而制造环烯烃系高分子膜的制造方法。
然而，这些技术在通过提高在由环烯烃系树脂构成的基材上设置有硬涂层的光学膜的表面硬度而改善耐擦伤性方面都不充分。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2013－186236号公报
专利文献2：日本特开2014－70211号公报
发明内容
本发明是鉴于上述问题·状况而进行的，其所要解决的课题在于提供表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的光学膜。另外，本发明的课题在于提供其制造方法。
本发明人为了解决上述课题，在对上述问题的原因等进行研究的过程中，通过发现使硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子，并且，使基材膜的环烯烃系树脂含有特定量的低分子化合物，能够提高光学膜的表面硬度而大幅提高耐擦伤性，从而完成了本发明。
即，本发明的上述课题通过以下的手段解决。
1.一种光学膜，其特征在于，是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜，上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，并且上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。
2.根据第1项所述的光学膜，其特征在于，上述树脂层中含有的上述低分子量化合物为紫外线吸收剂。
3.根据第1项所述的光学膜，其特征在于，上述硬涂层中含有的上述二氧化硅粒子相对于上述紫外线固化树脂的质量比的值(二氧化硅粒子/紫外线固化树脂)在10/90～50/50的范围内。
4.根据第1项所述的光学膜，其特征在于，上述二氧化硅粒子的平均一次粒径为200nm以下。
5.根据第1项所述的光学膜，其特征在于，上述硬涂层的厚度在2～15μm的范围内。
6.根据第1项～第5项中任一项所述的光学膜，其特征在于，在23℃·55％RH的环境下，光波长550nm的面内方向的延迟值(Ro(550))满足下述式(1)。
式(1)：100nm≤Ro(550)≤170nm
7.一种光学膜的制造方法，其特征在于，是制造在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜的制造方法，上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子，并且，经由将涂布液进行涂布的工序而形成硬涂层，上述涂布液是使用醇、酯、醚或者酮中的至少2种溶剂作为含有上述紫外线固化树脂和上述二氧化硅粒子的涂布液的溶剂而制备的涂布液。
8.一种光学膜的制造方法，其特征在于，是制造在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜的制造方法，上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子，并且，经由将溶解有含有上述环烯烃系树脂的树脂的溶液流延在基体上的工序来制膜，形成上述树脂层。
9.根据第8项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，在上述制膜后经由将卷绕的膜料卷(原反)开卷并在倾斜方向拉伸的工序而形成上述树脂层。
利用本发明的上述方式，能够提供表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的光学膜。另外，能够提供其制造方法。
虽然本发明的效果的表现机理和作用机理尚不明确，但推测如下。
通过使基材膜的环烯烃系树脂含有特定量的低分子化合物而能够大幅增加表面硬度，考虑是因为通过在环烯烃系树脂中添加低分子量化合物，从而使该添加剂能够相容性良好地填上环烯烃系树脂的自由体积，树脂层的密度增加。并且，推断通过使硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子，能够实现表面硬度高、耐擦伤性优异的光学膜。
附图说明
图1是光学膜的构成的一个例子
图2A是能够倾斜拉伸的拉幅机的一个例子
图2B是能够倾斜拉伸的拉幅机的另一个例子
图3是液晶显示装置的构成的一个例子
符号说明
1 光学膜
2 树脂层
3 硬涂层
4 膜料卷
5 拉伸膜
6 倾斜拉伸拉幅机
7－1 外侧的膜把持机构的轨迹
7－2 内侧的膜把持机构的轨迹
8－1 外侧的膜把持开始点
8－2 内侧的膜把持开始点
9－1 外侧的膜把持结束点
9－2 内侧的膜把持结束点
10－1 外侧倾斜拉伸开始点
10－2 内侧倾斜拉伸开始点
11－1 外侧倾斜拉伸结束点
11－2 内侧倾斜拉伸结束点
11－3 外侧横拉伸区域终点
12－1 拉幅机入口侧的导辊
12－2 拉幅机出口侧的导辊
13 膜的拉伸方向
14－1 倾斜拉伸前的膜的搬运方向
14－2 倾斜拉伸后的膜的搬运方向
15 左右把持具彼此的搬运速度不同的部分
W0 倾斜拉伸前的膜宽度方向长度
W 倾斜拉伸后的膜宽度方向长度
30 液晶单元
50 第一偏振片
51 第一起偏器
53 光学膜(F1)
55 光学膜(F2)
70 第二偏振片
71 第二起偏器
73 光学膜(F3)
75 光学膜(F4)
90 背光灯
100 液晶显示装置
具体实施方式
本发明的光学膜的特征在于，是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜，上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，并且上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。该特征是权利要求1～权利要求9的权利要求涉及的发明所共有的技术特征。
作为本发明的实施方式，从本发明的效果体现的观点考虑，上述树脂层中含有的上述低分子量化合物优选为紫外线吸收剂。另外，从兼得高的表面硬度和低的雾度方面考虑，优选硬涂层中含有的上述二氧化硅粒子相对于上述紫外线固化树脂的质量比的值(二氧化硅粒子/紫外线固化树脂)在10/90～50/50的范围内。另外，从兼得雾度和耐擦伤性的观点考虑，优选上述二氧化硅粒子的平均一次粒径为200nm以下。
并且，从使偏振片薄膜化的趋势考虑，优选上述硬涂层的厚度在2～15μm的范围内。
另外，为了用作有机电致发光元件的防反射用途的保护膜，优选23℃·55％RH的环境下，光波长550nm的面内方向的延迟值(Ro(550))满足上述式(1)。
而且，作为制造本发明的光学膜的光学膜的制造方法，优选为制造在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜的制造方法，上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子，并且，经由将涂布液进行涂布的工序而形成硬涂层，所述涂布液是使用醇、酯、醚或者酮中的至少2种溶剂作为含有上述紫外线固化树脂和上述二氧化硅粒子的涂布液的溶剂而制备的。
另外，优选为经由将溶解有含有环烯烃系树脂的树脂的溶液流延在基体上的工序来制膜，形成上述树脂层的制造方法。并且，优选为制膜后经由将卷绕的膜料卷开卷并在倾斜方向拉伸的工序而形成树脂层的制造方法。
以下，对本发明和其构成要素以及用于实施本发明的方式、形式进行详细的说明。应予说明，本申请中，“～”以包含其前后记载的数值作为下限值和上限值的意思使用。
《光学膜的概要》
本发明的光学膜的特征在于，是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜，上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，并且上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。
图1是本发明的光学膜的一个例子。本发明的光学膜1以树脂层2作为基材膜，在树脂层2上具有硬涂层3。
光学膜1的厚度优选在10～100μm的范围内。更优选在15～50μm的范围内。另外，硬涂层的厚度优选在2～15μm的范围内，更优选在2～8μm的范围内。
本发明人发现通过使环烯烃系树脂含有低分子量化合物而使环烯烃膜的表面硬度增加的现象。这样的现象在纤维素酯系树脂中看不到，因此是环烯烃系树脂的特征。这样，表面硬度增加的现象尚不明确，但因推断是这些添加剂相容性良好地填上树脂的自由体积而使基材密度增加。因此推察改善具有硬涂层的本发明的光学膜的耐擦伤性。
《低分子量化合物》
本发明的光学膜是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜，上述树脂层在相对于上述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物。
如果环烯烃系树脂中添加的低分子量化合物的重均分子量Mw小于100，则无法提高表面硬度。另外，重均分子量Mw超过10000时，雾度变高。优选低分子量化合物的重均分子量Mw在300～2500的范围内。应予说明，本发明中，低分子量化合物不是聚合物时，重均分子量表示低分子量化合物的分子量。
通过相对于上述环烯烃系树脂添加0.1质量％以上的这些低分子量化合物，能够使环烯烃系树脂的表面硬度增加。即便添加量超过5.0质量％，表面硬度也降低，而且雾度也上升，因而不优选。优选在相对于环烯烃系树脂为0.5～3.0质量％的范围内添加低分子量化合物。
重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物没有特别限制，优选从紫外线吸收剂、聚酯系化合物以及具有呋喃糖结构或吡喃糖结构的化合物中选择。优选低分子量化合物为紫外线吸收剂。
<紫外线吸收剂>
作为本发明中优选使用的紫外线吸收剂的具体例，例如可举出氧基二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、三嗪系化合物以及镍络合盐系化合物等，不特别限定于这些，也可使用其以外的紫外线吸收剂。其中优选苯并三唑系化合物。
作为苯并三唑系紫外线吸收剂，可以使用下述通式(1)表示的化合物。
通式(1)
式中，R1、R2、R3、R4以及R5可以相同也可以不同，表示氢原子、卤素原子、硝基、羟基、烷基、烯基、芳基、烷氧基、酰氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、单或二烷基氨基、酰氨基或者5～6元的杂环基，R4和R5可以闭环而形成5～6元的碳环。
以下举出通式(1)表示的苯并三唑系化合物的紫外线吸收剂的具体例，但本发明不限定于这些。
2－(2′－羟基－5′－甲基苯基)苯并三唑、2－(2′－羟基－3′,5′－二叔丁基苯基)苯并三唑、2－(2′－羟基－3′－叔丁基－5′－甲基苯基)苯并三唑、2－(2′－羟基－3′,5′－二叔丁基苯基)－5－氯苯并三唑、2－(2′－羟基－3′－(3″,4″,5″,6″－四氢邻苯二甲酰亚胺甲基)－5′－甲基苯基)苯并三唑、2,2－亚甲基双(4－(1,1,3,3－四甲基丁基)－6－(2H－苯并三唑－2－基)苯酚)、2－(2′－羟基－3′－叔丁基－5′－甲基苯基)－5－氯苯并三唑，市售品中，可举出BASF Japan公司制的Tinuvin 928、Tinuvin 109以及Tinuvin171等。
另外，作为属于本发明的紫外线吸收剂之一的二苯甲酮系紫外线吸收剂，可以使用下述通式(2)表示的化合物。
通式(2)
式中，Y表示氢原子、卤素原子或者烷基、烯基、烷氧基以及苯基，这些烷基、烯基以及苯基可以具有取代基。A表示氢原子、烷基、烯基、苯基、环烷基、烷基羰基、烷基磺酰基或者－CO(NH)n－1－D基，D表示烷基、烯基或者可以具有取代基的苯基。m和n表示1或者2。
上述中，作为烷基，例如表示碳原子数24以下的直链或者支链的脂肪族基，作为烷氧基，例如为碳原子数18以下的烷氧基，作为烯基，例如为碳原子数16以下的烯基，例如表示烯丙基、2－丁烯基等。另外，作为对于烷基、烯基、苯基的取代成分，可举出卤素原子，例如氯、溴、氟原子等、羟基、苯基(该苯基可以取代有烷基或者卤素原子等)等。
以下示出通式(2)表示的二苯甲酮系化合物的具体例，本发明不限定于这些。
2,4－二羟基二苯甲酮、2,2′－二羟基－4－甲氧基二苯甲酮、2－羟基－4－甲氧基－5－磺基二苯甲酮、双(2－甲氧基－4－羟基－5－苯甲酰基苯基甲烷)
本发明中，特别优选为分子内具有3个以上的芳香族环(例如，苯环等)或者环烷基环(例如，环己烷环等)的紫外线吸收剂。
作为三嗪系紫外线吸收剂，没有特别限制，例如，可举出2,4－二苯基－6－(2－羟基－4－甲氧基苯基)－1,3,5－三嗪、2,4－二苯基－6－(2－羟基－4－乙氧基苯基)－1,3,5－三嗪、2,4－二苯基－(2－羟基－4－丙氧基苯基)－1,3,5－三嗪、2,4－二苯基－(2－羟基－4－丁氧基苯基)－1,3,5－三嗪、2,4－二苯基－6－(2－羟基－4－丁氧基苯基)－1,3,5－三嗪、2,4－二苯基－6－(2－羟基－4－己氧基苯基)－1,3,5－三嗪、2,4－二苯基－6－(2－羟基－4－辛氧基苯基)－1,3,5－三嗪、2,4－二苯基－6－(2－羟基－4－十二烷基氧基苯基)－1,3,5－三嗪、2,4－二苯基－6－(2－羟基－4－苄氧基苯基)－1,3,5－三嗪、〔2－(4,6－二苯基－1,3,5－三嗪－2－基)－5－(己基)氧基苯酚〕(Tinuvin1577FF，BASF Japan公司制)、〔2－[4,6－双(2,4－二甲基苯基)－1,3,5－三嗪－2－基]－5－(辛氧基)苯酚〕(CYASORB UV－1164，Cytec Industries制)、Tinuvin405(BASFJapan公司制)等。
<聚酯系化合物>
作为本发明中使用的聚酯系化合物，优选为由至少1种苯单羧酸与至少1种的碳原子数2～12的亚烷基二醇的缩聚得到的聚酯系化合物。更优选为邻苯二甲酸、己二酸、至少1种的苯单羧酸以及至少1种的碳原子数2～12的亚烷基二醇的缩聚而得到的聚酯系化合物。
作为聚酯系化合物中的苯单羧酸成分，例如，有苯甲酸、对叔丁基苯甲酸、邻甲基苯甲酸、间甲基苯甲酸、对甲基苯甲酸、二甲基苯甲酸、乙基苯甲酸、正丙基苯甲酸、氨基苯甲酸、乙酰氧基苯甲酸等，它们分别可以使用1种或者使用2种以上的混合物。最优选为苯甲酸。
作为碳原子数2～12的亚烷基二醇成分，有乙二醇、1,2－丙二醇、1,3－丙二醇、三羟甲基乙烷、1,2－丁二醇、1,3－丁二醇、1,2－丙二醇、2－甲基－1,3－丙二醇、1,4－丁二醇、1,5－戊二醇、2,2－二甲基－1,3－丙二醇(新戊二醇)、2,2－二乙基－1,3－丙二醇(3,3－二羟甲基戊烷)、2－正丁基－2－乙基－1,3丙二醇(3,3－二羟甲基庚烷)、3－甲基－1,5－戊二醇1,6－己二醇、2,2,4－三甲基－1,3－戊二醇、2－乙基－1,3－己二醇、2－甲基－1,8－辛二醇、1,9－壬二醇、1,10－癸二醇、1,12－十二烷二醇等，这些二醇使用1种或者2种以上的混合物。特别优选1,2－丙二醇。
这些聚酯系化合物，优选具有己二酸残基和邻苯二甲酸残基作为最终的化合物的结构。制造这样聚酯系化合物时，可以以二羧酸的酸酐或者酯化物的形式反应。这样的聚酯系化合物可以参考日本特开2008－69225号公报、日本特开2008－88292号公报以及日本特开2008－115221号公报等来合成。
<具有呋喃糖结构或吡喃糖结构的化合物>
作为本发明的具有呋喃糖结构或吡喃糖结构的化合物，包括具有至少1个呋喃糖结构或吡喃糖结构、且1～12个该呋喃糖结构或吡喃糖结构键合而成的化合物中的羟基的全部或者一部分酯化而得的糖酯。优选为将该羟基的全部酯化而得的糖酯。
作为优选的“具有至少1个呋喃糖结构或吡喃糖结构、且1～12个该呋喃糖结构或吡喃糖结构键合而成的化合物”的例子，可以举出例如如下的化合物，本发明不限定于这些。
可举出葡萄糖、半乳糖、甘露糖、果糖、木糖、阿拉伯糖、乳糖、蔗糖、纤维二糖、纤维三糖、麦芽三糖、棉子糖等，特别优选具有呋喃糖结构和吡喃糖结构这两者的糖。作为例子，可举出蔗糖。
《环烯烃系树脂》
本发明的光学膜具有含有环烯烃系树脂的树脂层。作为本发明的环烯烃系树脂，可举出具有如下的结构的环烯烃单体的(共)聚合物。
通式(3)
(式中，R1～R4各自独立地为被氢原子、烃基、卤素原子、羟基、酯基、羧基、烷氧基、氰基、酰胺基、酰亚胺基、甲硅烷基、或者极性基团(即，卤素原子、羟基、酯基、烷氧基、氰基、酰胺基、酰亚胺基、或者甲硅烷基)取代的烃基。其中，R1～R4可以2个以上相互键合而形成不饱和键、单环或者多环，该单环或者多环可以具有双键，也可以形成芳香环。可以由R1与R2或者R3与R4形成烷叉基。p、m为0以上的整数。)
上述通式(3)中，R1和R3表示氢原子或者碳原子数1～10的烃基，更优选表示1～4的烃基，特别优选表示1～2的烃基。R2和R4为氢原子或者1价的有机基团，R2和R4中的至少1个表示氢原子或者烃基以外的具有极性的极性基团。m为0～3的整数，p为0～3的整数，更优选为m+p＝0～4，进一步优选为0～2，特别优选为m＝1，p＝0。从得到的环烯烃系树脂的玻璃化转变温度高且机械强度也优异的方面考虑，优选m＝1、p＝0的特定单体。
作为上述特定单体的极性基团，可举出羧基、羟基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基、酰胺基、氰基等，这些极性基团可以介由亚甲基等连接基团键合。另外，也可举出羰基、醚基、甲硅烷基醚基、硫醚基、亚氨基等具有极性的2价的有机基团成为连接基团而键合的烃基等作为极性基团。其中，优选羧基、羟基、烷氧羰基或者芳氧羰基，特别优选烷氧羰基或者芳氧羰基。
并且，从得到的环烯烃系树脂具有高的玻璃化转变温度和低的吸湿性以及与各种材料的优异的密合性方面考虑，优选R2和R4中的至少1个为式－(CH2)nCOOR表示的极性基团的单体。上述的特定的极性基团所述的式中，R为碳原子数1～12的烃基，进一步优选为1～4的烃基，特别优选为1～2的烃基，优选为烷基。
作为共聚性单体的具体例，可以举出环丁烯、环戊烯、环庚烯、环辛烯、二环戊二烯、降冰片烯等环烯烃。
作为环烯烃的碳原子数，优选为4～20，进一步优选为5～12。
本发明中，环烯烃系树脂可以单独使用1种或者并用2种以上。
本发明的环烯烃系树脂的优选分子量以固有粘度〔η〕inh计为0.2～5dL/g，进一步优选为0.3～3dL/g，特别优选为0.4～1.5dL/g，用凝胶渗透色谱(GPC)测定的聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)优选为8000～100000，进一步优选为10000～80000，特别优选为12000～50000，重均分子量(Mw)优选为20000～300000，进一步优选为30000～250000，特别优选为40000～200000的范围。
通过固有粘度〔η〕inh、数均分子量以及重均分子量在上述范围，环烯烃系树脂的耐热性、耐水性、耐药品性、机械特性和作为环烯烃膜的成型加工性良好。
作为本发明的环烯烃系树脂的玻璃化转变温度(Tg)，通常为110℃以上，优选为110～350℃，进一步优选为120～250℃，特别优选为120～220℃。Tg为110℃以上时，不会因在高温条件下使用或者经过涂布、印刷等二次加工而发生变形。另一方面，如果Tg为350℃以下，则成型加工变得容易，另外，不会因成型加工时的热而使树脂劣化。
光学膜具有含有环烯烃系树脂的树脂层作为基材膜。优选树脂层中的50质量％以上为环烯烃系树脂，更优选在80～99质量％的范围内。
在不损害本发明的效果的范围内，环烯烃系树脂中也可以含有例如日本特开平9－221577号公报、日本特开平10－287732号公报中记载的特定的烃类树脂，或者，公知的热塑性树脂、热塑性弹性体、橡胶质聚合物、橡胶粒子等添加剂。
以上说明的环烯烃系树脂可以优选使用市售品，作为市售品的例子，由JSR株式会社以ARTON G、ARTON F、ARTON R以及ARTON RX这样的商品名发售，另外由日本ZEON株式会社以ZEONOR ZF14、ZF16、ZEONEX 250或者ZEONEX 280这样的商品名出售，可以使用这些市售品。
<微粒>
为了对作为基材膜的树脂层赋予表面的滑性等，在不损害本发明的效果的范围内，可以含有微粒(消光剂)。微粒可以由无机化合物构成，也可以由树脂构成。
无机化合物的例子，可举出二氧化硅、二氧化钛、氧化铝、氧化锆、碳酸钙、滑石、粘土、煅烧高岭土、煅烧硅酸钙、水和硅酸钙、硅酸铝、硅酸镁以及磷酸钙等。
树脂的例子中包括有机硅树脂、氟树脂以及丙烯酸树脂。其中优选有机硅树脂，特别优选具有三维的网状结构的有机硅树脂，例如，可举出以TOSPEARL 103、TOSPEARL 105、TOSPEARL 108、TOSPEARL 120、TOSPEARL 145、TOSPEARL 3120以及TOSPEARL 240(以上东芝有机硅株式会社制)的商品名出售的市售品。
其中，从能够降低膜的浊度方面考虑，优选二氧化硅的微粒。作为二氧化硅的微粒的例子，可举出AEROSIL R972、AEROSIL R972V、AEROSIL R974、AEROSIL R812、AEROSIL200、AEROSIL 200V、AEROSIL 300、AEROSIL R202、AEROSIL OX50、AEROSIL TT600(以上日本AEROSIL株式会社制)，从保持膜的雾度较低并降低摩擦系数的效果大的方面考虑，优选为AEROSIL 200V、AEROSIL R972V。
《硬涂层》
本发明的光学膜在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层，并且上述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。通过在具有高的表面硬度的树脂层上具有硬涂层，能够提高光学膜的耐冲击性、操作容易性等。
<紫外线固化树脂>
作为紫外线固化树脂，优选使用含有具有乙烯性不饱和双键的单体的成分。通过紫外线照射，能够形成机械膜强度(耐擦伤性、铅笔硬度)优异的硬涂层。
例如，可举出有机硅系、三聚氰胺系、环氧系、丙烯酸酯系、多官能(甲基)丙烯酸系化合物等有机系硬涂材料；二氧化硅等无机系硬涂材料等。其中，从粘接力良好、生产性优异的观点考虑，优选使用(甲基)丙烯酸酯系和多官能(甲基)丙烯酸系化合物的硬涂形成材料。这里，(甲基)丙烯酸表示丙烯酸和甲基丙烯酸。
(甲基)丙烯酸酯可以举出分子内具有1个聚合性不饱和基团的(甲基)丙烯酸酯、分子内具有2个聚合性不饱和基团的(甲基)丙烯酸酯、分子内具有3个以上聚合性不饱和基团的(甲基)丙烯酸酯、分子内含有3个以上聚合性不饱和基团的(甲基)丙烯酸酯低聚物。例如，作为多官能丙烯酸酯，可以使用季戊四醇多官能丙烯酸酯、二季戊四醇多官能丙烯酸酯、季戊四醇多官能甲基丙烯酸酯以及二季戊四醇多官能甲基丙烯酸酯等。(甲基)丙烯酸酯可以单独使用，也可以使用2种以上。
另外，在本发明的硬涂层中，在不损害本发明的效果的范围，还可以根据需要配合各种添加剂。例如，可以使用抗氧化剂、紫外线稳定剂、紫外线吸收剂、表面活性剂、流平剂、抗静电剂等。
流平剂特别是在涂覆硬涂层时，有效降低表面凹凸。作为流平剂，例如，优选作为有机硅系流平剂的二甲基聚硅氧烷－聚氧化烯共聚物。
作为上述紫外线稳定剂，例如，适当使用对紫外线的稳定性高的受阻胺系紫外线稳定剂。通过硬涂层含有紫外线稳定剂，由紫外线产生的自由基、活性氧等被灭活，能够提高紫外线稳定性、耐久性等。
作为上述紫外线吸收剂，例如，可以举出水杨酸系紫外线吸收剂、二苯甲酮系紫外线吸收剂、苯并三唑系紫外线吸收剂、氰基丙烯酸酯系紫外线吸收剂、三嗪系紫外线吸收剂、苯并嗪酮系紫外线吸收剂等，可以使用选自它们中的1种或者2种以上。其中，从分散性方面考虑，优选三嗪系紫外线吸收剂、苯并嗪酮系紫外线吸收剂。另外，作为上述紫外线吸收剂，优选使用分子链具有紫外线吸收基团的聚合物。通过使用上述分子链具有紫外线吸收基团的聚合物，能够防止由紫外线吸收剂的渗出等导致的紫外线吸收功能的劣化。作为该紫外线吸收基团，可举出苯并三唑基、二苯甲酮基、氰基丙烯酸酯基、三嗪基、水杨酸酯基、苯亚甲基丙二酸酯基等。其中，特别优选苯并三唑基、二苯甲酮基、三嗪基。
<二氧化硅粒子>
本发明的光学膜的硬涂层含有二氧化硅粒子。硬涂层中含有的二氧化硅粒子相对于紫外线固化树脂的质量比的值(二氧化硅粒子/紫外线固化树脂)优选在10/90～50/50的范围内。从提高硬涂层的硬度方面考虑，优选该比的值为10/90以上，通过为50/50以下，不会使雾度、耐擦伤性劣化，因而优选。
从兼得雾度和表面硬度方面考虑，优选二氧化硅粒子的平均一次粒径为200nm以下。优选为5～100nm，更优选为10～50nm的范围内。
另外，二氧化硅粒子的粒子表面未处理，表面也硬度上升，但优选有机成分覆盖表面的一部分、且表面具有利用该有机成分导入的反应性的聚合性不饱和基团的二氧化硅粒子。
(被含有聚合性不饱和基团的化合物覆盖的反应性二氧化硅粒子)
作为本实施方式中优选使用的平均一次粒径5～200nm的二氧化硅粒子，可举出至少表面的一部分被有机成分覆盖、表面具有利用该有机成分导入的反应性的聚合性不饱和基团的二氧化硅粒子。
作为未被表面修饰的二氧化硅粒子，可以使用公知的二氧化硅粒子。另外，其形状可以是球状，也可以是不定形，并不局限于通常的胶体二氧化硅，也可以是中空粒子、多孔粒子、核/壳型粒子等，但优选胶体二氧化硅。
二氧化硅粒子的分散介质优选水或者有机溶剂。作为有机溶剂，可以举出甲醇、异丙醇、乙二醇、丁醇、乙二醇单丙醚等醇类；甲基乙基酮、甲基异丁基酮等酮类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N－甲基吡咯烷酮等酰胺类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ－丁内酯等酯类；四氢呋喃、1,4－二烷等醚类等有机溶剂，其中，优选醇类和酮类。这些有机溶剂可以单独使用或者混合2种以上使用作为分散介质。
作为市售品，例如，作为胶体二氧化硅，可以举出日产化学工业株式会社制IPA－ST、IPA－ST－L、IPA－ST－ZL、MEK－ST－L、MEK－ST－MS等。
反应性二氧化硅粒子用具有反应性的聚合性不饱和基团的有机化合物对上述那样的胶体二氧化硅进行表面处理而得到。即，这里，覆盖二氧化硅粒子的表面的有机成分是指表面处理所使用的来自具有反应性的聚合性不饱和基团的有机化合物的有机成分。
作为为了用有机成分覆盖二氧化硅粒子的表面而用于表面处理的有机化合物，是具有聚合性不饱和基团的有机化合物。作为聚合性不饱和基团，优选为羟基、羧基、氨基、环氧基、异氰酸酯基、(甲基)丙烯酰基、乙烯基中的任意2种以上，特别优选为羟基、羧基、异氰酸酯基中的任一者和(甲基)丙烯酰基。
应予说明，本发明中，(甲基)丙烯酸酯表示甲基丙烯酸酯或者丙烯酸酯。
并且，作为具有聚合性不饱和基团的有机化合物的具体例，例如，可举出3－甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3－甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3－甲基丙烯酰氧基丙基二乙氧基硅烷、3－甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3－丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等偶联剂；丙烯酸甲酯、丙烯酸－2－乙基己酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸甲氧基丁酯、丙烯酸苯酯等丙烯酸酯类，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸月桂酯等甲基丙烯酸酯类，丙烯酸－2－(N,N－二乙基氨基)乙酯、甲基丙烯酸－2－(N,N－二甲基氨基)乙酯、丙烯酸－2－(N,N－二苄基氨基)甲酯、丙烯酸－2－(N,N－二乙基氨基)丙酯等不饱和取代酸的取代氨基醇酯类；丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等不饱和羧酸酰胺；乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,6－己二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯等化合物；二丙二醇二丙烯酸酯，乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯等多官能性化合物；和/或，支链中具有2个以上的巯基的多硫醇化合物(例如三羟甲基丙烷三巯基乙酸酯、三羟甲基丙烷三巯基丙醇盐、季戊四醇三巯基乙二醇等)。
通过使用这样具有聚合性不饱和基团的反应性二氧化硅粒子，产生粘结剂树脂与二氧化硅粒子的交联、二氧化硅粒子彼此的交联，得到硬度的提高、防止粒子的脱落这样的效果。另外，通过使用被修饰的二氧化硅粒子，也能够实现耐药品性的提高。
从抑制二氧化硅粒子的凝聚，并且向二氧化硅粒子表面导入大量反应性官能团而提硬涂层的硬度方面考虑，优选上述有机成分覆盖粒子表面的几乎整体。从这样的观点考虑，覆盖二氧化硅粒子的上述有机成分优选在反应性二氧化硅粒子中含有1.00×10－3g/m2以上。
该覆盖的有机成分的比例，通常，以干燥粉体在空气中完全燃烧时的质量减少的恒量值的形式，例如，通过空气中从室温到通常800℃为止的热质量分析而求出。应予说明，每单位面积的有机化合物量可以通过以下的方法求出。首先，通过差热质量分析(DTG)，测定将有机成分质量除以无机成分质量而得的值(有机成分质量/无机成分质量)。接下来，由无机成分质量与使用的二氧化硅的比重计算无机成分整体的体积。另外，假设覆盖前的二氧化硅粒子为真球状，由覆盖前的二氧化硅粒子的平均粒径计算覆盖前的每一个二氧化硅的体积和表面积。接下来，将无机成分整体的体积除以覆盖前的每一个二氧化硅粒子的体积，由此求出反应性二氧化硅粒子的个数。进而，通过将有机成分质量除以反应性二氧化硅粒子的个数，求出每一个反应性二氧化硅粒子的有机成分量。最后，将每一个反应性二氧化硅粒子的有机成分质量除以覆盖前的每一个二氧化硅粒子的表面积，由此能够求出每单位面积的有机成分量。
作为制备至少表面的一部分覆盖有有机成分、表面具有利用该有机成分导入的聚合性不饱和基团的反应性二氧化硅粒子的方法，根据要向该二氧化硅粒子导入的聚合性不饱和基团的种类等，可以适当地使用以往公知的方法。具体而言，例如，可以利用后述的实施例中记载的方法等制备反应性二氧化硅粒子。
应予说明，作为反应性二氧化硅粒子，可以使用不含有分散介质的粉末状，可以省略分散工序，从生产率高方面考虑，优选采用将微粒制成溶剂分散溶胶的形式。
作为上述反应性二氧化硅粒子的市售品，可以举出日产化学工业株式会社制：MIBK－SD、MIBK－SDMS、MIBK－SDL、IPA－ST、IPA－SDMS等。
应予说明，平均一次粒径可以利用激光衍射·散射法等进行测定。例如，可以使用利用粒度分布计Microtrac(日机装株式会社制)等测得的d55。二氧化硅粒子进行了表面修饰时，将包含表面修饰的粒子的粒径作为本发明中的粒径。
《树脂层的制造方法》
作为基材膜，树脂层可以用任意的方法制造，即便是分子量比较大的树脂也容易制膜，另外，从容易将添加剂均匀添加到树脂层中等方面考虑，优选经由将溶解了含有环烯烃系树脂的树脂的溶液流延在基体上的工序来制膜，形成上述树脂层。即，优选用溶液流延法制造。
另外，为了用作有机电致发光元件的防反射用途的保护膜，优选在上述制膜后经由将卷绕的膜料卷开卷、并在倾斜方向拉伸的工序而形成上述树脂层。
树脂层可以经由1)使上述的各成分溶解在溶剂中而制备胶浆(dope)液的工序，2)将胶浆液流延到环形基体上的工序，3)将流延的胶浆干燥后，剥离得到膜状物(料卷)的工序，4)对膜状物进行干燥和拉伸的工序制造。
应予说明，以下的记载中，仅本发明的树脂层的膜称为树脂膜。
作为上述1)的工序使用的溶剂，例如，可举出氯仿、二氯甲烷等氯系溶剂；甲苯、二甲苯、苯、以及它们的混合溶剂等芳香族系溶剂；甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、2－丁醇等醇系溶剂；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、乙二醇单甲醚、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、二烷、环己酮、四氢呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、乙酸乙酯、二乙基醚等。
溶液流延法中，对于胶浆中的环烯烃系树脂的浓度，浓度高的胶浆因能够降低流延到基体后的干燥负荷而优选，环烯烃系树脂的浓度过高时，过滤时的负荷增加，过滤精度变差。作为兼得这两方面的浓度，优选在10～35质量％的范围内，进一步优选在15～25质量％的范围内。流延(浇铸)工序中的基体优选对表面进行镜面精加工的基体，优选使用不锈钢带或者用铸件对表面进行镀覆精加工的鼓。
浇铸的宽度可以在1～4m的范围内。流延工序的基体的表面温度设定为－50℃至溶剂沸腾但不发泡的温度以下。温度高的基体，料片(web)的干燥速度快，因而优选。另外，如果在该温度范围内，则没有料片发泡或平面性劣化的担心。
作为优选的基体温度，在0～100℃的范围内适当地决定，进一步优选5～30℃的范围内。或者，通过冷却使料片凝胶化而以含有大量残留溶剂的状态从鼓上剥离也是优选的方法。控制基体的温度的方法没有特别限制，有吹热风或者冷风的方法；使基体的背面侧接触温水的方法。使用温水的一方高效地进行热的传递，因此基体的温度达到一定的时间短，因而优选。
使用热风时，考虑由溶剂的蒸发潜热所致的料片的温度降低，有时使用溶剂的沸点以上的热风，同时使用防止发泡且高于目标温度的温度的风。
特别优选在从流延到剥离的期间变更基体的温度和干燥风的温度，高效地进行干燥。
为了使树脂膜显示良好的平面性，从基体剥离料片时的残留溶剂量优选在10～150质量％的范围内，进一步优选在20～40质量％或者60～130质量％的范围内，特别优选在20～30质量％或者70～120质量％的范围内。
残留溶剂量由下述式定义。
残留溶剂量(质量％)＝{(M－N)/N}×100
应予说明，M是在制造中或者制造后的任意的时刻采取料片或者膜而得的试料的质量，N是将M在115℃加热1小时后的质量。
另外，树脂膜的干燥工序中，将料片从基体剥离并进一步干燥，优选残留溶剂量为1质量％以下，进一步优选为0.1质量％以下，特别优选在0～0.01质量％的范围内。
膜干燥工序中一般采用滚筒干燥方式(上下配置的多个滚筒交替通过料片进行干燥的方式)、边以拉幅机方式边搬运料片边干燥的方式。
拉伸工序中，最大拉伸方向(拉伸率为最大的方向)的拉伸率可以优选5～80％，更优选12～60％的范围内。例如，在相互正交的2轴向拉伸时，在搬运方向(MD方向)可以为0～60％，在宽度方向(TD方向)可以5～70％。拉伸率(％)由下述式定义。
拉伸率(％)＝{(拉伸后的膜的(拉伸方向)长度－拉伸前的膜的(拉伸方向)长度)/拉伸前的膜的(拉伸方向)长度)}×100
拉伸温度可以为120～180℃，优选为140～180℃，更优选在145～165℃的范围内。
拉伸开始时的膜状物(也称为膜料卷)的残留溶剂，从抑制雾度的上升的观点考虑，优选小于5质量％，更优选4质量％以下，进一步优选2质量％以下。为了将拉伸开始时的残留溶剂保持在小于5质量％，优选将流延的胶浆从基体剥离并搬运的过程中设置上述干燥工序而使溶剂蒸发。
拉伸膜状物的方法，没有特别限定，可以是多个辊存在圆周速度差，其间利用辊圆周速度差在MD方向拉伸的方法；利用拉幅机将膜状物的两端用夹具或销固定，在TD方向扩大夹具或销的间隔进行拉伸的方法等。其中，TD方向的拉伸优选利用拉幅机进行，可以是销拉幅机，也可以是夹具拉幅机。
另外，也可以在制膜后经由将卷绕的膜料卷开卷，使用可倾斜拉伸的拉幅机在倾斜方向拉伸的工序来形成树脂层。
可倾斜拉伸的拉幅机是将膜料卷在由烘箱得到的加热环境下，在相对于其行进方向(膜宽度方向的中点的移动方向)的倾斜方向扩宽的装置。该拉幅机具备烘箱、在用于搬运膜的把持具移动的左右的一对导轨和在该导轨上移动的多个把持具。将从膜卷抽出并依次供给到拉幅机的入口部的膜的两端用把持具把持，向烘箱内导入膜，在拉幅机的出口部从把持具释放膜。从把持具释放的膜卷绕于卷芯。一对导轨分别具有环状连续轨道，在拉幅机的出口部释放膜的把持的把持具在外侧移动而依次返回入口部。
图2A和图2B是可倾斜拉伸的拉幅机的一个例子。如图2A所代表的那样，利用拉伸装置入口侧的导辊12－1控制方向的膜料卷4在外侧的膜保持开始点8－1、内侧的膜保持开始点8－2的位置利用把持具进行把持。
左右一对把持具彼此是匀速，用倾斜拉伸装置6在外侧的膜把持具的轨迹7－1、内侧的膜把持具的轨迹7－2表示的倾斜方向进行搬运、拉伸，利用外侧的膜把持结束点9－1、内侧的膜把持结束点9－2解放把持，通过拉伸装置出口侧的导辊12－2控制搬运，形成倾斜拉伸膜5。拉伸时的膜的加热温度、把持具的移动速度以及总拉伸倍率可以采用与上述的范围相同的范围。图中，膜料卷相对于膜的输送方向14－1以膜的拉伸方向14－2的角度14(抽出角度θi(繰出し角度))被倾斜拉伸。
本发明的实施方式的制造方法中使用的倾斜拉伸拉幅机中，特别是像图2A、图2B那样，在拉幅机内部中，对限制把持具的轨迹的导轨往往要求大的弯曲率。出于避免由急剧的弯曲所致的把持具彼此的干扰或者局部应力集中的目的，弯曲部优选把持具的轨迹为描绘圆弧的方式。
图2A表示的倾斜拉伸拉幅机中，在膜料卷的拉幅机入口的行进方向14－1与在拉伸后的膜的拉幅机出口侧的行进方向不同。抽出角度θi是在拉幅机入口的行进方向14－1与拉伸后的膜的拉伸方向14－2所成的角度。
图2B表示的倾斜拉伸拉幅机中，膜料卷在拉幅机入口的行进方向14－1转换为与拉幅机内以抽出角度θi在拉幅机入口的行进方向的不同方向进行搬运。其后进一步转换搬运方向，最终拉伸后的膜取得在拉幅机出口侧的行进方向一致的轨迹。在本发明中，为了如上述那样制造优选具有10～80°的取向角θ的膜，抽出角度θi设定为10°＜θi＜60°，优选设定以15°＜θi＜50°。通过使抽出角度θi为上述范围，得到的膜的宽度方向的光学特性的偏差变得良好(变小)。
对于其他工序，可以与公知的溶液流延法；例如日本特开2012－48214号的段落0109～0140相同。
<具有硬涂层的光学膜的制造方法>
具有硬涂层的光学膜可以经由1)准备上述的树脂膜的工序；和2)在该树脂膜上涂布硬涂用涂布液(活性能量射线固化物层用涂布液)后，进行干燥和固化而得到作为活性能量射线固化物层的硬涂层的工序来制造。
上述1)的准备树脂膜的工序如上所述。上述2)的工序中，从减少干燥不均方面考虑，优选涂布使用醇、酯、醚或者酮中的至少2种溶剂作为含有上述紫外线固化树脂和上述二氧化硅粒子的涂布液的溶剂而制备的涂布液。
作为上述2)的工序使用的溶剂，例如，可举出氯仿、二氯甲烷等氯系溶剂；甲苯、二甲苯、苯、以及它们的混合溶剂等芳香族系溶剂；甲醇、乙醇、异丙醇(IPA)、正丁醇、2－丁醇等醇系溶剂；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚(PGME)、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、二烷、环己酮、四氢呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、乙酸乙酯、二乙基醚等。
将使用醇、酯、醚或者酮中的至少2种溶剂进行溶解的溶液流延在基体上时，优选1种为酮类，酮类中，从UV固化树脂的溶解性的观点考虑，优选甲基乙基酮(MEK)。另外，优选另1种为醚类，醚类中，从高沸点、干燥慢、不均抑制效果的观点考虑，优选丙二醇单甲醚(PGME)。
上述2)的活性能量射线固化层用涂布液的涂布，例如可以利用浸渍法、模涂法、线棒法、喷雾法等任意方法进行。涂布后的干燥可以用公知的方法进行。
上述2)的活性能量射线固化层用涂布液的涂膜的固化可以通过照射活性能量射线进行。照射活性能量射线(优选紫外线)的光源的例子，可举出低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙灯等。照射光量可以为20～10000mJ/cm2左右，优选为50～2000mJ/cm2。照射时间优选0.5秒～5分钟，从作业效率等的观点考虑，更优选3秒～2分钟。
作为硬涂层的干层厚，优选层厚在2～15μm的范围内，更优选在3～8μm的范围内。
<起偏器>
起偏器是仅通过一定方向的偏振面的光的元件，现在已知的代表性的起偏器是聚乙烯醇系偏振膜。聚乙烯醇系偏振膜有使碘染色于聚乙烯醇系膜上的聚乙烯醇系偏振膜，使二色性染料染色于聚乙烯醇系膜上而得的聚乙烯醇系偏振膜。
聚乙烯醇系偏振膜可以是将聚乙烯醇系膜进行单轴拉伸后，用碘或者二色性染料进行染色而得的膜(优选进一步用硼化合物实施了耐久性处理的膜)；也可以是将聚乙烯醇系膜用碘或者二色性染料染色后，进行单轴拉伸的膜(优选进一步用硼化合物实施了耐久性处理的膜)。起偏器的吸收轴与膜的拉伸方向平行。
例如，使用日本特开2003－248123号公报、日本特开2003－342322号公报等中记载的乙烯单位的含量1～4摩尔％、聚合度2000～4000、皂化度99.0～99.99摩尔％的乙烯改性聚乙烯醇等。其中，优选使用热水切断温度为66～73℃的乙烯改性聚乙烯醇膜。
起偏器的厚度优选为5～30μm，从使偏振片轻薄化等方面考虑，更优选为10～20μm。
<偏振片>
本发明中使用本发明的光学膜作为保护膜，也可以介由起偏器与其他基材膜贴合来使用，但优选作为介由起偏器贴合相位差膜的偏振片使用。而且，也优选通过本发明的光学膜与具有相位差的起偏器贴合而作为偏振片。
本发明的偏振片优选用于有机EL显示装置、液晶显示装置。本发明的光学膜在23℃·55％RH的环境下，光波长550nm的面内方向的延迟值(Ro(550))优选满足下述式(1)。
式(1)：100nm≤Ro(550)≤170nm
通过Ro(550)满足式(1)，相位差膜作为λ/4相位差膜发挥功能。通过使用以起偏器的吸收轴与λ/4相位差膜的慢轴所成的角为45°的方式贴合而成的圆偏振片，能够赋予抑制外光的反射的功能。通过将其用于有机电致发光显示装置，防止由电极所致的反射光，能够制作优异的有机EL显示装置。
在波长550nm测定的面内的相位差值Ro(550)优选在120～160nm的范围内，Ro(550)进一步优选为130～150nm。
另外，用于液晶显示装置时，使用本发明的光学膜作为偏振片保护膜，优选使用将其介由起偏器与其他相位差膜贴合而成的偏振片。相位差膜的延迟值，不论组合的液晶单元的种类如何，例如在23℃·55％RH的条件下，在波长550nm测定的面内方向的延迟值Ro(550)都优选为20～100nm，厚度方向的延迟值Rth(550)都优选为70～300nm。延迟值为上述范围时，适合作为例如VA型液晶单元等的相位差膜。
面内方向的延迟值Ro和厚度方向的延迟值Rth分别由以下的式子定义。
式(I)：Ro＝(nx－ny)×d(nm)
式(II)：Rth＝{(nx+ny)/2－nz}×d(nm)
(式(I)和(II)中，
nx表示在膜的面内方向折射率最大的慢轴向x的折射率；
ny表示在膜的面内方向与上述慢轴向x正交的方向y的折射率；
nz表示膜的厚度方向z的折射率；
d(nm)表示膜的厚度)
延迟值Ro和Rth例如可以通过以下的方法求出。
1)将光学膜在23℃·55％RH下调湿。用阿贝折射仪等测定调湿后的光学膜的平均折射率。
2)对调湿后的光学膜，用KOBRA－21DH，王子计测机器株式会社测定与该膜表面的法线平行地入射测定波长550nm的光时的Ro。
3)利用KOBRA－21ADH，测定以光学膜的面内的慢轴作为倾斜轴(旋转轴)，从与该膜的表面的法线成θ的角度(入射角(θ))入射测定波长550nm的光时的延迟值R(θ)。延迟值R(θ)的测定可以在θ为0～50°的范围以10°为单位进行6点。面内慢轴是指膜面内的折射率最大的轴，可以利用KOBRA－21ADH进行确认。
4)由测定的Ro和R(θ)、上述的平均折射率和膜厚，利用KOBRA－21ADH计算nx、ny以及nz，计算在测定波长550nm的Rth。延迟值的测定可以在23℃·55％RH条件下进行。
延迟值可以通过改变拉伸倍率等进行调整。
偏振片可以经由将起偏器与本发明的光学膜介由粘合剂贴合的工序；将贴合的层叠物裁断成规定的大小的工序得到。贴合所使用的粘合剂可以是完全皂化型聚乙烯醇水溶液(水糊)，也可以使用活性能量射线固化性粘合剂进行。使用水糊时，从提高粘合性方面考虑，优选使用电晕放电处理装置对环烯烃膜进行电晕处理。
《液晶显示装置》
液晶显示装置包含液晶单元和夹持该液晶单元的一对偏振片。
图3是表示液晶显示装置的基本的构成的一个例子的示意图。如图3所示，液晶显示装置100包含液晶单元30、夹持该液晶单元30的第一偏振片50与第二偏振片70、以及背光灯90。
液晶单元30的显示模式可以是例如STN、TN、OCB、HAN、VA(MVA、PVA)、IPS等各种显示模式，为了得到高的对比度，优选为VA(MVA、PVA)模式。
第一偏振片50包含第一起偏器51、在第一起偏器51的与液晶单元相反的一侧的面配置的光学膜53(F1)和在第一起偏器51的液晶单元侧的面配置的光学膜55(F2)。
第二偏振片70包含第二起偏器71、在第二起偏器71的与液晶单元侧的面配置的光学膜73(F3)、和在第二起偏器71的与液晶单元相反的一侧的面配置的光学膜75(F4)。光学膜55(F2)和73(F3)中的一方根据需要可以省略。
而且，光学膜53(F1)与75(F4)中的至少一方，优选光学膜53(F1)可以是本发明的光学膜。光学膜53(F1)具有基材膜53A和作为硬涂层的活性能量射线固化物层53B，并且基材膜53A与第一起偏器51相接。光学膜53(F1)为本发明的光学膜的液晶显示装置因为表面的耐擦伤性高，所以不易使显示画面带伤。
《有机电致发光显示装置》
有机电致发光显示装置中可以具备本发明的光学膜。
对于可用于有机电致发光显示装置的有机EL元件的概要，例如，可以举出日本特开2013－157634号公报、日本特开2013－168552号公报、日本特开2013－177361号公报、日本特开2013－187211号公报、日本特开2013－191644号公报、日本特开2013－191804号公报、日本特开2013－225678号公报、日本特开2013－235994号公报、日本特开2013－243234号公报、日本特开2013－243236号公报、日本特开2013－242366号公报、日本特开2013－243371号公报、日本特开2013－245179号公报、日本特开2014－003249号公报、日本特开2014－003299号公报、日本特开2014－013910号公报、日本特开2014－017493号公报、日本特开2014－017494号公报等中记载的构成。
本发明的光学膜不但能够优选用作液晶显示装置、有机EL显示装置，还能够优选用作具备触摸面板的图像显示装置、等离子显示器等图像显示装置等的保护膜。
[实施例]
以下，举出实施例对本发明进行具体说明，本发明不限定于这些。应予说明，实施例中使用“份”或者“％”的表示，只要没有特别说明就表示“质量份”或者“质量％”。
〔实施例1〕
将以下的实施例中使用的化合物与其缩写一并示出。
低分子量化合物
L1：4－羟基苯乙烯
L3：下述PE1的n＝10、m＝1的化合物
L4：下述PE2的n＝45的化合物
L5：乙二醇
L6：甲基丙烯酸甲酯/丙烯酰吗啉(摩尔比8/2)的共聚物
紫外线吸收剂
UV1：Tinuvin928(BASF Japan株式会社制)
UV2：Tinuvin109(BASF Japan株式会社制)
UV3：Tinuvin171(BASF Japan株式会社制)
UV4：Tinuvin405(BASF Japan株式会社制)
具有呋喃糖结构或吡喃糖结构的化合物
FP1：蔗糖苯甲酸酯
FP2：乙酰蔗糖
FP3：二乙酸蔗糖酯(六丁酸酯)
应予说明，上述FP1～3是将羟基全部酯化的糖酯。
聚酯系化合物
树脂(环烯烃系树脂)
COP1：环烯烃系树脂(ARTON G7810，JSR株式会社制)
COP2：环烯烃系树脂(ARTON RX4500，JSR株式会社制)
COP3：环烯烃系树脂(ARTON R5000，JSR株式会社制)
二氧化硅粒子
A：下述制造例A中制备的反应性无机微粒A(平均一次粒径13nm的二氧化硅粒子)
B：下述制造例B中制备的反应性无机微粒B(平均一次粒径46nm的二氧化硅粒子)
C：下述制造例C中制备的反应性无机微粒C(平均一次粒径87nm的二氧化硅粒子)
D：平均粒径12nm的二氧化硅粒子(日产化学工业株式会社制，SNOWTEX N)
〔二氧化硅粒子的制备〕
(制造例A：反应性无机微粒A的制备)
(1)表面吸附离子除去
将水分散胶体二氧化硅(日产化学工业株式会社制，SNOWTEX N，平均粒径12nm，pH9.0～10.0)使用阳离子交换树脂(三菱化学株式会社制，Diaion SK1B)500g进行3小时离子交换。接下来，使用阴离子交换树脂(三菱化学株式会社制，SA20A)300g进行3小时离子交换。其后，使用离子交换水清洗，由此得到固体成分浓度20质量％的二氧化硅微粒水分散体。Na2O含量为5ppm。
(2)表面处理(单体的导入)
向进行了上述(1)的处理的无机微粒的水分散体20g中加入300ml的异丙醇、4.0g的3,6,9－三氧杂癸酸以及4.0g的甲基丙烯酸，搅拌1小时。将得到的混合液一边在60℃加热6小时一边搅拌，由此得到无机微粒中了导入甲基丙烯酰基的无机微粒分散体。将得到的无机微粒分散体使用旋转蒸发器馏去蒸留水、异丙醇、甲基丙烯酸，为了防止干固而加入作为溶剂1的甲基乙基酮，得到固体成分40质量％的二氧化硅分散甲基乙基酮溶液。残留的水、异丙醇为0.1质量％以下。得到的反应性无机微粒A利用粒度分析计(日机装株式会社制Microtrac)进行测定，平均一次粒径为d55＝13nm。
(制造例B：反应性无机微粒B的制备)
(1)表面吸附离子除去
使用水分散胶体二氧化硅(日产化学工业株式会社制，SNOWTEX OL，平均一次粒径44nm，pH2.0～4.0)，与制造例1同样地得到除去了表面吸附离子的无机微粒的水分散液。
(2)表面处理(单体的导入)
在制造例A中，将甲基丙烯酸变更为二季戊四醇五丙烯酸酯(Sartomer株式会社制，SR399)，用与制造例A相同的方法进行表面处理，得到经表面处理的固体成分40质量％的甲基异丁基酮分散液B。
得到的反应性无机微粒B利用上述粒度分析计测定的结果为d55＝46nm的平均一次粒径。
(制造例C：反应性无机微粒C的制备)
将水分散胶体二氧化硅(日产化学工业株式会社制，SNOWTEX ZL，平均粒径85nm，pH9.0～10.0)使用旋转蒸发器，从水溶剂置换为甲基异丁基酮，得到二氧化硅微粒20质量％的分散液。向该甲基异丁基酮分散液100质量份中添加20质量份3－甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷，在50℃加热处理1小时。使用蒸发器馏去甲基异丁基酮和3－甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷，为了防止干固而加入甲基乙基酮，由此得到经表面处理的固体成分40质量％的甲基异丁基酮分散液C。
得到的反应性无机微粒C利用上述粒度分析计测定的结果为d55＝87nm的平均一次粒径。
〔硬涂层涂布液〕
(硬涂层涂布液1(HC1))的制备)
制备下述组成的硬涂层涂布液1。将紫外线固化型树脂、表面活性剂和丙二醇单甲醚混合后，搅拌该混合液30分钟，制备硬涂层涂布液1。
紫外线固化型树脂(A－DPH，新中村化学制) 60质量份
表面活性剂(Surflon S－651，AGC SEIMI CHEMICAL公司制)0.1质量份
二氧化硅粒子A(甲基乙基酮40质量％分散品) 100质量份
丙二醇单甲醚(PGME：溶剂2) 40质量份
《光学膜1的制作》
〔主胶浆的制备〕
制备下述组成的主胶浆。首先在加压溶解罐中添加二氯甲烷和乙醇。边搅拌边向加入了二氯甲烷和乙醇的混合溶液的加压溶解罐投入环烯烃系树脂。对其进行加热，搅拌而完全溶解。对其使用安积滤纸株式会社制的安积滤纸No.244进行过滤，制备主胶浆。
(主胶浆)
COP1 100质量份
二氯甲烷 200质量份
乙醇 10质量份
将以上的成分投入密闭容器中，边搅拌边溶解而制备主胶浆。接着，使用环形带流延装置，将胶浆以温度31℃、1800mm宽度均匀流延在不锈钢带基体上。不锈钢带的温度控制在28℃。
在不锈钢带基体上使溶剂蒸发直到流延(浇铸)的膜中的残留溶剂量为30％。接着，以剥离张力128N/m从不锈钢带基体上剥离。剥离的膜料卷在拉伸开始时的残留溶剂为5质量％。接着，边用多个滚筒搬运干燥区域边结束干燥，用激光刀将用拉幅机夹具夹持的端部分割，其后进行卷绕，制作厚度30μm的树脂膜1。
在上述得到的树脂膜1的单面，使用微型凹版涂布将硬涂层涂布液1以干膜厚5μm的方式进行涂布、干燥。
接着，使用高压汞灯，在大气下向该涂膜以光量270mJ/cm2进行紫外线照射而固化，制作在树脂膜1形成有硬涂层的光学膜1。
《光学膜2的制作》
在光学膜1的制作中如下改变主胶浆，除此以外，与光学膜1的制作同样地制作树脂膜2和光学膜2。
(主胶浆)
其他与光学膜1的制作同样地制作树脂膜2和光学膜2。
《光学膜3～39的制作》
在光学膜2的制作中，如表1和表2所示改变主胶浆中含有的环烯烃系树脂(表1、2中简记为树脂)的种类、添加剂的种类及其量、以及硬涂层中的二氧化硅粒子与紫外线固化树脂(UV树脂)的比率、二氧化硅粒子的种类、硬涂层涂布液中使用的溶剂、硬涂层的厚度，与光学膜2的制作同样地制作树脂膜3～39和光学膜3～39。应予说明，以硬涂层涂布液中使用的溶剂为100质量份的方式进行制备。
《光学膜的评价》
对制作的光学膜1～39进行铅笔硬度、耐擦伤性、雾度以及干燥不均的评价。
<铅笔硬度>
根据JIS K 5600的标准(划痕硬度(铅笔法))实施。使铅笔呈45度的角度，施加750g的负载，进行各硬涂膜试料表面的划痕试验。“H”以上，则为能够供于实用。
<耐擦伤性>
通过按以下的条件进行摩擦试验来评价耐擦伤性。在23℃·55％RH的环境下用带有500g/cm2的负载的钢丝绒(日本钢丝绒株式会社制，#0000)在硬涂层表面往复10次，通过目视观察有无伤的产生，进行以下的排序来评价。○以上则为能够供于实用。
◎：小于1道的伤
○：2道以上且小于4道的伤
△：5道以上且小于8道的伤
×：8道以上的伤
<雾度>
根据JIS K 7165实施。使用D65光源来以雾度计(商品名NDH2000，日本电色工业株式会社制)测定样品，进行以下的排序来评价。○以上则为能够供于实用。
◎：小于0.2％
○：0.2％以上且小于0.5％
△：0.5％以上且小于1.0％
×：1.0％以上
<干燥不均>
观察光学膜的表面如下评价不均。将带粘合剂的黑PET膜贴到光学膜的背面，在荧光灯下通过目视观察评价来进行评价。对其结果如下进行排序来评价。○以上则为能够供于实用。
◎：仔细观察也看不到不均
○：如果仔细观察就能看到部分不均
△：有弱的不均
×：看到不均
将以上的结果示于表1和表2。
应予说明，表中，IPA表示异丙醇，乙酸酯表示乙酸乙酯。另外，分子量一栏表示低分子量化合物的重均分子量，低分子量化合物不是聚合物时，记载化合物的分子量。
[表1]
[表2]
由表1和表2可知本发明的光学膜的表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低。另外，可知经由涂布使用2种溶剂制备的涂布液的工序而形成硬涂层时，干燥干燥不均良好。
〔实施例2〕
《光学膜101的制作》
光学膜12的制作中，剥离膜料卷后，将剥离的膜料卷在160℃的条件下在宽度方向进行40％单轴拉伸。其他于与偏振片保护膜12的制作同样地制作树脂膜101和光学膜101。
《光学膜102的制作》
光学膜12的制作中，剥离膜料卷后，将剥离的膜料卷在160℃的条件下使用图2A所示的拉幅机以拉伸的方向相对于长边方向为45度的方向进行60％倾斜拉伸。其他与偏振片保护膜12的制作同样地制作树脂膜102和光学膜102。
《光学膜12、101、102的评价》
(延迟值的测定)
对制作的光学膜101、102和实施例1中制作的光学膜12，使用椭偏仪(M－150，日本分光株式会社制)分别测定波长550nm的面内方向的延迟值Ro和厚度方向的延迟值Rth。各自的测定在宽度方向进行10点，求出平均值。
另外，将与实施例1同样地制作的光学膜101、102以及12按与实施例1相同的方法和相同的评价基准，进行铅笔硬度、耐擦伤性、雾度以及干燥不均的评价。
将结果示于表3。
[表3]
由表3可知本发明的光学膜的表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低。另外，可知光学膜101、102作为相位差膜在液晶显示装置、有机EL显示装置中是有用的。
产业上的可利用性
本发明的光学膜具有表面硬度高、耐擦伤性优异、雾度低的特征，能够优选用于偏振片、液晶显示装置。

Claims (9)

1.一种光学膜，其特征在于，是在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜，所述树脂层在相对于所述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，并且所述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子。
2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述树脂层中含有的所述低分子量化合物为紫外线吸收剂。
3.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述硬涂层中含有的所述二氧化硅粒子相对于所述紫外线固化树脂的质量比的值、即二氧化硅粒子/紫外线固化树脂在10/90～50/50的范围内。
4.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述二氧化硅粒子的平均一次粒径为200nm以下。
5.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述硬涂层的厚度在2～15μm的范围内。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学膜，其特征在于，在23℃·55％RH的环境下，光波长550nm的面内方向的延迟值Ro(550)满足下述式(1)，
式(1)：100nm≤Ro(550)≤170nm。
7.一种光学膜的制造方法，其特征在于，是制造在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜的制造方法，所述树脂层在相对于所述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，所述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子，并且，经由将涂布液进行涂布的工序而形成硬涂层，所述涂布液是使用醇、酯、醚或者酮中的至少2种溶剂作为含有所述紫外线固化树脂和所述二氧化硅粒子的涂布液的溶剂而制备的。
8.一种光学膜的制造方法，其特征在于，是制造在含有环烯烃系树脂的树脂层上具有硬涂层的光学膜的制造方法，所述树脂层在相对于所述环烯烃系树脂为0.1～5.0质量％的范围内含有重均分子量Mw在100～10000的范围内的低分子量化合物，所述硬涂层含有紫外线固化树脂和二氧化硅粒子，并且，经由将溶解有含有所述环烯烃系树脂的树脂的溶液流延在基体上的工序来制膜，形成所述树脂层。
9.根据权利要求8所述的光学膜的制造方法，其特征在于，在所述制膜后经由将卷绕的膜料卷开卷并在倾斜方向拉伸的工序而形成所述树脂层。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018180163A (ja) * 2017-04-07 2018-11-15 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、偏光板、表示装置および光学フィルムの製造方法
JP7115867B2 (ja) * 2018-02-22 2022-08-09 日本化工塗料株式会社 環状オレフィン系樹脂基材を含む積層体、及び環状オレフィン系樹脂基材を含む積層体の製造方法
CN111448264B (zh) * 2017-12-08 2022-02-25 3M创新有限公司 柔性硬质涂层
US11920019B2 (en) * 2018-10-03 2024-03-05 Konica Minolta, Inc. Resin composition and electronic device
JP7326958B2 (ja) * 2019-07-22 2023-08-16 コニカミノルタ株式会社 積層フィルムおよびその製造方法
CN114761472B (zh) * 2019-12-06 2023-09-19 柯尼卡美能达株式会社 膜卷及其制造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1694926A (zh) * 2002-10-09 2005-11-09 三菱化学株式会社 热塑性树脂组合物及使用它的模制品
CN101790695A (zh) * 2007-08-10 2010-07-28 大日本印刷株式会社 硬涂膜
JP2013228726A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Nitto Denko Corp 偏光フィルム、光学フィルムおよび画像表示装置
US20140272355A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Motorola Mobility Llc Siloxane coating for a display lens assembly for mobile devices

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007217667A (ja) * 2006-01-17 2007-08-30 Sekisui Chem Co Ltd 熱可塑性樹脂フィルム、位相差フィルム及び偏光子保護フィルム
JP2008304904A (ja) * 2007-05-07 2008-12-18 Jsr Corp 偏光板
JP2010015045A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Sumitomo Chemical Co Ltd 楕円偏光板ロールおよびその製造方法、ならびに楕円偏光板付き液晶基板ロールおよび表示装置
JP2010186124A (ja) * 2009-02-13 2010-08-26 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、表示装置
US9563075B2 (en) * 2010-11-05 2017-02-07 Konica Minolta, Inc. Method for manufacturing liquid crystal display device provided with front plate, and liquid crystal display device provided with front plate
JP2012108394A (ja) * 2010-11-18 2012-06-07 Nippon Zeon Co Ltd ハードコート層を有する反射防止積層体
KR101127952B1 (ko) * 2011-03-16 2012-03-23 에스케이씨 주식회사 광학용 하드코팅 필름
JP5884563B2 (ja) 2012-03-07 2016-03-15 日本ゼオン株式会社 ハードコートフィルム
JP2014070211A (ja) 2012-10-01 2014-04-21 Mitsubishi Chemicals Corp ハードコート付きシクロオレフィン系高分子フィルムの製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1694926A (zh) * 2002-10-09 2005-11-09 三菱化学株式会社 热塑性树脂组合物及使用它的模制品
CN101790695A (zh) * 2007-08-10 2010-07-28 大日本印刷株式会社 硬涂膜
JP2013228726A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Nitto Denko Corp 偏光フィルム、光学フィルムおよび画像表示装置
US20140272355A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Motorola Mobility Llc Siloxane coating for a display lens assembly for mobile devices

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