JP6118275B2 - 偏光板の製造方法および画像表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、偏光板に係り、特に、重合性基を有するポリビニルアルコールを用いて形成される密着層を有する偏光板に関する。
また、本発明は、該偏光板を含む画像表示装置に関する。

通常、偏光子は、機械的強度に劣るため、ケン化処理されたトリアセチルセルロースからなるフィルムなどの偏光子保護フィルムを偏光子に貼り合せて、偏光板として使用されている。
一方、近年、偏光子保護フィルムに対して、機械的強度の向上など種々の性能向上が求められており、様々な提案がなされている。例えば、特許文献１では、多官能（メタ）アクリル系モノマーを含む硬化性樹脂組成物から形成された硬化樹脂層を偏光子の表面に直接形成して得られる偏光板が開示されている。該偏光板であれば、偏光子と硬化樹脂層の密着性が高く、かつ、表面硬度にも優れる旨が記されている。

特開２０１１−２２１１８５号公報

一方、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置の用途の拡大に伴い、偏光子と偏光子保護フィルムとの密着性のより一層の向上が求められている。
本発明者らは、特許文献１に記載される硬化樹脂層を含む偏光板の特性について検討を行ったところ、偏光子と硬化樹脂層との密着性が昨今要求されるレベルを満たしておらず、さらなる改良が必要であることが知見された。

本発明は、上記実情に鑑みて、偏光子と樹脂層との密着性に優れる偏光板を提供することを目的とする。

本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、重合性基を有するポリビニルアルコールを用いて形成される密着層を使用することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

（１） 偏光子と、密着層と、樹脂層とをこの順で備える偏光板であって、
密着層および樹脂層の２層積層体のＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）が後述する式（Ｘ）および式（Ｙ）をそれぞれ満足し、
密着層は、重合性基を有する基で少なくとも１個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールを含む第１硬化性層に硬化処理を施して得られる層であり、
樹脂層は、多官能モノマーを含む第２硬化性層に硬化処理を施して得られる層であり、
密着層および樹脂層は、偏光子上に第１硬化性層および第２硬化性層をこの順で有する硬化性積層体を製造した後に、第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施して形成される、偏光板。
（２） 第１硬化性層に重合開始剤が含まれる、（１）に記載の偏光板。
（３） 硬化性積層体が、偏光子上に上記ポリビニルアルコールおよび溶媒を含む第１硬化性層形成用組成物を塗布した後、半乾燥状態の塗膜上に、多官能モノマーを含む第２硬化性層形成用組成物を塗布して形成される、（１）または（２）に記載の偏光板。
（４） 硬化性積層体が、偏光子上に上記ポリビニルアルコールおよび溶媒を含む第１硬化性層形成用組成物および多官能モノマーを含む第２硬化性層形成用組成物を同時重層塗布して形成される、（１）または（２）に記載の偏光板。
（５） 密着層の厚みが、樹脂層の厚みの２５％以下である、（１）〜（４）のいずれかに記載の偏光板。
（６） 重合性基を有する基が、ビニル基、オキシラニル基またはアジリジニル基を有する基である、（１）〜（５）のいずれかに記載の偏光板。
（７） 重合性基が、２価の連結基を介してポリマー鎖に結合する、（１）〜（６）のいずれかに記載の偏光板。
（８） ポリビニルアルコールが、後述する一般式（Ｉ）で表されるポリビニルアルコールである、（１）〜（７）のいずれかに記載の偏光板。
（９） 樹脂層が、さらに紫外線吸収剤を含む、（１）〜（８）のいずれかに記載の偏光板。
（１０） （１）〜（９）のいずれかに記載の偏光板を含む画像表示装置。
（１１） 液晶表示装置である、（１０）に記載の画像表示装置。

本発明によれば、偏光子と樹脂層との密着性に優れる偏光板を提供することができる。

本発明の偏光板の一の実施形態の断面図である。 本発明の偏光板の他の実施形態の断面図である。 重層塗布を示す概念図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本発明の特徴点としては、重合性基を有するポリビニルアルコールを用いて形成される密着層を使用している点が挙げられる。
本発明において、所望の効果が得られるメカニズムは、以下のように推測される。本発明では、まず、偏光子上に、重合性基を有するポリビニルアルコールを含む第１硬化性層と、多官能モノマーを含む第２硬化性層とを配置させ、該第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施す。第１硬化性層中のポリビニルアルコールの主鎖部分は、偏光子中の樹脂（特に、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい）と相互作用して、両者の密着性を高める。さらに、硬化処理の際に、第１硬化性層中のポリビニルアルコール中の重合性基と、第２硬化性層中の多官能モノマー中の重合性基とが重合反応して、両者の間で化学反応が進行する。つまり、第１硬化性層の硬化処理により得られる密着層と、第２硬化性層の硬化処理により得られる樹脂層との界面にて、化学結合が形成され、両者の密着性が向上する。つまり、密着層が偏光子と樹脂層との両者の密着性を高める役割を果たしていると考えられる。

以下に、本発明の偏光板の一実施形態について図面を参照して説明する。図１に、本発明の偏光板の一実施形態の断面図を示す。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。
偏光板１０は、偏光子１２と、密着層１４と、樹脂層１６とを備える。図１に示すように、樹脂層１６は、偏光子保護フィルムとして機能する。
以下、偏光板中の各部材（偏光子、密着層、樹脂層）について詳述する。

＜偏光子＞
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、後述する樹脂層との密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つが好ましい。）を含む偏光子であることが好ましい。

偏光子の厚みは特に制限されないが、取扱い性に優れると共に、光学特性にも優れる点より、３５μｍ以下が好ましく、３〜２５μｍがより好ましく、４〜１５μｍがさらに好ましい。上記厚みであれば、画像表示装置の薄型化に対応可能となる。

＜密着層＞
密着層は、偏光子と後述する樹脂層との間に配置される層で、両者の密着性を高める層である。密着層の一方の表面は偏光子と接触し、他方の表面は樹脂層と接触する。なお、図１においては、密着層１４は、偏光子１２の片面のみに配置されているが、樹脂層１６と共に偏光子１２の両面に配置されていてもよい。

密着層は、重合性基を有する基で少なくとも１個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコール（以後、重合性基含有ＰＶＡとも称する）を含む第１硬化性層に硬化処理を施して得られる層である。
密着層の厚みは特に制限されず、取扱い性の点などから、０．００５〜１０μｍが好ましく、０．０２〜４μｍがより好ましい。
密着層の厚みは、既存の膜厚計、反射分光膜厚計（ＦＥ−３０００大塚電子（株）製）を用いて計測できる。または、密着層の断面を顕微鏡やＳＥＭで観察して直接計測してもよい。なお、上記厚みは平均厚みを意図し、平均厚みは、密着層において１０ｍｍ以上離れた任意の５点以上の厚みを測定し、それらを算術平均した値である。
以下では、まず、密着層を形成するために使用される材料（重合性基含有ＰＶＡなど）について詳述する。

（重合性基含有ＰＶＡ）
重合性基含有ＰＶＡは、重合性基を有する基で少なくとも１個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールである。つまり、重合性基を有する繰り返し単位を含むポリビニルアルコールである。
重合性基の種類は特に制限されず、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、アニオン重合性基などが挙げられる。ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられる。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基などが挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、ビニル基、オキシラニル基、アジリジニル基、またはオキセタニル基が好ましく、ビニル基、オキシラニル基、またはアジリジニル基が特に好ましい。
重合性基は、２価の連結基を介してポリビニルアルコールのポリマー鎖（主鎖）に結合していてもよい。２価の連結基としては、例えば、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基（ヘテロアリール基）、および、それらの組み合わせから選ばれる２価の連結基が挙げられる。なかでも、エーテル結合（−Ｏ−）、ウレタン結合（−ＯＣＯＮＨ−）、アセタール結合（（−Ｏ−）₂ＣＨ−）、エステル結合（−ＯＣＯ−）、若しくはアルキレン基、またはそれらを組み合わせた基が好ましい。
なお、重合性基含有ＰＶＡ中における重合性基を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．０１モル％以上が好ましく、０．０３モル％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、８０モル％以下が挙げられる。

重合性基含有ＰＶＡの好適態様としては、偏光子と樹脂層との密着性がより優れる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）は、下記の一般式（Ｉ）または一般式（ＩＩＩ）で表されるポリビニルアルコールが好ましく、一般式（Ｉ）で表されるポリビニルアルコールがより好ましい。

但し、Ｌ¹¹は、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合またはエステル結合を表し；Ｒ¹¹は、アルキレン基またはアルキレンオキシ基を表し；Ｌ¹²は、Ｒ¹¹とＱ¹¹とをつなぐ連結基を表し；Ｑ¹¹は、ビニル基、オキシラニル基またはアジリジニル基を表し；ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００の条件にて、ｘ１は１０〜９９．９モル％、ｙ１は０．０１〜８０モル％、およびｚ１は０〜７０モル％であり；そしてｋおよびｈは、それぞれ０または１である。

一般式（Ｉ）において、Ｒ¹¹は、一般に炭素原子数１〜２４のアルキレン基、少なくとも一個の隣接しないＣＨ₂基が−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＮＲ⁷−（Ｒ⁷は炭素原子数１〜４のアルキル基または炭素原子数６〜１５のアリール基を表わす）、−Ｓ−、−ＳＯ₂−または炭素原子数６〜１５のアリーレンで置き換わった炭素原子数３〜２４のアルキレン基、および、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アルキルカルボニルチオ基、アリールカルボニルチオ基、アルキルスルホニルチオ基、アリールスルホニルチオ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、カルボキシ基あるいはスルホ基で置換された上記アルキレン基のいずれかを表すことが好ましい。

Ｒ¹¹は、−Ｒ²−、−Ｒ³−（Ｏ−Ｒ⁴）_t−、−Ｒ³−（Ｏ−Ｒ⁴）_t−ＯＲ⁵−、−Ｒ³−ＣＯ−Ｒ⁶−、−Ｒ³−ＮＨ−Ｒ⁶−、−Ｒ³−ＮＲ⁷−Ｒ⁶−、−Ｒ³−Ｓ−Ｒ⁶−、−Ｒ³−ＳＯ₂−Ｒ⁶−または−Ｒ³−Ａ²−Ｒ⁶−（但し、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ炭素原子数１〜２４のアルキレン基を表し、Ｒ⁷は、炭素原子数１〜１２のアルキル基または炭素原子数６〜１５のアリール基を表し、Ａ²は炭素原子数６〜２４のアリーレン基を表し、ｔは０〜４の整数を表す。）を表すことがより好ましい。さらに、Ｒ¹¹は、−Ｒ²−または−Ｒ³−(Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ₂)_t−（但し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ炭素原子数１〜１２のアルキレン基、ｔは０〜２の整数である。）を表すことがさらに好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキレン基が特に好ましい。

上記アルキレン基は、置換基を有していてもよい。その例としては、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜２４のアリール基、炭素原子数１〜２４のアルコキシ基、炭素原子数６〜２４のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２４のアルキルチオ基、炭素原子数６〜２４のアリールチオ基、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニル基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニル基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニルオキシ基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニルオキシ基、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニルオキシ基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニルチオ基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニルチオ基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニルチオ基、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニルチオ基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニルアミノ基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニルアミノ基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニルアミノ基、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニルアミノ基、カルボキシ基あるいはスルホ基を挙げることができる。

上記アルキレン基の好ましい置換基としては、炭素原子数１〜２４のアルキル基（特に炭素原子数１〜１２）、炭素原子数６〜２４のアリール基（特に炭素原子数６〜１４）、炭素原子数２〜２４のアルコキシアルキル基（特に炭素原子数２〜１２）を挙げることができる。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−アミル基および２−エチルヘキシル基を挙げることができる。１〜４個のアルコキシ基で置換されたアルキル基の例としては、２−メトキシエチル基、２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、２−［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］エチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−（２−エトキシエトキシ）エチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ｎ−プロピルオキシプロピル基、および、２−メチルブチルオキシメチル基を挙げることができる。アリール基の例としては、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２−アニシル基、３−アニシル基、４−アニシル基、２−ビフェニル基、３−ビフェニル基、４−ビフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、１−ナフチル基、および、２−ナフチル基を挙げることができる。また、複素環基の例としては、ピリジル基、ピリミジル基、チアゾリル基およびオキサゾリル基を挙げることができる。

Ｌ¹²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲ−、−ＮＲＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−Ｏ−または−ＯＣＯＮＲ−（但し、Ｒは水素原子または低級アルキル基を表す）を表すことが好ましい。
−（Ｌ¹²）_h−Ｑ¹²は、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、ビニルフェノキシ基、ビニルベンゾイルオキシ基、スチリル基、オキシラニル基（例えば、１，２−エポキシエチル基、１，２−エポキシプロピル基、２，３−エポキシプロピル基）、アジリジニル基（例えば、１，２−イミノエチル基、１，２−イミノプロピル基、２，３−イミノプロピル基）であることが好ましい。さらに、ビニル基、アジリジニル基、オキシラニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、ビニルベンゾイルオキシ基、１，２−エポキシエチル基、１，２−エポキシプロピル基、２，３−エポキシプロピル基、１，２−イミノエチル基、１，２−イミノプロピル基、または２，３−イミノプロピル基が好ましい。特に、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、またはメタクリロイルオキシ基が好ましい。

ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００の条件にて、ｘ１は５０〜９９．９モル％が好ましく、ｙ１は０．０３〜５０モル％が好ましく（さらに０．０５〜２０モル％が好ましく、特に０．０５〜１０モル％、最も好ましくは０．０５〜５モル％）、および、ｚ１は０．０１〜５０モル％が好ましい。

上記一般式（Ｉ）においてＬ¹¹がアセタール結合である場合、一般式（Ｉ）のポリビニルアルコールは、下記の一般式（Ｉ−ａ）によって表すことができる。

但し、Ｌ¹¹、Ｒ¹¹、Ｌ¹²、Ｑ¹¹、ｘ１、ｙ１、ｚ１、ｋおよびｈは、一般式（Ｉ）と同義である。

以下に、一般式（ＩＩＩ）で表されるポリビニルアルコールを示す。

但し、Ｌ³¹は、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合またはエステル結合を表し；
Ａ³¹は、アリーレン基、または、ハロゲン基、アルキル基、アルコキシ基若しくは置換アルコキシ基で置換されたアリーレン基を表し（置換されたアルコキシ基の置換基としては、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン基、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、クロトノイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、ビニルフェノキシ基、ビニルベンゾイルオキシ基、スチリル基、１，２−エポキシエチル基、１，２−エポキシプロピル基、２，３−エポキシプロピル基、１，２−イミノエチル基、１，２−イミノプロピル基、または、２，３−イミノプロピル基を挙げることができる）；
Ｒ³¹は、Ｒ¹¹と同一の基を表し；
Ｌ³²は、Ｌ¹²と同一の基を表し；
Ｑ³¹は、Ｑ¹¹と同一の基を表し；
ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１００の条件にて、ｘ２は１０〜９９．９モル％、ｙ２は０．０１〜８０モル％、およびｚ２は０〜７０モル％であり；そして、ｋ１およびｈ１は、それぞれ０または１であり、ｆは０または１である。
特にＡ³¹は、炭素原子数６〜２４のアリーレン基、またはハロゲン基、炭素原子数１〜４のアルキル基あるいは炭素原子数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素原子数６〜２４のアリーレン基であることが好ましい。

Ａ³¹の基において、アリーレン基の炭素原子数は、一般に６〜２４個であり、６〜１２個が好ましい。アリーレン基の例としては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，２−フェニレン基および１，５−ナフチレン基を挙げることができ、特に１，４−フェニレン基が好ましい。アリーレン基の置換基としては、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩ）、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、そして炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のアリール基、ハロゲン基、ビニル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基（例えば、１，２−エポキシエチル基、１，２−エポキシプロピル基、２，３−エポキシプロピル基）、アジリジニル基（例えば、１，２−イミノエチル基、１，２−イミノプロピル基、２，３−イミノプロピル基）、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、ビニルフェノキシ基、ビニルベンゾイルオキシ基またはスチリル基で置換された炭素原子数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基であり、Ｆ、Ｃｌまたはメチル基が特に好ましい。
ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１００の条件にて、ｘ２は５０〜９９．９モル％が好ましく、ｙ２は０．０１〜５０モル％が好ましく（特に０．０１〜２０モル％が好ましく、特に０．０１〜１０モル％、最も好ましくは０．０１〜５モル％）およびｚ２は０．０１〜５０モル％が好ましい。

上記一般式（ＩＩＩ）においてＬ³¹がアセタール結合である場合、一般式（ＩＩＩ）のポリビニルアルコールは、下記の一般式（ＩＩＩａ）によって表すことができる。

但し、Ａ³¹、Ｒ³¹、Ｌ³²、Ｑ³¹、ｘ２、ｙ２、ｚ２、ｆ、ｋ１およびｈ１は、一般式（ＩＩＩ）と同義である。

上記のポリビニルアルコールは、上記特定の基を有する化合物をポリビニルアルコールに反応させることにより得ることができる。このような基は、ポリビニルアルコールと反応してエステル結合、ウレタン結合、アセタール結合等を形成し得るものである。
ポリビニルアルコールと上記特定の基を有する化合物を溶解するための溶媒（反応溶媒）としては、極性溶媒から非極性溶媒まで種々の溶媒を使用することができる。
上記特定の基を有する化合物とポリビニルアルコールとを反応させる際の反応温度は、−８０〜１５０℃の範囲が一般的であり、−２０〜１２０℃の範囲が好ましく、特に−５〜９０℃の範囲が好ましい。反応において、上記特定の基を有する化合物とポリビニルアルコールの繰り返し単位との比（仕込比）は、モル比で１／１００〜１／１（化合物／繰り返し単位）が好ましく、特に１／５０〜１／５が好ましい。
反応混合物から目的のポリマーを得るため、通常、反応混合物への貧溶媒の添加による再沈澱法、透析、凍結乾燥の操作により精製される。これらの操作は、適宜繰り返して、および／または適当に組み合わせて、行うことができる。

（第１硬化性層）
上述したように、密着層は、上記重合性基含有ＰＶＡを含む第１硬化性層に硬化処理を施して得られる層である。より具体的には、密着層は、上記偏光子上に第１硬化性層および第２硬化性層をこの順で有する硬化性積層体を製造した後に、第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施すことにより、形成される。つまり、第１硬化性層は、密着層の前駆体層に該当する。
第１硬化性層には、重合性基含有ＰＶＡが含まれる。第１硬化性層中の重合性基含有ＰＶＡの含有量は特に制限されないが、主成分として含まれることが好ましい。主成分とは、第１硬化性層全質量に対して、５０質量％以上であることを意図し、７０質量％以上であることが好ましい。

第１硬化性層には、上記重合性基含有ＰＶＡ以外の他の成分が含まれていてもよい。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、第１硬化性層には重合開始剤が含まれることが好ましい。
重合開始剤の種類は特に制限されず、重合硬化の種類により適宜最適な化合物が選択される。より具体的には、光重合開始剤、熱重合開始剤が挙げられる。
光重合開始剤としては、例えば、アルキンフェノン系重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤、チタノセン系重合開始剤等が挙げられる。熱重合開始剤としては、例えば、ケトンパーオキサイド系重合開始剤、パーオキシケタール系重合開始剤、ハイドロパーオキサイド系重合開始剤、ジアルキルパーオキサイド系重合開始剤、ジアシルパーオキサイド系重合開始剤、パーオキシジカーボネート系重合開始剤、パーオキシエステル系重合開始剤等が挙げられる。
第１硬化性層中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、重合性基含有ＰＶＡ１００質量部に対して、３〜２０質量部が好ましく、３〜１０質量部がより好ましい。

重合開始剤以外の他の成分としては、例えば、架橋剤（例えば、グルタルアルデヒド）、架橋剤の触媒（例えば、クエン酸エステル）などが挙げられる。
上記以外は、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、有機／無機フィラー、可塑剤、難燃剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、離型剤、発泡剤、核剤、着色剤、分散助剤、界面活性剤等の添加剤を例示することができる。

密着層の製造手順の詳細は後段で詳述する。

＜樹脂層＞
樹脂層（硬化樹脂層）は、偏光子を保護して、偏光板に機械的強度を付与する層である。なお、図１においては、樹脂層１６は、偏光子１２の片面のみに配置されているが、上記密着層１４と共に両面に配置されていてもよい。

画像表示液装置において視認側に配置される樹脂層には、その上に低屈折率層が設けられてもよい。さらに好ましくは、樹脂層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられてもよい。樹脂層上に屈折率の異なる層を積層することで、反射防止性を高めることができる。低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層の好ましい態様および具体例は、特開２００７−１０２２０６号公報の段落番号［０２３７］〜［０２５０］に記載されており、本発明においても同様である。

樹脂層の厚みは特に制限されず、取扱い性の点などから、０．２〜１５μｍが好ましく、０．５〜１０μｍがより好ましい。
樹脂層の厚みは、既存の膜厚計、反射分光膜厚計（ＦＥ−３０００大塚電子（株）製）を用いて計測できる。または、樹脂層の断面を顕微鏡やＳＥＭで観察して直接計測してもよい。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、平均厚みは、樹脂層において１０ｍｍ以上離れた任意の５点以上の厚みを測定し、それらを算術平均した値である。

なお、偏光板の耐光性がより優れる点で、樹脂層には紫外線吸収剤が含まれることが好ましい。
紫外線吸収剤としては、公知のものを使用できる。例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸フェニルエステル系、トリアジン系の紫外線吸収剤が挙げられる。
樹脂層中における紫外線吸収剤の含有量は特に制限されないが、重合硬化後の樹脂層からの泣き出し防止、樹脂層の高硬度化、視認性とＵＶ遮断性とのバランスの点から、樹脂層全質量に対して、２〜２５質量％が好ましい。

樹脂層は、多官能モノマーを含む第２硬化性層に硬化処理を施して得られる層である。
以下では、まず、樹脂層を形成するために使用される材料（多官能モノマーなど）について詳述する。

（多官能モノマー）
多官能モノマーは、光や熱を用いて重合可能な化合物であり、重合硬化して樹脂層を構成する成分となる。
多官能モノマーには、複数の重合性基が含まれる。重合性基の定義は、上述の通りであり、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
多官能モノマー中に含まれる重合性基の数は特に制限されず、複数（２以上）であればよく、偏光板の表面硬度がより優れる点で、３〜３２が好ましく、３〜２０がより好ましい。

多官能モノマーの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，４−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンもしくはグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを付加反応させた後で（メタ）アクリレート化したもの等の多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。
これらの多官能モノマーは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を合わせて使用してもよい。
なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタアクリレートとの両方を含む概念である。

（第２硬化性層）
上述したように、樹脂層は、多官能モノマーを含む第２硬化性層に硬化処理を施して得られる層である。より具体的には、樹脂層は、上記偏光子上に第１硬化性層および第２硬化性層をこの順で有する硬化性積層体を製造した後に、第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施すことにより、形成される。つまり、第２硬化性層は、樹脂層の前駆体層に該当する。
第２硬化性層には、多官能モノマーが含まれる。第２硬化性層中の多官能モノマーの含有量は特に制限されないが、主成分として含まれることが好ましい。主成分とは、第２硬化性層全質量に対して、５０質量％以上であることを意図し、７０質量％以上であることが好ましい。

第２硬化性層には、上記多官能モノマー以外の他の成分が含まれていてもよい。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、第２硬化性層には重合開始剤が含まれていることが好ましい。重合開始剤の種類は、上述の通りである。
第２硬化性層中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、多官能モノマー１００質量部に対して、１〜１０質量部が好ましく、３〜７質量部がより好ましい。

さらに、第２硬化性層には各種の界面活性剤が含まれることも好適である。
界面活性剤は、乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラを抑制でき、また、第２硬化性層の表面凹凸や塗布物のハジキを改良できる（言い換えれば、レベリング剤として機能する）。
界面活性剤としては、具体的には、フッ素系界面活性剤、または、シリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。
界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加した第２硬化性層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。第２硬化性層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。
フッ素系界面活性剤の好ましい態様および具体例は、特開２００７−１０２２０６号公報の段落番号［００２３］〜［００８０］に記載されており、本発明においても同様である。

シリコーン系界面活性剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としては、ポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。

界面活性剤の分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１,０００〜３０，０００であることが特に好ましく、１，０００〜２０，０００であることが最も好ましい。

好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、“Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、（以上商品名）；チッソ（株）製の、“ＦＭ−７７２５”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−６６２１”、（以上商品名）；Ｇｅｌｅｓｔ製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”（以上商品名）；東レ・ダウコーニング（株）製の“ＳＨ２００”、“ＤＣ１１ＰＡ”、“ＳＴ８０ＰＡ”、“Ｌ７６０４”、“ＦＺ−２１０５”、“Ｌ−７６０４”、“Ｙ−７００６”、“ＳＳ−２８０１”、（以上商品名）；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“ＴＳＦ４００”（商品名）；などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
界面活性剤は、第２硬化性層の全固形分中に、０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。

第２硬化性層には、防眩性（表面散乱性）や内部散乱性を付与するため、各種の透光性樹脂粒子が含まれていてもよい。
透光性樹脂粒子は、粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性樹脂粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、樹脂層中の樹脂成分との屈折率差が後述のような数値になるものが好ましい。
透光性樹脂粒子としては有機粒子が例示され、有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）等が用いられる。

なかでも、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性樹脂粒子の屈折率にあわせて樹脂層中の樹脂成分の屈折率を調整することにより、防眩性（表面散乱性）や内部散乱性を付与することができる。さらに、内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを良好に達成することができる。
樹脂層中の樹脂成分と透光性樹脂粒子との屈折率の差（透光性樹脂粒子の屈折率−樹脂層中の樹脂成分の屈折率）は、絶対値として好ましくは０．００１〜０．０３０である。屈折率の差がこの範囲であるとフィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題の発生が抑制される。

透光性樹脂粒子の平均粒子径（体積基準）は０．５〜２０μｍが好ましい。平均粒径がこの範囲であると、光の散乱角度分布が広角になりすぎないためディスプレイの文字ボケがない。
また、粒子径の異なる２種以上の透光性樹脂粒子を併用してもよい。より大きな粒子径の透光性樹脂粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性樹脂粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。
透光性樹脂粒子を配合する際は、第２硬化性層の全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合されることが好ましい。含有量がこの範囲であると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題も防止できる。

第２硬化性層に添加してもよい成分としては、重合開始剤、界面活性剤、透光性樹脂粒子以外の他の成分としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、有機／無機フィラー、可塑剤、難燃剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、離型剤、発泡剤、核剤、着色剤、分散助剤等の添加剤を例示することができる。

樹脂層の製造方法は、後段で詳述する。

＜偏光板の製造方法＞
上述した、偏光子、密着層および樹脂層を含む偏光板は、偏光子上に上記第１硬化性層および上記第２硬化性層をこの順で有する硬化性積層体を製造した後に、第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施して形成される。該処理を実施することにより、第１硬化性層中の重合性基含有ＰＶＡに含まれる重合性基と、第２硬化性層中の多官能モノマーに含まれる重合性基との間で反応が進行し、第１硬化性層から形成される密着層と、第２硬化性層から形成される樹脂層との間の界面にて化学結合が形成され、両者の密着性が向上する。
以下では、上記の手順について詳述する。

上記硬化性積層体を製造する手順は特に制限されず、公知の方法が採用できる。
例えば、偏光子上に第１硬化性層を形成した後、該第１硬化性層上に第２硬化性層を形成することにより、硬化性積層体を製造することができる。
以下、該方法の手順について詳述する。

まず、偏光子上に第１硬化性層を形成する方法は特に制限されないが、例えば、重合性基含有ＰＶＡを含む第１硬化性層形成用組成物を偏光子上に塗布して、第１硬化性層を形成する方法（塗布法）や、仮支持体上で上記第１硬化性層を形成して、偏光子上に転写する方法（転写法）などが挙げられる。第１硬化性層の厚みの制御が容易であり、偏光子に対する密着層の密着性がより優れる点から、塗布法が好ましい。
以下、塗布法の手順について詳述する。

第１硬化性層形成用組成物には、上記重合性基含有ＰＶＡが含まれるが、他の成分（例えば、重合開始剤）が含まれていてもよく、必要に応じて、溶媒が含まれていてもよい。溶媒としては、水や有機溶媒が挙げられる。
また、第１硬化性層形成用組成物には、その特性を損なわない範囲で、密着層に含まれていてもよい上述した各種添加剤を添加することができる。

第１硬化性層形成用組成物を偏光子上に塗布する方法は特に制限されず、公知の塗布方法を採用し得る。例えば、グラビアコート、ロールコート、リバースコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ワイヤーバーコート、カーテンコート、押出コート、スピナーコート等が挙げられる。

第１硬化性層形成用組成物を塗布した後、必要に応じて、溶媒を除去するために、該組成物の塗膜に対して乾燥処理を施してもよい。乾燥処理の方法は特に制限されず、風乾処理や、加熱処理などが挙げられる。
なお、第１硬化性層の厚みは特に制限されず、上述した密着層の厚みが得られるように、適宜調整される。なかでも、０．００５〜１２μｍが好ましく、０．０２〜５μｍがより好ましい。

次に、上記第１硬化性層上に第２硬化性層を形成する方法も特に制限されず、例えば、多官能モノマーを含む第２硬化性層形成用組成物を第１硬化性層上に塗布して、第２硬化性層を形成する方法（塗布法）や、仮支持体上で上記第２硬化性層を形成して、第１硬化性層上に転写する方法（転写法）などが挙げられる。第２硬化性層の厚みの制御が容易であり、密着層に対する樹脂層の密着性がより優れる点から、塗布法が好ましい。
塗布法の手順は、上記第１硬化性層形成用組成物を塗布する手順と同じであり、説明を省略する。
なお、第２硬化性層形成用組成物には、上記多官能モノマーが含まれるが、他の成分（例えば、重合開始剤、界面活性剤）が含まれていてもよく、必要に応じて、溶媒が含まれていてもよい。溶媒としては、水や有機溶媒が挙げられる。
また、第２硬化性層形成用組成物には、その特性を損なわない範囲で、密着層に含まれていてもよい上述した各種添加剤を添加することができる。
なお、第２硬化性層の厚みは特に制限されず、上述した樹脂層の厚みが得られるように、適宜調整される。なかでも、０．２〜１８μｍが好ましく、０．５〜１２μｍがより好ましい。

上記手順により得られた硬化性積層体中の第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施すことにより、第１硬化性層から密着層が、第２硬化性層から樹脂層が形成される。
硬化処理の手順は特に制限されないが、加熱処理または光照射処理が挙げられる。
加熱処理の方法は特に制限されないが、例えば、上記硬化性積層体をオーブンなどの加熱装置内に配置し、加熱することで第１硬化性層および第２硬化性層の両方に硬化処理（加熱処理）を施すことができる。
加熱処理の条件は使用される材料により異なるが、反応効率がより優れる点で、４０〜１２０℃（好ましくは５０〜８０℃）で０．５分〜１０分（好ましくは１分〜５分）処理することが好ましい。

また、光照射処理の方法は特に制限されないが、第２硬化性層の表面上から光を照射することにより、第２硬化性層を通って第１硬化性層まで光が照射され、第１硬化性層および第２硬化性層の両方に硬化処理（光照射処理）を施すことができる。
光照射処理の条件は特に制限されず、紫外線を発生させて照射して光硬化させるという紫外線照射法が好ましい。このような方法に用いる紫外線ランプとして、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、パルス型キセノンランプ、キセノン／水銀混合ランプ、低圧殺菌ランプ、無電極ランプが挙げられる。これらの紫外線ランプの中でも、メタルハライドランプまたは高圧水銀ランプを用いることが好ましい。
また、照射条件はそれぞれのランプの条件によって異なるが、通常、照射露光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であればよく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であることが好ましい。

（好適態様（その１））
本発明の偏光板の好適態様の一つとして、上記偏光板を製造する際に、偏光子上に重合性基含有ＰＶＡおよび溶媒を含む第１硬化性層形成用組成物を塗布した後、半乾燥状態の塗膜上に、多官能モノマーを含む第２硬化性層形成用組成物を塗布して形成される硬化性積層体を使用する態様が挙げられる。該態様の場合、半乾燥状態の第１硬化性層形成用組成物の塗膜上に、第２硬化性層形成用組成物を塗布することで、両者の界面にて重合性基含有ＰＶＡと多官能モノマーとがより入り混じり、結果として密着層と樹脂層との界面において両者の成分がそれぞれの層中により入り込んだ界面が形成され、アンカー効果により両層の密着性がより向上する。

上記手順としては、偏光子上に半乾燥状態の第１硬化性層形成用組成物の塗膜を形成する点に特徴がある。
半乾燥状態の塗膜とは、溶媒が含まれている状態を意図し、第２硬化性層形成用組成物との混合がより進行する点で、塗膜全量に対して、溶媒が３質量％以上含まれていることが好ましく、７質量％以上含まれていることが好ましい。なお、上限は特に制限されないが、塗膜の成膜性の点から、４０質量％以下が好ましい。
上記半乾燥状態の塗膜を形成する方法としては、偏光子上に上記第１硬化性層形成用組成物を塗布した後、所定時間、乾燥処理を施すことにより形成される。乾燥処理の条件は使用される溶媒の種類により適宜最適な条件が選択される。

なお、上記第２硬化性層形成用組成物を塗布した後、得られた硬化性積層体に対して、必要に応じて、乾燥処理を施してもよい。乾燥処理を実施することにより、第１硬化性層および第２硬化性層に含まれる溶媒を除去することができる。

（好適態様（その２））
本発明の偏光板の好適態様の一つとして、上記偏光板を製造する際に、偏光子上に重合性基含有ＰＶＡおよび溶媒を含む第１硬化性層形成用組成物および多官能モノマーを含む第２硬化性層形成用組成物を同時重層塗布して形成される硬化性積層体を使用する態様が挙げられる。該態様の場合、第１硬化性層形成用組成物と第２硬化性層形成用組成物とを同時重層塗布することで、第１硬化性層と第２硬化性層との界面にて重合性基含有ＰＶＡと多官能モノマーとがより入り混じり、結果として密着層と樹脂層との界面において両者の成分がそれぞれの層中により入り込んだ界面が形成され、アンカー効果により両層の密着性がより向上する。

同時重層塗布の方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができ、例えば、ダイ塗布方式を用いることが好ましい。ダイ塗布方式にはスライド塗布方式、エクストルージョン塗布方式、カーテン塗布方式があるが、スライド塗布方式とエクストルージョン塗布が好ましく、薄層塗布適性が高いエクストルージョン塗布が最も好ましい。
以下に、図面を参照して一例を示す。図３は、第１硬化性層形成用組成物と第２硬化性層形成用組成物とをエクストルージョン型のダイコータにより、偏光子上に重層塗布する状態を示す概念図である。図３に示すように、第１硬化性層形成用組成物３１と第２硬化性層形成用組成物３２とが、エクストルージョン型のダイコータ４０から走行する偏光子１２に向けて供給される。ダイコータ４０は、３つのダイブロック４１，４２，４３で構成される。３つのダイブロック４１，４２、４３を組み合わせることにより、内部に２つのポケット４４、４５およびポケット４４、４５からダイコータ４０の先端部に延在するスロット４６、４７が形成される。

また、同時重層塗布を実施した後、得られた硬化性積層体に対して、必要に応じて、乾燥処理を施してもよい。乾燥処理を実施することにより、第１硬化性層および第２硬化性層に含まれる溶媒を除去することができる。

＜偏光板およびその用途＞
上述したように、本発明の偏光板は、偏光子と、密着層と、樹脂層とを少なくとも有する。偏光板が画像表示装置中に含まれる場合、樹脂層が視認側（外側）を向くように配置されていても、逆側（内側）を向くように配置されていてもよい。
なお、密着層および樹脂層の２層の積層体（２層積層体）は、以下の式（Ｘ）および式（Ｙ）を満足する。なお、式（Ｙ）は、Ｒｔｈ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であることを意図し、言いかえれば−１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１０ｎｍである。
式（Ｘ） Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ
式（Ｙ） ｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１０ｎｍ
ここで、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）を意味し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を意味する。
透過する偏光に影響を与えにくい点で、上記２層積層体のＲｅ（５５０）は５ｎｍ以下が好ましく、３ｎｍ以下がより好ましい。また、同様の理由により、上記２層積層体の｜Ｒｔｈ（５５０）｜は８ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下がさらに好ましい。
上記２層積層体のＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）の測定方法としては、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）、ＡＸＯＳＣＡＮ（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製）などの位相差測定装置で測定することができる。

密着層の厚みと樹脂層の厚みとの関係は特に制限されないが、偏光板の樹脂層側からの硬度がより優れる点で、密着層の厚みが樹脂層の厚みの２５％以下であることが好ましい。下限は特に制限されないが、樹脂層の密着性の点で、密着層の厚みが樹脂層の厚みの０．０３％以上が好ましい。
なお、上記密着層の厚み、および、樹脂層の厚みは、それぞれ平均厚みを意図し、その測定方法は上述の通りである。

２層積層体の光学特性は特に制限されないが、画像表示装置中で偏光板を使用し、該２層積層体が視認側に配置される場合、偏光板中の偏光子の耐光性がより優れる点で、波長３００〜３８０ｎｍにおける最大透過率が１２％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。
最大透過率の測定方法は、分光光度計ＵＶ−３１５０（（株）島津製作所製）などの分光光度計で計測できる。

なお、本発明の効果を損なわない範囲で、他の層を含んでいてもよい。
例えば、図２に示すように、偏光子１２の樹脂層１６側とは反対側の表面上に、偏光子保護フィルム１８が配置された偏光板１００であってもよい。
偏光子保護フィルムを含む偏光板が画像表示装置中に含まれる場合、偏光子保護フィルムを視認側（外側）に向くように配置することが好ましい。
偏光子保護フィルムの光学特性は特に制限されないが、画像表示装置中で偏光板を使用し、該偏光子保護フィルムが視認側に配置される場合、偏光板中の偏光子の耐光性がより優れる点で、波長３００〜３８０ｎｍにおける最大透過率が１２％以下であることが好ましく、７％以下であることがより好ましい。

偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体やハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用することができ、例えば、上述した多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用することができ、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）や、熱可塑性ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂を使用することができる。
偏光子保護フィルムの厚みは特に限定されないが、偏光板の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。

本発明の偏光板を、画像表示装置の光通路内、例えば、液晶表示装置の少なくとも液晶セルの片側等に配置することで、本発明の画像表示装置、例えば液晶表示装置を得ることができる。液晶表示装置は用いる液晶セルの種類によって種々のモードがあるが、何れの場合にも本発明の偏光板を使用できる。例えば、ＶＡ（ヴァーティカリーアラインメント）型、ＩＰＳ（インプレーンスイッチング）型、ＯＣＢ（オプティカリーコンペンセイテッドベンド）型、ＴＮ（ツイステッドネマティック）型、ＳＴＮ（スーパーツイステッドネマティック）型など種々のモードの液晶表示装置に、本発明の偏光板を使用することができる。
なお、本発明の偏光板と液晶セルとの間に、視野角特性やコントラストを改善するための位相差フィルムを挿入してもよい。位相差フィルムは用いる液晶セルの種類によって異なるが、ＶＡ型の場合にはｎｅｇａｔｉｖｅ−Ｃ−ｐｌａｔｅやＡ−ｐｌａｔｅとｎｅｇａｔｉｖｅ−Ｃ−ｐｌａｔｅ等、ＩＰＳの場合にはｂｉａｘｉａｌ−ｐｌａｔｅやｐｏｓｓｉｔｉｖｅ−Ｃ−ｐｌａｔｅ等、ＴＮ型にはハイブリッド配向したディスコティック液晶を固定化したフィルム等、ＳＴＮ型にはｂｉａｘｉａｌ−ｐｌａｔｅ等が挙げられる。

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜ハードコート層付きフィルムＡの作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
コア層セルロースアシレートドープの組成：
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
エステルオリゴマー（下記可塑剤１） １０質量部
偏光子耐久性改良剤（下記化合物Ａ） ４質量部
紫外線吸収剤（下記ＵＶ剤Ａ） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３８質量部
メタノール（第２溶剤） ６５質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアセテート溶液を調製した。
マット剤溶液の組成：
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ １質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

（セルロースアシレートフィルムの作製）
上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶剤が３〜１５質量％の状態で、横方向に１．１倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、膜厚２５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製した。

（ハードコート層の作製）
ハードコート層形成用の塗布液として、下記硬化性樹脂組成物を調製した。
（硬化性樹脂組成物）
・ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ［日本化薬（株）製］ ４８．５質量部
・ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０［日本化薬（株）製］ ４８．５質量部
・イルガキュア１２７：重合開始剤［ＢＡＳＦ（株）製］
３．０質量部
・トルエン ９７．０質量部
・シクロヘキサノン ３．０質量部

上記で作製したセルロースアシレートフィルム上に、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、上記硬化性樹脂組成物を搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で６０秒乾燥させた。その後、さらに窒素パージ下（酸素濃度約０．１％）で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。硬化層の膜厚は４μｍになるよう塗布量を調整した。このようにして、総膜厚２９μｍのハードコート層付きフィルムＡ（以後、単に「フィルムＡ」とも称する）を作製した。

＜ハードコート層付きフィルムＢの作製＞
（アクリルフィルムの作製）
［下記一般式（Ｒ−ＩＩＩ）で表されるラクトン環構造を有するアクリル系樹脂｛共重合モノマー質量比＝メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、重量平均分子量１３３０００、メルトフローレート６．５ｇ／１０分（２４０℃、１０ｋｇｆ）、Ｔｇ１３１℃｝９０質量部と、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ ＡＳ２０、東洋スチレン社製｝１０質量部と、ＡＤＫＳＴＡＢ ＬＡ−Ｆ７０｛（株）ＡＤＥＫＡ製｝４．５質量部の混合物；Ｔｇ１２７℃］のペレットを二軸押し出し機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押し出しして、厚み２０μｍの長尺状のアクリルフィルムを得た。

上記式（Ｒ−ＩＩＩ）中、Ｒ¹は水素原子であり、Ｒ²およびＲ³はメチル基である。

（ハードコート層の作製）
ハードコート層付きフィルムＡにおいて、セルロースアシレートフィルムを上記作製したアクリルフィルムに変えた以外は、ハードコート層付きフィルムＡと同様の方法で、硬化層の膜厚が４μｍのハードコート層をアクリルフィルム上に塗工した。このようにして、総膜厚２４μｍのハードコート層付きフィルムＢ（以後、単に「フィルムＢ」とも称する）を作製した。

＜偏光板の作製＞
ハードコート層付きフィルムＡを用意し、５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムＡを水洗した。その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、さらに水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムＡを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムＡを作製した。
鹸化したハードコート層付きフィルムＡを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて膜厚２５μｍの偏光子（ポリビニルアルコール系樹脂含有偏光子）に貼り合わせ、７０℃で１０分以上乾燥し、偏光板Ａを作製した。ここで、偏光子の透過軸とフィルムの搬送方向とが直交するように配置した。なお、貼り合せの際には、ハードコート層付きフィルムＡ中のフィルム側を偏光子側に向けて貼り合せを行った。

（２層積層体の製造）
作製した偏光板Ａ中の偏光子のハードコート層付きフィルムＡ側とは反対側の表面上に、下記に示す手順で積層体１を形成した。

作製した偏光板Ａ中の偏光子のハードコート層付きフィルムＡ側とは反対側の表面上に、下記の第１硬化性層形成用組成物１をワイヤーバーコーターで搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で９０秒乾燥させることで、第１硬化性層を形成した。なお、第１硬化性層から形成される密着層の膜厚が０．０５μｍになるよう塗布量を調整した。

（第１硬化性層形成用組成物１）
・変性ポリビニルアルコール（下記の式（Ｘ）のＰＶＡ） １０質量部
・グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
・クエン酸エステル（三協化学(株)製 ＡＳ−３） ０．２質量部
・水 ２３４質量部
・メタノール ９１質量部

上記で使用した変性ポリビニルアルコールの構造式（式（Ｘ）で表されるポリビニルアルコール（ＰＶＡ））を以下に示す。なお、以下式（Ｘ）で表されるＰＶＡ（式（Ｘ）のＰＶＡ）は、以下の３つの繰り返し単位を含み、各繰り返し単位に記載される数値は、各繰り返し単位の全繰り返し単位に対するモル％を意図する。

続いて、上記で作製した第１硬化性層上に、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、後述する第２硬化性層形成用組成物１を搬送速度２４ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で６０秒乾燥させた。その後、さらに窒素パージ下（酸素濃度約０．１％）で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施し、第１硬化性層および第２硬化性層を硬化させ、巻き取った。第２硬化性層から形成される樹脂層の膜厚が２μｍになるよう塗布量を調整した。このようにして、実施例１の偏光板を作製した。
なお、実施例１で形成された密着層および樹脂層を含む積層体（２層積層体）を、表１中の「積層体１」と示す。

（第２硬化性層形成用組成物１）
・Ａ−ＴＭＭＴ［新中村化学工業（株）製］ １００質量部
・イルガキュア１２７：重合開始剤［ＢＡＳＦ（株）製］
３．０質量部
・化合物Ｖ（界面活性剤）（下記の表Ａに記載の化合物） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０３．２質量部

上記で使用した化合物Ｖの構造式を表Ａに示す。なお、以下式で表される化合物Ｖは、下記表Ａに記載の繰り返し単位を、下記表Ａの質量比（９０：１０）で含む化合物であることを意図する。重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ測定（ポリスチレン換算）の測定値である。

＜実施例２＞
第１硬化性層形成用組成物１の代わりに下記の第１硬化性層形成用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例２の偏光板を作製した。
なお、実施例２で形成された密着層および樹脂層を含む積層体（２層積層体）を、表１中の「積層体２」と示す。

（第１硬化性層形成用組成物２）
・変性ポリビニルアルコール（上記式（Ｘ）のＰＶＡ） １０質量部
・グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
・クエン酸エステル（三協化学(株)製 ＡＳ−３） ０．２質量部
・イルガキュア２９５９：重合開始剤［ＢＡＳＦ（株）製］
０．５質量部
・水 ２４４質量部
・メタノール ９５質量部

＜実施例３＞
第１硬化性層形成時の乾燥時間を９０秒から１０秒に短縮した以外は、実施例２と同様の方法で、実施例３の偏光板を作製した。
該態様は、半乾燥状態の塗膜（第１硬化性層）上に、第２硬化性層形成用組成物１を塗布した態様に該当する。なお、第２硬化性層形成用組成物１を塗布する前の半乾燥状態の塗膜中における溶媒の含有量は、塗膜全量に対して、１９質量％であった。
なお、実施例３で形成された密着層および樹脂層を含む積層体（２層積層体）を、表１中の「積層体３」と示す。

＜実施例４＞
第１硬化性層および第２硬化性層を形成する際に、下記に示す手順（重層塗布）で第１硬化性層および第２硬化性層を形成した以外は、実施例２と同様の方法で、実施例４の偏光板を作製した。
なお、実施例４で形成された密着層および樹脂層を含む積層体（２層積層体）を、表１中の「積層体４」と示す。

（重層塗布）
作製した偏光板Ａ中の偏光子のハードコート層付きフィルムＡ側とは反対側の表面上に、エクストルージョン型ダイコータを用いて、搬送速度３０ｍ／分の条件で上記の第１硬化性層形成用組成物２と第２硬化性層形成用組成物１とを同時重層塗布し、６０℃で６０秒乾燥させ、第１硬化性層および第２硬化性層を形成した。その際、第１硬化性層と第２硬化性層とが偏光板Ａの偏光子に対し上側に配置されるように乾燥した。
その後、さらに窒素パージ下（酸素濃度約０．１％）で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施し、第１硬化性層および第２硬化性層を硬化させ、巻き取った。密着層の膜厚が０．０５μｍ、樹脂層の膜厚が２μｍになるよう塗布量を調整した。このようにして、実施例４の偏光板を作製した。

＜比較例１＞
実施例１において、第１硬化性層を形成しなかった以外は、同様の方法で比較例1の偏光板を作製した。すなわち、比較例１の偏光板は、偏光子上に膜厚２μｍの第２硬化性層から形成される樹脂層を有し、密着層を有さない偏光板である。

＜比較例２、実施例５〜１２＞
下記表２に示すように、積層体（２層積層体）として下記表１に記載の積層体２、４〜９のいずれか使用し、偏光子保護フィルムの種類、および、偏光子の厚みを下記表２のように変更した以外は、実施例２または４と同様の方法で、比較例２および実施例５〜１２の偏光板を作製した。
なお、実施例１〜１２の構成は、図２に記載の構成に該当し、ハードコート層付きフィルムＡおよびＢが図２中の偏光子保護フィルム１８に該当する。
また、表１中、各積層体の形成方法として、「逐次方法」および「重層方法」のいずれを選択したかを示す。なお、「逐次方法」とは上記実施例１で示した第１硬化性層を形成した後、第２硬化性層を形成する方法を意図し、「重層方法」とは上記実施例４の（重層塗布）にて第１硬化性層および第２硬化性層を形成する方法を意図する。
例えば、積層体５においては、表１中の重合性基含有ＰＶＡを含む第１硬化性層形成用組成物、および、上記第２硬化性層形成用組成物１を用いて、上記（重層塗布）により密着層および樹脂層を形成することを意図する。

表１中、「添加量」欄中の数値は各成分の質量部を意図する。
なお、各第１硬化性層形成用組成物中には、溶媒として、水とメタノールが７２：２８の割合で含まれる。また、各第２硬化性層形成用組成物中には、溶媒としてメチルエチルケトン１０３．０質量部が含まれる。
表１中の「ＰＶＡ樹脂の種類」欄中の「ｘ」「ｙ」「ｚ」は、以下の構造式（Ｗ）中の各繰り返し単位を含むＰＶＡ樹脂中の各繰り返し単位のモル％を意図する。

表１中の「固形分濃度」、「乾燥条件」、「ＵＶ照射量」は、各密着層および各樹脂層を形成する際の条件をそれぞれ示す。また、表１中の「膜厚」は、各密着層および各樹脂層の膜厚を示す。表１中の「Ｒｅ（５５０）」、「Ｒｔｈ（５５０）」は、各密着層および各樹脂層を積層した各積層体のＲｅ（５５０）、Ｒｔｈ（５５０）をそれぞれ示す。

各積層体（密着層および樹脂層の２層の積層体（２層積層体））のＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）は、ＡＸＯＳＣＡＮ（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製）にて測定した。Ｒｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）の測定方法としては、表１と同様の条件にて厚み７００μｍのガラス上に各積層体を形成して、評価用サンプルを作製した。得られた評価用サンプルを使用して、Ｒｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）を測定した。各積層体の厚みは、表１に記載の膜厚（μｍ）にて測定を行った。
なお、表１に記載の膜厚は平均厚みを意図し、測定方法は上述の通りである。

表２中、「積層体の種類」欄は、表１に記載の積層体の番号を記載する。
また、表２中、「密着層のＰＶＡ樹脂中における、Ｙ成分の割合」とは、上記式（Ｗ）中の重合性基を有する繰り返し単位（以後、Ｙ成分とも称する）の「ｙ」で表されるモル％を意図する。

表２に示す、実施例および比較例にて得られた偏光板を用いて、以下に示す評価を実施した。結果は表２にまとめて示す。

（密着性）
各実施例および比較例の偏光板中の積層体が形成された面とは反対側の面を、厚み約２０μｍの粘着剤を介してガラス基板に貼り合せて試料を３枚作製し、該試料を下記の３条件で静置した後、偏光板中の積層体表面について、ＪＩＳ Ｋ ５４００に準じた碁盤目剥離試験（マス目１００個）を実施した。
（ｉ）２５℃、６０％ＲＨの条件下にて１０日間
（ｉｉ）８０℃、９０％ＲＨの条件下にて１０日間静置後、２５℃６０％ＲＨの条件下にて３０分静置
（ｉｉｉ）１０５℃ＤＲＹの条件下にて１０日間静置後、２５℃６０％ＲＨの条件下にて３０分静置
ただし、テープを用いた剥離操作は同一サンプルに対して４回連続で実施し、剥離回数毎の剥離個数をもとに下記基準で評価した。ここで、剥離回数毎の剥離個数は、３条件で測定した試料３枚のうち、剥離数が最大の試料の剥離数とした。４回連続で実施とは、テープを貼り合せて剥離した後、さらに同一のサンプルに対して、新しいテープを貼り合せて剥離することを意図する。
Ａ：剥離個数が、４回剥離終了時で０／１００以下（剥離なし）
Ｂ：剥離個数が、４回剥離終了時で４／１００以下
Ｃ：剥離個数が、３回剥離終了時で４／１００以下、４回剥離終了時で５／１００以上
Ｄ：剥離個数が、２回剥離終了時で４／１００以下、３回剥離終了時で５／１００以上
Ｅ：剥離個数が、１回剥離終了時で４／１００以下、２回剥離終了時で５／１００以上
Ｎ：剥離個数が、１回剥離終了時で５／１００以上
なお、「剥離個数が５／１００」とは、評価した１００マス中の剥離個数が５個であることを示す。

表２に示すように、本発明の偏光板は、偏光子と樹脂層とが優れた密着性を示すことが確認された。特に、実施例１〜４の比較から分かるように、第１硬化性層に重開始剤が含まれる場合、半乾燥の第１硬化性層上に第２硬化性層形成用組成物を塗布した場合、および、重層塗布を行った場合により優れた効果が得られることが確認された。また、実施例５と６との比較より、重合性基含有ＰＶＡ中における重合性基を有する繰り返し単位の含有量（ｙ量）が０．０３モル％以上の場合、より優れた効果が得られることが確認された。
一方、密着層を使用しなかった比較例１（特許文献１の態様に該当）、および、所定の重合性基含有ＰＶＡを用いていない比較例２においては、所望の効果は得られなかった。

＜実施例１３＞
実施例１の作製において、ハードコート層付きフィルムＡの代わりに、別途用意した膜厚２５μｍの偏光子（ポリビニルアルコール樹脂含有偏光子）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で、偏光子の一方の表面上に積層体１を形成した。
次いで、作製した偏光板において、積層体１側とは反対側の表面上に、上述した第１硬化性層形成用組成物１をワイヤーバーコーターで搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で９０秒乾燥させることで、第１硬化性層を形成した。なお、第１硬化性層から形成される密着層の膜厚が０．０５μｍになるよう塗布量を調整した。

続いて、上記で作製した第１硬化性層上に、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、上述した第２硬化性層形成用組成物１を搬送速度２４ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で６０秒乾燥させた。その後、さらに窒素パージ下（酸素濃度約０．１％）で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施し、第１硬化性層および第２硬化性層を硬化させ、巻き取った。第２硬化性層から形成される樹脂層の膜厚が８μｍになるよう塗布量を調整した。このようにして、実施例１３の偏光板を作製した。

＜実施例１４＞
実施例１３の作製において、積層体１の代わりに積層体４を用い、積層体１０の代わりに積層体１１を用いた以外は、実施例１３と同様の方法で、実施例１４の偏光板を作製した。
なお、積層体１１中の密着性１１を作製するためには、上述した第１硬化性層形成用組成物２を使用した。

＜実施例１５＞
積層体１１を形成する際、第１硬化性層形成時の乾燥時間を９０秒から１０秒に短縮した以外は、実施例１４と同様の方法で、実施例１５の偏光板を作製した。
該態様は、半乾燥状態の塗膜（第１硬化性層）上に、第２硬化性層形成用組成物を塗布した態様に該当する。なお、第２硬化性層形成用組成物を塗布する前の半乾燥状態の塗膜中における溶媒の含有量は、塗膜全量に対して、１９質量％であった。
なお、上記乾燥時間を変更して形成された密着層および樹脂層を含む積層体（２層積層体）を、表１中の「積層体１２」と示す。

＜実施例１６＞
実施例１５の作製において、積層体１２の代わりに積層体１３を、下記に示す手順で形成した以外は実施例１５と同様の方法で、実施例１６の偏光板を作製した。

（重層塗布）
作製した偏光子の積層体４側とは反対側の表面上に、エクストルージョン型ダイコータを用いて、搬送速度３０ｍ／分の条件で上述した第１硬化性層形成用組成物２と第２硬化性層形成用組成物１とを同時重層塗布し、６０℃で６０秒乾燥させ、第１硬化性層および第２硬化性層を形成した。その際、第１硬化性層および第２硬化性層が偏光板の偏光子に対し上側に配置されるように乾燥した。その後、さらに窒素パージ下（酸素濃度約０．１％）で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して第１硬化性層および第２硬化性層に硬化処理を施し、第１硬化性層および第２硬化性層を硬化させ、巻き取った。密着層の膜厚が０．０５μｍ、樹脂層の膜厚が８μｍになるよう塗布量を調整した。このようにして、実施例１６の偏光板を作製した。

＜比較例３、実施例１７〜２４＞
下表３に示すように、積層体として上記表１に記載の積層体を使用し、かつ、偏光子の厚みを変更した以外は、実施例１６と同様の方法で、比較例３および実施例１７〜２４の偏光板を作製した。
なお、比較例３、実施例１３〜２４の構成は、偏光子の両面に密着層および樹脂層が配置された態様に該当する。

表３中、偏光子の一方の表面上に配置される積層体を「第１保護層」、他方の表面上に配置される積層体を「第２保護層」として記載する。
なお、通常、画像表示装置に該偏光板が使用される場合は、第１保護層が視認側（アウター側）を向くように配置される。

表３に示す、実施例および比較例にて得られた偏光板を用いて、各種評価を実施した。結果は表３にまとめて示す。密着性の評価方法は、上述した通りである。

（鉛筆硬度）
各実施例および比較例の偏光板の鉛筆硬度は、異なる硬度の鉛筆を用い、ＪＩＳ Ｋ ５４００（１９９０）に準じた試験方法により求めた。なお、鉛筆硬度は、第１保護層の樹脂層が配置されている側から評価した。結果は表３にまとめて示す。

表３に示すように、本発明の偏光板は、偏光子と樹脂層とが優れた密着性を示すことが確認された。特に、実施例１３〜１６の比較から分かるように、第１硬化性層に重開始剤が含まれる場合、半乾燥の第１硬化性層上に第２硬化性層形成用組成物を塗布した場合、および、重層塗布を行った場合により優れた効果が得られることが確認された。また、実施例１６〜１８の比較より、密着層の厚み（膜厚）が樹脂層の厚み（膜厚）の２５％以下の場合、硬度がより優れることが確認された。
一方、所定の重合性基含有ＰＶＡを用いていない比較例３においては、所望の効果は得られなかった。

＜実施例２５＞
実施例１３において、偏光子（ポリビニルアルコール樹脂含有偏光子）に積層体１を形成しなかった以外は、実施例１３と同様の方法で、実施例２５の偏光板を作製した。

＜実施例２６＞
実施例１４において、偏光子（ポリビニルアルコール樹脂含有偏光子）に積層体４を形成しなかった以外は、実施例１４と同様の方法で、実施例２６の偏光板を作製した。

＜実施例２７＞
実施例１５において、偏光子（ポリビニルアルコール樹脂含有偏光子）に積層体４を形成しなかった以外は、実施例１５と同様の方法で、実施例２７の偏光板を作製した。

＜実施例２８＞
実施例１６において、偏光子（ポリビニルアルコール樹脂含有偏光子）に積層体４を形成しなかった以外は、実施例１６と同様の方法で、実施例２８の偏光板を作製した。

＜比較例４、実施例２９〜３５の偏光板＞
下表４に示すように、積層体１３の代わりに上記表１に記載の積層体を使用し、かつ、偏光子の厚みを変更した以外は、実施例２８と同様の方法で、比較例４および実施例２９〜３５の偏光板を作製した。
なお、比較例４、実施例２９〜３５の構成は、偏光子の片面に密着層および樹脂層が配置された態様に該当する。通常、画像表示装置に該偏光板が使用される場合は、樹脂層が視認側（アウター側）を向くように配置される。

表４に示す、実施例および比較例にて得られた偏光板を用いて、各種評価を実施した。結果は表４にまとめて示す。密着性および鉛筆硬度の評価方法は、上述した通りである。なお、鉛筆硬度は、樹脂層が配置されている側から評価した。

表４に示すように、本発明の偏光板は、偏光子と樹脂層とが優れた密着性を示すことが確認された。特に、実施例２５〜２８の比較から分かるように、第１硬化性層に重開始剤が含まれる場合、半乾燥の第１硬化性層上に第２硬化性層形成用組成物を塗布した場合、および、重層塗布を行った場合により優れた効果が得られることが確認された。また、実施例２８〜３０の比較より、密着層の厚み（膜厚）が樹脂層の厚み（膜厚）の２５％以下の場合、硬度がより優れることが確認された。
一方、所定の重合性基含有ＰＶＡを用いていない比較例４においては、所望の効果は得られなかった。

１０，１００ 偏光板
１２ 偏光子
１４ 密着層
１６ 樹脂層
１８ 偏光子保護フィルム
３１ 第１硬化性層形成用組成物
３２ 第２硬化性層形成用組成物
４０ ダイコータ
４１，４２，４３ ダイブロック
４４，４５ ポケット
４６，４７ スロット

Claims (9)

1. 偏光子と、密着層と、樹脂層とをこの順で備える偏光板を作製する偏光板の製造方法であって、
   前記密着層および前記樹脂層の２層積層体のＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）が下記式（Ｘ）および式（Ｙ）をそれぞれ満足し、
   前記密着層は、重合性基を有する基で少なくとも１個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールを含む第１硬化性層に硬化処理を施して得られる層であり、
   前記樹脂層は、多官能モノマーを含む第２硬化性層に硬化処理を施して得られる層であり、
   前記偏光子上に前記第１硬化性層および前記第２硬化性層をこの順で有する硬化性積層体を製造した後に、前記第１硬化性層および前記第２硬化性層に硬化処理を施して前記密着層および前記樹脂層を形成する工程を有し、
   前記硬化性積層体が、前記偏光子上に前記ポリビニルアルコールおよび溶媒を含む第１硬化性層形成用組成物を塗布した後、前記溶媒を３質量％以上４０質量％以下含む状態の塗膜上に、前記多官能モノマーを含む第２硬化性層形成用組成物を塗布する工程、または、前記偏光子上に前記ポリビニルアルコールおよび溶媒を含む第１硬化性層形成用組成物および前記多官能モノマーを含む第２硬化性層形成用組成物を同時重層塗布する工程により形成される、偏光板の製造方法。
   式（Ｘ） Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ
   式（Ｙ） ｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１０ｎｍ
   （但し、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）を意味し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を意味する。）
2. 前記第１硬化性層に重合開始剤が含まれる、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
3. 前記密着層の厚みが、前記樹脂層の厚みの２５％以下である、請求項１または２に記載の偏光板の製造方法。
4. 前記重合性基を有する基が、ビニル基、オキシラニル基またはアジリジニル基を有する基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法。
5. 前記重合性基が、２価の連結基を介してポリマー鎖に結合する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法。
6. 前記ポリビニルアルコールが、下記の一般式（Ｉ）で表されるポリビニルアルコールである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法。
   （一般式（Ｉ）中、Ｌ¹¹は、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合またはエステル結合を表す。Ｒ¹¹は、アルキレン基またはアルキレンオキシ基を表す。Ｌ¹²は、Ｒ¹¹とＱ¹¹とをつなぐ連結基を表す。Ｑ¹¹は、ビニル基、オキシラニル基またはアジリジニル基を表す。ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００の条件にて、ｘ１は１０〜９９．９モル％、ｙ１は０．０１〜８０モル％、およびｚ１は０〜７０モル％を表す。ｋおよびｈは、それぞれ０または１である。）
7. 前記樹脂層が、さらに紫外線吸収剤を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法で作製された偏光板を配置する工程を有する画像表示装置の製造方法。
9. 液晶表示装置の製造方法である、請求項８に記載の画像表示装置の製造方法。