JP7164124B2 - 偏光板、液晶パネルおよびディスプレイ装置 - Google Patents

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Description

関連出願との相互引用
本出願は２０１８年１０月１８日付韓国特許出願第１０－２０１８－０１２４５５４号に基づいた優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、偏光板、液晶パネルおよびディスプレイ装置に関するものである。
液晶表示装置は液晶のスイッチング効果による偏光を可視化するディスプレイであって、コンピュータ、ノートパソコン、電子時計、携帯用端末器などの中小型ディスプレイだけでなく大型ＴＶに至るまで多様な範疇で使用されている。
現在ディスプレイ装置用として量産実用化されている偏光板の相当数はポリビニルアルコール系フィルムをヨードや二色性染料などの二色性物質で染色し、ホウ素化合物で架橋させた後、延伸配向させて成される偏光フィルム（偏光子）の両面あるいは片面に光学的に透明でありまた機械的強度を有する保護フィルムを接合したものが用いられている。
しかし、延伸されたポリビニルアルコール系フィルムは、高温高湿のような耐久条件（ｄｕｒａｂｉｌｉｔｙ ｃｏｎｄｉｔｉｏｎ）下で収縮変形が起こりやすいという問題点がある。偏光子が変形されれば、その応力が保護フィルムおよび液晶セルに影響を与えて歪みが発生するようになり、結果的にこれを含む偏光板の物性変化、液晶表示装置での光漏れ現象を招くなどの問題が発生する。
本発明は、高い表面硬度と優れた耐スクラッチ性と共に安定した内部構造を有するだけでなく、細部構成層熱収縮率などが調節され良好な歪みバランス（ｂａｌａｎｃｅ）を有しながら安定した内部構造を実現してクラックを防止することができ、液晶表示装置の光漏れ現象を防止することができる偏光板を提供するためのものである。
また本発明は、前記偏光板を含む液晶パネルおよびディスプレイ装置をそれぞれ提供するためのものである。
本明細書では、偏光子と、前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層および光透過性基材を含む偏光板が提供される。
また、本明細書では、偏光子と前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層および反射防止フィルムを含み、前記反射防止フィルムは光透過性基材および第２ハードコーティング層を含み、前記第２ハードコーティング層の波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／第２ハードコーティング層の波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が０．９５以下、または０．８５～０．９５である、偏光板が提供される。
また本明細書では、偏光子と、前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層および光透過性基材を含み、前記光透過性基材で互いに垂直な２個の方向に対する熱収縮力の比率が特定範囲である、偏光板が提供される。
また本明細書では、偏光子と、前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層および光透過性基材を含み、６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮力の比率が０．６～１．５である偏光板が提供される。
また本明細書では、前記偏光板が液晶セルの少なくとも一面に形成される液晶パネルが提供される。
また本明細書では、前記偏光板を含むディスプレイ装置が提供される。
以下、発明の具体的な実施形態による偏光板、液晶パネルおよびディスプレイ装置についてより具体的に説明する。
本発明において、第１、第２などの用語は多様な構成要素を説明することに使用され、前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的としてのみ使用される。
また、（メタ）アクリル［（ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ］は、アクリル（ａｃｒｙｌ）およびメタクリル（ｍｅｔｈａｃｒｙｌ）の両方ともを含む意味である。
また、中空構造の無機ナノ粒子とは、無機ナノ粒子の表面および／または内部に空の空間が存在する形態の粒子を意味する。
また、（共）重合体は共重合体（ｃｏ－ｐｏｌｙｍｅｒ）および単独重合体（ｈｏｍｏ－ｐｏｌｙｍｅｒ）の両方ともを含む意味である。
発明の一実施形態によれば、偏光子と、前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層および反射防止フィルムを含み、前記反射防止フィルムは光透過性基材および第２ハードコーティング層を含み、前記第２ハードコーティング層の波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／第２ハードコーティング層の波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が０．９５以下、または０．８５～０．９５である、偏光板を提供することができる。
以前に知られた偏光板は偏光子を中心にして両側にトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムなどが位置する構造を有したのに反し、前記実施形態の偏光板は一側に前述の特性を有する光透過性基材および第２ハードコーティング層を含む反射防止フィルムが位置し、他の一側に１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層が位置して、より薄い厚さを実現しながらも細部層間の熱収縮率および熱収縮力などを適切に調節することができ、堅固な内部構造を実現することができ、ＰＶＡフィルムなどの偏光子側への水分伝達を遮断することができ、偏光板の全体厚さを低めることができる。
前記実施形態の偏光板は１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層を含んで相対的に低い厚さを有するようになり、これにより全体硬度が低まることがあり、そのために所定の厚さを有する反射防止フィルムは前記偏光子の反対面に備える。
この時、前記反射防止フィルムの厚さが高まることによって、内部構造や層間結合力が弱まることがあり、これを防止するために第２ハードコーティング層の波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／第２ハードコーティング層の波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が０．９５以下、または０．８５～０．９５である条件を満足する第２ハードコーティング層を備え、紫外線に対する耐光安定性を増加させることができ、フィルムの長期保管安定性をより向上させることができる。
より具体的に、第２ハードコーティング層の波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／第２ハードコーティング層の波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が０．９５以下、または０．８５～０．９５である条件を満足する第２ハードコーティング層を含むことによって、前記偏光板に対する耐光付着テストや厚さによる硬度実験結果で優れた効果が実現されるという点が確認された。
具体的に、前記第２ハードコーティング層は前記ａ／ｂが０．９５以下を満足しながら、波長５００ｎｍで９８％～１００％の透過率を有することができ、波長４００ｎｍで８５％～９５％の透過率を有することができる。
前記第２ハードコーティング層の波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／第２ハードコーティング層の波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が０．９５以下、または０．８５～０．９５である条件を満足する第２ハードコーティング層の特性は、前記第２ハードコーティング層のバインダー樹脂の組成やこれに含まれる他の成分、例えば有機粒子または無機粒子などの種類や含量などによって決定することもでき、前記ハードコーティング層製造時に使用される開始剤や添加剤などの種類や含量によって変わることもある。
より具体的に、前記第２ハードコーティング層が３８０ｎｍ～４００ｎｍの波長帯の光を９５％以上吸収する開始剤を含む組成物から形成されることによって、前記第２ハードコーティング層は第２ハードコーティング層の波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／第２ハードコーティング層の波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が０．９５以下、または０．８５～０．９５である条件を満足することができる。
前記“３８０ｎｍ～４００ｎｍの波長帯の光を９５％以上吸収する開始剤”の種類が大きく限定されるのではないが、ホスフェート（Ｐｈｏｓｔｐｈａｔｅ）系化合物、ベンゾフェノン系化合物などを使用することができる。このような開始剤の商用製品の例としては、ＩＲＧ８１９またはＩＲＧ３６９などが挙げられる。
一方、前記実施形態の偏光板は、６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮力の比率が０．６～１．５、または０．７～１．３、または０．８～１．２、または０．９～１．１を満足する光透過性基材を含むことができる。
偏光板の偏光子保護フィルムとして多く使用されているトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムは耐水性が弱くて高温／高湿環境で歪むことがあり、光漏れなどの不良を誘発するのに反し、本発明者らは前記実施形態の偏光板では前述の特性を有する光透過性基材を使用することによって高温高湿条件で長時間晒されても物性や形態に大きな変化がない耐久性を確保することができるという点を実験を通じて確認して発明を完成した。
前記実施形態の偏光板は６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮力の比率が０．６～１．５、または０．７～１．３、または０．８～１．２、または０．９～１．１を満足する光透過性基材を含むことによって、前記偏光板は製造過程で６０℃以上の温度が加えられる場合にも細部層間の熱収縮率などが調節され偏光板の歪みバランス（ｂａｌａｎｃｅ）も良好であったことが確認され、偏光板のクラックを防止することができ、液晶表示装置の光漏れ現象を防止することができる。
より具体的に、前記光透過性基材が６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮力の比率が０．６～１．５、または０．７～１．３、または０．８～１．２、または０．９～１．１であるという条件を満足することによって、高温高湿下で応力伝達が均一に伝播されて偏光板歪みが改善され、細部層間の密着力がより向上され堅固になり得る。
これに反し、６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮力の比率が過度に小さい場合、高温高湿での応力伝達が不均一に発生して細部層間の密着力が下落し、偏光板にクラックが発生し、液晶表示装置の光漏れ現象が現れることがある。
また、６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮力の比率が過度に大きい場合、高温高湿での応力伝達が不均一に発生して細部層間の密着力が下落し、偏光板にクラックが発生し、液晶表示装置の光漏れ現象が現れて技術的に不利なこともある。
一方、前述のように、前記光透過性基材は６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮力の比率が０．６～１．５であってもよく、前記光透過性基材の厚さおよび各方向でのモジュラスなどの要因によって、６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮率に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮率の比率が０．４～４、または０．８～２であってもよい。
６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮率に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮率の比率が０．４～４、または０．８～２であることによって、前記光透過性基材を含む偏光板は製造過程で６０℃以上の温度が加えられる場合にも細部層間の熱収縮率などの偏差がそんなに大きくなくなり、これによって偏光板の歪みバランス（ｂａｌａｎｃｅ）が良好になり、偏光板のクラックおよび液晶表示装置の光漏れ現象を防止することができる。
６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮率に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮率の比率が過度に小さい場合、高温高湿での応力伝達が不均一に発生して細部層間の密着力が下落し、偏光板にクラックが発生し、液晶表示装置の光漏れ現象が現れることがある。
また、６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮率に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮率の比率が過度に大きい場合、例えば前記比率が４を超過する場合、高温高湿での応力伝達が不均一に発生して細部層間の密着力が下落し、偏光板にクラックが発生し、液晶表示装置の光漏れ現象が現れて技術的に不利なこともある。
前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力および第２方向の熱収縮力それぞれは、６０℃～１００℃の温度に１０分～３００分間晒して測定することができる。
前記光透過性基材の第１方向の熱収縮率および第２方向の熱収縮率それぞれは、６０℃～１００℃の温度に１０分～１００分間晒して測定することができる。
前記光透過性基材の第１方向は前記光透過性基材のＭＤ方向（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）であり、前記光透過性基材の第２方向は前記光透過性基材のＴＤ方向（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）であってもよい。
前記光透過性基材は、３００ｎｍ以上の波長で透過率が５０％以上であってもよい。
また、前記実施形態の偏光板は６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向および第２方向間の熱収縮力または熱収縮率の比率関連条件を満足する光透過性基材を含むと同時に、前記偏光板の前記光透過性基材とは反対側面に１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層を含んで、より薄い厚さを実現しながらも細部層間の熱収縮率および熱収縮力などが適切に調節でき、堅固な内部構造を実現することができる。
前述のように、前記偏光子と対向するように前記光透過性基材の一面に形成される反射防止フィルムを含むことができる。
前記実施形態の偏光板１００の一例を図１に示した。図1に示された偏光板１００は偏光子２０と、前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層３０および反射防止フィルムを含み、前記反射防止フィルムは光透過性基材１０と前記光透過性基材１０の一面に形成された反射防止フィルム４０を含む。
前記光透過性基材は、波長４００ｎｍ～８００ｎｍで測定される厚さ方向のリタデーション（Ｒｔｈ）が３，０００ｎｍ以上であってもよい。
前記光透過性基材のリタデーションを３，０００ｎｍ以上、４，０００～１５，０００ｎｍ、または５，０００～１０，０００ｎｍに制御することによって相殺干渉によるレインボー現象が抑制され、セルロースエステル系フィルムに準じて画像表示装置の視認性を向上させることができる。
前記リタデーションは、光透過性基材の面内で最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）、および前記光透過性基材の厚さｄ（単位：ｎｍ）を、下記数式１に代入して計算したものであってもよい。
［数式１］
Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）Хｄ
また、このようなリタデーションは、例えば自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、測定角：０°、測定波長：５４８．２ｎｍ）を用いて測定された値であってもよい。または、前記リタデーションは次の方法でも求めることができる。先ず、２枚の偏光板を用いて前記光透過性基材の配向軸方向に備え、配向軸方向に対して直交する二つの軸屈折率（ｎｘ、ｎｙ）をＡｂｂｅ式屈折率計（ＮＡＲ－４Ｔ）によって求める。この時、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。また、前記光透過性基材の厚さを例えば電気マイクロメータを用いて測定し、先に得られた屈折率を用いて屈折率差（ｎｘ－ｎｙ）（以下、ｎｘ－ｎｙをΔｎという）を算出し、この屈折率差Δｎと光透過性基材の厚さｄ（ｎｍ）との積によってリタデーションを求めることができる。
前記光透過性基材のリタデーションが３０００ｎｍ以上であるので、屈折率差（Δｎ）は０．０５以上、０．０５～０．２０、または０．０８～０．１３であり得る。前記屈折率差（Δｎ）が０．０５未満であれば、前述のリタデーション値を得るために必要な前記光透過性基材の厚さが厚くなることがある。一方、屈折率差Δｎが０．２０を超過すれば、延伸倍率を過度に高める必要が発生するので、前記光透過性基材が破れて破壊されやすくて工業材料としての実用性が顕著に低下することがあり、耐湿熱性が低下することがある。
前記光透過性基材の遅相軸方向での屈折率（ｎｘ）は、１．６０～１．８０または１．６５～１．７５であってもよい。一方、前記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向での屈折率（ｎｙ）は、１．５０～１．７０、または１．５５～１．６５であってもよい。
一方、前記光透過性基材としては、耐水性に優れて光漏れ現象を誘発する可能性が殆どなく、機械的物性に優れたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用することができる。
一方、前記光透過性基材は、波長４００ｎｍ～８００ｎｍで測定される厚さ方向のリタデーション（Ｒｔｈ）が３，０００ｎｍ以上でありながら低い水分透過特性を有することができる。より具体的に、前記光透過性基材は、４０゜Ｃ、湿度１００％条件で２４時間の水分透過量を測定した時、水分透過量が１００ｇ／ｍ２以下、または１０～１００ｇ／ｍ２であり得る。
一方、前記光透過性基材の厚さが大きく限定されるのではないが、１０～１５０μｍ、２０～１２０μｍ、または３０～１００μｍであってもよい。前記光透過性基材の厚さが１０μｍ未満であれば前記第１ハードコーティング層の厚さより過度に薄くて歪みが発生し、光透過性基材の柔軟性が低下して工程を制御しにくいこともある。また、前記光透過性基材が過度に厚くなれば光透過性基材の透過率が減少して光学物性が下落することがあり、これを含む画像表示装置を薄膜化しにくいという問題点がある。
前記偏光板の内部構造がより堅固になり高温条件に晒されて歪みが発生するなどの現象を防止するために、前記光透過性基材の厚さに対する第１ハードコーティング層の厚さの比率が０．０２～０．２５であってもよい。
前述のように、前記光透過性基材の厚さが前記第１ハードコーティング層の厚さに対して適正範囲を有しなければ、偏光板に歪みが発生することがあり、光透過性基材の柔軟性が低下して工程を制御しにくいこともある。
一方、前記実施形態の偏光板は、前記光透過性基材が６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮力に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮力の比率が０．６～１．５、または０．７～１．３、または０．８～１．２、または０．９～１．１を満足する光透過性基材を含むと同時に、１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層を含むことにより、以前に知られた他の偏光板構造に比べてより薄い厚さを通じても堅固な構造を実現することができ、また外部熱によって耐久構造や物性が大きく変わらない特性を有することができる。
また、前述のように、６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮率に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮率の比率が０．４～４、または０．８～２であってもよい。
より具体的に、前記偏光子；前記第１ハードコーティング層；および前記光透過性基材；を合わせた厚さが２００μｍ以下であってもよい。例えば、前記偏光子は４０μｍ以下、または１～４０μｍの厚さを有することができ、前記第１ハードコーティング層は１０ｕｍ以下、または１～１０μｍの厚さを有することができ、前記光透過性基材は１５０μｍ以下の厚さを有することができる。
一方、前記第１ハードコーティング層は具体的な組成が大きく限定されるのではないが、例えば前記第１ハードコーティング層はバインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散され、０．５μｍ～１０μｍの粒径を有する有機微粒子または１ｎｍ～５００ｎｍの粒径を有する無機微粒子を含むことができる。
前記第１ハードコーティング層に含まれるバインダー樹脂は、光硬化性樹脂を含むことができる。前記光硬化性樹脂は、紫外線などの光が照射されれば重合反応を起こすことができる光重合性化合物の重合体を意味する。
前記光硬化性樹脂の例としては、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートおよびポリエーテルアクリレートからなる反応性アクリレートオリゴマー群；およびジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリンプロポキシレートトリアクリレート、トリメチルプロパンエトキシレートトリアクリレート、トリメチルプロピルトリアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートおよびエチレングリコールジアクリレートからなる多官能性アクリレート単量体からなる群；から形成された重合体または共重合体や、エポキシ基、指環式エポキシ基、グリシジル基エポキシ基またはオキセタン基を含むエポキシ基を含むエポキシ樹脂などが挙げられる。
前記バインダー樹脂は、前述の光硬化性樹脂と共に重量平均分子量が１０，０００ｇ／ｍｏｌ以上、または１０，０００ｇ／ｍｏｌ～５００，０００ｇ／ｍｏｌである（共）重合体（以下、高分子量（共）重合体という）をさらに含むことができる。前記高分子量（共）重合体は、例えば、セルロース系ポリマー、アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、エポキシド系ポリマー、ナイロン系ポリマー、ウレタン系ポリマーおよびポリオレフィン系ポリマーからなる群より選択される１種以上のポリマーを含むことができる。
前記有機または無機微粒子は粒径が具体的に限定されるのではないが、例えば、有機微粒子は１～１０μｍの粒径を有することができ、前記無機粒子は１ｎｍ～５００ｎｍ、または１ｎｍ～３００ｎｍの粒径を有することができる。
また、前記第１ハードコーティング層に含まれる有機または無機微粒子の具体的な例が限定されるのではないが、例えば、前記有機または無機微粒子は、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシド樹脂およびナイロン樹脂からなる有機微粒子であるか、酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ジルコニウムおよび酸化亜鉛からなる無機微粒子であってもよい。
一方、前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での平均反射率が２％以下であってもよい。
前記反射防止フィルムは光透過性基材および第２ハードコーティング層を含むことができ、また、前記光透過性基材と対向するように前記第２ハードコーティング層の一面に形成される低屈折層をさらに含むことができる。
前記低屈折層は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での１．２０～１．６０の屈折率を有することができる。
前記反射防止フィルムに含まれる第２ハードコーティング層の具体的な例が限定されるのではないが、前記反射防止フィルムに含まれる第２ハードコーティング層も“前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層”のように、バインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散され、０．５μｍ～１０μｍの粒径を有する有機微粒子または１ｎｍ～５００ｎｍの粒径を有する無機微粒子を含むことができる。
前記反射防止フィルムに含まれる第２ハードコーティング層に含まれる前記バインダー樹脂および０．５μｍ～１０μｍの粒径を有する有機微粒子または１ｎｍ～５００ｎｍの粒径を有する無機微粒子に関する内容は前述の内容を含む。
前記第２ハードコーティング層は１μｍ～３０μｍ、または２μｍ～２０μｍの厚さを有することができ、第２ハードコーティング層の硬度的な側面やフィルムの巻かれる特性を考慮して３μｍ～１０μｍまたは４μｍ～８μｍの厚さを有することが好ましい。前記第２ハードコーティング層の厚さが過度に低ければ、フィルムの硬度が低くなって表面保護の役割を果たすことができなくなり、厚さが高すぎる場合、フィルムの歪みが発生し、第１ハードコーティング層が含まれている偏光板構造の歪み均衡が破れて耐久性評価時に歪みが増加するかクラックが発生することがある。
前記３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での屈折率が１．２０～１．６０である低屈折層はバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散された有機微粒子または無機微粒子を含むことができ、選択的に光反応性官能基を有する含フッ素化合物および／または光反応性官能基を有するシリコン系化合物をさらに含むことができる。
前記バインダー樹脂は多官能（メタ）アクリレート系繰り返し単位を含む（共）重合体を含み、このような繰り返し単位は例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ＴＭＰＥＯＴＡ）、グリセリンプロポキシル化トリアクリレート（ＧＰＴＡ）、ペンタエリトリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）、またはジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などの多官能（メタ）アクリレート系化合物に由来したものであってもよい。
前記含フッ素化合物またはシリコン系化合物に含まれる光反応性官能基は、（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の官能基を含むことができる。
前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、ｉ）一つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも一つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも一つの水素がフッ素で置換され、一つ以上の炭素がケイ素で置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも一つのシリコンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子；およびｉｖ）１以上の光反応性官能基で置換され少なくとも一つの水素がフッ素で置換されたポリエーテル化合物；からなる群より選択された１種以上の化合物であってもよい。
前記低屈折層は、中空型無機ナノ粒子、ソリッド型無機ナノ粒子および／または多孔性無機ナノ粒子を含んでもよい。
前記中空型無機ナノ粒子は、２００ｎｍ未満の最大直径を有し、その表面および／または内部に空の空間が存在する形態の粒子を意味する。前記中空型無機ナノ粒子は、１～２００ｎｍ、または１０～１００ｎｍの数平均粒径を有する無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含むことができる。また、前記中空型無機ナノ粒子は、１．５０ｇ／ｃｍ３～３．５０ｇ／ｃｍ３の密度を有することができる。
前記中空型無機ナノ粒子は、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有することができる。前記中空型無機ナノ粒子表面に前述の反応性官能基を含有することによって、より高い架橋度を有することができる。
前記ソリッド型無機ナノ粒子は、０．５～１００ｎｍの数平均粒径を有するソリッド型無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含むことができる。
前記多孔性無機ナノ粒子は、０．５～１００ｎｍの数平均粒径を有する無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含むことができる。
前記低反射層は、前記（共）重合体１００重量部に対して前記無機ナノ粒子１０～４００重量部；および前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物および／またはシリコン系化合物２０～３００重量部を含むことができる。
前記一実施形態の偏光板は偏光子を含む。
前記偏光子は、当該技術分野によく知られた偏光子、例えばヨードまたは二色性染料を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなるフィルムを使用することができる。この時、前記偏光子はポリビニルアルコールフィルムにヨードまたは二色性染料を染着させ延伸して製造することができるが、その製造方法は特に限定されない。
一方、前記偏光子がポリビニルアルコールフィルムである場合、ポリビニルアルコールフィルムはポリビニルアルコール樹脂またはその誘導体を含むものであれば特別な制限なく使用が可能である。この時、前記ポリビニルアルコール樹脂の誘導体としては、これに限定されるのではないが、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などが挙げられる。または、前記ポリビニルアルコールフィルムは、当該技術分野において偏光子製造に一般に使用される市販のポリビニルアルコールフィルム、例えば、株式会社クラレ製のＰ３０、ＰＥ３０、ＰＥ６０、日本合成化学工業株式会社製のＭ３０００、Ｍ６０００などを使用することができる。
一方、前記ポリビニルアルコールフィルムは、これによって限定されるのではないが、重合度が１０００～１００００または１５００～５０００であってもよい。重合度が前記範囲を満足する時、分子の動きが自由であり、ヨードまたは二色性染料などと柔軟に混合され得る。また、前記偏光子が、厚さは４０μｍ以下、３０μｍ以下、２０μｍ以下、１～２０μｍ、または１μｍ～１０μｍであってもよい。この場合、前記偏光子を含む偏光板や画像表示装置などのデバイスの薄型軽量化が可能である。
前記偏光板は、前記偏光子と前記光透過性基材の間に位置し０．１μｍ～５μｍの厚さを有する接着層；をさらに含むことができる。
前記接着層には前記接着剤としては当該技術分野で使用される多様な偏光板用接着剤、例えば、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、陽イオン系またはラジカル系接着剤などを制限なく使用することができる。
一方、前記偏光板は、前記偏光子と接する第１ハードコーティング層の他の一面に形成された粘着層をさらに含んでもよい。
前記粘着層は、前記一実施形態の偏光板と画像表示装置の画像パネルの付着が可能なようにすることができる。前記粘着層は当該技術分野によく知られている多様な粘着剤を使用して形成することができ、その種類が特に制限されるわけではない。例えば、前記粘着層は、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤などを用いて形成することができる。
前記実施形態の偏光板１００のまた他の一例を図２に示した。図２に示された偏光板１００は偏光子２０と前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層３０および光透過性基材１０を含み、前記光透過性基材１０とその一面に形成された第２ハードコーティング層４０を含む反射防止フィルムを含み、前記偏光子と前記光透過性基材の間に位置する接着層５０と前記偏光子と接するハードコーティングフィルムの他の一面に形成された粘着層６０を含む。
前記粘着層の厚さも大きく限定されるのではなく、例えば１～５０ｕｍの厚さを有することができる。
発明のまた他の実施形態によれば、液晶セルの少なくとも一面に偏光板が形成される液晶パネルを提供することができる。
前記実施形態の液晶パネル２００の一例を図３に示した。図３に示された液晶パネル２００は液晶パネルの一面上に前記偏光板１００が形成された構造を有する。
また、前記実施形態の液晶パネル２００の他の一例を図４に示した。図４に示された液晶パネル２００は、液晶パネルの両面上に前記偏光板１００が形成された構造を有する。
前記液晶パネルで、前記液晶セルの両面に前記偏光板がそれぞれ形成されてもよく、前記２個の偏光板は前記液晶セルの一面に形成される偏光板の偏光子のＭＤ方向と他の一面に形成される偏光板の偏光子のＭＤ方向が互いに垂直なように配置することができる。
発明のまた他の実施形態によれば、前述の偏光板を含むディスプレイ装置を提供することができる。
前記ディスプレイ装置の具体的な例が限定されるのではなく、例えば、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマディスプレイ装置、有機発光ダイオード装置（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）などの装置であってもよい。
一つの一例として、前記ディスプレイ装置は、互いに対向する一対の偏光板；前記一対の偏光板の間に順次に積層された薄膜トランジスタ、カラーフィルタおよび液晶セル；およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置であってもよい。
前記ディスプレイ装置で、前記反射防止フィルムはディスプレイパネルの観測者側またはバックライト側の最外殻表面に備えられ得る。
前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置は、一対の偏光板のうちの相対的にバックライトユニットとの距離が遠い偏光板の一面に反射防止フィルムが配置されてもよい。
また、他の一例として、前記ディスプレイ装置は、表示パネル；および前記表示パネルの少なくとも一面に位置する前記偏光板を含むことができる。
前記ディスプレイ装置は液晶パネルおよび前記液晶パネルの両面にそれぞれ備えられた光学積層体を含む液晶表示装置であってもよく、この時、前記偏光板のうちの少なくとも一つが前述の本明細書の一実施状態による偏光子を含む偏光板であってもよい。この時、前記液晶表示装置に含まれる液晶パネルの種類は特に限定されないが、例えば、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（ｓｕｐｅｒ ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）型、Ｆ（ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｉｃ）型またはＰＤ（ｐｏｌｙｍｅｒ ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ）型のような手動行列方式のパネル；２端子型（ｔｗｏ ｔｅｒｍｉｎａｌ）または３端子型（ｔｈｒｅｅ ｔｅｒｍｉｎａｌ）のような能動行列方式のパネル；横電界型（ＩＰＳ；Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）パネルおよび垂直配向型（ＶＡ；Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）パネルなどの公知のパネルが全て適用可能である。
本発明によれば、高い表面硬度と優れた耐スクラッチ性と共に安定した内部構造を有するだけでなく、細部構成層熱収縮率などが調節され良好な歪みバランス（ｂａｌａｎｃｅ）を有しながら安定した内部構造を実現してクラックを防止することができ、液晶表示装置の光漏れ現象を防止することができる偏光板と前記偏光板を含む液晶パネルおよびディスプレイ装置を提供することができる。
発明の実施形態の偏光板の一例を示したものである。 発明の実施形態の偏光板の他の一例を示したものである。 発明の実施形態の液晶パネルの一例を示したものである。 発明の実施形態の液晶パネルの他の一例を示したものである。
発明の実施形態を下記の実施例でより詳細に説明する。但し、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例によって限定されるのではない。
［製造例］
製造例１：反射防止フィルムの製造
（１）反射防止フィルムのハードコーティング層（第２ハードコーティング層）形成用コーティング液の製造
下記表１に記載された成分を混合して反射防止フィルムのハードコーティング層形成用コーティング液（Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５）を製造した。
Figure 0007164124000001
ＤＰＨＡ：ジペンタエリトリトールヘキサアクリレートＰＥＴＡ：ペンタエリトリトールトリアクリレート
ＵＡ－３０６Ｔ：ウレタンアクリレートであって、トルエンジイソシアネートとペンタエリトリトールトリアクリレートの反応物（Ｋｙｏｅｉｓｈａ製品）
ＩＲＧ－８１９：開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９、Ｃｉｂａ）
ＩＲＧ－３６９：開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９、Ｃｉｂａ）
Ｄ－１１７３：開始剤（Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３、Ｃｉｂａ）
２－ＢｕＯＨ：２－ブチルアルコール
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
ＸＸ－１１３ＢＱ（２．０μｍ屈折率１．５５５）：ポリスチレンとポリメチルメタクリレートの共重合粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ製品）
ＭＡ－ＳＴ（３０％ ｉｎ ＭｅＯＨ）：大きさ１０～１５ｎｍのナノシリカ粒子がメチルアルコールに分散された分散液（Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製品）
（２）低反射層形成用コーティング液（Ｃ）の製造
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１００ｇ、中空型シリカナノ粒子（直径範囲：約４２ｎｍ～６６ｎｍ、ＪＳＣ ｃａｔａｌｙｓｔ ａｎｄ ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製品）２８３ｇ、ソリッド型シリカナノ粒子（直径範囲：約１２ｎｍ～１９ｎｍ）５９ｇ、第１含フッ素化合物（Ｘ－７１－１２０３Ｍ、ＳｈｉｎＥｔｓｕ社）１１５ｇ、第２含フッ素化合物（ＲＳ－５３７、ＤＩＣ社）１５．５ｇおよび開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １２７、Ｃｉｂａ社）１０ｇを、ＭＩＢＫ（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度３重量％になるように希釈して低反射層形成用コーティング液を製造した。
（３）光透過性基材上に形成された反射防止フィルムの製造
下記表２および３に記載されたそれぞれのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に前記製造されたハードコーティング層形成用コーティング液（Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５）それぞれを＃１２ ｍａｙｅｒ ｂａｒでコーティングした後、下記表２および３に記載された温度で２分乾燥し、ＵＶ硬化してハードコーティング層（コーティング厚さは５μｍ）を形成した。ＵＶランプはＨ ｂｕｌｂを用い、窒素雰囲気下で硬化反応を行った。硬化時照射されたＵＶ光量は１００ｍＪ／ｃｍ２である。
この時、基材上に形成された第２ハードコーティング層それぞれの波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）をＵＶ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（Ｓｏｌｉｄｓｐｅｃ－３７００、Ｓｈｉｍａｄｚｕ）装置を用いて７８０－３５０ｎｍ範囲で前記ハードコーティングフィルムの透過率を測定して求め、その結果を下記表２および３に記載した。
前記ハードコーティングフィルム上に、前記低反射層形成用コーティング液（Ｃ）を＃４ ｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０～１２０ｎｍになるようにコーティングし、下記表２および３に記載された温度で１分間乾燥および硬化した。前記硬化時には窒素パージ下で前記乾燥されたコーティング物に２５２ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
製造例２：ハードコーティング層形成用コーティング液製造および１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層が形成された偏光子の製造
（１）ハードコーティング層形成用コーティング液（Ａ）の製造
トリメチロールプロパントリアクリレート ２８ｇ、ＫＢＥ－４０３ ２ｇ、開始剤ＫＩＰ－１００ｆ、０．１ｇ、レベリング剤（Ｔｅｇｏ ｗｅｔ ２７０）０．０６ｇを均一に混合してハードコーティング組成物を製造した。
（２）ハードコーティング層が形成された偏光子製造
前記製造例１で製造された反射防止フィルムの光透過性基材側にＵＶ接着剤を用いてポリビニルアルコール偏光子（厚さ：２５ｕｍ、製造会社：エルジー化学）を接合した後、前記光透過性基材の反対面に前記製造されたハードコーティング層形成用コーティング液（Ａ）を７ｕｍの厚さで塗布し、窒素パージ下で乾燥されたコーティング物に５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して第１ハードコーティング層を形成した。
［実施例および比較例：偏光板および液晶パネルの製造］
（１）偏光板の製造
前記製造例１で得られた光透過性基材上に形成された反射防止フィルムと偏光子をＵＶ硬化型接着剤を用いて接合した後、偏光子の他の一面に前記製造例２で製造されたハードコーティング層を形成して下記表２および表３に記載された実施例および比較例それぞれの偏光板を製造した。この時、偏光子の吸収軸と光透過性基材のＴＤ方向が平行になるように偏光板を製造した。
１）熱収縮力の比率の測定
この時、実施例および比較例それぞれで使用したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムのＭＤ方向の熱収縮力：ＴＤ方向の熱収縮力の比率はＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社のＤＭＡ（動的機械分析器）機器を通じて測定した。
２５℃から分当り２５℃ずつ上昇して３分後７５℃になるようにし、それから７分後８０℃に到達するように温度を設定し、測定時間は２時間とし、８０℃安定化以後、２時間が経過した後のＰＥＴフィルムのＭＤ方向の熱収縮力およびＴＤ方向の熱収縮力値を測定した。
前記ＰＥＴフィルムのＭＤ方向の熱収縮力およびＴＤ方向の熱収縮力それぞれは、幅６ｍｍ、長さ５０ｍｍに切断したサンプルをクランプに締結し予圧（Ｐｒｅｌｏａｄ）０．０１Ｎ状態で、引張（Ｓｔｒａｉｎ）０．１％を維持するようにサンプルを引いて固定させた後、高温で引張０．１％を維持するのにかかる収縮力を測定して決めた。前記ＰＥＴフィルムのＭＤ方向の熱収縮力およびＴＤ方向の熱収縮力それぞれを測定し、その比を求めた。
ＰＥＴ１：収縮力比（ＭＤ／ＴＤ）が約１
ＰＥＴ２：収縮力比（ＭＤ／ＴＤ）が約２
ＰＥＴ３：収縮力比（ＭＤ／ＴＤ）が約０．５
２）熱収縮率の比率の測定
実施例および比較例それぞれで使用したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムのＭＤ方向の熱収縮率：ＴＤ方向の熱収縮率の比率はそれぞれのＰＥＴフィルムを３０ｃｍ＊３０ｃｍ（横＊縦）大きさに切断して８０℃に３０分間放置した後、ＭＤ、ＴＤ方向それぞれに対して収縮率（変形された長さ／初期の長さ）を求めて計算した。
ＰＥＴ１：熱収縮率比（ＭＤ／ＴＤ）が約０．９～１．１
ＰＥＴ２：熱収縮率比（ＭＤ／ＴＤ）が約１０～１２
ＰＥＴ３：熱収縮率比（ＭＤ／ＴＤ）が約４．５～６
（２）熱衝撃評価用サンプル製造
一辺の長さが１０ｃｍである正四角形に裁断した前記偏光板をＴＶ用ガラス（横１２ｃｍ、縦１２ｃｍ、厚さ０．７ｍｍ）の一面に接合して熱衝撃評価用サンプルを製造する。この時、偏光子のＭＤ方向が正四角形の一辺と平行するように偏光板を裁断する。
［実験例］
＜実験例１：反射防止フィルムの耐光付着実験および硬度測定＞
（１）反射防止フィルムの耐光付着実験
一辺の長さが１０ｃｍである正四角形に裁断した前記偏光板をＵＶＢ（２８０－３６０ｎｍ）耐光露光機器（ＵＶテスター、コアテックコリア）に２４時間露光させる。コーティング面がＵＶ光源に向かっており、ＵＶ光源とコーティングフィルム間の距離は１５～３０ｃｍになるようにフィルムを配置した。
２４時間後、カッターナイフを使用して１ｃｍ＊１ｃｍ～２ｃｍ＊２ｃｍ大きさ内に１００個の格子が生じるようにキズをつけ、Ｎｉｃｈｉｂａｎ Ｔａｐｅを使用して付着後、剥離テストを行った。同一面に対して２回剥離テストを行って剥離された水準によって５Ｂ（剥離無し）水準から０Ｂ（全面剥離）まで付着力評価を行った。
＜評価基準＞
－５Ｂ（剥離無し）
－４Ｂ（剥離された部分が含まれている格子が１～５個）
－３Ｂ（剥離された部分が含まれている格子が６～１５個）
－２Ｂ（剥離された部分が含まれている格子が１６～３５個）
－１Ｂ（剥離された部分が含まれている格子が３６～５０個）
－０Ｂ（剥離された部分が含まれている格子が５１個以上）
（２）反射防止フィルムの硬度測定
粘着層がないか除去された偏光板を５ｃｍ＊５ｃｍ大きさに裁断して鉛筆硬度計（忠北テック）のサンプル台にフィルムのＭＤ方向と垂直な方向に測定されるようにフィルムを固定した後、鉛筆をフィルムと４５度角度に固定させ、５００ｇ、３００ｍｍ／ｍｉｎの荷重と速度で鉛筆硬度を測定した。
１回測定長さは４５ｍｍであり、総５回測定し、測定序盤部５ｍｍのプレスを排除した状態で、残り部分のプレスとスクラッチを肉眼で評価して４回以上キズがない場合、ＯＫと判定した。
＜実験例２：熱衝撃評価＞
前記製造された偏光板と偏光板が接合された評価用サンプルに対して次のような条件で熱衝撃実験を行って、下記三つの事項について測定および確認した。
－熱衝撃評価用サンプル製造
一辺の長さが１０ｃｍである正四角形に裁断された前記偏光板をＴＶ用ガラス（横１２ｃｍ、縦１２ｃｍ、厚さ０．７ｍｍ）の一面に接合して熱衝撃評価用サンプルを製造した。この時、偏光子のＭＤ方向が正四角形の一辺と平行するように偏光板を裁断した。
－測定条件：
偏光板と前記熱衝撃評価用サンプルを熱衝撃チャンバーに垂直に立てておく。常温から８０℃に昇温して３０分放置し、以後温度を－３０℃に低めて３０分放置後に常温に温度調節することを１Ｃｙｃｌｅにして総１００Ｃｙｃｌｅを繰り返した。
（１）Ｃｒａｃｋ発生数
前記評価用サンプルの偏光子の間に発生したＣｒａｃｋと偏光子の間に隙間ができたのを肉眼で確認して、長さ１ｃｍ以上のクラックの個数を確認した。
（２）気泡
前記評価用サンプルの偏光子と保護フィルムの間に発生した気泡および偏光子とハードコーティング層の間に発生した気泡を肉眼で確認して、直径５ｍｍ以上の気泡数を確認した。
（３）剥離
前記熱衝撃評価用サンプルの偏光子と保護フィルムの間に発生した浮きと四頂点部分のフィルム浮き、第２ハードコーティング層と保護フィルム間の浮き、偏光子と第１ハードコーティング層間の浮きを肉眼で確認して、このうちのいずれか一箇所でも剥離が発生すればＮＧと評価し、剥離が発生しなければＯＫと評価した。
（４）頂点浮き（ｍｍ）、１０ｘ１０／ｆｉｌｍ単品
前記偏光板サンプルの四頂点を観察してコーティング層と偏光子の間の浮き、偏光子と保護フィルムの間の剥離、ハードコーティングと粘着層間の剥離と歪みを観察する。浮きが発生して歪みが現れる場合、扁平に床に置いた状態で床から歪んだ高さを測定して平均を求めた。
Figure 0007164124000002
Figure 0007164124000003
上記表２および表３に示されているように、第２ハードコーティング層の波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／第２ハードコーティング層の波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が０．９５以下である第２ハードコーティング層を備える実施例の偏光板は前記偏光板に対する耐光付着テストや厚さによる硬度実験結果で比較例に比べて優れた効果が実現されるという点が確認された。
また、実施例の偏光板は高い表面硬度と共に安定した内部構造を有するだけでなく、歪みバランス（ｂａｌａｎｃｅ）も良好でありクラックを防止することができ、耐光付着テストや厚さによる硬度実験結果で比較例に比べて優れた結果を示し、液晶表示装置の光漏れ現象を防止することができるのが確認された。
１０ 光透過性基材
２０ 偏光子
３０ 第１ハードコーティング層
４０ 第２ハードコーティング層
５０ 接着層
６０ 粘着層
７０ 液晶セル
１００ 偏光板
２００ 液晶パネル

Claims (13)

  1. 偏光子と、
    前記偏光子を中心にして対向するように位置する１０ｕｍ以下の厚さを有する第１ハードコーティング層および反射防止フィルムを含み、
    前記反射防止フィルムは、光透過性基材および第２ハードコーティング層を含み、
    前記第２ハードコーティング層の波長４００ｎｍでの透過率（ａ）／第２ハードコーティング層の波長５００ｎｍでの透過率（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が０．９５以下であり、
    前記第２ハードコーティング層は、３８０ｎｍ～４００ｎｍの波長帯の光を９５％以上吸収する開始剤を含み、
    前記第１ハードコーティング層および第２ハードコーティング層は、バインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散され、０．５μｍ～１０μｍの粒径を有する有機微粒子および１ｎｍ～５００ｎｍの粒径を有する無機微粒子を含み、
    前記反射防止フィルムは、前記光透過性基材と対向するように前記第２ハードコーティング層の一面に形成される低屈折層をさらに含み、
    前記低屈折層は、中空型無機ナノ粒子およびソリッド型無機ナノ粒子を含む、偏光板（ただし、４０゜Ｃ、相対湿度９０％条件で２４時間測定した前記光透過性基材の水分透過量が６０ｇ／ｍ ２ 以上である場合を除き、光透過性基材の厚さが４０μｍ以下である場合を除く）。
  2. 前記第２ハードコーティング層は、波長５００ｎｍで９８％～１００％の透過率を有し、波長４００ｎｍで８５％～９５％の透過率を有する、請求項１に記載の偏光板。
  3. ６０℃～１００℃の温度範囲で前記光透過性基材の第１方向の熱収縮率に対する前記第１方向と垂直な前記光透過性基材の第２方向の熱収縮率の比率が０．６～１．５である、請求項１または２に記載の偏光板。
  4. 前記光透過性基材は、波長４００ｎｍ～８００ｎｍで測定される厚さ方向のリタデーション（Ｒｔｈ）が３，０００ｎｍ以上である、請求項１～３のいずれか一項に記載の偏光板。
  5. ４０゜Ｃ、湿度１００％条件で２４時間測定した前記光透過性基材の水分透過量が１００ｇ／ｍ２以下である、請求項１～４のいずれか一項に記載の偏光板。
  6. 前記光透過性基材の厚さに対する第１ハードコーティング層の厚さの比率が０．０２～０．２５である、請求項１～５のいずれか一項に記載の偏光板。
  7. 前記偏光子；前記第１ハードコーティング層；および前記光透過性基材；を合わせた厚さが２００μｍ以下である、請求項１～６のいずれか一項に記載の偏光板。
  8. 前記第２ハードコーティング層は、１μｍ～３０μｍの厚さを有する、請求項１～７のいずれか一項に記載の偏光板。
  9. 前記低屈折層は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での１．２０～１．６０の屈折率を有する、請求項１に記載の偏光板。
  10. 前記偏光子と前記光透過性基材の間に位置し、０．１μｍ～５μｍの厚さを有する接着層；をさらに含む、請求項１～９のいずれか一項に記載の偏光板。
  11. 請求項１～１０のいずれか一項に記載の偏光板が液晶セルの少なくとも一面に形成される液晶パネル。
  12. 前記液晶セルの両面に請求項１～１０のいずれか一項に記載の偏光板がそれぞれ形成され、
    前記２個の偏光板は、前記液晶セルの一面に形成される偏光板の偏光子のＭＤ方向と他の一面に形成される偏光板の偏光子のＭＤ方向が互いに垂直なように位置する、請求項１１に記載の液晶パネル。
  13. 請求項１～１０のいずれか一項に記載の偏光板を含むディスプレイ装置。
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