JP7403211B2 - 屈曲可能な光学積層体及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、屈曲可能な光学積層体及びその製造方法に関する。

表示装置に要求される薄型化や軽量化のために、偏光子にも薄型化や軽量化が求められている。このような偏光子として、液晶性を有する材料をコーティングして製造した偏光子が知られている（例えば、特許文献１、２）。例えば、特許文献１には、液晶性を有する二色性色素を含有し、液晶性の非着色性化合物を含まない偏光子を用い、この偏光子上に透明樹脂硬化層を積層して偏光板を形成することにより、物理強度を確保することが記載されている。また、特許文献２には、液晶化合物と二色性色素とを含む偏光子上に保護層を設けた偏光板が記載されており、この保護層により、製造段階や使用段階における光学性能の低下の問題を解消できることが記載されている。

特開２０１０－１５２３５１号公報 特開２０１６－１３９１３３号公報

ところで、近年、曲面や折り曲げ面等の平面ではない面への設置や、折り畳んだり巻物形状としたりすることによる携帯性向上の観点から、可撓性を有するフレキシブルディスプレイが注目を集めている。このようなフレキシブルディスプレイに用いられる偏光板には、偏光板自体にも可撓性が求められる。

しかしながら、特許文献１に記載の偏光子上に設けられた透明樹脂硬化層は、屈曲させたときにクラックが生じることがあり、フレキシブルディスプレイ用途には適していない。また、特許文献２に記載のポリビニルアルコールを含む水系組成物から形成された保護層を設けた偏光板は、より過酷な耐湿熱環境下に置かれた場合に光学特性が低下することがあった。

本発明は、過酷な耐湿熱環境下においても光学特性の低下を抑制することができ、かつ、屈曲可能な光学積層体及びその製造方法の提供を目的とする。

本発明は、以下に示す光学積層体及びその製造方法を提供する。
〔１〕 偏光層及び保護層を含む屈曲可能な光学積層体であって、
前記偏光層は、重合性液晶化合物が硬化した層に二色性色素を含むものであり、
前記保護層は、第１樹脂を主成分とする第１保護層と、第２樹脂を主成分とする第２保護層と、を含み、
前記第１樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂であり、
前記第２樹脂は、前記第１樹脂とは異なる樹脂であり、
前記第１保護層の厚みは、０．１μｍ以上１．０μｍ未満である、光学積層体。
〔２〕 前記保護層の厚みは、１．５μｍ以下である、〔１〕に記載の光学積層体。
〔３〕 前記第２樹脂は、水系樹脂である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体。
〔４〕 前記保護層は、前記偏光層側から前記第２保護層及び前記第１保護層の順に積層されてなる、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔５〕 〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の光学積層体と、粘着剤層とを含む粘着剤層付き光学積層体であって、
前記粘着剤層は、前記光学積層体における前記保護層の前記偏光層とは反対側に設けられている、粘着剤層付き光学積層体。
〔６〕 〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の光学積層体が、接着剤層又は粘着剤層を介して位相差層に積層された、位相差層付き光学積層体。
〔７〕 基材層上に偏光層を有する積層フィルムを準備する工程と、
前記積層フィルムの前記偏光層上に、保護層を形成する工程とを備える、屈曲可能な光学積層体の製造方法であって、
前記偏光層は、重合性液晶化合物が硬化した層に二色性色素を含むものであり、
前記保護層は、第１樹脂を主成分とする第１保護層と、第２樹脂を主成分とする第２保護層と、を含み、
前記第１樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂であり、
前記第２樹脂は、前記第１樹脂とは異なる樹脂であり、
前記第１保護層の厚みは、０．１μｍ以上１．０μｍ未満である、光学積層体の製造方法。
〔８〕 前記積層フィルムを準備する工程は、前記重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工して前記偏光層を形成する工程を備える、〔７〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔９〕 前記第２樹脂は水系樹脂であり、
前記保護層を形成する工程は、
前記偏光層上に、前記第２保護層を形成するための第２樹脂組成物を塗工して前記第２保護層を形成する工程と、
前記第２保護層上に、前記第１保護層を形成するための第１樹脂組成物を塗工して前記第１保護層を形成する工程と、を備える、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体の製造方法。

本発明によれば、屈曲可能であって、過酷な耐湿熱環境下においても光学特性の低下を抑制することができる光学積層体及びその製造方法を提供することができる。

本発明の光学積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明の粘着剤層付き光学積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明の位相差層付き光学積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明の位相差層付き光学積層体の他の一例を示す概略断面図である。

以下、図面を参照して、本発明の光学積層体及びその製造方法の好ましい実施形態について説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。

＜光学積層体＞
図１は、本発明の光学積層体の一例を示す概略断面図である。本実施の形態の光学積層体１は、屈曲可能であって、図１に示すように、基材層１０、偏光層２０及び保護層３０をこの順に有する。ここで、屈曲可能とは、光学積層体の少なくとも一部が、後述する屈曲性試験における屈曲回数が９９，９９９回の時点で、屈曲部分にクラックが生じていないことを意味する。また、光学積層体１は、基材層１０を有していてもよく、有してなくてもよい。

偏光層２０は、重合性液晶化合物が硬化した層に二色性色素を含むものである。偏光層２０を含むことにより、光学積層体１は光吸収異方性の機能を有する。保護層３０は、第１樹脂を主成分とする第１保護層３１と、第２樹脂を主成分とする第２保護層３２とを含み、第１樹脂は（メタ）アクリル系樹脂であり、第２樹脂は第１樹脂とは異なる樹脂である。ここで、主成分とは、各保護層をなす成分のうち最も含有量（質量％）の大きい成分をいう。第１保護層３１の厚みは０．１μｍ以上１．０μｍ未満である。

光学積層体１は、（メタ）アクリル系樹脂を主成分とする第１保護層３１により、湿熱環境下において光学特性が低下することを抑制することができる。この理由は明らかではないが、次のように推測される。第１保護層３１は、（メタ）アクリル系樹脂を主成分としているため、湿熱環境下において光学積層体１中に水分が侵入しにくく、水分が侵入することがあっても、第１保護層３１は膨潤しにくいと考えられる。その結果、偏光層２０中の二色性色素が第１保護層３１中に拡散したり、第１保護層３１を通過したりすることを抑制することができ、湿熱環境下における光学積層体１の光学特性の低下を抑制できると推測される。

第１保護層３１の厚みは、０．１μｍ以上１．０μｍ未満である。これにより、比較的割れや破断が生じやすいとされる（メタ）アクリル系樹脂を主成分とする第１保護層３１を有していても、屈曲可能な光学積層体１が得られやすい。

また、第１保護層３１に加えて第２保護層３２を有することにより、湿熱環境下において偏光層２０中の二色性色素が第１保護層３１中や第２保護層３２中に拡散したり、第１保護層３１や第２保護層３２を通過したりすることを抑制することができる。これにより、湿熱環境下における光学積層体１の光学特性の低下をより一層抑制することができる。

光学積層体１は、全体の厚みが、通常７μｍ以上であり、１０μｍ以上であることが好ましく、２０μｍ以上であることがより好ましく、また、１３０μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、８０μｍ以下であることがさらに好ましい。

光学積層体１の初期（耐湿熱試験前）の視感度補正単体透過率（Ｔ）は、４０％以上であることが好ましく、４２％以上であることがより好ましい。高透過率が要求される用途に光学積層体１を適用する場合には、視感度補正単体透過率（Ｔ）は、４６％以上であることが好ましく、４８％以上であることがより好ましい。また、光学積層体１の初期（耐湿熱試験前）の視感度補正偏光度（Ｐ）は、８０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることがさらに好ましく、９８％以上であることが特に好ましい。高透過率が要求される用途に光学積層体１を適用する場合には、視感度補正偏光度（Ｐ）は、７０％以上であることが好ましい。視感度補正単体透過率（Ｔ）が４６％以上である場合、耐湿熱試験において光学特性が低下しやすい傾向があるため、光学積層体１は、視感度補正単体透過率（Ｔ）が４６％以上である場合に好適に用いることができる。

光学積層体１は、温度６０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下で５００時間放置する耐湿熱試験後における視感度補正単体透過率（Ｔ）が、３８％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましい。光学積層体１は、上記した耐湿熱試験後における視感度補正偏光度（Ｐ）は、７０％以上であることが好ましく、７５％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましく、９０％以上であってもよく、９３％以上であってもよく、９５％以上であってもよい。

上記した耐湿熱試験の前後における視感度補正単体透過率（Ｔ）の変化量の絶対値（｜ΔＴ｜）は、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましく、通常０％超である。また、上記した耐湿熱試験の前後における視感度補正偏光度（Ｐ）の変化量の絶対値（｜ΔＰ｜）は、２％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましく、通常０％超である。

また、光学積層体１は、後述する屈曲性試験を１０万回以上行った場合に、屈曲位置にクラック等の破損が見られないものであることが好ましく、屈曲性試験を２０万回以上行ってもクラックが見られないことがより好ましい。

以下、光学積層体１をなす各層について詳述する。
（基材層）
基材層１０は、偏光層２０の製造や運搬に際して取扱いを容易にし、また、基材層１０を設けることにより、光学積層体１の保管時に偏光層２０が損傷することを防止することができる。

基材層１０としては、光学用に用いられる透明樹脂フィルムであれば特に限定せずに用いることができる。基材層１０をなす樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等の鎖状オレフィン系樹脂；ノルボルネン系ポリマー系等の環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂；ポリエチレンテレフタレート系樹脂；（メタ）アクリル酸エステル系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリエチレンナフタレート系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；スルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ポリフェニレンオキシド系樹脂；ポリイミド樹脂；ポリアミド樹脂；ポリアミドイミド樹脂；これらの混合物からなる群より選択される１種を挙げることができる。なお、本明細書中「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリレート」についても同様である。

基材層１０の厚みは、光学積層体１を屈曲可能とすることができれば特に限定されないが、光学積層体１の薄型化や軽量化のためには、強度や加工性を確保できる範囲内で薄い方が好ましい。基材層１０の厚みは、例えば、通常５μｍ以上であり、１０μｍ以上であることが好ましく、２０μｍ以上であることがより好ましく、また、１００μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以下であることがより好ましく、６０μｍ以下であることがさらに好ましい。

基材層１０は、防眩機能、反射機能、表面反射防止機能、位相差フィルムとしての機能、反射機能と透過機能とを併せ持つ半透過反射機能、光拡散機能等を有するものであってもよい。

（偏光層）
偏光層２０は、重合性液晶化合物が硬化した層に二色性色素を含むものであれば特に限定されない。偏光層２０が光学積層体１平面方向での偏光特性を有する場合、二色性色素と重合性液晶化合物とが光学積層体１平面に対して水平配向した状態で、重合性液晶化合物が硬化すればよく、偏光層２０が光学積層体１の厚み方向での偏光特性を有する場合、二色性色素と重合性液晶化合物とが光学積層体１平面に対して垂直配向した状態で、で重合性液晶化合物が硬化すればよい。

（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物とは、液晶性を発現することができるメソゲン（ｍｅｓｏｇｅｎ）と、重合反応に関与する重合基とを含む化合物である。重合性基は、光重合性基であることが好ましい。光重合性基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。

重合性液晶化合物の液晶性は、サーモトロピック液晶であってもよく、リオトロピック液晶であってもよいが、二色性色素と混合するため、サーモトロピック液晶であることが好ましい。重合性液晶化合物がサーモトロピック液晶化合物である場合、ネマチック液晶相を示す液晶化合物であってもよく、スメクチック液晶相を示す液晶化合物であってもよいが、重合反応により硬化膜として偏光機能を発現させるためには、スメクチック液晶相を示す液晶化合物であることが好ましい。

スメクチック液晶相としては、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相、スメクチックＬ相等が挙げられる。中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相、スメクチックＩ相が好ましく、スメクチックＢ相がより好ましい。重合性液晶化合物が示す液晶相がこれらの液晶相であることにより、より高い偏光特性を得ることができる。

このような重合性液晶化合物としては、具体的には、下記式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）ということがある。）等が挙げられる。
Ｕ^１－Ｖ^１－Ｗ^１－Ｘ^１－Ｙ^１－Ｘ^２－Ｙ^２－Ｘ^３－Ｗ^２－Ｖ^２－Ｕ^２ （１）
［式（１）中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基を表す。ただし、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基である。シクロへキサン－１，４－ジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ－に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基を表す。
Ｙ^１及びＹ^２は、互いに独立に、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、単結合、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ｂ－、－Ｃ≡Ｃ－又は－ＣＲ^ａ＝Ｎ－を表す。Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、互いに独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｕ^１及びＵ^２は、水素原子又は重合性基を表し、少なくとも一方が重合性基である。
Ｗ^１及びＷ^２は、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯＯ－を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＨ－に置き換わっていてもよい。］

化合物（１）において、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基であることが好ましい。
置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基は、無置換であることが好ましい。置換基を有していてもよいシクロへキサン－１，４－ジイル基は、置換基を有していてもよいトランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基であることが好ましく、置換基を有していてもよいトランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基は無置換であることが好ましい。

置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロへキサン－１，４－ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基、ブチル基等の炭素数１～４のアルキル基、シアノ基又はハロゲン原子等が挙げられる。

Ｙ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－又は単結合であることが好ましく、Ｙ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－又は－ＣＨ_２Ｏ－であることが好ましい。

Ｕ^２は、水素原子又は重合性基である。Ｕ^１は、水素原子又は重合性基であり、好ましくは重合性基である。Ｕ^１及びＵ^２は、ともに重合性基であることが好ましく、ともに光重合性基であることが好ましい。光重合性基を有する重合性液晶化合物は、より低温条件下で重合できる点で有利である。

Ｕ^１及びＵ^２で表される重合性基は互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基又はオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ｖ^１及びＶ^２で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、イコサン－１，２０－ジイル基等が挙げられる。Ｖ^１及びＶ^２は、好ましくは炭素数２～１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６～１２のアルカンジイル基である。

置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換且つ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。

Ｗ^１及びＷ^２は、互いに独立に、好ましくは単結合又は－Ｏ－である。

式（１）で表される重合性液晶化合物としては、例えば、以下の式で表される化合物等を挙げることができる。化合物（１）が、シクロヘキサン－１，４－ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン－１，４－ジイル基は、トランス体であることが好ましい。

例示した化合物（１）の中でも、式（１－２）、式（１－３）、式（１－４）、式（１－６）、式（１－７）、式（１－８）、式（１－１３）、式（１－１４）及び式（１－１５）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。

例示した化合物（１）は、単独又は組み合わせて、偏光層２０に用いることができる。また、２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせる場合には、少なくとも１種が化合物（１）であることが好ましく、２種以上が化合物（１）であることがより好ましい。２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせることにより、液晶－結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。２種類の重合性液晶化合物を組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９～５０：５０であり、５：９５～５０：５０であることが好ましく、１０：９０～５０：５０であることがさらに好ましい。

化合物（１）は、例えば、Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５，３２１－３２８（１９９６）、又は特許第４７１９１５６号等に記載の公知方法で製造することができる。化合物（１）としては、市販品を使用してもよく、例えばパリオカラーＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社）が挙げられる。

偏光層２０中における重合性液晶化合物の含有量は、偏光層２０の固形分１００質量部に対して、通常７０～９９．５質量部であり、好ましくは８０～９９質量部であり、より好ましくは８０～９４質量部であり、さらに好ましくは８０～９０質量部である。ここで、固形分とは、後述する偏光層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。

（二色性色素）
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。二色性色素は、染料であっても顔料であってもよく、非液晶性の二色性色素であることが好ましい。二色性色素は、重合性基を有するものを含んでいてもよく、重合性基を有しないものを含んでいてもよい。二色性色素としては、３００～７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λ_ＭＡＸ）を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、アントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、スチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素又はトリスアゾ色素である。二色性色素は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、可視光全域で吸収を得るためには、３種類以上の二色性色素を組み合わせることが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせることがより好ましい。

アゾ色素としては、例えば、式（２）で表される化合物（以下、化合物（２）ということがある。）を挙げることができる。
Ａ^１（－Ｎ＝Ｎ－Ａ^２）_ｐ－Ｎ＝Ｎ－Ａ^３ （２）
［式（２）中、Ａ^１及びＡ^３は、互いに独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基又は置換基を有していてもよい１価の複素環基を表す。Ａ^２は、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン－１，４－ジイル基又は置換基を有していてもよい２価の複素環基を表す。ｐは１～４の整数を表す。ｐが２以上の整数である場合、複数個存在するＡ^２は互いに独立して同一でも異なっていてもよい。］

１価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール、ベンゾオキサゾール等の複素環化合物から１個の水素原子を除いた基が挙げられる。２価の複素環基としては、上記複素環化合物から２個の水素原子を除いた基が挙げられる。

Ａ^１及びＡ^３におけるフェニル基、ナフチル基及び１価の複素環基、並びにＡ^２におけるｐ－フェニレン基、ナフタレン－１，４－ジイル基及び２価の複素環基が任意に有する置換基としては、炭素数１～４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基及びブトキシ基などの炭素数１～４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１～４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；ハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基等の置換又は無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１～６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、－ＮＨ_２である。）が挙げられる。なお、炭素数１～６のアルキル基の具体例は、化合物（１）のフェニレン基などが任意に有する置換基で例示したものと同じである。

式（２）で表されるアゾ色素としては、例えば、以下の式で表される化合物等を挙げることができる。

［式（２－１）～（２－６）中、
Ｂ^１～Ｂ^２０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（置換アミノ基及び無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子又はトリフルオロメチル基を表す。
ｎ１～ｎ４は、互いに独立に０～３の整数を表す。
ｎ１が２以上である場合、複数個のＢ^２は互いに独立して同一であってもよく、異なっていてもよく、
ｎ２が２以上である場合、複数個のＢ^６は互いに独立して同一であってもよく、異なっていてもよく、
ｎ３が２以上である場合、複数個のＢ^９は互いに独立して同一であってもよく、異なっていてもよく、
ｎ４が２以上である場合、複数個のＢ^１４は互いに独立して同一であってもよく、異なっていてもよい。］

上記したアントラキノン色素としては、式（２－７）で表される化合物が好ましい。

［式（２－７）中、Ｒ^１～Ｒ^８は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］

上記したオキサジン色素としては、式（２－８）で表される化合物が好ましい。

［式（２－８）中、Ｒ^９～Ｒ^１５は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］

前記アクリジン色素としては、式（２－９）で表される化合物が好ましい。

［式（２－９）中、Ｒ^１６～Ｒ^２３は、互いに独立に、水素原子、－Ｒ^ｘ、－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^ｘ、－ＮＲ^ｘ _２、－ＳＲ^ｘ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表す。］

式（２－７）、式（２－８）及び式（２－９）における、Ｒ^ｘで表される炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基等が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基又はナフチル基等が挙げられる。

前記シアニン色素としては、式（２－１０）で表される化合物又は式（２－１１）で表される化合物が好ましい。

［式（２－１０）中、Ｄ^１及びＤ^２は、互いに独立に、式（２－１０ａ）～式（２－１０ｄ）のいずれかで表される基を表す。

ｎ５は１～３の整数を表す。］

［式（２－１１）中、Ｄ^３及びＤ^４は、互いに独立に、式（２－１１ａ）～式（２－１１ｈ）のいずれかで表される基を表す。

ｎ６は１～３の整数を表す。］

二色性色素の含有量（複数種含む場合にはその合計量）は、良好な光吸収特性を得る観点から、偏光層２０中の重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部以上３０質量部以下であることが好ましく、０．１質量部以上２０質量部以下であることがより好ましく、０．１質量部以上１０質量部以下であることがさらに好ましく、０．１質量部以上５質量部以下が特に好ましい。二色性色素の含有量がこの範囲であれば、重合性液晶化合物の液晶配向を乱しにくいため好ましい。

（保護層）
保護層３０は、偏光層２０の基材層１０とは反対側に設けられ、偏光層２０を外部環境から保護することができる。保護層３０は、偏光層２０を基準に、偏光層２０の画像表示素子側に、すなわち偏光層２０の視認側とは反対の側に設けられることが好ましい。これにより、湿熱環境下に置かれた光学積層体１の光学特性が低下することを抑制し、外部からの衝撃等から光学積層体１を保護することができる。

保護層３０は、（メタ）アクリル系樹脂を含む第１樹脂を主成分とする第１保護層３１と、第１樹脂とは異なる樹脂である第２樹脂を主成分とする第２保護層３２とを含む。図１に示す光学積層体１では、偏光層２０側から、第２保護層３２及び第１保護層３１がこの順に積層されている。第１保護層３１と第２保護層３２とは互いに接するように設けられていることが好ましい。保護層３０は、第１保護層３１及び第２保護層３２以外のその他の保護層を有していてもよく、その他の保護層は、第１保護層３１及び第２保護層３２よりも偏光層２０から遠い側に設けることが好ましい。具体的には、図１に示す光学積層体にその他の保護層を設ける場合、偏光層２０側から、第２保護層３２、第１保護層３１及びその他の保護層がこの順に設けられていることが好ましい。

保護層３０の厚み（第１保護層３１の厚み、第２保護層３２の厚み、及び保護層３０をなすその他の層の合計）は、１．５μｍ以下であることが好ましく、１．１μｍ未満であることがより好ましく、１．０μｍ以下であることがさらに好ましく、通常、０．２μｍ以上である。これにより、偏光層２０を保護層３０によって十分に保護しつつ、屈曲可能な光学積層体１が得られやすくなる。

第１保護層３１の主成分である第１樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂であれば特に限定されない。（メタ）アクリル系樹脂とは、（メタ）アクリル系樹脂を構成するモノマーのうち（メタ）アクリロイル基を有するモノマーが主成分であるポリマーであることをいう。ここで、主成分とは、（メタ）アクリル系樹脂を構成するモノマー成分の中で最も含有量（質量％）の大きいモノマーをいう。第１保護層３１として（メタ）アクリル系樹脂を用いることにより、上記したように、上記した湿熱環境下においても光学積層体１の光学特性が低下することを抑制することができる。

（メタ）アクリル系樹脂としては、光重合性モノマーを重合したものであることが好ましく、例えば（メタ）アクリロイル基を有する単官能モノマー又は多官能モノマーを単独で又は２種以上を混合して重合したものであることができる。（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリロイル基を有するモノマー以外のモノマーが重合されていてもよく、例えば、ビニル基を有するモノマーが重合されていてもよい。

（メタ）アクリロイル基を有するモノマーとしては、特に限定されないが、分子内に１個又は２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を挙げることができ、これらは単独で又は２種以上を混合して用いることができる。具体的には、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、上記（メタ）アクリレートのエチレンオキシド又はプロピレンオキシド添加化合物；分子中に４個以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエステル（メタ）アクリレート、オリゴエーテル（メタ）アクリレート、オリゴウレタン（メタ）アクリレート、オリゴエポキシ（メタ）アクリレート、オリゴメラミン（メタ）アクリレート、デンドリマー構造を有する多官能アクリレート等を挙げられる。

上記以外の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーとして、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、上記（メタ）アクリル酸エステルにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを添加したポリ（メタ）アクリレート；分子中に１～３個の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエステル（メタ）アクリレート、オリゴエーテル（メタ）アクリル酸エステル、オリゴウレタン（メタ）アクリル酸エステル、オリゴエポキシ（メタ）アクリル酸エステル；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、上記（メタ）アクリル酸エステルにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを添加した生成物；モノ（メタ）アクリル酸エステル、イソ－オクチル（メタ）アクリレート、イソ－デシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ビニル基を有するモノマーとしては、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカプロラクタム、Ｎ－ビニルフタルイミド、Ｎ－ビニルスクシンイミド等のＮ－ビニル化合物；スチレン、ジビニルベンゼン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシスチレン、α－メチルスチレン、ブロモメチルスチレン、トリブロモメチルスチレン等のビニル置換芳香族化物；ジエチレングリコールモノメチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等のビニルエーテル；ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルベンゾエート等のビニルエステルが挙げられる。

第１保護層３１の厚みは、０．１μｍ以上であり、０．３μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましく、また、１．０μｍ未満であり、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．８μｍ以下であることがより好ましい。第１保護層３１の厚みが上記範囲内であることにより、屈曲可能な光学積層体１が得やすくなる。

第２保護層３２は、第２樹脂を主成分とする。第２樹脂は、第１保護層３１の主成分である第１樹脂とは異なる樹脂を主成分とするものであれば特に限定されない。上記したように、（メタ）アクリル系樹脂とは異なる樹脂を主成分とする第２保護層３２を設けることにより、上記した湿熱環境下においても光学積層体１の光学特性が低下することを抑制することができる。また、後述する粘着剤層付き光学積層体において、偏光層２０中の二色性色素が粘着剤層まで拡散することを抑制することができる。

第２樹脂としては、水系樹脂等を挙げることができる。水系樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマー等を挙げることができ、このうちポリビニルアルコールが好ましい。

ポリビニルアルコールとしては、透明性に優れており、経時的な黄変などの変化がないものであれば特に限定されないが、例えば、ポリ酢酸ビニルをケン化して得られたポリビニルアルコール；その誘導体；さらに酢酸ビニルと共重合性を有する単量体の共重合体のケン化物；ポリビニルアルコールを、アセタール化、ウレタン化、エーテル化、グラフト化、リン酸エステル化等した変性ポリビニルアルコール；等が挙げられる。上記単量体としては、（無水）マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸及びそのエステル類；エチレン、プロピレン等のα－オレフィン、（メタ）アリルスルホン酸（ソーダ）、スルホン酸ソーダ（モノアルキルマレート）、ジスルホン酸ソーダアルキルマレート、Ｎ－メチロールアクリルアミド、アクリルアミドアルキルスルホン酸アルカリ塩、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルピロリドン誘導体等が挙げられる。これらのポリビニルアルコールは、１種を単独で又は２種以上を併用して使用することができる。

第２保護層３２の厚みは、特に限定されないが、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．３μｍ以上であることがより好ましく、また、３μｍ以下であることが好ましく、１．５μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることがさらに好ましい。第２保護層３２の厚みが上記範囲内であることにより、屈曲可能な光学積層体１が得られやすくなる。第２保護層３２の厚みは、第１保護層３１の厚みと同じか、第１保護層３１の厚みよりも小さいことが好ましい。

第２保護層３２をなす第２樹脂が水性樹脂である場合、偏光層２０上に後述する第２樹脂組成物を塗布して第２保護層３２を形成する際に、溶媒として水を使用することができる。これにより、溶媒として有機溶媒を用いる場合に比較して、溶媒が偏光層２０を溶解する等の不具合が生じることを抑制することができる。

保護層３０は、第２保護層３２をなす第２樹脂が水性樹脂である場合、図１に示すように、偏光層２０側から第２保護層３２及び第１保護層３１がこの順に積層されてなることが好ましい。これにより、第２保護層３２及び第１保護層３１を、後述する第２樹脂組成物及び第１樹脂組成物の塗布によって、それぞれ直接形成することができる。これにより、光学積層体１の薄型化を実現しやすくなる。

第２保護層３２をなす第２樹脂が水性樹脂である場合、第２保護層３２は湿熱環境下において水分によって膨潤しやすいと推測される。特に、第２保護層３２が第１保護層３１よりも偏光層２０側に設けられる場合、第２保護層３２が膨潤することにより、偏光層２０中の二色性色素が、第２保護層３２中に拡散したり、第２保護層３２を通過したりして第２保護層３２の外部の層に拡散する可能性がある。ここで、第２保護層３２の外部の層とは、第２保護層３２の偏光層２０とは反対側に設けられた層であって、例えば後述する粘着剤層付き光学積層体２の粘着剤層４０等である。図１に示す層構造を有する光学積層体１では、上記したように第２保護層３２を二色性色素が通過したとしても、上記したように、（メタ）アクリル系樹脂を主成分とする第１保護層３１を有していることにより二色性色素の拡散を抑制することができると考えられるため、湿熱環境下における光学積層体１の光学特性の低下を抑制することができる。

（配向層）
光学積層体１は、基材層１０と偏光層２０との間に配向層を有していてもよい。配向層は、偏光層２０に含まれる重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有するものである。配向層は、偏光層２０を形成する際に用いる、後述する偏光層形成用組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有することが好ましい。配向層の厚みは、通常１０～１００００ｎｍであり、好ましくは１０～１０００ｎｍであり、より好ましくは１０～５００ｎｍである。

配向層としては、配向性ポリマーを含む配向層、光配向層、表面に凹凸パターンや複数の溝を形成して重合性液晶化合物を配向させるグルブ配向層等を挙げることができる。

配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせて用いてもよい。

配向性ポリマーを含む配向層は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、配向性ポリマー組成物ということがある。）を基材層１０に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材層１０に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで基材層１０の表面に形成される。

上記溶剤としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１～２０質量％が好ましく、０．１から１０質量％程度がさらに好ましい。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標）（日産化学工業株式会社製）、オプトマー（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）等が挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法等の塗布法、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる。

光配向層は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ということがある。）を基材層１０に塗布し、光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで基材層１０の表面に形成することができる。光配向層は、照射する光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基、シンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基等が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基、マレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

光配向膜形成用組成物に含まれる溶剤としては、上記した配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向層の厚みによって適宜調節できるが、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲がより好ましい。光配向層の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

偏光を照射するには、基材層１０上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光ＵＶを照射する形式でも、基材層１０側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であることが特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。上記した光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラーなどの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。

なお、ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ配向層は、層表面の凹凸パターン又は複数の溝によって液晶配向能が得られる膜である。複数の等間隔に並んだ直線状のグルブ（溝）を有する基材層１０に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向層を基材層１０の表面に形成する具体的な方法としては、感光性ポリイミド表面に周期的なパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って不要なポリイミド膜を除去し凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に硬化前のＵＶ硬化樹脂層を形成し、樹脂層を基材層１０へ移してから硬化する方法、基材層１０上に形成したＵＶ硬化前のＵＶ硬化樹脂層に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。具体的には、特開平６－３４９７６号公報、特開２０１１－２４２７４３号公報記載の方法等を用いることができる。

（その他の層）
光学積層体１は、偏光層２０と保護層３０との間に接着層を有していてもよい。例えば後述するように、偏光層２０上に第１保護層３１を転写する場合等には、偏光層２０と第１保護層３１との間に接着層を設けることが好ましい。接着層は、粘着剤、接着剤又はこれらの組み合わせによって形成することができ、通常１層であるが、２層以上であってもよい。

接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤等のうち１又は２種以上を組み合せて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。

粘着剤としては、（メタ）アクリル系粘着剤、スチレン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、エポキシ系共重合体粘着剤等を用いることができる。

＜光学積層体の製造方法＞
本実施の形態の屈曲可能な光学積層体１の製造方法は、基材層１０上に偏光層２０を有する積層フィルムを準備する工程（以下、「準備工程」ということがある。）と、
積層フィルムの偏光層２０上に、保護層３０を形成する工程（以下、「保護層形成工程」ということがある。）とを備える、屈曲可能な光学積層体１の製造方法であって、
偏光層２０は、重合性液晶化合物が硬化した層に二色性色素を含むものであり、
保護層３０は、第１樹脂を主成分とする第１保護層３１と、第２樹脂を主成分とする第２保護層３２と、を含み、
第１樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂であり、
第２樹脂は、第１樹脂とは異なる樹脂であり、
第１保護層３１の厚みは、０．１μｍ以上１．０μｍ未満である。

光学積層体１の製造方法は、さらに、基材層１０を剥離する工程を有していてもよい。基材層１０を剥離する場合、基材層１０が剥離可能となるように、偏光層２０が形成される側の基材層１０表面を、シリコーンコーティング等の離型処理を行っておくことが好ましい。

（準備工程）
準備工程で準備する積層フィルムは、基材層１０の少なくとも片面側に偏光層２０を有するものであれば特に限定されない。上記した配向層を含む場合は、基材層１０上に配向層、偏光層２０がこの順に積層されたものであることが好ましい。このような積層フィルムは、基材層１０の少なくとも一方の面に、上記した配向層形成用組成物を塗工して配向層を形成する工程と、配向層上に、偏光層形成用組成物を塗工して偏光層２０を形成する工程とを有することができる。

配向層を形成する工程では、配向層形成用組成物を塗工する前に、基材層１０に表面処理を施してもよい。表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、レーザー処理、オゾン処理、ケン化処理、火炎処理、カップリング剤の塗布処理、プライマー処理等を挙げることができる。配向層を形成する工程の詳細については、上記したとおりである。

偏光層２０を形成する工程で用いる偏光層形成用組成物は、重合性液晶化合物及び二色性色素を含み、重合開始剤及び溶剤を含むことが好ましく、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び重合性非液晶化合物等を含んでいてもよい。液晶化合物及び二色性色素としては、上記したものを用いることができ、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤、重合性非液晶化合物としては後述するものを用いることができる。

偏光層形成用組成物を塗工する方法としては、特に限定されず、上記した配向層形成用組成物を塗工する方法と同様の方法が挙げられる。偏光層形成用組成物が溶剤を含む場合、偏光層形成用組成物の塗工層から溶剤を除去することが好ましい。溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法、減圧乾燥法等が挙げられる。

偏光層形成用組成物の塗工層から溶剤を除去した後、活性エネルギー線照射を行い、重合性液晶化合物を光重合させて偏光層２０を形成することが好ましい。照射する活性エネルギー線としては、偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物の光重合性基の種類や、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類等に応じて適宜選定すればよい。活性エネルギー線としては、例えば、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。これらのうち、重合反応の進行を制御しやすい点、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましい。

偏光層形成用組成物が含んでいてもよい溶剤は、重合性液晶化合物及び二色性色素を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。

溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素含有溶剤；等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

偏光層形成用組成物中の溶剤の含有量は、偏光層形成用組成物の総量に対して５０～９８質量％が好ましい。換言すると、偏光層形成用組成物における固形分の含有量は、２～５０質量％が好ましい。固形分の含有量が５０質量％以下であると、偏光層形成用組成物の粘度が低くなることから、偏光層２０の厚さが略均一になり、偏光層２０にムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分の含有量は、製造しようとする偏光層２０の厚みを考慮して定めることができる。

偏光層形成用組成物が含んでいてもよい重合開始剤は、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である、重合開始剤としては、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。

重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。

重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱しにくいという観点から、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．１～３０質量部であり、好ましくは０．５～１０質量部であり、より好ましくは０．５～８質量部である。

偏光層形成用組成物が含んでいてもよい増感剤としては、光増感剤が好ましい。増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン等）；アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン（例えば、ジブトキシアントラセン等）等のアントラセン化合物；フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。

偏光層形成用組成物中の増感剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．１～３０質量部であり、好ましくは０．５～１０質量部であり、より好ましくは０．５～８質量部である。

偏光層形成用組成物が含んでいてもよい重合禁止剤としては、ハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコール等）、ピロガロール、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類、β－ナフトール類等が挙げられる。

偏光層形成用組成物中の重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．１～３０質量部であり、好ましくは０．５～１０質量部であり、より好ましくは０．５～８質量部である。

偏光層形成用組成物が含んでいてもよいレベリング剤としては、偏光層形成用組成物の流動性を調整し、偏光層形成用組成物の塗膜をより平坦にする機能を有するものであり、例えば、界面活性剤を挙げることができる。好ましいレベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤、フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤等が挙げられる。

偏光層形成用組成物におけるレベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．３質量部以上５質量部以下であり、好ましくは０．５質量部以上３質量部以下である。

偏光層形成用組成物が含んでいてもよい重合性非液晶化合物は、重合性非液晶化合物を含有することにより、重合反応性部位の架橋密度を高め、偏光層２０の強度を向上させることができる。

重合性非液晶化合物は、アクリロイル基、メタクリロイル基、イソシアナート基からなる群のうち少なくとも１個以上の重合性基を有することが好ましい。より好ましくは２個以上１０個以下の重合性基を有することが好ましく、更に好ましくは３個以上８個以下の重合性基を有することが好ましい。

偏光層形成用組成物における重合性非液晶化合物の含有量は、偏光層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、通常０．１～３０質量部であり、好ましくは０．５～１０質量部である。

上記では、基材層１０上に配向層及び偏光層２０を形成する場合を例に挙げて説明したが、基材層１０に代えて偏光層形成用基材を用い、この偏光層形成用基材上に、上記と同様の手順で配向層及び偏光層２０を形成してもよい。この場合、配向層及び偏光層２０を形成した後、偏光層形成用基材、又は、偏光層形成用基材及び配向層を剥離して、配向層又は偏光層２０上に基材層１０を設ければよい。

（保護層形成工程）
保護層形成工程は、偏光層２０上に保護層３０を形成する工程であり、第１保護層３１及び第２保護層３２を含む保護層３０を予め形成した後、この保護層３０を偏光層２０上に転写してもよく、偏光層２０上に、第１保護層３１及び第２保護層３２を任意の順序で順に形成してもよい。

予め形成した保護層３０を偏光層２０上に形成する場合は、第１保護層３１や第２保護層３２を形成するための工程用部材である基材フィルムを用いることが好ましい。具体的には、基材フィルムに第１保護層３１及び第２保護層３２を任意の順に形成して保護層３０を得る。続いて、必要に応じて接着層を介して、偏光層２０と基材フィルム上の保護層３０とを貼合した後、基材フィルムを剥離することにより、偏光層２０上に保護層３０を転写すればよい。

基材フィルムに第１保護層３１及び第２保護層３２を形成する方法は特に限定されない。例えば、第１保護層３１は、第１保護層３１を形成するための第１樹脂組成物を塗布して形成することができる。また、第２保護層３２は、第２保護層３２を形成するための第２樹脂組成物を塗布して形成することができる。例えば、基材フィルム上に第１樹脂組成物を塗工して第１保護層３１を形成する場合には、この第１保護層３１上に第２樹脂組成物を塗工して第２保護層３２を形成する、又は、第１保護層３１上に、別の基材フィルム上に第２樹脂組成物を塗工して形成した第２保護層３２を転写すればよい。あるいは、基材フィルム上に第２樹脂組成物を塗工して第２保護層３２を形成する場合には、この第２保護層３２上に第１樹脂組成物を塗工して第１保護層３１を形成する、又は、第２保護層３２上に、別の基材フィルム上に第１樹脂組成物を塗工して形成した第１保護層３１を転写すればよい。第１樹脂組成物及び第２樹脂組成物に含まれる成分、塗工方法等については、後述する。

偏光層２０上に、第１保護層３１及び第２保護層３２を任意の順序で順に形成する場合は、第１保護層と第２保護層３２とが接するように形成することが好ましい。具体的には、偏光層２０上に、第１保護層３１及び第２保護層３２がこの順に形成される場合は、偏光層２０上に、第１保護層３１を転写によって形成し、その後、第１保護層３１上に、第２樹脂組成物を塗工して第２保護層３２を形成することが好ましい。第１保護層３１をなす第１樹脂は（メタ）アクリル系樹脂を主成分とするため、第１樹脂組成物は通常、溶媒として有機溶媒を含む。そのため、偏光層２０上に第１樹脂組成物を塗工すると偏光層２０を溶解する等の不具合が生じる可能性があるため、基材フィルム上に第１樹脂組成物を塗工して形成した第１保護層３１を、偏光層２０上に転写することが好ましい。

また、第２保護層３２をなす第２樹脂が水系樹脂である場合は、偏光層２０上に、第２樹脂組成物を塗工して第２保護層３２を形成した後、この第２保護層３２上に第１樹脂組成物を塗工して第１保護層３１を形成することが好ましい。第２樹脂が水系樹脂である場合、第２保護層３２を形成するための第２樹脂組成物に含まれる溶媒の大半は水であるため、偏光層２０上に第２樹脂組成物を塗工しても、偏光層２０が溶解する等の不具合は生じにくい。また、溶媒として有機溶媒を含む第１組成物は、偏光層２０上に形成された第２保護層３２上に塗工されるため、偏光層２０が溶解する等の不具合は生じにくい。さらに、偏光層２０上に第２樹脂組成物及び第１樹脂組成物を順に塗工することによって第２保護層３２及び第１保護層３１を形成する場合、偏光層２０と保護層３０との間や、第１保護層３１と第２保護層３２との間に接着層等を設ける必要がないため、光学積層体１の薄型化が可能であり、また、光学積層体１の製造工程も簡易化することができる。それゆえ、偏光層２０上に接着層を介することなく、第２保護層３２及び第１保護層３１をこの順に形成する場合には、第２保護層３２をなす第２樹脂は水系樹脂であることが好ましい。

（第１樹脂組成物）
第１保護層３１を形成するための第１樹脂組成物は、第１樹脂（（メタ）アクリル系樹脂）を構成するモノマー成分、重合開始剤、溶媒等を含むことができる。第１樹脂を構成するモノマー成分については、上記で説明したとおりである。

重合開始剤としては、モノマー成分が光重合性モノマーである場合、光照射によりラジカルを形成することができる光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン系光開始剤、アミノケトン系光開始剤等を用いることができ、これらは単独に又は２種以上混合して用いることができる。

アセトフェノン系光開始剤としては、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。

アミノケトン系光開始剤としては、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパノン－１、２－メチル－１－［４－（メトキシ）フェニル］－２－モルホリノプロパノン－１、２－メチル－１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－２－モルホリノプロパノン－１、２－メチル－１－［４－（ジメチルアミノ）フェニル－２－モルポリノプロパノン－１、２－メチル－１－［４－（ジフェニルアミノ）フェニル］－２－モルホリノプロパノン－１、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、３，６－ビス（２－メチル－２－モルホリノプロピオニル）－９－Ｎ－オクチルカルバゾール等が挙げられる。

市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４、１２７、５００、２９５９、３６９、９０７、Ｄａｒｃｕｒｅ １１７３（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

光重合開始剤の含有量は、特に限定されないが、第１樹脂組成物のモノマー成分の合計１００質量部に対して０．１～１０質量部とすることができる。

溶媒は、モノマー成分及びモノマー成分を重合して得られる樹脂を分散できるものであれば特に限定されない。具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールメトキシアルコール等のアルコール系溶媒；メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン等のケトン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールメトキシアセテート等のアセテート系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ノーマルヘキサン、ノーマルヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒を挙げることができる。これらは単独に又は２種以上混合して用いることができる。

第１樹脂組成物は、第１樹脂（（メタ）アクリル系樹脂）を主成分とすることができる限りにおいて、第１樹脂以外の樹脂成分や、第１樹脂以外の樹脂成分を得るためのモノマー成分を含有していてもよい。また、第１樹脂組成物は、必要に応じて、レベリング剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、帯電防止剤、可塑剤等の添加剤を含んでいてもよい。

第１樹脂組成物を塗工する方法としては特に限定されないが、例えばマイクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピングコート法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転写法、フローコート法、スプレーコート法等の公知の方法を挙げることができる。

第１樹脂組成物から第１保護層３１を形成する際には、被塗工部材に第１樹脂組成物を塗工して乾燥した後、活性エネルギー線を照射することにより、第１樹脂組成物中に含まれるモノマー成分を重合させて第１保護層３１を形成する。活性エネルギー線としては、例えば電子線、紫外線、可視光線等が挙げられ、モノマー成分の種類に応じて適宜選択することができる。

（第２樹脂組成物）
第２保護層３２を形成するための第２樹脂組成物は、第２樹脂及び溶媒を含むことができる。第２樹脂組成物は、第２樹脂に代えて、第２樹脂を構成するモノマー成分及び重合開始剤と、溶媒とを含むものであってもよい。

第２樹脂としては、上記した水系樹脂を挙げることができる。第２樹脂組成物が水系樹脂を含む場合、溶媒１００質量部に対して９０質量部以上が水であることが好ましく、９５質量部以上が水であることがより好ましい。溶媒に含まれる水以外の成分としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールメトキシアルコール等の水と相溶性を有するアルコール系溶媒を挙げることができる。第２樹脂組成物には、必要に応じて、可塑剤、シランカップリング剤、帯電防止剤、レベリング剤、塩基性物質等の添加剤をさらに含んでいてもよい。

第２樹脂組成物を塗工する方法としては特に限定されないが、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、ＣＡＰコート法、ダイコート法、ディップコート法、バーコート法、スピンコート法等の公知の方法を挙げることができる。第２樹脂組成物から第２保護層３２を形成する際には、被塗工部材に第２樹脂組成物を塗工して、熱乾燥等により乾燥すればよい。第２樹脂組成物がモノマー成分を含む場合は、加熱や活性エネルギー線照射を行い、モノマー成分を重合させる工程をさらに設ければよい。

＜粘着剤層付き光学積層体＞
図２は、本発明の粘着剤層付き光学積層体の一例を示す概略断面図である。本実施の形態の粘着剤層付き光学積層体２は、光学積層体１と第１粘着剤層４０（粘着剤層）とを含む。第１粘着剤層４０は、光学積層体１における保護層３０の偏光層２０とは反対側に設けられる。第１粘着剤層４０は、位相差層に貼合するために用いられる。粘着剤層付き光学積層体２は、光学積層体１の保護層３０上に第１粘着剤層４０を形成することによって製造することができる。第１粘着剤層４０を形成するための粘着剤としては、特に限定されず、上記した粘着剤を用いることができる。

＜位相差層付き光学積層体＞
光学積層体１は、粘着剤層又は接着剤層を介して位相差層に積層されて、位相差層付き光学積層体を形成することができる。位相差層付き光学積層体は、例えば、粘着剤層付き光学積層体２の第１粘着剤層４０を介して位相差層に積層して得ることができ、光学積層体１の保護層３０上に接着剤層を介して位相差層を積層して得ることもできる。位相差層付き光学積層体に含まれる位相差層は１層であってもよく、２層以上であってもよい。２層以上の位相差層を含む場合は、位相差層同士を接着層を介して積層してもよい。接着層に用いることができる粘着剤及び接着剤としては、上記したものと同じものを挙げることができる。また、位相差層上には、画像表示素子に貼合するための粘着剤層を設けてもよい。

以下、位相差層付き光学積層体として、光学積層体１と位相差層とを接着剤層を介して積層した場合を例に挙げて説明する。図３及び図４は、本実施の形態の位相差層付き光学積層体の一例を示す概略断面図である。図３に示す位相差層付き光学積層体５は、光学積層体１の保護層３０上に、第１接着剤層４１、第１位相差層５１、及び第２粘着剤層４２をこの順に有している。また、図４に示す位相差層付き光学積層体６は、光学積層体１の保護層３０上に、第２接着剤層４３、第２位相差層５２、第３接着剤層４５、第３位相差層５３、第３粘着剤層４４とをこの順に有している。

第１～第３位相差層としては、例えば、λ／２波長板、λ／４波長板、逆波長分散性のλ／４波長板、ポジティブＣプレート等を挙げることができる。図３に示す位相差層付き光学積層体５では、第１位相差層５１はλ／４波長板であることが好ましい。また、図４に示す位相差層付き光学積層体６を円偏光板として用いる場合、第２位相差層５２が逆波長分散性のλ／４波長板であり、かつ、第３位相差層５３がポジティブＣプレートである、又は、第２位相差層５２がλ／２波長板であり、かつ、第３位相差層５３がλ／４波長板であることが好ましい。これらの位相差層は、位相差フィルムであってもよく、上記した重合性液晶化合物が硬化した層であってもよいが、位相差層付き光学積層体に良好な屈曲性を付与する観点からは、重合性液晶化合物が硬化した層であることが好ましい。重合性液晶化合物が硬化した層は、重合性液晶化合物、重合開始剤等を含む組成物を配向層上に塗工し、硬化させることにより形成することができる。

第２及び第３粘着剤層４２，４４を形成するための粘着剤としては、特に限定されず、上記した粘着剤を用いることができる。また、第１～第３接着剤層４１，４３，４５に用いることができる接着剤としては、特に限定されず、上記した接着剤を用いることができる。位相差層付き光学積層体５，６は、光学積層体１の保護層３０上に第１又は第２接着剤層４１，４３を設けて、この上に第１～第３位相差層を形成することによって製造してもよく、第１位相差層５１上又は第２位相差層５２上に第１又は第２接着剤層４１，４３を設けて、この上に光学積層体１を積層して製造してもよい。

＜表示装置＞
本実施の形態の表示装置は、位相差層付き光学積層体を、粘着剤層を介して画像表示素子に貼合されたものとすることができる。例えば、図３に示す位相差層付き光学積層体５を、第２粘着剤層４２を介して画像表示素子に貼合して表示装置としてもよく、図４に示す位相差層付き光学積層体６を、第３粘着剤層４４を介して画像表示素子に貼合して表示装置としてもよい。表示装置としては特に限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、タッチパネル付表示装置、電界発光表示装置等を挙げることができる。本実施の形態の表示装置は、屈曲可能な光学積層体１を有するため、屈曲可能な表示装置に好適に用いることができ、特に有機ＥＬ表示装置に好適に用いることができる。

本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。実施例、比較例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

［厚みの測定］
第１保護層及び第２保護層の厚みは、接触式厚み測定機（MS-5C、株式会社ニコン製）を用いてそれぞれ測定した。測定は、各層を形成したタイミングで、ＴＤ方向に５０ｍｍ間隔で行い、得られた測定値の平均値から、第１保護層及び第２保護層の厚みを算出して行った。

［視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）の測定］
各実施例及び各比較例で得られた光学積層体を、吸収軸方向に４０ｍｍ、吸収軸に直交する方向に４０ｍｍになるように切り出し、粘着剤を介してガラス板に接着して評価用サンプルを製作した。この評価用サンプルの視感度補正偏光度及び視感度補正単体透過率を分光光度計（Ｖ７１００、日本分光製）を用いて可視光線領域において測定し、耐湿熱試験前の視感度補正偏光度［％］及び視感度補正単体透過率［％］とした。この評価用サンプルを、それぞれ、温度６０℃、相対湿度９０％ＲＨの加温加湿環境下で５００時間放置した後、同様に視感度補正偏光度及び視感度補正単体透過率を測定して、耐湿熱試験後の視感度補正偏光度［％］及び視感度補正単体透過率［％］とした。得られた視感度補正偏光度及び視感度補正単体透過率に基づいて、耐湿熱試験前後の視感度補正偏光度の変化量の絶対値（｜ΔＰ｜）［％］、耐湿熱試験前後の視感度補正単体透過率の変化量の絶対値（｜ΔＴ｜）［％］を算出した。

［屈曲性試験］
各実施例及び各比較例で得られた光学積層体を、吸収軸方向に１２０ｍｍ、吸収軸に直交する方向に２０ｍｍになるように切り出して、屈曲性試験用サンプルとした。屈曲性試験用サンプルを、折り機（Vision 5Axis Bending Test Machine、Dynamic Folding装備、２軸タイプ、Science Town社製）にテープで固定して、常温下、基材層が内側となるようにして内側の曲げ半径１ｍｍ、曲げ角度０°となるように屈曲した後、屈曲前の状態に戻す動作を１回として、この動作を反復して行い、屈曲部分でのクラックの有無を目視で確認した。屈曲回数が２０万回の時点で屈曲部分にクラックが生じていないものをＡとし、屈曲回数が１０万回以上２０万回未満の間に屈曲部分にクラックが生じたものをＢとし、屈曲回数が１０万回未満で、屈曲部分にクラックが生じたものをＣとして評価した。

［実施例１］
厚みが２５μｍであるトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）の基材層上に、光配向膜形成用組成物をバーコート法により塗工した。用いた光配向膜形成用組成物は、光反応性基を有する下記ポリマーを、濃度５質量％でシクロペンタノンに溶解した溶液である。
・光反応性基を有するポリマー：

光配向膜形成用組成物を塗工して得られた塗膜を温度１２０℃で２分間乾燥し、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用い、露光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）となるように、ワイヤーグリッド（ＵＩＳ－２７１３２＃＃、ウシオ電機株式会社製）を通過した偏光を照射することで配向性能を付与して、厚み５０ｎｍの配向層を形成した。

続いて、下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、偏光層形成用組成物を得、この偏光層形成用組成物を上記で得た配向層上にバーコート法により塗工した。なお、二色性色素には、特開２０１３－１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ色素を用いた。
・重合性液晶化合物：

・二色性色素（アゾ色素）：

・レベリング剤：
ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製） １．２部
・溶剤：
ｏ－キシレン ４００部
・重合開始剤：
Irgacure-369（BASF） ６部

偏光層形成用組成物を塗工して得られた塗膜を温度１２０℃で１分間乾燥し、室温まで冷却した後、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１２００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）のＵＶ光を照射して重合性液晶化合物を硬化させて偏光層を形成した。

偏光層上に、ポリビニルアルコールと水とを含む第２樹脂組成物を、乾燥後の厚みが０．５μｍとなるように塗工し、温度８０℃で３分間乾燥して第２保護層を形成した。

第２保護層上に、第１樹脂組成物を、硬化後の厚みが０．１μｍになるように塗工した。第１保護層形成用組成物は、１８官能のアクリル基を有するデンドリマーアクリレート（Miramer SP1106,Miwon）２．８質量部と、６官能のアクリル基を有するウレタンアクリレート（Miramer PU-620D、Miwon）６質量部と、光重合開始剤（Irgacure-184、BASF）０．５質量部と、レベリング剤（BYK-3530、BYK）０．１質量部と、多官能イソシアネート化合物（LR9000、BASF）０．６質量部と、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）９０質量部とを含む。

第１樹脂組成物を塗工して得られた塗膜を温度８０℃で３分間乾燥し、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）のＵＶ光を照射して第１保護層を形成した。以上のようにして、基材層／配向層／偏光層／第２保護層／第１保護層からなる光学積層体を得た。得られた光学積層体について、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を測定し、屈曲性試験を行った。その結果を表１に示す。

［実施例２］
第１保護層の厚みを０．５μｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を測定し、屈曲性試験を行った。その結果を表１に示す。

［実施例３］
第１保護層の厚みを０．９μｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を測定し、屈曲性試験を行った。その結果を表１に示す。

［比較例１］
第１保護層を設けないこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を測定し、屈曲性試験を行った。その結果を表１に示す。

［比較例２］
第１保護層の厚みを１．５μｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を測定し、屈曲性試験を行った。その結果を表１に示す。

［比較例３］
第１保護層の厚みを０．０５μｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を測定し、屈曲性試験を行った。その結果を表１に示す。

［実施例４］
偏光層形成用組成物に添加するアゾ色素の量を減らして、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を表１に示す値にしたこと以外は、実施例２と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を測定し、屈曲性試験を行った。その結果を表１に示す。

［実施例５］
偏光層形成用組成物に添加するアゾ色素の量を減らして、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を表１に示す値にしたこと以外は、実施例２と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、視感度補正偏光度（Ｐ）及び視感度補正単体透過率（Ｔ）を測定し、屈曲性試験を行った。その結果を表１に示す。

１ 光学積層体、２ 粘着剤層付き光学積層体、５ 位相差層付き光学積層体、６ 位相差層付き光学積層体、１０ 基材層、２０ 偏光層、３０ 保護層、３１ 第１保護層、３２ 第２保護層、４０ 第１粘着剤層（粘着剤層）、４１ 第１接着剤層（接着剤層）、４２ 第２粘着剤層、４３ 第２接着剤層（接着剤層）、４４ 第３粘着剤層、４５ 第３接着剤層、５１ 第１位相差層（位相差層）、５２ 第２位相差層（位相差層）、５３ 第３位相差層（位相差層）。

Claims (9)

1. 偏光層及び保護層を含む屈曲可能な光学積層体であって、
   前記偏光層は、重合性液晶化合物が硬化した層に二色性色素を含むものであり、
   前記保護層は、第１樹脂を主成分とする第１保護層と、第２樹脂を主成分とする第２保護層と、を含み、
   前記第１樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂であり、
   前記第２樹脂は、前記第１樹脂とは異なる樹脂であり、
   前記第１保護層の厚みは、０．１μｍ以上１．０μｍ未満であり、
   前記光学積層体は、下記屈曲性試験における屈曲回数が９９，９９９回の時点で屈曲部分にクラックが生じない、光学積層体。
   ［屈曲性試験］
   前記光学積層体を、吸収軸方向に１２０ｍｍ、吸収軸に直交する方向に２０ｍｍになるように切り出して、屈曲性試験用サンプルとする。屈曲性試験用サンプルを、折り機（Vision 5Axis Bending Test Machine、Dynamic Folding装備、２軸タイプ、Science Town社製）にテープで固定して、常温下、前記偏光層が内側となるようにして内側の曲げ半径１ｍｍ、曲げ角度０°となるように屈曲した後、屈曲前の状態に戻す動作を１回として、この動作を反復して行い、屈曲部分でのクラックの有無を目視で確認する。
2. 前記保護層の厚みは、１．５μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記第２樹脂は、水系樹脂である、請求項１又は２に記載の光学積層体。
4. 前記保護層は、前記偏光層側から前記第２保護層及び前記第１保護層の順に積層されてなる、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
5. 請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体と、粘着剤層とを含む粘着剤層付き光学積層体であって、
   前記粘着剤層は、前記光学積層体における前記保護層の前記偏光層とは反対側に設けられている、粘着剤層付き光学積層体。
6. 請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体が、接着剤層又は粘着剤層を介して位相差層に積層された、位相差層付き光学積層体。
7. 基材層上に偏光層を有する積層フィルムを準備する工程と、
   前記積層フィルムの前記偏光層上に、保護層を形成する工程とを備える、屈曲可能な光学積層体の製造方法であって、
   前記偏光層は、重合性液晶化合物が硬化した層に二色性色素を含むものであり、
   前記保護層は、第１樹脂を主成分とする第１保護層と、第２樹脂を主成分とする第２保護層と、を含み、
   前記第１樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂であり、
   前記第２樹脂は、前記第１樹脂とは異なる樹脂であり、
   前記第１保護層の厚みは、０．１μｍ以上１．０μｍ未満であり、
   前記光学積層体は、下記屈曲性試験における屈曲回数が９９，９９９回の時点で屈曲部分にクラックが生じない、光学積層体の製造方法。
   ［屈曲性試験］
   前記光学積層体を、吸収軸方向に１２０ｍｍ、吸収軸に直交する方向に２０ｍｍになるように切り出して、屈曲性試験用サンプルとする。屈曲性試験用サンプルを、折り機（Vision 5Axis Bending Test Machine、Dynamic Folding装備、２軸タイプ、Science Town社製）にテープで固定して、常温下、前記基材層が内側となるようにして内側の曲げ半径１ｍｍ、曲げ角度０°となるように屈曲した後、屈曲前の状態に戻す動作を１回として、この動作を反復して行い、屈曲部分でのクラックの有無を目視で確認する。
8. 前記積層フィルムを準備する工程は、前記重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗工して前記偏光層を形成する工程を備える、請求項７に記載の光学積層体の製造方法。
9. 前記第２樹脂は水系樹脂であり、
   前記保護層を形成する工程は、
   前記偏光層上に、前記第２保護層を形成するための第２樹脂組成物を塗工して前記第２保護層を形成する工程と、
   前記第２保護層上に、前記第１保護層を形成するための第１樹脂組成物を塗工して前記第１保護層を形成する工程と、を備える、請求項７又は８に記載の光学積層体の製造方法。

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