KR101782194B1 - 분산 염료 혼합물, 그의 제조 및 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 식 (I) 의 하나 이상의 염료 및 식 (II) 의 하나 이상의 염료 및/또는 식 (III) 의 하나 이상의 염료를 함유하는 염료 혼합물에 관한 것이다:
Figure 112013060543804-pct00055

Figure 112013060543804-pct00056

Figure 112013060543804-pct00057

[식 중, R1-R15, n, o, X 및 D1-D3 은 각각 청구항 1 에서 정의한 바와 같음].
이들 염료 혼합물은 특히 소수성 재료의 염색 또는 프린트에 유용하다.

Description

분산 염료 혼합물, 그의 제조 및 용도 {DISPERSE DYE MIXTURES, THEIR PREPARATION AND USE}
본 발명은 소수성 직물 재료를 염색하기 위한 분산 염료 분야에 관한 것이다.
발색단이 2-옥소알킬케토기에 연결되는 분산 아조 염료가 알려져 있으며 예를 들어 WO 2009/037215 A2, WO 2008/090042 A1, WO 2008/049758 A2, WO2005/056690 A1 뿐 아니라 GB 909843 A 및 DE 26 12 742 A1 에 기재되어 있다. 이들 문헌 중 어떠한 것도 염료 혼합물을 기재하고 있지 않다. WO 95/20014 A1 은 염료 혼합물이 사용될 수 있는 염색 방법을 개시하고 있다. 이는 -SO2F 기를 갖는 아조 염료에 관한 것이며 -SO2F 기를 갖지 않는 염료와의 혼합재료로 또는 염료 혼합물로서 사용될 수 있다. 언급된 가능한 후보물은 발색단이 2-옥소알킬케토기에 연결되는 아조 염료를 포함한다.
2-옥소알킬케토-함유 분산 아조 염료와 추가 선택된 분산 아조 염료의 하기 정의된 혼합물이 폴리에스테르 및 폴리에스테르-엘라스탄 재료에 대한 염색의 세척 및 접촉 견뢰도 및 승화 견뢰도 면에 있어서 개별적 염료에 비해 명백히 우수하다는 것이 이제 발견되었다.
본 발명은 하기 식 (I) 의 하나 이상의 염료:
Figure 112013060543804-pct00001
[식 중,
R1 은 수소, (C1-C6)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 할로겐, -NHCHO, -NHCO(C1-C6)-알킬, -NHCO-아릴, -NHSO2(C1-C6)-알킬 또는 -NHSO2-아릴이고,
R2 는 수소, 할로겐, (C1-C4)-알콕시, (C1-C4)-알킬 또는 아릴옥시이고,
R3 은 수소, (C1-C6)-알킬, 치환된 (C1-C6)-알킬, (C3-C4)-알케닐 또는 치환된 (C3-C4)-알케닐, 특히 벤질, 부틸, 2-시아노에틸 또는 식 -CHR4-CnH2n-CHR6-COO-CHR7-CO-R5 의 부분이거나, R2 및 R3 은 조합되어 부분 -C*H(CH3)CH2C(CH3)2- 를 형성하고, 이때 * 로 표시한 탄소 원자는 페닐 핵에 부착되고;
R4 는 수소, (C1-C6)-알킬 또는 페닐이고,
R5 는 (C1-C6)-알킬 또는 치환된 (C1-C6)-알킬이고,
R6 은 수소 또는 (C1-C6)-알킬이고,
R7 은 수소, (C1-C6)-알킬 또는 페닐이고,
n 은 0, 1, 2 또는 3 임], 및
하기 식 (II) 의 하나 이상의 염료:
Figure 112013060543804-pct00002
[식 중,
R8 은 수소, (C1-C6)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 할로겐, -NHCHO, -NHCO(C1-C6)-알킬, -NHCO-아릴, -NHSO2(C1-C6)-알킬 또는 -NHSO2-아릴이고,
R9 는 수소, 할로겐, (C1-C4)-알콕시, (C1-C4)-알킬 또는 아릴옥시이고,
R10 은 수소, (C1-C6)-알킬, 치환된 (C1-C6)-알킬, (C3-C4)-알케닐 또는 치환된 (C3-C4)-알케닐, 특히 식 -CHR11-CmH2m-(X)o-R12 의 부분이거나, R9 및 R10 은 조합되어 부분 -C*H(CH3)CH2C(CH3)2- 를 형성하고, 이때 * 로 표시한 탄소 원자는 페닐 핵에 부착되고,
R11 은 수소, (C1-C6)-알킬 또는 페닐이고,
R12 는 수소, (C1-C6)-알킬, 치환된 (C1-C6)-알킬, (C3-C4)-알케닐 또는 치환된 (C3-C4)-알케닐이고,
X 는 -CO-O-, -O-CO-, -O-, -NH- 또는 -S- 이고,
o 는 0 또는 1 이고,
m 은 0, 1, 2 또는 3 이고,
D1 및 D2 는 동일하거나 상이하며 각각 디아조 성분의 잔기를 나타냄], 및/또는
하기 식 (III) 의 하나 이상의 염료:
Figure 112013060543804-pct00003
[식 중,
R13 은 수소, 시아노 또는 카르복사미도이고,
R14 는 메틸, 에틸 또는 페닐이고,
R15 는 임의 치환된 (C1-C6)-알킬 또는 임의 치환된 산소-중단된 (C2-C6)-알킬이고,
D3 은 디아조 성분의 잔기를 나타냄]
를 함유하는 염료 혼합물을 제공한다.
디아조 성분의 잔기 D1, D2 및 D3 은 보다 특히 분산 염료 분야에서 통상적인 부분이며 당업자에게 알려져 있다.
바람직하게는, D1, D2 및 D3 은 각각 독립적으로 하기 식 (IVa) 의 기:
Figure 112013060543804-pct00004
[식 중,
T1 및 T2 는 각각 독립적으로 수소, (C1-C6)-알킬, (C1-C4)-알콕시, -SO2(C1-C6)-알킬, -SO2-아릴, 시아노, 할로겐 또는 니트로이거나, T1 및 T2 는 조합되어 부분 -CONT14CO- 를 형성하고,
T14 는 수소 또는 (C1-C6)-알킬이고,
T3 및 T4 는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 트리플루오로메틸, 시아노, -SCN, -SO2CH3 또는 니트로이고,
단, T1, T2, T3 및 T4 중 1 개 이상은 수소가 아님]
를 나타내거나;
하기 식 (IVb) 의 기:
Figure 112013060543804-pct00005
[식 중,
T5 및 T5' 는 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐이고,
T6 은 수소, -SO2CH3, -SCN, (C1-C4)-알콕시, 할로겐 또는 니트로이고,
단, T5, T5' 및 T6 중 1 개 이상은 수소가 아님]
를 나타내거나;
하기 식 (IVc) 의 기:
Figure 112013060543804-pct00006
[식 중, T12 는 수소 또는 할로겐임] 를 나타내거나;
하기 식 (IVd) 의 기:
Figure 112013060543804-pct00007
[식 중,
T7 은 니트로, -CHO, 시아노, -COCH3 또는 하기 식 (IVda) 의 기이고:
Figure 112013060543804-pct00008
{식 중, T10 은 수소, 할로겐, 니트로 또는 시아노, 또는 하기 식 (IVdb) 의 기임:
Figure 112013060543804-pct00009
(식 중, T15 는 (C1-C6)-알킬임)},
T8 은 수소, (C1-C6-알킬) 또는 할로겐이고,
T9 는 니트로, 시아노, -COCH3 또는 COOT11 이고, 이때 T11 은 (C1-C4)-알킬임] 를 나타내거나;
하기 식 (IVe) 의 기:
Figure 112013060543804-pct00010
[식 중,
T7 및 T8 은 각각 상기 정의한 바와 같음] 를 나타내거나;
하기 식 (IVf) 의 기:
Figure 112013060543804-pct00011
[식 중, T13 은 페닐 또는 -S-(C1-C4)-알킬임] 를 나타낸다.
알킬기는 본 발명의 맥락에 있어서 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. C1-C6-알킬은 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, tert-부틸, n-펜틸 또는 n-헥실이다. 예를 들어 메톡시 또는 에톡시인 알콕시기에 대해서도 유사하게 고려한다.
C1-C6-알킬기 상의 치환기는 일가 히드로카르빌 라디칼 또는 시아노, 티오시아나토, 니트로, 히드록실, 알콕시, 카르복실, 술폰산, 카르복실 에스테르, 카르복사미드 또는 아미노기 뿐 아니라 할로겐 원자일 수 있다. 일가 히드로카르빌 라디칼은 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로시클릴 라디칼을 포함한다.
(C3-C4)-알케닐기는 특히 알릴이다.
(C3-C4)-알케닐에 대한 치환기는 예를 들어 할로겐 및 페닐이다.
아릴은 특히 페닐 또는 나프틸이다. 아릴옥시는 특히 나프틸옥시 또는 페닐옥시이다. 아릴 또는 아릴옥시에 대한 치환기는 예를 들어 할로겐, 메틸, 에틸, 히드록시에틸, 메톡시, 에톡시, 히드록실, 니트로 및 시아노이다.
-NHSO2-아릴은 특히 페닐술포닐아미노이다.
할로겐은 불소, 염소, 브롬 또는 요오드, 바람직하게는 염소 또는 브롬이다.
R1 은 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸, 메톡시, 에톡시, 히드록실, 염소, 브롬, -NHCHO, -NHCO-메틸, -NHCO-페닐, -NHSO2-메틸 또는 -NHSO2-페닐이다. 매우 특히 바람직한 R1 라디칼은 수소, -NHCO-메틸, 메틸 및 히드록실이다.
R2 는 바람직하게는 수소, 염소, 브롬, 메톡시, 에톡시, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸 또는 페녹시이다. 매우 특히 바람직한 R2 라디칼은 수소 및 메톡시이다.
R3 은 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸, 2-시아노에틸, 비닐, 알릴, 벤질 또는 식 -CHR4-CnH2n-CHR6-COO-CHR7-CO-R5 의 라디칼이다. 매우 특히 바람직한 R3 라디칼은 수소, 벤질, 2-시아노에틸, 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸 및 -C2H4-COO-CH2-CO-CH3 이다.
R4 는 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸 또는 페닐이다. 매우 특히 바람직한 R4 라디칼은 수소 및 메틸이다.
R5 는 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸 또는 치환된 (C1-C6)-알킬, 예컨대 2-시아노에틸 또는 시아노메틸이다. 메틸은 매우 특히 바람직한 R5 라디칼이다.
R6 은 바람직하게는 수소, 메틸 또는 에틸이다. 수소는 매우 특히 바람직한 R6 라디칼이다.
R7 은 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸 또는 페닐이다. 매우 특히 바람직한 R7 라디칼은 수소 및 메틸이다.
R8 은 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸, 메톡시, 에톡시, 히드록실, 염소, 브롬, -NHCHO, -NHCO-메틸, -NHCO-페닐, -NHSO2-메틸 또는 -NHSO2-페닐이다. 매우 특히 바람직한 R8 라디칼은 수소, 메틸, -NHCO-메틸 및 히드록실이다.
R9 는 바람직하게는 수소, 염소, 브롬, 메톡시, 에톡시, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸 또는 페녹시이다. 매우 특히 바람직한 R9 라디칼은 수소, 염소, 메톡시 및 메틸이다.
R10 은 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸, 비닐, 알릴, 벤질 또는 식 -CHR11-CmH2m-(X)o-R12 (식 중, R11, R12, X, m 및 o 는 각각 상기 정의한 바와 같음) 의 라디칼이다. 매우 특히 바람직한 R10 라디칼은 수소, 메틸, 에틸, 벤질, -CxH2x-O-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-COO-C2H5 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-COO-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-OCO-C2H5 (식 중, x = 1 또는 2 임) 및 -CxH2x-OCO-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임) 이다.
R11 은 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸 또는 페닐이다. 매우 특히 바람직한 R11 라디칼은 수소 또는 메틸이다.
R12 는 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸, 벤질, 비닐, 알릴, 2-(N-프탈이미도일)에틸, 시아노메틸, 2-시아노에틸 또는 식 -CqH2q-Y-CrH2r-(Z)o-R13 (식 중, q 는 1, 2, 3 또는 4 이고, r 은 1, 2, 3 또는 4 이고, o 는 0 또는 1 이고, Y 는 -CO-, -COO- 또는 -OCO- 이고, Z 는 -COO- 또는 -OCO- 이고, R13 은 (C1-C6)-알킬, 페닐, 할로겐, 시아노 또는 헤테로시클릴, 특히 N-프탈이미도일임) 의 라디칼이다. 매우 특히 바람직한 R12 라디칼은 메틸, 에틸, 2-(N-프탈이미도일)에틸, 시아노메틸, 2-시아노에틸, -CxH2x-OCO-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-OCO-C2H5 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-COO-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-COO-C2H5 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-OCO-CyH2y-(N-프탈이미도일) (식 중, x 및 y 는 각각 독립적으로 = 1 또는 2, 보다 바람직하게는 x = 1 이고 y = 2 임), -CxH2x-COO-CyH2y-(N-프탈이미도일) (식 중, x 및 y 는 각각 독립적으로 = 1 또는 2, 보다 바람직하게는 x = 1 이고 y = 2 임), -CxH2x-COO-CyH2y-OCO-CzH2z-C6H5 (식 중, x, y 및 z 는 각각 독립적으로 = 1 또는 2, 보다 바람직하게는 x, y 및 z 는 각각 1 임) 이다.
X 는 바람직하게는 -CO-O-, -O-CO- 또는 -O- 이다.
R13 은 바람직하게는 시아노이다.
R14 는 바람직하게는 에틸 또는 보다 특히 메틸이다.
R15 는 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸, 1-에틸펜틸, 메톡시메틸, 메톡시에틸, 에톡시메틸, 에톡시에틸, -CyH2y-COO-CH2-CO-C6H5 (식 중, y = 1, 2, 3 또는 4 임) 또는 -CyH2y-O-(C1-C4-알킬) (식 중, y = 1, 2, 3 또는 4 임) 이다.
지수 m 은 바람직하게는 0 또는 1 이다.
지수 n 은 바람직하게는 0 또는 1 이다.
지수 o 는 바람직하게는 1 이다.
본 발명에 따른 염료 혼합물이 하기와 같은 식 I 의 화합물을 이용하는 것이 특히 바람직하다:
R1 이 수소, -NHCO-메틸, 메틸 또는 히드록실이고,
R2 가 수소 또는 메톡시이고,
R3 이 수소, 벤질, 2-시아노에틸, 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸 또는 -C2H4-COO-CH2-CO-CH3 이고,
R4 가 수소 또는 메틸이고,
R5 가 메틸이고,
R6 이 수소이고,
R7 이 수소 또는 메틸이고,
n 이 0 또는 1 임.
본 발명에 따른 염료 혼합물이 하기와 같은 식 II 의 화합물을 이용하는 것이 특히 바람직하다:
R8 이 수소, 메틸, -NHCO-메틸 또는 히드록실이고,
R9 가 수소, 염소, 메톡시 또는 메틸이고,
R10 이 수소, 메틸, 에틸, 벤질, -CxH2x-O-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-COO-C2H5 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-COO-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-OCO-C2H5 (식 중, x = 1 또는 2 임) 및 -CxH2x-OCO-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임) 이고,
R11 이 수소 또는 메틸이고,
R12 가 메틸, 에틸, 2-(N-프탈이미도일)에틸, 시아노메틸, 2-시아노에틸, -CxH2x-OCO-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-OCO-C2H5 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-COO-CH3 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-COO-C2H5 (식 중, x = 1 또는 2 임), -CxH2x-OCO-CyH2y-(N-프탈이미도일) (식 중, x 및 y 는 각각 독립적으로 = 1 또는 2, 보다 바람직하게는 x = 1 이고 y = 2 임), -CxH2x-COO-CyH2y-(N-프탈이미도일) (식 중, x 및 y 는 각각 독립적으로 = 1 또는 2, 보다 바람직하게는 x = 1 이고 y = 2 임), -CxH2x-COO-CyH2y-OCO-CzH2z-C6H5 (식 중, x, y 및 z 는 각각 독립적으로 = 1 또는 2, 보다 바람직하게는 x, y 및 z 는 1 임) 이고,
X 가 -CO-O-, -O-CO- 또는 -O- 이고,
m 이 0 또는 1 임.
본 발명에 따른 염료 혼합물이 하기와 같은 식 III 의 화합물을 이용하는 것이 특히 바람직하다:
R13 이 시아노이고,
R14 가 에틸 또는 메틸이고,
R15 가 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸, 1-에틸펜틸, 메톡시메틸, 메톡시에틸, 에톡시메틸, 에톡시에틸, -CyH2y-COO-CH2-CO-C6H5 (식 중, y = 1, 2, 3 또는 4 임) 또는 -CyH2y-O-(C1-C4-알킬) (식 중, y = 1, 2, 3 또는 4 임).
본 발명에 따른 바람직한 염료 혼합물은 하기와 같은, D1 이 식 (IVa) 의 기인 식 (I) 의 하나 이상의 염료를 함유한다:
T1 이 니트로이고,
T2 가 수소 또는 염소이고,
T3 이 수소, 염소, 브롬, 트리플루오로메틸, 시아노 또는 니트로이고,
T4 가 수소, 염소, 브롬, 트리플루오로메틸, 시아노 또는 니트로이고,
R1 이 수소, 염소, 메틸, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노, 벤조일아미노; 메틸술포닐아미노, 에틸술포닐아미노 또는 페닐술포닐아미노이고,
R2 가 수소 또는 염소이고,
R3 이 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 벤질, 페닐에틸, 페녹시에틸, 메톡시에틸, 시아노에틸 또는 알릴이고,
R4, R6 및 R7 이 수소이고,
R5 가 메틸이고,
n 이 0 또는 1 임.
본 발명에 따른 특히 바람직한 염료 혼합물은 하기와 같은, D1 이 식 (IVa) 의 기인 식 (I) 의 하나 이상의 염료를 함유한다:
T1 이 니트로이고,
T2 가 수소 또는 염소이고,
T3 이 수소, 염소, 브롬, 트리플루오로메틸, 시아노 또는 니트로이고,
T4 가 수소, 염소, 브롬, 트리플루오로메틸, 시아노 또는 니트로이고,
R1 이 수소, 메틸 또는 아세틸아미노이고,
R2 가 수소 또는 염소이고,
R3 이 수소, 메틸, 에틸, n-부틸, 벤질, 페닐에틸, 페녹시에틸, 시아노에틸 또는 알릴이고,
R4, R6 및 R7 이 수소이고,
R5 가 메틸이고,
n 이 0 임.
본 발명에 따른 매우 특히 바람직한 염료 혼합물은 하기 식 (Ia) 의 하나 이상의 염료를 함유한다:
Figure 112013060543804-pct00012
[식 중,
T2 는 수소 또는 염소이고,
T3 은 수소, 염소, 브롬 또는 시아노이고,
T4 는 수소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로 또는 트리플루오로메틸이고,
R1 은 수소, -NHCOCH3 또는 -NHSO2CH3 이고,
R2 는 수소 또는 -OCH3 임].
본 발명에 따른 더 바람직한 염료 혼합물은 하기 식 (IIa) 의 하나 이상의 염료:
Figure 112013060543804-pct00013
[식 중,
R8 은 수소, (C1-C6)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 할로겐, -NHCHO, -NHCO(C1-C6)-알킬, -NHCO-아릴, -NHSO2(C1-C6)-알킬 또는 -NHSO2-아릴이고,
R9 는 수소, 할로겐, (C1-C4)-알콕시, (C1-C4)-알킬 또는 페녹시이고,
R10 은 수소, (C1-C6)-알킬, 치환된 (C1-C6)-알킬, (C3-C4)-알케닐 또는 치환된 (C3-C4)-알케닐이거나, R9 및 R10 은 조합되어 부분 -C*H(CH3)CH2C(CH3)2- 를 형성하고, 이때 * 로 표시한 탄소 원자는 페닐 핵에 부착되고,
R11 은 수소, (C1-C6)-알킬 또는 페닐이고,
R12 는 수소, (C1-C6)-알킬, 치환된 (C1-C6)-알킬, (C3-C4)-알케닐 또는 치환된 (C3-C4)-알케닐이고,
m 은 0, 1, 2 또는 3 이고,
D4 는 식 (IVa) 의 기임]; 및/또는
하기 식 (IIIa) 의 염료:
Figure 112013060543804-pct00014
[식 중,
R13 은 수소, 시아노 또는 카르복사미도이고,
R14 는 메틸, 에틸 또는 페닐이고,
R15 는 임의 치환된 (C1-C6)-알킬 또는 임의 치환된 산소-중단된 (C2-C6)-알킬이고,
D5 는 식 (IVa) 의 기임]
를 함유한다.
본 발명에 따른 보다 매우 바람직한 염료 혼합물은 하기 식 (IIb) 의 하나 이상의 염료:
Figure 112013060543804-pct00015
[식 중,
R8 은 수소, (C1-C6)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 할로겐, -NHCHO, -NHCO(C1-C6)-알킬, -NHCO-아릴, -NHSO2(C1-C6)-알킬 또는 -NHSO2-아릴이고,
R9 는 수소, 할로겐, (C1-C4)-알콕시, (C1-C4)-알킬 또는 페녹시이고,
R10 은 수소, (C1-C6)-알킬, 치환된 (C1-C6)-알킬, (C3-C4)-알케닐 또는 치환된 (C3-C4)-알케닐이거나, R9 및 R10 은 조합되어 부분 -C*H(CH3)CH2C(CH3)2- 를 형성하고, 이때 * 로 표시한 탄소 원자는 페닐 핵에 부착되고,
R11 은 수소, (C1-C6)-알킬 또는 페닐이고,
R12 는 수소, (C1-C6)-알킬, 치환된 (C1-C6)-알킬, (C3-C4)-알케닐 또는 치환된 (C3-C4)-알케닐이고,
m 은 0, 1, 2 또는 3 이고,
D6 은 T1 이 니트로인 식 (IVa) 의 기임]; 및/또는
하기 식 (IIIb) 의 염료:
Figure 112013060543804-pct00016
[식 중,
R13 은 수소, 시아노 또는 카르복사미도이고,
R14 는 메틸, 에틸 또는 페닐이고,
R15 는 임의 치환된 (C1-C6)-알킬 또는 임의 치환된 산소-중단된 (C2-C6)-알킬이고,
D7 은 T1 이 니트로 또는 -OCH3 인 식 (IVa) 의 기임]
를 함유한다.
본 발명에 따른 보다 매우 특히 바람직한 염료 혼합물은 하기 식 (IIc) 의 하나 이상의 염료:
Figure 112013060543804-pct00017
[식 중,
R8 은 수소, 메틸, 메톡시, 에톡시, 히드록실, 염소, 브롬, -NHCOCH3 또는 -NHCOCH2CH3 이고,
R9 는 수소, 메틸, -OCH3, -OCH2CH3, 염소 또는 브롬이고,
R10 은 수소, (C1-C6)-알킬 또는 치환된 (C1-C6)-알킬이고,
R11 은 수소, 메틸 또는 페닐이고,
R12 는 수소, (C1-C6)-알킬 또는 치환된 (C1-C6)-알킬이고,
m 은 0, 1, 2 또는 3 이고,
D8 은 하기와 같은 식 (IVa) 의 기임;
(T1 은 니트로이고,
T2 는 수소이고,
T3 은 수소, 염소, 브롬, 니트로, 시아노 또는 히드록실이고,
T4 는 수소, 염소, 브롬, 니트로 또는 시아노임)]; 및/또는
하기 식 (IIIc) 의 염료:
Figure 112013060543804-pct00018
[식 중,
R13 은 수소, 시아노 또는 카르복사미도이고,
R14 는 메틸, 에틸 또는 페닐이고,
R15 는 임의 치환된 (C1-C6)-알킬이고,
D9 는 하기와 같은 식 (IVa) 의 기임;
(T1 은 니트로 또는 -OCH3 이고,
T2 는 수소이고,
T3 은 수소, 염소, 브롬, 니트로 또는 시아노 또는 히드록실이고,
T4 는 수소, 염소, 브롬, 니트로 또는 시아노임)]
를 함유한다.
본 발명에 따른 특히 바람직한 염료 혼합물은 하기 식 (Ib) 의 하나 이상의 염료:
Figure 112013060543804-pct00019
[식 중,
T3 은 수소, 염소, 브롬 또는 시아노이고,
T4 는 시아노 또는 니트로이고,
R1 은 수소 또는 -NHCOCH3 이고,
R2 는 수소 또는 -OCH3 임]; 및
또한 하기 식 (IId) 의 하나 이상의 염료:
Figure 112013060543804-pct00020
[식 중,
R8 은 수소, -NHCOCH3 또는 -NHCOCH2CH3 이고,
R9 는 수소, -OCH3 또는 -OCH2CH5 이고,
R10 은 수소, (C1-C6)-알킬 또는 치환된 (C1-C6)-알킬이고,
R12 는 수소, (C1-C6)-알킬 또는 치환된 (C1-C6)-알킬이고,
이때,
T3 은 수소, 염소, 브롬, 니트로, 시아노 또는 히드록실이고,
T4 는 수소, 염소, 브롬, 니트로 또는 시아노임]
를 함유한다.
본 발명에 따른 염료 혼합물은 식 (II) 또는 (III) 과 혼합된 식 (I) 의 염료를 보다 특히 각각 1 내지 99 중량% 의 양으로, 보다 바람직하게는 각각의 경우 20 내지 80 중량% 의 양으로 함유한다. 본 발명에 따른 매우 특히 바람직한 염료 혼합물은 식 (I) 의 염료를 30 내지 60 중량% 의 양으로, 식 (II) 또는 (III) 의 염료를 40 내지 70 중량% 의 양으로 함유한다. 이는 또한 각각 식 Ia, Ib 또는 Ic 또는 식 IIa, IIb, IIc 또는 IId 또는 식 IIIa, IIIb 또는 IIIc 의 염료를 함유하는 혼합물에 대해서도 필요한 부분만 약간 수정하여 적용된다.
식 (I) 의 염료: 식 (II) 또는 식 (III) 의 염료의 적합한 혼합비는 90:10 내지 10:90, 보다 특히 90:10, 80:20, 75:25, 70:30, 60:40, 55:45, 50:50, 45:55, 40:60, 30:70, 25:75, 20:80 및 10:90 범위 내에 있다. 이는 또한 각각 식 Ia, Ib 또는 Ic 또는 식 IIa, IIb, IIc 또는 IId 또는 식 IIIa, IIIb 또는 IIIc 의 염료를 함유하는 혼합물에 대해서도 필요한 부분만 약간 수정하여 적용된다.
본 발명에 따른 염료 혼합물은 식 (I) 의 염료를 식 (II) 또는 (III) 의 염료와 기계적으로 혼합하여 수득가능하다. 그 양은 원하는 조성물을 갖는 혼합물이 제조되도록 보다 특별히 선택된다.
식 (I) 의 염료는 알려져 있으며 예를 들어 WO2008/049758 에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 염료 혼합물은, 수득된 염색 및 프린트가 동등한 색조 및 높은 하이 서비스 (high service) 견뢰도에 대해 탁월하다는 점에 있어서 소수성 재료를 염색하고 프린트하기에 매우 유용하다. 특히 폴리에스테르 및 폴리에스테르-엘라스탄 재료에 대한 우수한 세척 및 접촉 견뢰도 및 또한 양호한 승화 견뢰도를 특별히 언급할 만하다.
따라서 본 발명은 또한 소수성 재료의 염색 및 프린트를 위한 본 발명의 염료 혼합물의 용도, 즉 본 발명에 따른 염료 혼합물이 착색제로서 사용되는 통상적인 방법에서의 상기 재료의 염색 또는 프린트 방법을 제공한다.
언급한 소수성 재료는 합성 또는 반 (semi) 합성 기원의 것일 수 있다. 그 예는 2 차 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 트리아세테이트, 폴리아미드, 폴리락타이드 및 보다 특히 고분자량 폴리에스테르를 포함한다. 고분자량 폴리에스테르로 이루어진 재료는 보다 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리트리메틸렌 테레프탈레이트 기재의 것들이다. 예를 들어, 폴리에스테르-면 또는 폴리에스테르-엘라스탄과 같은 블렌드 직물 및 블렌드 섬유도 또한 가능하다. 소수성 합성 재료는 자체-지지 필름/쉬팅 (sheeting) 또는 직물- 또는 트레드 (thread)-형 본체의 형태로 존재할 수 있고, 예를 들어 방적사 또는 직포 또는 편직된 직물로 가공될 수 있다. 섬유성 직물 재료가 바람직한데, 이는 또한 예를 들어 마이크로섬유의 형태로 존재할 수 있다.
본 발명에 의해 제공되는 용도에 따른 염색은, 바람직하게는 수성 분산액으로부터, 적절하다면 담체의 존재 하에, 80 내지 약 110℃ 에서 침염 공정에 의해, 또는 110 내지 140℃ 에서 HT 공정에 의해 그리고 또한, 직물을 염색 액체로 충전한 후 약 180 내지 230℃ 에서 고정/셋팅하는 소위 서머픽스 (thermofix) 공정에 의해 염색 오토클레이브에서, 통상적인 방법에 의해 이루어질 수 있다.
언급한 재료의 프린트는 프린트 페이스트에 본 발명의 염료 혼합물을 혼입시키고, 180 내지 230℃ 의 온도에서 HT 스팀, 고압 스팀 또는 건열을 이용해, 적절하다면 담체의 존재 하에, 그것으로 프린트될 직물을 처리함으로써 염료를 고정시켜, 자체 공지된 방법으로 실행될 수 있다.
본 발명의 염료 혼합물은 염색 액체, 충전된 액체 (padded liquor) 또는 프린트 페이스트에서 사용되는 경우 세분된 매우 미세한 상태로 있을 것이다.
염료는 이들을 액체 매질, 바람직하게는 물 중에서 분산제와 함께 슬러리화하고, 상기 혼합물을 전단력의 작용을 가하여 원래 존재하는 염료 입자들을 최적의 비표면적이 달성되고 염료의 침전이 최소화될 정도로 기계적으로 분쇄함으로써, 통상적인 방법으로 세분된 미세한 상태로 변환된다. 이는 적합한 밀 (mill), 예컨대 볼 또는 샌드 밀에서 실시된다. 염료의 입자 크기는 일반적으로 0.5 내지 5　㎛, 바람직하게는 약 1　㎛ 이다.
밀링 (milling) 작동에 사용되는 분산제는 비이온성 또는 음이온성일 수 있다. 비이온성 분산제는 예를 들어 알킬렌 옥시드, 예를 들어 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드와 알킬화가능한 화합물, 예를 들어 지방 알코올, 지방 아민, 지방산, 페놀, 알킬페놀 및 카르복사미드와의 반응 생성물이다. 음이온성 분산제는 예를 들어 리그노술포네이트, 알킬- 또는 알킬아릴술포네이트 또는 알킬아릴 폴리글리콜 에테르 술페이트이다.
이에 따라 수득한 염료 제제는 대부분의 적용에 대해 붓는 것이 가능할 것이다. 따라서, 이들 경우 염료 및 분산제 함량은 제한된다. 일반적으로, 분산액은 50 중량% 이하의 염료 함량 및 약 25 중량% 이하의 분산제 함량으로 조정된다. 경제적 이유로, 염료 함량은 대부분의 경우 15 중량% 를 밑돌지 않는다.
분산액은 또한 추가로 보조제, 예를 들어 산화제로서 작용하는 것들, 예를 들어 나트륨 m-니트로벤젠술포네이트, 또는 살진균제, 예를 들어 나트륨 o-페닐페녹시드 및 나트륨 펜타클로로페녹시드, 및 특히 소위 "산 공여자" 로서 그 예가 부티로락톤, 모노클로로아세트아미드, 나트륨 클로로아세테이트, 나트륨 디클로로아세테이트, 3-클로로프로피온산의 나트륨 염, 예를 들어 라우릴 술페이트와 같은 모노술페이트 에스테르, 및 또한 에톡실화 및 프로폭실화 알코올의 황산 에스테르, 예를 들어 부틸글리콜 술페이트인 것을 함유할 수 있다.
이에 따라 수득되는 염료 분산액은 염색 액체 및 프린트 페이스트 제조에 매우 유리하다.
분말 제형이 바람직한 특정 사용 분야가 존재한다. 상기 분말은 염료, 분산제 및 기타 보조제, 예를 들어 습윤제, 산화제, 보존제 및 방진제, 및 상기 언급한 "산 공여자" 를 함유한다.
미분성 염료 제제의 바람직한 제조 방법은 그의 액체의 상기 기재된 액상 염료 분산액을, 예를 들어 진공 건조, 동결 건조, 드럼 드라이어 (drum dryer) 상의 건조에 의해, 바람직하게는 스프레이 건조에 의해 스트리핑하는 것으로 이루어진다.
염색 액체는 필요한 양의 상기 기재된 염료 제형을 염색 매질, 바람직하게는 물을 이용하여, 염색을 위한 적절한 액체 비율, 예를 들어 1:5 내지 1:50 이 수득되도록 희석하여 제조된다. 추가로, 액체에 추가의 염색 보조제, 예컨대 분산제, 습윤제 및 고정 보조제를 첨가하는 것이 일반적으로 관행이다. 유기 및 무기산, 예컨대 아세트산, 숙신산, 붕산 또는 인산을 첨가하여 pH 를 4 내지 5 범위, 바람직하게는 4.5 로 설정한다. pH 설정을 완충시키고 충분한 양의 완충 시스템을 첨가하는 것이 유리하다. 아세트산/나트륨 아세테이트 시스템은 유리한 완충 시스템의 예이다.
날염에 상기 염료 혼합물을 사용하기 위해서는, 필요량의 상기 언급한 염료 제형을 통상적인 방법으로 점증제, 예를 들어 알칼리 금속 알기네이트 등, 및 임의로는 추가의 부가제, 예를 들어 고정 촉진제, 습윤제 및 산화제와 함께 혼련하여 프린트 페이스트를 제공한다.
본 발명은 또한 잉크젯 공정에 의한 디지털 날염용 잉크를 제공하는데, 상기 잉크는 본 발명에 따른 염료 혼합물을 함유한다.
본 발명의 잉크는 바람직하게는 수성이고, 잉크의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 50 중량% 범위, 바람직하게는 1 내지 30 중량% 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 15 중량% 범위의 양으로 본 발명의 염료 혼합물을 함유한다.
이들은 추가로 보다 특히 0.1 내지 20 중량% 의 분산제를 함유한다. 적합한 분산제는 당업자에게 알려져 있고, 시판되며, 예를 들어 술폰화 또는 술폰메틸화 리그닌, 방향족 술폰산 및 포름알데히드의 축합 생성물, 임의 치환된 페놀 및 포름알데히드의 축합 생성물, 폴리아크릴레이트 및 상응하는 공중합체, 개질된 폴리우레탄 및 알킬렌 옥시드와 알킬화가능한 화합물, 예를 들어 지방 알코올, 지방 아민, 지방산, 카르복사미드 및 임의 치환된 페놀과의 반응 생성물을 포함한다.
본 발명에 따른 잉크는 추가로 통상적인 부가제, 예를 들어 점도 조정제를 함유하여, 20 내지 50℃ 범위의 온도에서 점도를 1.5 내지 40.0 mPas 범위로 설정할 수 있다. 바람직한 잉크는 점도가 1.5 내지 20 mPas 범위이고, 특히 바람직한 잉크는 1.5 내지 15 mPas 범위의 점도를 갖는다.
적합한 점도 조정제는 유변학적 부가제, 예를 들어 폴리비닐 카프로락탐, 폴리비닐피롤리돈 및 또한 그의 공중합체, 폴리에테르폴리올, 회합 증점제, 폴리우레아, 나트륨 알기네이트, 개질된 갈락토만난, 폴리에테르우레아, 폴리우레탄 및 비이온성 셀룰로오스 에테르이다.
추가 첨가를 통해, 본 발명에 따른 잉크는 표면 장력을 20 내지 65 mN/m 범위로 설정하는 표면-활성 물질을 함유할 수 있는데, 이는 사용되는 방법 (열 또는 피에조 (piezo) 기술) 에 따라 적절히 조정된다.
적합한 표면-활성 물질은 예를 들어 임의의 종류의 계면활성제, 바람직하게는 비이온성 계면활성제, 부틸디글리콜 및 1,2-헥산디올이다. 잉크는 추가로 통상적 첨가물, 예를 들어 진균 및 박테리아 성장을 억제하는 물질을 잉크의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 1 중량% 의 양으로 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 잉크는 성분들을 물에 혼합함으로써 통상적인 방법으로 수득가능하다.
하기 실시예로, 이들 실시예에 제한 없이 본 발명을 설명한다. 다르게 언급하지 않는 한, 부 및 % 는 중량에 의한 것이다. 킬로그램이 리터와 관련되는 바와 같이, 중량부는 부피부와 관련된다.
실시예 1
a) 50 부의 염료 (I-1):
Figure 112013060543804-pct00021
를 50 부의 염료 (II-1):
Figure 112013060543804-pct00022
과 기계적으로 혼합한다.
이후, 입자 크기 (직경) 가 0.1-5 마이크로미터의 크기 규모에 도달할 때까지 상기 혼합물을 100 부의 고온 안정성 분산제와 함께 40% 수성 분산액으로서 분쇄하였다.
상기 분산액을, 99.7 부의 "컷팅제 (cutting agent)" 를 첨가하고, 분무 건조기에서 건조시키거나 또는 분말 형태로 건조시켜 25% 의 염료 혼합물 및 70% 의 분산제를 함유하는 고체 생성물로 표준화하였다.
b) 상기 a) 에 따라 수득한 2 g 의 염료 혼합물을 100 ml 의 물에 40-50℃ 에서 분산시켰다. 염색욕을 11.5 ml 의 상기 수성 분산액, 57.5 ml 의 탈이온수 및 1.2 ml 의 완충 용액 (pH 4.5) 으로부터 제조하였고, 5 g 조각의 폴리에스테르가 들어가게 하였다. 상기 염색욕을 130℃ 로 가열하고, Werner Mathis 고온 염색기에서 130℃ 에서 45 분간 유지시켰다. 물로 헹구고, 환원 세정 후, 폴리에스테르 재료는 탁월한 세척 견뢰도를 갖는 루비 레드 색조를 갖게 되었다. 상기 혼합물의 특히 흥미로운 특성은 폴리에스테르 및 폴리에스테르 마이크로섬유에 대한 뛰어난 세척 및 접촉 견뢰도 및 양호한 승화 견뢰도이다.
본 발명에 따른 실시예 2 ~ 20 의 염료 혼합물을 수득하기 위해 실시예 1 을 유사한 방식으로 반복하였고, 이들을 폴리에스테르 염색에 사용하였다. 하기의 표는 총 염료 함량을 기준으로 각 염료의 분율을 중량% 로 나타낸다. 표시한 혼합물은 뛰어난 세척 및 접촉 견뢰도 및 또한 양호한 승화 견뢰도를 갖는 적색의 염색물을 생성하였다.
Figure 112013060543804-pct00023
Figure 112013060543804-pct00024
본 발명에 따른 추가의 염료 혼합물은 실시예 21 ~ 29 의 염료를 함유할 수 있으며 또한 폴리에스테르를 염색하는데 사용될 수 있다. 하기 표에서, 총 염료 함량을 기준으로 각각의 염료의 분율을 중량% 로 표시한다. 표시한 혼합물은 뛰어난 세척 및 접촉 견뢰도 및 또한 양호한 승화 견뢰도를 갖는 적색의 염색물을 생성하였다.
Figure 112013060543804-pct00025
본 발명에 따른 추가의 염료 혼합물은 실시예 30 ~ 49 의 염료를 함유할 수 있으며 또한 폴리에스테르를 염색하는데 사용될 수 있다. 하기 표에서, 총 염료 함량을 기준으로 각각의 염료의 분율을 중량% 로 표시한다. 표시한 혼합물은 뛰어난 세척 및 접촉 견뢰도 및 또한 양호한 승화 견뢰도를 갖는 청색의 염색물을 생성하였다.
Figure 112013060543804-pct00026
Figure 112013060543804-pct00027
Figure 112013060543804-pct00028
Figure 112013060543804-pct00029
이미 언급한 것들에 추가로, 본 발명에 따른 염료 혼합물은 실시예 50 ~ 69 의 염료를 함유할 수 있으며 또한 폴리에스테르를 염색하는데 사용될 수 있다. 하기 표에서, 총 염료 함량을 기준으로 각각의 염료의 분율을 중량% 로 표시한다. 표시한 혼합물은 뛰어난 세척 및 접촉 견뢰도 및 또한 양호한 승화 견뢰도를 갖는 청색의 염색물을 생성하였다.
Figure 112013060543804-pct00030
Figure 112013060543804-pct00031
본 발명에 따른 추가의 염료 혼합물은 실시예 70 ~ 89 의 염료를 함유하며 폴리에스테르를 염색하는데 사용될 수 있다. 하기 표에서, 총 염료 함량을 기준으로 각각의 염료의 분율을 중량% 로 표시한다. 표시한 혼합물은 뛰어난 세척 및 접촉 견뢰도 및 또한 양호한 승화 견뢰도를 갖는 염색물을 생성하였다.
Figure 112013060543804-pct00032
Figure 112013060543804-pct00033
Figure 112013060543804-pct00034
실시예 90
폴리에스테르로 이루어진 직물을 수 중 50 g/l 의 8% 나트륨 알기네이트 용액, 100 g/l 의 8-12% 카롭 플라워 에테르 (carob flour ether) 용액 및 5 g/l 의 모노나트륨 포스페이트로 이루어진 액체로 패드-맹글 처리 (pad-mangled) 한 후, 건조시켰다. 웨트 픽업 (wet pickup) 은 70% 였다.
이에 따라 예비처리된 직물을, 상기 기재된 절차에 따라 제조되고 하기를 함유하는 수성 잉크로, 드랍-온-디멘드 (drop-on-demand) (피에조) 잉크젯 프린트 헤드를 사용하여 프린트하였다:
3.5% 의 실시예 1 의 염료,
2.5% 의 Disperbyk 190 분산제,
30% 의 1,5-펜탄디올,
5% 의 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르,
0.01% 의 Mergal K9N 살생물제 및
58.99% 의 물.
프린트물을 완전히 건조시켰다. 고정은 175℃ 에서 7 분간 과열된 스팀에 의해 이루어졌다. 프린트물을 이후 알칼리성 환원 세정하고, 따뜻하게 헹구어낸 후 건조시켰다.

Claims (18)

  1. 식 (I-1) 및 (II-1) 의 염료를 포함하는 염료 혼합물.
    Figure 112017037818335-pct00077

    Figure 112017037818335-pct00078
  2. 제 1 항에 있어서, 추가로 하나 이상의 식 (III) 의 염료를 포함하는 염료 혼합물:
    Figure 112017037818335-pct00079

    [식 중,
    R13 은 수소, 시아노 또는 카르복사미도이고,
    R14 는 메틸, 에틸 또는 페닐이고,
    R15 는 임의 치환된 (C1-C6)-알킬 또는 임의 치환된 산소-개재된 (C2-C6)-알킬이고,
    D3 는 디아조 성분의 잔기를 나타냄].
  3. 제 2 항에 있어서,
    R13 이 시아노이고,
    R14 가 에틸 또는 메틸이고,
    R15 가 메틸, 에틸, n-프로필, sec-프로필, n-부틸, sec-부틸, 1-에틸펜틸, 메톡시메틸, 메톡시에틸, 에톡시메틸, 에톡시에틸, -CyH2y-COO-CH2-CO-C6H5 (식 중, y = 1, 2, 3 또는 4 임) 또는 -Cy*H2y*-O-(C1-C4-알킬) (식 중, y* = 1, 2, 3 또는 4 임) 인 염료 혼합물.
  4. 제 1 항에 있어서, 추가로 하나 이상의 식 (IIIa) 의 염료를 포함하는 염료 혼합물:
    Figure 112017037818335-pct00080

    [식 중,
    R13 은 수소, 시아노 또는 카르복사미도이고,
    R14 는 메틸, 에틸 또는 페닐이고,
    R15 는 임의 치환된 (C1-C6)-알킬 또는 임의 치환된 산소-개재된 (C2-C6)-알킬이고,
    D5 는 식 (IVa) 의 기임;
    Figure 112017037818335-pct00081

    (식 중,
    T1 및 T2 는 각각 독립적으로 수소, (C1-C6)-알킬, (C1-C4)-알콕시, -SO2(C1-C6)-알킬, -SO2-아릴, 시아노, 할로겐 또는 니트로이거나, T1 및 T2 는 조합되어 부분 -CONT14CO- 를 형성하고,
    T14 는 수소 또는 (C1-C6)-알킬이고,
    T3 및 T4 는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 트리플루오로메틸, 시아노, -SCN, -SO2CH3 또는 니트로이고,
    단, T1, T2, T3 및 T4 중 1 개 이상은 수소가 아님)].
  5. 제 1 항에 있어서, 추가로 하나 이상의 식 (IIIb) 의 염료를 포함하는 염료 혼합물:
    Figure 112017037818335-pct00082

    [식 중,
    R13 은 수소, 시아노 또는 카르복사미도이고,
    R14 는 메틸, 에틸 또는 페닐이고,
    R15 는 임의 치환된 (C1-C6)-알킬 또는 임의 치환된 산소-개재된 (C2-C6)-알킬이고,
    D7 은 식 (IVa) 의 기임;
    Figure 112017037818335-pct00083

    (식 중,
    T1 은 니트로 또는 -OCH3 이고,
    T2 는 각각 독립적으로 수소, (C1-C6)-알킬, (C1-C4)-알콕시, -SO2(C1-C6)-알킬, -SO2-아릴, 시아노, 할로겐 또는 니트로이고,
    T3 및 T4 는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 트리플루오로메틸, 시아노, -SCN, -SO2CH3 또는 니트로임)].
  6. 제 1 항에 있어서, 추가로 하나 이상의 식 (IIIc) 를 포함하는 염료 혼합물:
    Figure 112017037818335-pct00084

    [식 중,
    R13 은 수소, 시아노 또는 카르복사미도이고,
    R14 는 메틸, 에틸 또는 페닐이고,
    R15 는 임의 치환된 (C1-C6)-알킬이고,
    D9 는 식 (IVa) 의 기임;
    Figure 112017037818335-pct00085

    (식 중,
    T1 은 니트로 또는 -OCH3 이고,
    T2 는 수소이고,
    T3 는 수소, 염소, 브롬, 니트로 또는 시아노 또는 히드록실이고,
    T4 는 수소, 염소, 브롬, 니트로 또는 시아노임)].
  7. 소수성 재료의 염색 및 프린트 방법으로서, 제 1 항에 기재된 염료 혼합물과 상기 재료를 이용하는 것을 포함하는 방법.
  8. 잉크젯 공정에 의한 디지털 날염용 잉크로서, 제 1 항에 기재된 염료 혼합물을 포함하는 잉크.
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