KR101714804B1 - 고굴절률 고강도 광학 재료용 조성물 - Google Patents

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Abstract

고굴절률(ne가 1.73 이상), 고강도(3점 휨 시험의 신율이 10％ 이상이고, 또한 내드릴 강도가 양호한 것), 및 고내열성(TMA 측정의 연화점이 70℃ 이상)을 동시에 만족시키는 광학 재료를 제공할 수 있는 광학 재료용 조성물을 제공하는 것을 과제로 하고, (a) 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물, (b) 에피설피드 화합물 및 (c) 크실릴렌디티올 화합물로 이루어진 광학 재료 수지용 조성물을 중합 경화시켜 투 포인트 프레임(two-point frame) 안경용 렌즈 등의 광학 재료로 한다.

Description

고굴절률 고강도 광학 재료용 조성물{COMPOSITION FOR USE IN OPTICAL MATERIAL WITH HIGH REFRACTIVE INDEX AND HIGH STRENGTH}
본 발명은 광학 재료용 조성물에 관한 것이고, 나아가서는 그것을 이용한 플라스틱 렌즈, 프리즘, 광 섬유, 정보 기록 기반(基盤), 필터 등의 광학 재료(광학용 수지 재료)에 관한 것이다. 본 발명의 광학 재료는 플라스틱 렌즈, 특히 투 포인트 프레임(two-point frame) 안경용 렌즈로서 매우 적합하게 사용된다.
플라스틱 재료는 경량이면서 인성이 풍부하고, 또 염색이 용이하다는 점으로부터 각종 광학 재료, 특히 안경 렌즈에 최근 다용되고 있다. 광학 재료 중에서도 안경 렌즈용 광학 재료에 특히 요구되는 성능은 물리적 성질로서의 저비중, 화학·열적 성질로서의 저황색도, 고내열성이고, 기계적 특성으로서 고강도 등이며, 광학 성능으로는 고투명성, 고굴절률과 고아베수이다. 고굴절률은 렌즈의 박육(薄肉)화를 가능하게 하고, 고아베수는 렌즈의 색수차를 저감시키지만, 굴절률이 상승하는 만큼 아베수는 낮아지기 때문에 양자를 동시에 향상시키는 검토가 실시되고 있다. 이들 검토 중에서 대표적인 방법으로서 특허문헌 1에 나타내는 에피설피드 화합물을 사용하는 방법이 있다. 또, 일례로서 특허문헌 2, 3에 나타내는 폴리에피설피드 화합물로 이루어진 광학 재료에 의해 굴절률이 1.73 이상인 광학 재료가 제안되고 있다.
한편, 고굴절률화에 따라 박육화한 렌즈에 대해서는 안전성 등의 관점으로부터 종래보다 더 고강도가 요망된다. 예를 들면, 투 포인트로 불리는 프레임을 장착하려면 드릴로 구멍을 뚫을 필요가 있지만, 이때에 결함이나 균열이 생기지 않는 강도가 필요하다. 또, 투 포인트 프레임의 사용에 견디기 위해서는 프레임이 휘어도 렌즈가 파괴되지 않는 강도가 필요하다. 동시에 플라스틱 렌즈는 표면을 보호하기 위해서 하드 코트를 붙이는 것이 표준이 되고 있지만, 하드 코트를 붙일 때에 열이 가해지기 때문에 내열성도 필요하다.
이와 같은 배경으로부터 고굴절률과 고강도와 내열성의 삼자를 동시에 만족시키는 검토가 지금까지 실시되고 있다. 이들 검토 중에서 대표적인 방법으로서 특허문헌 4에 나타나는 크실릴렌디티올 화합물을 사용한 방법이 있다. 이 검토에서는 굴절률이 1.70인 재료에 대해서는 고강도와 고내열성의 양립을 달성했지만, 굴절률이 1.73 이상인 재료에 대해서는 고강도와 내열성의 양립을 달성한 것은 얻지 못하고 있었다.
따라서, 에피설피드 화합물을 이용한 굴절률이 1.73 이상인 렌즈는 고굴절률, 고아베수를 가지지만, 더욱 뛰어난 강도와 내열성을 부여한 렌즈의 개발이 요구되고 있었다.
일본 특허 3491660호 공보 일본 특허 3738817호 공보 일본 특허 4127169호 공보 일본 공개특허 2008-101190호 공보
본 발명이 해결하려고 하는 과제는 고굴절률(ne가 1.73 이상), 고강도(3점 휨 시험의 신율이 10％ 이상이고, 또한 내드릴 강도가 양호한 것) 및 고내열성(TMA 측정의 연화점이 70℃ 이상) 이상 3점을 동시에 만족시키는 광학 재료를 제공할 수 있는 광학 재료용 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 이와 같은 상황을 감안해 열심히 연구를 거듭한 결과, 본 과제를 해결해 본 발명에 이르렀다. 즉, 본 발명은 이하와 같다.
[1] (a) 1~50중량부의 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물,
(b) 50~99중량부의 비스(β-에피티오프로필) 설피드, 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드, 비스(β-에피티오프로필) 트리설피드, 비스(β-에피티오프로필티오) 메탄, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 에탄, 1,3-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,4-비스(β-에피티오프로필티오) 부탄 및 비스(β-에피티오프로필티오에틸) 설피드로부터 선택되는 1종 이상인 에피설피드 화합물,
(c) 상기 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우에 1~50중량부의 크실릴렌디티올 화합물을 함유하는 광학 재료용 조성물.
[2] 상기 (a) 무기 화합물이 황인 [1]에 기재된 광학 재료용 조성물.
[3] 상기 (b) 에피설피드 화합물이 비스(β-에피티오프로필) 설피드 및/또는 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드인 [1]에 기재된 광학 재료용 조성물.
[4] 상기 (c) 크실릴렌디티올 화합물이 m-크실릴렌디티올 및/또는 p-크실릴렌디티올인 [1]에 기재된 광학 재료용 조성물.
[5] 상기 (a) 무기 화합물의 함유 비율이 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 10중량％ 이상인 [1]에 기재된 광학 재료용 조성물.
[6] 크실릴렌 디이소시아네이트 화합물이 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 1중량％ 이상 포함되지 않는 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 광학 재료용 조성물.
[7] 상기 (a) 무기 화합물과 (b) 에피설피드 화합물 중 적어도 일부가 서로 예비 중합 반응해 얻어지는 예비 중합 반응물로서 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 광학 재료용 조성물.
[8] 하기 (a), (b) 및 (c) 화합물을 혼합하는 공정을 포함하는 광학 재료용 조성물의 조제 방법.
(a) 1~50중량부(단, 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 10중량％ 이상)의 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물
(b) 50~99중량부의 비스(β-에피티오프로필) 설피드, 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드, 비스(β-에피티오프로필) 트리설피드, 비스(β-에피티오프로필티오) 메탄, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 에탄, 1,3-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,4-비스(β-에피티오프로필티오) 부탄 및 비스(β-에피티오프로필티오에틸) 설피드로부터 선택되는 1종 이상인 에피설피드 화합물
(c) 상기 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우에 1~50중량부의 크실릴렌디티올 화합물
[9] 상기 (a) 무기 화합물과 (b) 에피설피드 화합물 중 적어도 일부를 예비 중합 반응시키는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 [8]에 기재된 광학 재료용 조성물의 조제 방법.
[10] 하기 공정 (A) 및 (B)을 포함하는 광학 재료의 제조 방법.
(A) 하기 (a), (b) 및 (c) 화합물을 혼합해 광학 재료용 조성물을 조제하는 공정,
(a) 1~50중량부(단, 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 10중량％ 이상)의 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물
(b) 50~99중량부의 비스(β-에피티오프로필) 설피드, 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드, 비스(β-에피티오프로필) 트리설피드, 비스(β-에피티오프로필티오) 메탄, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 에탄, 1,3-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,4-비스(β-에피티오프로필티오) 부탄 및 비스(β-에피티오프로필티오에틸) 설피드로부터 선택되는 1종 이상인 에피설피드 화합물
(c) 상기 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우에 1~50중량부의 크실릴렌디티올 화합물
(B) 상기 광학 재료용 조성물을 중합 경화시키는 공정
[11] 상기 공정 (A)가 상기 (a) 무기 화합물과 (b) 에피설피드 화합물 중 적어도 일부를 예비 중합 반응시키는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 [10]에 기재된 광학 재료의 제조 방법.
[12] [10] 또는 [11]에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 재료로서, 굴절률(ne)이 1.73 이상인 광학 재료.
[13] [12]에 기재된 광학 재료로 이루어진 투 포인트 프레임 안경용 렌즈.
본 발명은 고굴절률(ne가 1.73 이상), 고강도(3점 휨 시험의 신율이 10％ 이상이고, 또한 내드릴 강도가 양호한 것) 및 내열성에 대해서 뛰어난 특성을 가지는 것을 가능하게 하는 광학 재료용 조성물, 및 그것을 경화해 얻어지는 광학 재료용 수지, 및 그것을 이용한 투 포인트 프레임 안경용 렌즈를 제공할 수 있다.
1. 광학 재료용 조성물
본 발명의 광학 재료용 조성물은 (a) 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물(이하, (a) 화합물), (b) 에피설피드 화합물(이하, (b) 화합물) 및 (c) 크실릴렌디티올 화합물(이하, (c) 화합물), 및 필요에 따라 중합 촉매, 중합 조절제, 성능 개량제 등의 임의 성분을 함유해서 이루어지는 것이다.
(1) (a) 화합물
본 발명에서 사용되는 (a) 화합물인 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물은 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 1개 이상 가지는 모든 무기 화합물을 포함한다. (a) 화합물은 화합물 중의 황 원자 및/또는 셀렌 원자의 합계 중량의 비율이 30질량％ 이상인 것이 바람직하다. 이 비율이 30질량％ 미만인 경우, 광학 재료용 조성물 중의 황 원자 및/또는 셀렌 원자의 중량의 비율 상승분이 작기 때문에 수지의 고굴절률화의 효과가 작아지는 경우가 있다. (a) 화합물의 첨가량은 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우, 1~50중량부 사용하지만, 바람직하게는 5~50중량부, 보다 바람직하게는 10~40중량부, 특히 바람직하게는 10~30중량부이다.
황 원자를 가지는 무기 화합물의 구체예로는 황, 황화수소, 2황화탄소, 셀레노황화탄소, 황화암모늄, 이산화황, 삼산화황 등의 황 산화물, 티오탄산염, 황산 및 그 염, 황산수소염, 아황산염, 차아황산염, 과황산염, 티오시안산염, 티오황산염, 이염화황, 염화티오닐, 티오포스겐 등의 할로겐화물, 황화붕소, 황화질소, 황화규소, 황화인, 황화비소, 금속 황화물, 금속 수황화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것은 황, 이황화탄소, 황화인, 황화셀렌, 금속 황화물 및 금속 수황화물이고, 보다 바람직하게는 황, 이황화탄소 및 황화셀렌이며, 특히 바람직하게는 황이다.
셀렌 원자를 가지는 무기 화합물이란, 황 원자를 포함하는 무기 화합물의 구체예로서 든 셀레노황화탄소, 황화셀렌을 제외하고, 이 조건을 만족시키는 무기 화합물을 모두 포괄한다. 구체예로는 셀렌, 셀렌화수소, 이산화셀렌, 이셀렌화탄소, 셀렌화암모늄, 이산화셀렌 등의 셀렌 산화물, 셀렌산 및 그 염, 아셀렌산 및 그 염, 셀렌산수소염, 셀레노황산 및 그 염, 셀레노피로황산 및 그 염, 사브롬화셀렌, 옥시염화셀렌 등의 할로겐화물, 셀레노시안산염, 셀렌화붕소, 셀렌화인, 셀렌화비소, 금속의 셀렌화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것은 셀렌, 이셀렌화 탄소, 셀렌화인, 금속의 셀렌화물이며, 특히 바람직하게는 셀렌 및 이셀렌화탄소이다.
이들 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물은 단독으로도 2종류 이상을 혼합해 사용해도 된다.
(2) (b) 화합물
본 발명에서 사용되는 (b) 화합물로는 비스(β-에피티오프로필) 설피드, 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드, 비스(β-에피티오프로필) 트리설피드, 비스(β-에피티오프로필티오) 메탄, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 에탄, 1,3-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,4-비스(β-에피티오프로필티오) 부탄 및 비스(β-에피티오프로필티오에틸) 설피드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 에피설피드 화합물을 들 수 있다.
그 중에서도 바람직한 구체예는 비스(β-에피티오프로필) 설피드(식 (1)) 및/또는 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드(식 (2))이며, 가장 바람직한 구체예는 비스(β-에피티오프로필) 설피드이다.
Figure 112011096519815-pct00001
Figure 112011096519815-pct00002
본 발명에서 사용되는 (b) 화합물의 첨가량은 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우, 50~99중량부 사용하지만, 바람직하게는 50~95중량부, 보다 바람직하게는 60~90중량부, 특히 바람직하게는 70~90중량부이다.
(3) (c) 화합물
본 발명에서 사용되는 (c) 화합물은 크실릴렌디티올 화합물이며, 구체예로는 o-, m-, 및 p-크실릴렌디티올을 바람직하게 들 수 있다. 그 중에서도 바람직한 크실릴렌디티올 화합물은 하기 구조식으로 나타내는 m-크실릴렌디티올(식 (3)), p-크실릴렌디티올(식 (4))이며, 특히 바람직한 크실릴렌디티올 화합물은 상온에서 액체가 되는 m-크실릴렌디티올이다.
Figure 112011096519815-pct00003
Figure 112011096519815-pct00004
본 발명에서 사용되는 (c) 화합물의 첨가량은 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우, 1중량부~50중량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2중량부~30중량부, 더욱 바람직하게는 3중량부~10중량부이다.
(4) 중합 촉매
본 발명의 광학 재료용 조성물에는 중합 경화를 위해서 필요에 따라 중합 촉매를 첨가할 수 있다. 중합 촉매로는 아민류, 포스핀류, 제4급 암모늄염류, 제4급 포스포늄염류, 알데히드와 아민계 화합물의 축합물, 카르복시산과 암모니아의 염, 우레탄류, 티오우레탄류, 구아니딘류, 티오요소류, 티아졸류, 술펜아미드류, 티우람류, 디티오카르바민산염류, 크산토겐산염, 제3급 설포늄염류, 제2급 요도늄염류, 광산류, 루이스산류, 유기산류, 규산류, 사불화붕산류, 과산화물, 아조계 화합물, 산성 인산 에스테르류를 들 수 있다.
중합 촉매는 중합 경화를 발현하는 것이면, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또, 이들 중합 촉매는 단독으로도 2종류 이상을 혼합해 사용해도 상관없다. 이들 중 바람직한 구체예는 테트라-n-부틸암모늄 브로마이드, 트리에틸벤질암모늄 클로라이드, 세틸디메틸벤질암모늄 클로라이드, 1-n-도데실피리디늄 클로라이드 등의 제4급 암모늄염, 테트라-n-부틸포스포늄 브로마이드, 테트라페닐포스포늄 브로마이드 등의 제4급 포스포늄염을 들 수 있다. 이들 중에서 더욱 바람직한 구체예는 트리에틸벤질암모늄 클로라이드 및/또는 테트라-n-부틸포스포늄 브로마이드이며, 가장 바람직한 구체예는 트리에틸벤질암모늄 클로라이드이다.
중합 촉매의 첨가량은 (a), (b) 및 (c) 화합물의 합계 100중량부에 대해서, 0.001~5중량부이고, 바람직하게는 0.002~5중량부이며, 보다 바람직하게는 0.005~3중량부이다.
(5) 중합 조절제
본 발명의 광학 재료용 조성물에는 중합 경화할 때에 포트라이프의 연장이나 중합 발열의 분산화 등을 목적으로 하여, 필요에 따라 중합 조절제를 첨가할 수 있다. 중합 조절제는 장기 주기율표에서의 제13~16족 원소의 할로겐화물을 들 수 있다.
이들 중합 조절제는 단독으로도 2종류 이상을 혼합해 사용해도 상관없다. 이들 중 바람직한 것은 규소, 게르마늄, 주석, 안티몬의 할로겐화물이다. 보다 바람직하게는 규소, 게르마늄, 주석, 안티몬의 염화물이며, 더욱 바람직하게는 알킬기를 가지는 게르마늄, 주석, 안티몬의 염화물이다. 가장 바람직한 구체예는 디부틸주석 디클로라이드, 부틸주석 트리클로라이드, 디옥틸주석 디클로라이드, 옥틸주석 트리클로라이드, 디부틸디클로로 게르마늄, 부틸트리클로로 게르마늄, 디페닐디클로로 게르마늄, 페닐트리클로로 게르마늄, 트리페틸안티몬 디클로라이드이다.
중합 조절제의 첨가량은 (a), (b) 및 (c) 화합물의 합계 100중량부에 대해서 0.001~5중량부이고, 바람직하게는 0.002~5중량부이며, 보다 바람직하게는 0.005~3중량부이다.
(6) 성능 개량제
본 발명의 광학 재료용 조성물에는 내산화성, 내후성, 염색성, 강도, 굴절률 등의 각종 성능의 개량을 목적으로 하여, 조성 성분 화합물의 일부 혹은 전부와 반응 가능한 화합물(성능 개량제)을 첨가하는 것도 가능하다. 이 경우는 반응을 위해서 필요에 따라 공지의 중합 촉매를 별도로 가할 수 있다.
조성 성분의 일부 혹은 전부와 반응 가능한 화합물(성능 개량제)로는 본원 발명의 크실릴렌디티올 이외의 SH기를 2개 이상 가지는 화합물류, 에폭시 화합물류, 카르복시산류, 카르복시산 무수물류, 페놀류, 아민류, 비닐 화합물류, 알릴 화합물류, 아크릴 화합물류, 메타크릴 화합물류 등을 들 수 있다.
성능 개량제의 첨가량은 (a), (b) 및 (c) 화합물의 합계 100중량부에 대해서 각각 0.001~10중량부이고, 바람직하게는 0.002~5중량부이며, 보다 바람직하게는 0.005~3중량부이다.
(7) 그 외의 임의 성분
본 발명의 광학 재료용 조성물에 있어서는 임의 성분으로서 공지의 산화 방지제, 블루잉제, 자외선 흡수제, 소취제 등의 각종 첨가제를 필요에 따라 가해 얻어지는 재료의 실용성을 보다 향상시키는 것은 물론 가능하다.
또, 본 발명의 광학 재료가 중합 중에 형(型)으로부터 떨어지기 쉬운 경우에는 공지의 외부 및/또는 내부 밀착성 개선제를, 또는 형으로부터 떨어지기 어려운 경우에는 공지의 외부 및/또는 내부 이형성 개선제를 사용할 수도 있다. 이들 외부 및/또는 내부 밀착성 개선제나 외부 및/또는 내부 이형성 개선제는 중합 경화시에 이용되는 유리 혹은 금속제의 형에 도포할 수 있는 것 외에, 본 발명의 광학 재료용 조성물에 첨가하여, 얻어지는 광학 재료와 형의 밀착성 또는 이형성을 향상시키는 것도 유효하다.
본 발명의 광학용 수지 조성물에서는 (a) 화합물의 함유량이 광학용 수지 조성물 전량에 대해 10중량％ 이상인 것이 바람직하다. (a) 화합물의 함유량이 광학용 수지 조성물 전량에 대해 10중량％ 이상이면 고굴절률(특히, ne가 1.73 이상)을 용이하게 달성할 수 있다.
또, 크실릴렌 디이소시아네이트 화합물이 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 1중량％ 이상 포함되지 않는 것, 즉 크실릴렌 디이소시아네이트 화합물의 함유량이 광학용 수지 조성물 전량에 대해 1중량％ 미만인 것이 바람직하고, 나아가 크실릴렌 디이소시아네이트 화합물을 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다. 크실릴렌 디이소시아네이트 화합물의 함유량이 1중량％ 이상이면 디이소시아네이트에 의한 굴절률 저하가 현저하고, 굴절률을 1.73 이상으로 하는 것이 곤란해질 뿐만 아니라, 급속 중합이 일어나 중합 경화물을 얻을 수 없게 되는 경우가 있다.
또, (a) 화합물과 (b) 화합물은 그 적어도 일부가 서로 예비 중합 반응해 얻어지는 예비 중합 반응물로서 포함되어 있어도 된다.
2. 광학 재료용 조성물의 조제 방법
본 발명의 광학 재료용 조성물은 상기 (a), (b) 및 (c) 화합물, 및 필요에 따라 이용되는 임의 성분을 통상의 방법으로 혼합·교반함으로써 얻어지지만, (a) 화합물과 (b) 화합물 중 적어도 일부를 먼저 예비 중합 반응시킨 후, (c) 화합물과 혼합시키는 것이 바람직하다.
(1) 예비 중합 반응
본 발명의 광학 재료용 조성물의 조제에 있어서는 미리 (a) 화합물과 (b) 화합물을 예비 중합 반응시켜 얻어진 예비 중합 반응물과 (c) 화합물 및 임의 성분을 혼합하는 것이 바람직하다. (a) 화합물과 (b) 화합물을 예비 중합 반응시키는 것은 고체인 (a) 화합물을 핸들링할 때 유효한 수단이며, 얻어지는 광학 재료의 투명성도 양호해진다. 또, 이에 의해 (a) 화합물(황 등을 가지는 무기 화합물)을 다량으로 배합하는 것이 가능해져, 고굴절률, 고강도 및 고내열성을 구비한 광학 재료를 제공할 수 있는 광학용 수지 조성물을 얻을 수 있다.
(a) 화합물과 (b) 화합물을 예비 중합 반응시키는 방법을 상세하게 설명한다. (a) 화합물과 (b) 화합물은 각각 일부 또는 전부를 교반 하 또는 비교반 하 반응시킨다. 예비 중합 반응시키는 비율은 특별히 제한되지 않지만, 주형시에 (a) 화합물이 고체로서 존재하지 않는 정도로 (a) 화합물과 (b) 화합물을 예비 중합 반응시키는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 (a) 화합물, (b) 화합물 각각 50~100중량％가 예비 중합 반응에 제공되고, 특히 바람직하게는 (a) 화합물, (b) 화합물 각각 전 중량부가 예비 중합 반응에 제공된다.
이때, (a) 화합물과 (b) 화합물의 반응을 촉진시키는 예비 중합 반응 촉매를 가해도 상관없다. 예비 중합 반응 촉매로는 상기한 중합 촉매를 이용할 수도 있지만, 바람직하게는 질소 또는 인 원자를 포함하는 화합물이 이용되고, 보다 바람직하게는 질소 또는 인 원자를 포함하면서 불포화 결합을 가지는 화합물이 이용된다. 특히 바람직하게는 이미다졸류이며, 가장 바람직하게는 2-메르캅토-1-메틸이미다졸이다. 예비 중합 반응 촉매의 첨가량은 (a) 및 (b) 화합물의 합계 100중량부에 대해서 0.001~5중량부이고, 바람직하게는 0.002~5중량부이며, 보다 바람직하게는 0.005~3중량부이다.
예비 중합 반응은 대기, 질소 또는 산소 등의 기체의 존재 하, 상압 혹은 가감압에 의한 밀폐 하, 또는 감압 하 등의 임의의 분위기 하에서 실시해도 된다. 또, 이 예비 중합 반응은 중합 조절제, 성능 개량제, 자외선 흡수제 등 필요에 따라 이용되는 각종 첨가제의 존재 하 실시해도 상관없다. 또, (c) 화합물의 일부 또는 전부의 존재 하에 실시해도 상관없지만, 이 경우 이 예비 중합 반응은 중합 경화 반응의 일부를 선택적으로 앞당겨 실시하는 형태가 되기 때문에 온화한 조건을 채용하는 등 반응을 제어하는 것이 바람직하다. 특히 바람직하게는 (a) 화합물과 (b) 화합물을 예비 중합 반응시킨 후, (c) 화합물을 가한다.
예비 중합 반응 시간은 1분간~72시간이고, 바람직하게는 10분간~48시간이며, 보다 바람직하게는 30분간~24시간이다. 예비 중합 반응 온도는 0℃~150℃이고, 바람직하게는 10℃~120℃이며, 보다 바람직하게는 20℃~100℃이다.
나아가서는 이 예비 중합 반응에 의해 (a) 화합물을 10몰％ 이상(반응 전의 (a) 화합물을 100몰％로 함) 반응시켜 두는 것이 바람직하고, 20몰％ 이상 반응시켜 두는 것이 보다 바람직하다.
또, 이 예비 중합 반응물에 대하여 액체 크로마토그래피 및/또는 점도 및/또는 비중 및/또는 굴절률을 측정함으로써, 반응의 진행도를 관찰해 제어하는 것은 균질인 광학 재료용 조성물로 하는데 있어서 바람직하다. 또, (a) 화합물의 반응 비율을 알 수도 있다.
그 중에서도 액체 크로마토그래피 및/또는 굴절률을 측정하는 수법이 고감도인 것으로부터 바람직하고, 또, 굴절률을 측정하는 수법이 간편한 것으로부터 보다 바람직하다. 굴절률을 측정하는 경우, 실시간으로 반응의 진행도를 관찰할 수 있기 때문에 인라인형의 굴절계를 이용하는 것이 바람직하다.
(2) 혼합
광학 재료용 조성물의 제조 방법은 상세하게 설명하자면 이하와 같다.
(a) 화합물과 (b) 화합물, 및/또는 (a) 화합물과 (b) 화합물을 예비 중합 반응해 얻어지는 예비 중합 반응물, (c) 화합물, 성능 개량제(조성 성분의 일부 혹은 전부와 반응 가능한 화합물), 중합 촉매, 중합 조절제, 밀착성 개선제 또는 이형성 개선제, 산화 방지제, 블루잉제, 자외선 흡수제, 소취제 등의 각종 첨가제 등은 모두 동일 용기 내에서 동시에 교반 하에 혼합해도, 각 원료를 단계적으로 첨가 혼합해도, 여러 성분을 따로따로 혼합 후 추가로 동일 용기 내에서 재혼합해도 된다. 각 원료 및 첨가제 등은 어떠한 순서로 혼합해도 상관없다. 또한, 상술한 (a) 화합물과 (b) 화합물의 조합에 의한 예비 중합 반응 이외에도 각 성분의 2종류 이상에 대해서 미리 예비적인 반응을 실시한 후 혼합해도 상관없다. 예를 들면, (a) 화합물과 (b) 화합물에 대해서 상기 예비 중합 반응을 실시, 별도로 (c) 화합물의 일부와 성능 개량제를 (단순히 혼합하는 것이 아니라) 예비적으로 반응시켜, 그것들을 혼합하는 것도 가능하다.
혼합에 있어, 설정 온도, 이것에 필요로 하는 시간 등은 기본적으로는 각 성분이 충분히 혼합되는 조건이면 되지만, 과잉의 온도·시간은 각 원료나 첨가제간의 바람직하지 않은 반응이 일어나기 쉬워지고, 나아가 점도의 상승을 초래하여 주형 조작을 곤란하게 하는 경우가 있는 등의 이유로부터 적당하지 않다.
혼합 온도는 -50℃ 내지 100℃ 정도의 범위에서 행해져야 하는 것이며, 바람직한 온도 범위는 -30℃ 내지 70℃, 더욱 바람직한 것은 -5℃ 내지 50℃이다. 혼합 시간은 1분 내지 12시간, 바람직하게는 5분 내지 10시간, 가장 바람직한 것은 5분 내지 6시간 정도이다. 필요에 따라, 활성 에너지선을 차단하고 혼합해도 상관없다. 또, 그 후 이하의 방법으로 탈기 처리를 실시해도 된다.
(3) 탈기 처리
본 발명의 광학 재료용 조성물의 제조 방법에 있어서는 상기 혼합에 의해 수지 조성물을 조제 후, 탈기 처리를 실시하는 경우가 있다. 광학 재료용 조성물을 중합 경화 전에 미리 탈기 처리하는 것은 중합 경화해 얻어지는 광학 재료의 고도의 투명성을 달성하는 면으로부터 바람직하다.
탈기 처리는 (a) 화합물, (b) 화합물, (c) 화합물, 및 각종 조성 성분의 일부 혹은 전부와 반응 가능한 화합물, 중합 촉매, 중합 조절제, 각종 첨가제의 혼합 전, 혼합시 혹은 혼합 후에 감압 하에 실시한다. 바람직하게는 혼합시 혹은 혼합 후에 감압 하에 실시한다.
탈기 처리 조건은 0.1~15000Pa의 감압 하, 1분간~24시간, 0℃~100℃에서 실시한다. 감압도는 바람직하게는 1~10000Pa이고, 보다 바람직하게는 1~5000Pa이며, 이들 범위에서 감압도를 가변해도 상관없다. 탈기 시간은 바람직하게는 5분간~18시간이며, 보다 바람직하게는 10분간~12시간이다. 탈기시의 온도는 바람직하게는 5℃~80℃이고, 보다 바람직하게는 10℃~60℃이며, 이들 범위에서 온도를 가변해도 상관없다.
탈기 처리시에는 교반, 기체를 불어 넣음, 초음파 등에 의한 진동 등에 의해 광학 재료용 조성물의 계면을 갱신하는 것은 탈기 효과를 높이는데 있어서 바람직한 조작이다.
탈기 처리에 의해, 제거되는 성분은 주로 황화수소 등의 용존 가스나 저분자량의 메르캅탄 등의 저비점물 등이지만, 탈기 처리의 효과를 발현한다면 특별히 한정되지 않는다.
이와 같이 하여 얻어지는 광학 재료용 조성물은 중합 경화의 직전에 필터 등으로 불순물 등을 여과해 정제할 수 있다. 광학 재료용 조성물을 필터에 통해 불순물 등을 여과해 정제하는 것은 본 발명의 광학 재료의 품질을 더욱 높이는 면에서 바람직한 것이다. 여기서 이용하는 필터의 구멍 지름은 0.05~10㎛정도이며, 일반적으로는 0.1~1.0㎛인 것이 사용된다. 필터의 재질로는 PTFE나 PET나 PP 등이 매우 적합하게 사용된다.
3. 광학 재료
본 발명의 광학 재료는 상기 광학 재료용 조성물을 중합 경화해 얻을 수 있다. 중합 경화는 통상 광학 재료용 조성물을 유리나 금속제의 형에 주입 후, 전기로를 이용해 가열하거나 활성 에너지선 발생 장치 등을 이용해 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하거나 함으로써 행해진다. 중합 시간은 0.1~100시간, 통상 1~48시간이며, 중합 온도는 -10℃~160℃, 통상 -10℃~140℃이다. 중합은 소정의 중합 온도에서 소정 시간의 유지, 0.1℃~100℃/시의 승온, 0.1℃~100℃/시의 강온 및 이들의 조합으로 실시할 수 있다.
또, 중합 종료 후, 재료를 50℃ 내지 150℃의 온도에서 5분 내지 5시간 정도 어닐 처리를 실시하는 것은 광학 재료의 변형을 제거하기 위해서 바람직한 처리이다. 또한, 필요에 따라 염색, 하드 코트, 반사 방지, 방담성, 방오성, 내충격성 부여 등의 표면 처리를 실시할 수 있다.
본 발명의 바람직한 태양인 광학 재료용 조성물을 중합 경화함으로써, 종래 곤란했던 충분히 높은 굴절률과 양호한 아베수를 갖고, 더욱 높은 강도 및 내열성을 가지는 광학 재료를 제공하는 것이 가능해졌다. 즉, 목적으로 하는 수지의 굴절률(ne)로는 바람직하게는 1.73 이상, 보다 바람직하게는 1.74 이상이고, 강도로는 3점 휨 시험의 신율이 10％ 이상, 보다 바람직하게는 11％ 이상이며, 특히 바람직하게는 12％ 이상이고, 또한 내드릴 강도가 양호한 것, 내열성(TMA 측정의 연화점)은 70℃ 이상, 보다 바람직하게는 72℃ 이상, 특히 바람직하게는 75℃ 이상인 광학 재료를 제공할 수 있는 광학 재료용 조성물 및 광학 재료, 및 그것을 이용한 투 포인트 프레임 안경용 렌즈를 제공할 수 있다.
본 발명의 바람직한 태양에 있어서는 고굴절률화제인 황을 다량으로(예를 들면, 광학용 수지 조성물 전량에 대해 10중량％ 이상) 배합한 균질인 광학 재료용 조성물을 얻을 수 있다. 그리고, 그것을 이용함으로써 굴절률 1.73 이상이라는 고굴절률의 광학 재료를 얻을 수 있다.
종래의 조성·조제 방법에서는 황 등을 다량으로 배합하면 급속 중합이기 때문에 굴절률 1.73 이상의 경화물(광학 재료)을 얻을 수 없었다. 황(본 발명에서는 (a) 화합물)과 다른 조성 성분의 상용성이 충분하지 않아 (a) 화합물을 다량으로 배합하면 (a) 화합물이 완전히 용해하지 않아 고체로서 경화물 중에 잔존해, 굴절률 저하의 원인이 될 뿐만 아니라 투명한 광학 재료를 얻을 수 없다.
본 발명에 따르면, 광학 재료용 조성물의 조제 단계에서 (a) 화합물을 미리 예비 중합 반응시켜 적당량을 소비함으로써, (a) 화합물을 완전히 용해시켜 균일한 액체 조성물로 하는 것이 가능해지고, 그 결과 고굴절률의 광학 재료를 얻을 수 있다. 또, 종래에는 고강도화를 위해 이소시아네이트 화합물을 배합하고 있었지만, (a) 화합물을 다량으로 배합했을 경우, 동시에 이소시아네이트를 첨가하면 급속 중합하는 경향이 있어 중합 경화물을 얻는 것이 곤란해진다. 그러나, 본 발명의 바람직한 태양에서는 급속 중합을 회피하기 위해 이소시아네이트 화합물의 함유량을 낮게 제한하고(바람직하게는 이소시아네이트 화합물을 실질적으로 이용하지 않음), 또한 (c) 성분으로서 크실릴렌디티올 화합물을 이용하고 있다.
이와 같이 본 발명의 특징적인 조성·조제 방법을 채용함으로써, 고굴절률(ne가 1.73 이상)을 달성하고, 나아가 고강도(3점 휨 시험의 신율이 10％ 이상 및 내드릴 강도가 양호) 및 고내열성도 가지는 광학 재료가 용이하게 얻어진다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가는 이하의 방법으로 실시했다.
[굴절률(ne) 측정, 아베수(νd) 측정]
디지털 정밀 굴절계(카루뉴광학공업 주식회사제, KPR-200)를 이용해 25℃에서 측정했다.
[내열성 측정]
샘플을 두께 3㎜로 잘라내고, 1㎜φ의 핀에 10g의 가중을 주어 30℃로부터 10℃/분으로 승온하여 TMA 측정(세이코 인스트루먼트제, TMA/SS6100)을 실시해 연화점을 측정했다.
[신율(강도) 측정]
JIS 규격 K-7171에 준거해, 두께 2.5㎜, 폭 10.0㎜의 평판을 오토그래프(주식회사 시마즈제작소제, AG-5000B)를 이용해 지점간 거리 40㎜에서 3점 휨 시험을 실시해 파단점의 신율을 측정했다.
[내드릴 강도]
상기 특허문헌 4(일본 공개특허 2008-101190호 공보)에 나타나 있는 평가 방법에 준거하여 드릴의 회전수 2500rpm, 진입 속도 600㎜/분으로 2.5㎜ 두께의 평판에 직경 2㎜의 구멍을 뚫었을 때의 주변부 상태를 측정했다. 주변부에 이지러짐이 보이지 않는 것을 ○, 보여졌던 것을 ×로 했다.
＜ 실시예 1＞
(a) 화합물로서 황 16중량부, (b) 화합물로서 비스(β-에피티오프로필) 설피드 84중량부의 합계 100중량부에 자외선 흡수제로서 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸 1중량부를 가하고 60℃에서 잘 혼합해 균일하게 했다. 다음에, 2-메르캅토-1-메틸이미다졸 0.5중량부를 가해 (a) 화합물이 20℃에서 석출하지 않게 될 때까지 60℃에서 예비 중합 반응시켰다.
또한, 본 실시예에서는 예비 중합 반응을 (a) 화합물이 약 50몰％ 반응했더니 정지시키고 있어 얻어진 조성물 중에는 (a) 화합물이 잔존한 상태에 있다. (a) 화합물의 반응 비율은 반응액을 액체 크로마토그래피 분석 및 굴절률을 측정함으로써 구했다.
그 후, 얻어진 조성물을 20℃로 냉각했다. 거기에, (c) 화합물로서 m-크실릴렌디티올(이하, c-1 화합물이라고 칭함) 7중량부, 중합 촉매로서 트리에틸벤질암모늄 클로라이드 0.035중량부, 중합 조절제로서 디-n-부틸주석 디클로라이드 0.22중량부를 가하고 잘 혼합해 균일한 조성물로 하여 4000Pa, 20분간, 20℃의 조건 하에서 탈기 처리했다.
얻어진 광학 재료용 조성물을 1.0㎛의 PTFE제의 멤브레인 필터로 여과하고, 2매의 유리판과 개스킷으로 구성되는 두께 2.5㎜의 평판형 몰드에 주입해 30℃에서 10시간 가열하고, 그 후 30℃ 내지 100℃까지 10시간에 걸쳐 일정 속도 승온시키고, 마지막에 100℃에서 1시간 가열해 중합 경화시켰다. 실온까지 방냉한 후, 몰드로부터 이형해 경화된 광학 재료를 얻었다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
＜ 실시예 2＞
(a) 화합물 16중량부, (b) 화합물 84중량부, (c) 화합물로서 c-1 화합물 1중량부, 자외선 흡수제로서 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐) 벤조트리아졸 1중량부를 가하고 50℃에서 잘 혼합해 균일하게 했다. 다음에, 2-메르캅토-1-메틸 이미다졸 0.05중량부를 가해 (a) 화합물이 20℃에서 석출하지 않게 될 때까지 50℃에서 예비 중합 반응시켰다.
또한, 본 실시예에서는 예비 중합 반응을 (a) 화합물이 약 50몰％ 반응했더니 정지시키고 있어 얻어진 조성 중에는 (a) 화합물이 잔존한 상태에 있다.
그 후, 얻어진 조성물을 20℃로 냉각했다. 거기에, 미첨가분인 c-1 화합물 7중량부, 중합 촉매로서 트리에틸벤질암모늄 클로라이드 0.050중량부, 중합 조절제로서 디-n-부틸주석 디클로라이드 0.22중량부를 가해 실시예 1과 동일한 처리, 중합 경화를 실시해 광학 재료를 얻었다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
＜ 실시예 3~6＞
(c) 화합물의 양을 변경하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시했다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
＜ 실시예 7＞
(c) 화합물인 c-1 화합물 대신에 p-크실릴렌디티올(이하, c-2 화합물이라고 칭함)를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시했다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.
＜ 비교예 1＞
조성으로부터 (c) 화합물인 c-1 화합물을 제외한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시했다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성 및 신율의 평가 결과를 표 1에 나타냈다. 얻어진 광학 재료는 신율 및 내드릴 강도가 불충분했다.
＜ 비교예 2＞
(c) 화합물인 c-1 화합물 대신에 비스(2-메르캅토 에틸) 설피드(이하, o-1 화합물이라고 칭함)를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시했다. 단, 굴절률과 내열성을 확보하기 위해서 4000Pa, 90분간, 20℃의 조건 하에서 탈기 처리했다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가 결과를 표 1에 나타냈다. 얻어진 광학 재료는 신율 및 내드릴 강도가 불충분했다.
＜ 비교예 3＞
o-1 화합물의 양을 변경한 것 이외에는 비교예 2와 동일하게 실시했다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가 결과를 표 1에 나타냈다. 얻어진 광학 재료는 내열성 및 신율 및 내드릴 강도가 불충분했다.
＜ 비교예 4＞
(b) 화합물 100중량부, c-1 화합물 16중량부, 내부 이형제로서 폴리옥시에틸렌라우릴에테르 인산나트륨 0.005중량부, 중합 조절제로서 디-n-부틸주석 디클로라이드 0.05중량부를 혼합하고, 균일한 조성물로 하여 1300Pa의 감압 하에서 30분 탈기를 실시한 후, 실시예 1과 동일하게 중합 경화시켰다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가 결과를 표 1에 나타냈다. 얻어진 광학 재료는 굴절률 및 내열성이 불충분했다.
＜ 비교예 5~7＞
표 1에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 비교예 4를 반복했다. 얻어진 광학 재료의 굴절률 및 아베수, 내열성, 신율 및 내드릴 강도의 평가 결과를 표 1에 나타냈다. 얻어진 광학 재료는 모두 굴절률이 불충분하고, 내열성이나 내드릴 강도가 불충분한 것도 있었다.
＜ 비교예 8＞
(a) 화합물 16중량부, (b) 화합물 84중량부를 실시예 1과 동일한 예비 중합 조작을 실시해 균일한 조성물로 했다. 거기에, o-1 화합물 15중량부, o-2 화합물 12중량부, 중합 촉매로서 트리에틸벤질암모늄 클로라이드 0.035중량부, 중합 조절제로서 디-n-부틸주석 디클로라이드 0.22중량부를 가하고 잘 혼합해 균일화시키면, 급속 중합이 일어나 경화된 광학 재료는 얻을 수 없었다.
Figure 112011096519815-pct00005
또한, 상기 표 1 중의 기호는 이하를 의미한다.
(a) 황
(b) 비스(β-에피티오프로필) 설피드
(c-1) m-크실릴렌디티올
(c-2) p-크실릴렌디티올
(o-1) 비스(2-메르캅토에틸) 설피드
(o-2) 1,3-비스(1-이소시아네이트-1-메틸에틸) 벤젠
산업상의 이용 가능성
본 발명의 광학 재료용 조성물은 중합 경화함으로써, 고굴절률, 고강도, 고내열성 등의 뛰어난 특성을 가지는 광학 재료를 제공할 수 있다. 이와 같은 본 발명의 광학 재료는 플라스틱 렌즈, 프리즘, 광 섬유, 정보 기록 기반, 필터 등의 광학 재료로서 매우 적합하고, 그 중에서도 플라스틱 렌즈, 특히 투 포인트 프레임 안경용 렌즈로서 매우 적합하게 사용된다.

Claims (13)

  1. (a) 1~50중량부의 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물,
    (b) 50~99중량부의 비스(β-에피티오프로필) 설피드, 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드, 비스(β-에피티오프로필) 트리설피드, 비스(β-에피티오프로필티오) 메탄, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 에탄, 1,3-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,4-비스(β-에피티오프로필티오) 부탄 및 비스(β-에피티오프로필티오에틸) 설피드로부터 선택되는 1종 이상인 에피설피드 화합물,
    (c) 상기 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우에 1~50중량부의 크실릴렌디티올 화합물 단량체를 함유하는 광학 재료용 조성물(단, 상기 (c) 크실릴렌디티올 화합물 단량체를 중합시켜 얻어진 중합체를 함유하는 조성물은 제외한다).
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 (a) 무기 화합물이 황인 광학 재료용 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 (b) 에피설피드 화합물이 비스(β-에피티오프로필) 설피드 및/또는 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드인 광학 재료용 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 (c) 크실릴렌디티올 화합물 단량체가 m-크실릴렌디티올 및/또는 p-크실릴렌디티올인 광학 재료용 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 (a) 무기 화합물의 함유 비율이 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 10중량％ 이상인 광학 재료용 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서,
    크실릴렌 디이소시아네이트 화합물이 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 1중량％ 이상 포함되지 않는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 조성물.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 (a) 무기 화합물과 (b) 에피설피드 화합물 중 적어도 일부가 서로 예비 중합 반응해 얻어지는 예비 중합 반응물로서 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 조성물.
  8. 하기 (a), (b) 및 (c) 화합물을 혼합하는 공정을 포함하는 광학 재료용 조성물(단, 하기 (c) 크실릴렌디티올 화합물 단량체를 중합시켜 얻어진 중합체를 함유하는 조성물은 제외한다)의 조제 방법.
    (a) 1~50중량부(단, 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 10중량％ 이상)의 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물
    (b) 50~99중량부의 비스(β-에피티오프로필) 설피드, 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드, 비스(β-에피티오프로필) 트리설피드, 비스(β-에피티오프로필티오) 메탄, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 에탄, 1,3-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,4-비스(β-에피티오프로필티오) 부탄 및 비스(β-에피티오프로필티오에틸) 설피드로부터 선택되는 1종 이상인 에피설피드 화합물
    (c) 상기 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우에 1~50중량부의 크실릴렌디티올 화합물 단량체
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 (a) 무기 화합물과 (b) 에피설피드 화합물 중 적어도 일부를 예비 중합 반응시키는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 조성물의 조제 방법.
  10. 하기 공정 (A) 및 (B)을 포함하는 광학 재료의 제조 방법.
    (A) 하기 (a), (b) 및 (c) 화합물을 혼합해 광학 재료용 조성물(단, 하기 (c) 크실릴렌디티올 화합물 단량체를 중합시켜 얻어진 중합체를 함유하는 조성물은 제외한다)을 조제하는 공정,
    (a) 1~50중량부(단, 광학 재료용 조성물 전량에 대해서 10중량％ 이상)의 황 원자 및/또는 셀렌 원자를 가지는 무기 화합물
    (b) 50~99중량부의 비스(β-에피티오프로필) 설피드, 비스(β-에피티오프로필) 디설파이드, 비스(β-에피티오프로필) 트리설피드, 비스(β-에피티오프로필티오) 메탄, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 에탄, 1,3-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오) 프로판, 1,4-비스(β-에피티오프로필티오) 부탄 및 비스(β-에피티오프로필티오에틸) 설피드로부터 선택되는 1종 이상인 에피설피드 화합물
    (c) 상기 (a) 및 (b) 화합물의 합계를 100중량부로 했을 경우에 1~50중량부의 크실릴렌디티올 화합물 단량체
    (B) 상기 광학 재료용 조성물을 중합 경화시키는 공정
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 공정 (A)가 상기 (a) 무기 화합물과 (b) 에피설피드 화합물 중 적어도 일부를 예비 중합 반응시키는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 재료의 제조 방법.
  12. 청구항 10 또는 청구항 11에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 재료로서, 굴절률(ne)이 1.73 이상인 광학 재료.
  13. 청구항 12에 기재된 광학 재료로 이루어진 투 포인트 프레임(two-point frame) 안경용 렌즈.
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