KR101543932B1 - 모기판 배향막의 제조 방법, 및 전사 인쇄판 및 배향액 - Google Patents

모기판 배향막의 제조 방법, 및 전사 인쇄판 및 배향액 Download PDF

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Abstract

본 발명의 실시예들은 모기판 배향막의 제조 방법, 및 전사 인쇄판 및 배향액을 개시한다. 이 방법은, 두 개 이상의 기판을 동시에 커버하는 전사 영역을 갖는 전사 인쇄판을 이용하여 두 개 이상의 기판을 갖는 모기판 상에 배향액을 코팅하여, 배향액이 모기판 상에 배향막을 형성하는 단계; 및 기판의 표시 영역 밖에 있고 배향막을 유지시킬 필요가 없는 영역에 위치한 모기판 상의 배향막을 제거하는 단계를 포함한다. 이 방법은 배향막이 너무 두꺼운 주변 영역, 및 배향막이 너무 두꺼운 주변 영역과 밀봉제 영역과의 중첩에 의해 야기된 기존 디스플레이의 결함 문제를 해결할 수 있다.

Description

모기판 배향막의 제조 방법, 및 전사 인쇄판 및 배향액{METHOD FOR PRODUCING MASTERBOARD ALIGNMENT FILM AND TRANSFER PRINTING PLATE AND ALIGNMENT SOLUTION}
본 발명의 실시예는 모기판(masterboard) 배향막의 제조 방법, 및 전사 인쇄판 및 배향액에 관한 것이다.
현재, 박막 트랜지스터 액정 디스플레이(TFT-LCD)는 디스플레이 제품의 주류가 되었다. TFT-LCD는 주로 컬러 필터 기판과, 이와 마주하여 배치된 어레이 기판, 및 컬러 필터 기판과 어레이 기판 사이에 충진된 액정을 포함한다. 액정 분자를 정확하게 배향하기 위해, 어레이 기판 및 컬러 필터 기판의 표면 상에 각각 배향액 층을 코팅한다. 배향액으로부터 어레이 기판 및 컬러 필터 기판 상에 배향막 층을 형성한다. 이후, 어레이 기판 및 컬러 필터 기판 상의 배향막을 러빙포(rubbing cloth)로 러빙한다. 러빙을 통해, 배향막 표면 상에 미세 그루브(microscopic grooves)를 형성하여 그루브의 배향에 따라 액정 분자를 규칙적으로 초기 배열한다.
어레이 기판 및 컬러 필터 기판에 대한 종래의 공정에서, 통상적으로 하나의 동일한 모기판에서 두 개 이상의 기판(어레이 기판 또는 컬러 필터 기판)에 대해 동시에 배향액을 코팅하며, 최종적으로 모기판을 분할하여 단일의 어레이 기판들 또는 컬러 필터 기판들을 생성한다.
배향액을 코팅하기 위한 장치는, 예를 들어 도 1에 도시된 것과 같다. 먼저, 디스펜서(102)를 통해 아니록스 롤(anilox roll,103)과 블레이드 롤(blade roll,104) 사이의 접촉 위치에 배향액(101)을 부가하고; 회전하고 있는 아니록스 롤(103) 상의 배향액(101)을 블레이드 롤(104)를 통해 균일하게 분산시키고; 미리 형성된 패턴을 갖는 전사 인쇄판(transfer printing plate)(105)과 아니록스 롤(103)을 접촉시켜, 배향액을 전사 인쇄판(105) 상에 전사하고; 최종적으로, 회전하고 있는 전사 인쇄판(105)에 의해 베이스(106) 상의 모기판(107) 표면 상에 배향액(101)을 인쇄하여, 배향막(108)을 형성한다. 도 2는 종래의 전사 인쇄판의 측면을 확대한 개략도이고, 도 3은 평면 개략도이다. 전사 인쇄판(105)은 기저 멤브레인(basal membrane,109) 및 전사층(110)을 포함한다. 모기판의 각 기판에 상응하는 두 개 이상의 볼록한(convex) 전사 영역(111), 및 전사층(110)의 전사 영역(111) 사이에 배치된 비전사 영역(112)이 존재한다.
상술한 배향액 코팅 장치에 있어서, 개별 전사 영역(111)은 모기판(107)의 개별 기판에 상응하고 배향액(101)은 개별 전사 영역(111)의 주변 영역에 축적되는 경향이 있고, 주변 영역에 축적된 배향액(101)이 기판의 표시 영역으로 더 이동하는 경향이 있어, 기판 상의 배향막(108)이 평탄하지 않은 속성을 유발하고, 배향막(108)의 주변 영역이 평탄하지 않거나 너무 두꺼운 (후광(halo) 형상의) 결과를 초래한다. 이는 최종 제조된 제품의 주변 영역에서 액정 분자가 비정상적으로 배향되도록 하여, 정상적으로 작용할 수 있는 기판의 표시 영역이 축소된다. 또한, 상술한 전사 인쇄판(105)은 쉽게 배향막(108)의 편차적인 인쇄(deviational printing)를 발생시키며, 정상적으로 작용할 수 있는 기판의 표시 영역을 더욱 축소시킨다.
본 발명의 실시예들은, 배향막이 너무 두꺼운 주변 영역, 배향막이 너무 두꺼운 주변 영역과 밀봉제(sealant) 영역과의 중첩에 의해 야기되는 기존 디스플레이의 결함 문제를 해결할 수 있는, 모기판 배향막의 제조 방법, 및 전사 인쇄판 및 배향액을 제공한다.
본 발명의 일 양태는, 두 개 이상의 기판을 동시에 커버하는 전사 영역을 갖는 전사 인쇄판을 이용하여 두 개 이상의 기판을 갖는 모기판 상에 배향액을 코팅함으로써, 배향액이 모기판 상에 배향막을 형성하는 단계; 및 기판의 표시 영역 밖에 있고 배향막을 유지시킬 필요가 없는 영역에 위치한 모기판 상의 배향막을 제거하는 단계를 포함하는, 모기판 배향막의 제조 방법을 제공한다.
상술한 방법에서, 예를 들어, 상기 배향막은 광 처리 재료로 이루어지며; 상기 배향막을 제거할 경우, 마스크 판을 이용하여 노광 공정을 수행하고 현상공정을 수행한다.
상술한 방법에서, 예를 들어, 상기 배향액은 액정 분자 배향 재료, 감광 재료, 감광제 및 용매를 포함하거나, 또는 예를 들어 액정 분자 배향 재료, 감광 재료, 감광제 및 용매로 이루어진다.
상술한 방법에서, 예를 들어, 상기 액정 분자 배향 재료는 배향액 중량의 25~35％를 차지하고, 상기 감광 재료는 배향액 중량의 3.5~6％를 차지하며, 상기 감광제는 배향액 중량의 0.8~2.5％를 차지한다.
상술한 방법에서, 예를 들어, 상기 액정 분자 배향 재료는 주쇄 폴리이미드(main chain polyimide) 및 측쇄 폴리이미드(side chain polyimide) 중 적어도 하나이다.
상술한 방법에서, 예를 들어, 상기 감광 재료는 2,3,4,4'-테트라히드록시벤조페논(2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenone) 1,2-디아지도나프토퀴논-5-술포네이트(1,2-diazidonaphthoquinone-5-sulfonate)이다.
상술한 방법에서, 예를 들어, 상기 감광제는 디아조나프탈레논 술포닐 클로라이드(diazonaphthalenone sulfonyl chloride)이다.
상술한 방법에서, 예를 들어, 노광 및 현상 공정을 이용하여 상기 배향막을 제거하는 경우, 노광 장치로부터 방사되는 자외선의 파장은 340~460㎚이고, 노광 시간은 60~100s이다.
본 발명의 다른 양태는 두 개 이상의 기판을 동시에 커버하는 전사 영역을 갖는 전사 인쇄판을 더 제공한다.
본 발명의 또다른 양태는, 액정 분자 배향 재료, 감광 재료, 감광제 및 용매를 포함하는 배향액을 더 제공한다. 예를 들어, 상기 배향액은 액정 분자 배향 재료, 감광 재료, 감광제 및 용매로 이루어진다.
상술한 배향액에서, 예를 들어, 상기 액정 분자 배향 재료는 배향액 중량의 25~35％를 차지하고, 상기 감광 재료는 배향액 중량의 3.5~6％를 차지하며, 상기 감광제는 배향액 중량의 0.8~2.5％를 차지한다.
상술한 배향액에서, 예를 들어, 상기 액정 분자 재료는 주쇄 폴리이미드및 측쇄 폴리이미드 중 적어도 하나이다.
상술한 배향액에서, 예를 들어, 상기 감광 재료는 2,3,4,4'-테트라히드록시벤조페논 1,2-디아지도나프토퀴논-5-술포네이트이다.
상술한 배향액에서, 예를 들어, 상기 감광제는 디아조나프탈레논 술포닐 클로라이드이다.
본 발명의 실시예들은 모기판 배향막의 제조 방법, 전사 인쇄판 및 배향액을 제공한다. 이 방법은 두 개 이상의 기판을 동시에 커버하는 전사 영역을 갖는 전사 인쇄판을 이용하여 두 개 이상의 기판을 갖는 모기판 상에 배향액을 코팅하여, 배향액이 모기판 상에 배향막을 형성하는 단계; 및 기판의 표시 영역 밖에 있고 배향막을 유지시킬 필요가 없는 영역에 위치한 모기판 상의 배향막을 제거하는 단계를 포함한다. 따라서, 배향막이 너무 두꺼운 주변 영역, 및 배향막이 너무 두꺼운 주변 영역과 밀봉제 영역과의 중첩에 의해 야기되는 기존의 디스플레이 결함 문제를 해결할 수 있다.
본 발명의 실시예들의 기술적 해결책을 좀더 명확하게 예시하기 위해, 실시예들을 위한 도면을 하기에 간략하게 소개하고자 한다. 명백히, 하기 설명의 도면은 단지 본 발명의 일부 실시예에 관한 것이며, 본 발명을 제한하지 않는다.
도 1은 종래 기술에서 배향제를 코팅하기 위한 장치의 개략도이다.
도 2는 종래 기술의 전사 인쇄판의 측면 확대된 개략도이다.
도 3은 종래 기술의 전사 인쇄판의 평면 개략도이다.
도 4는 본 발명의 전사 인쇄판의 측면 개략도이다.
도 5는 본 발명의 전사 인쇄판의 평면 개략도이다.
도 6은 본 발명에 따라 모기판 배향막을 제조하는 방법의 플로우 차트이다.
도 7은 본 발명에 따라 배향액을 코팅한 후 모기판의 평면 개략도이다.
도 8은 본 발명에 따라 마스크 판으로 노광한 후 모기판의 평면 개략도이다.
본 발명의 실시예들의 목적, 기술적 해결책 및 장점을 좀 더 명확하게 하기 위해, 본 발명의 실시예들의 도면과 관련하여 하기에 명확하고 완전하게 본 발명의 실시예들의 기술적 해결책을 설명한다. 분명히, 설명된 실시예는 본 발명의 모든 실시예가 아니라 단지 일부이다. 설명된 본 발명의 실시예를 기반으로 하여 당업자가 창의적인 노력에 의지하지 않고 획득할 수 있는 임의의 다른 실시예는 본 발명의 범위에 속한다.
본 발명의 실시예는 전사 인쇄판을 제공한다. 도 4 및 도 5는 각각 본 실시예의 전사 인쇄판의 측면 및 평면 개략도이다. 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 전사 인쇄판(105)은 기저 멤브레인(109), 및 코팅되는 모기판의 두 개 이상의 기판을 동시에 커버할 수 있는 전사 영역(111)을 갖는 전사층(110)을 포함한다.
상술한 전사 인쇄판을 이용하여, 본 발명의 실시예는 모기판 배향막의 제조 방법을 더 제공한다. 도 6은 본 실시예에 따른 모기판 배향막의 제조 방법의 플로우 챠트이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 이 방법은 하기 단계들을 포함한다.
단계 602: 두 개 이상의 기판을 동시에 커버하는 전사 영역을 갖는 전사 인쇄판을 이용하여 두 개 이상의 기판을 갖는 모기판 상에 배향액을 코팅하여, 배향액이 모기판 상에 배향막을 형성하는 단계.
예를 들어, 본 발명의 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같은, 두 개 이상의 기판을 동시에 커버하는 전사 영역을 갖는 전사 인쇄판을 이용하고 세정을 거친 모기판(107) 상에 배향액(101)을 코팅하여, 배향액(101)을 모기판(107) 상에 분산시켜 배향막(108)을 형성한다.
예를 들어, 배향막은 노광 및 현상 공정을 이용하여 부분적으로 제거될 수 있는 광 처리 재료로 이루어진다. 배향막이 제거될 경우, 마스크 판을 이용하여 노광 공정을 수행하고 후속하여 현상 공정을 수행한다.
배향액의 일례로서 액정 분자 배향 재료, 감광 재료, 감광제 및 용매를 포함하며, 예를 들어, 액정 분자 배향 재료, 감광 재료, 감광제 및 용매로 필수적으로 포함한다. 상술한 광 처리 재료는 배향액을 경화함으로써 형성할 수 있다.
상기 액정 분자 배향 재료는 배향액 중량의 25~35％를 차지할 수 있고; 감광 재료는 배향액 중량의 3.5~6％를 차지할 수 있고; 감광제는 배향액 중량의 0.8~2.5 ％를 차지할 수 있다.
상술한 액정 분자 배향 재료의 일예로서 주쇄 폴리이미드(main chain polyimide) 또는 측쇄 폴리이미드(side chain polyimide) 중 적어도 하나이다.
감광 재료의 예는 2,3,4,4'-테트라히드록시벤조페논 1,2-디아지도나프토퀴논-5-술포네이트이다.
감광제의 예는 디아조나프탈레논 술포닐 클로라이드일 수 있다.
주쇄 폴리이미드는 PMDA 및 MDA를 중합하여 형성할 수 있다. 측쇄 폴리이미드는 PMDA,MDA 및 TBCA를 중합하여 형성할 수 있다. PMDA는 피로멜리트산 이무수물(pyromellitic dianhydride)이고; MDA는 4,4'-메틸렌디아닐린(4,4'-Methylenedianiline)이고; TBCA는 4-(4-(트리플루오로메톡시)벤조일)시클로헥실-3,5-디아미노벤조에이트(4-(4-(trifluoromethoxy)benzoyl)cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate)이다.
도 7은 본 발명에 따라 배향액을 코팅한 후의 모기판의 평면 개략도이다. 도 7에 도시된 바와 같이, 두 개 이상의 기판을 동시에 커버하는 전사 영역(111)을 갖는, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같은 본 실시예의 전사 인쇄판(105)을 사용한다. 따라서, 전사 인쇄판(105)이 모기판(107)의 두 개 이상의 기판 상에 배향막(108)을 전사하는 경우, 배향막(108)은 모기판(107)에서의 각 기판의 표시 영역(113), 비표시 영역(114), 어셈블리 밀봉 영역(115) 상에 형성되고, 또한 모기판(107)의 기타 영역(116) 상에도 형성된다. 비표시 영역(114)은 표시 영역(113)을 둘러싸는 어셈블리 밀봉 영역(115)을 포함한다.
단계 603: 기판의 표시 영역 밖에 있고 모기판 상에서 배향막을 유지할 필요가 없는 영역에 위치한 배향막을 제거하는 단계.
예를 들어, 단계 602에서 형성된 모기판(107) 상에서, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같은 전사 인쇄판(105)을 이용하여 모기판(107) 상에 배향막(108)을 형성하는 경우, 모기판(107) 상의 비표시 영역(114), 어셈블리 밀봉 영역(115) 및 기타 영역(116)까지도 배향막(108)을 통해 커버하며, 따라서 상부 및 하부 기판 사이의 도전성이 영향받을 것이다. 따라서, 현 단계에서, 배향막을 유지할 필요가 있는 모기판(107)의 표시 영역(114) 또는 기타 영역은 마스크 판으로 보호하고, 노광 장치로부터 자외선을 방사하여 마스크 판을 통해 모기판(107) 상의 감광 재료를 포함하는 배향막(108) 상에 조사한다. 즉, 각 기판의 표시 영역(113) 밖에 있고 배향막을 유지할 필요가 없는 영역에 위치한, 모기판(107) 상의 배향막(108)은 노광 및 현상 공정을 통해 제거한다. 여기서, 각 기판의 표시 영역(113) 밖에 있고 배향막을 유지할 필요가 없는 영역에 위치한, 모기판(107) 상의 배향막(108)도 포토리소그래피 법 등을 통해 제거하여 도 8에 도시된 바와 같은 모기판(107)을 획득할 수 있다.
예를 들어, 노광 장치로부터 방사된 자외선의 파장은 340~460㎚일 수 있으며, 노광 시간은 60~100s 동안 지속된다.
이러한 모기판(107)은, 예를 들어 어레이 기판 또는 컬러 필터 기판을 제조하는데 사용한다. 배향막 형성 후, 배향막은 러빙 공정을 거쳐 특정 방향을 따라 배향막에 배열된 미세 그루브(microscopic grooves)를 형성한다. 어레이 기판 및 컬러 필터 기판에 있어서, 러빙 방향은 서로 같거나 다를 수 있다. 후속하여, 모기판을 절단하여 개별 어레이 기판 또는 컬러 필터 기판을 획득한다.
본 발명의 실시예들에서 제공하는 모기판 배향막의 제조 방법 및 전사 인쇄판에 있어서, 기존의 전사 인쇄판에 대한 개량 및 변형을 통해, 모기판 상의 기판 상에 배향막을 전사하는 경우, 유효 영역 및 비-유효 영역 모두를 갖는 기존의 전사 인쇄판을 이용하는 것보다 기판 상에 코팅된 배향액의 평탄도를 향상시키고, 일정한 두께를 갖는 배향막을 형성하기가 더 용이하다. 여기서, 표시 영역 외부의 주변 영역에 더 많은 배향액이 존재하거나, 배향막의 편차 인쇄가 발생하는 경우에도, 노광 및 현상 공정 또는 포토리소그래피 공정을 통해 과도한 배향막을 제거할 수 있어서, 배향막이 너무 두꺼운 주변 영역, 및 배향막이 너무 두꺼운 주변 영역과 밀봉제 영역과의 중첩에 의해 야기된 기존의 디스플레이 결함 문제를 해결할 수 있다. 또한, 상이한 모델의 기판에 상응하는 전사 인쇄판을 제조할 필요가 없다. 모기판(107) 상의 기판 크기가 동일한 한, 동일한 전사 인쇄판을 사용할 수 있다.
상술한 내용은 단지 본 발명의 바람직한 실시예들이며 본 발명의 범위를 한정하지 않는다. 본 발명의 사상 및 원리 이내의 임의의 변형, 균등한 치환 및 개량은 본 발명의 범위에 포함되어야 한다.
101: 배향액 102: 디스펜서
103: 아니록스 롤 104: 블레이드 롤
105: 전사 인쇄판 106: 베이스
107: 모기판 108: 배향막
109: 기저 멤브레인 110: 전사층
111: 전사 영역 112: 비전사 영역
113: 표시 영역 114: 비표시 영역
115: 어셈블리 밀봉 영역 116: 기타 영역

Claims (14)

  1. 두 개 이상의 기판을 동시에 커버하는 전사 영역(transfer region)을 갖는 전사 인쇄판을 이용하여 두 개 이상의 기판을 갖는 모기판(masterboard) 상에 배향액을 코팅하여, 상기 배향액이 상기 모기판 상에 배향막을 형성하는 단계; 및
    상기 기판의 표시 영역 밖에 있고 상기 배향막을 유지시킬 필요가 없는 영역에 위치한 상기 모기판 상의 상기 배향막을 제거하는 단계
    를 포함하며,
    상기 전사 인쇄판은 롤의 위부 표면에 설치되며,
    상기 전사 인쇄판은 기저 멤브레인과 전사층을 포함하며,
    상기 전사층은 사용중에서 상기 모기판상의 두개 이상의 기판과 접촉하며,
    상기 배향액은 광 처리 재료이고 액정 분자 배향 재료, 감광 재료, 감광제 및 용매를 포함하며, 상기 배향막이 제거될 경우, 마스크 판을 이용하여 상기 배향막에 대하여 노광 공정을 수행하여 상기 배향막의 예정된 영역을 노광하고 후속하여 현상 공정을 수행하여 기판의 표시 영역 밖에 있고 배향막을 유지시킬 필요가 없는 영역에 위치한 상기 모기판 상의 배향막을 제거하는 모기판배향막의 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 액정 분자 배향 재료는 상기 배향액 중량의 25~35％를 차지하고, 상기 감광 재료는 상기 배향액 중량의 3.5~6％를 차지하며, 상기 감광제는 상기 배향액중량의 0.8~2.5％를 차지하는 모기판 배향막의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 액정 분자 배향 재료는 주쇄 폴리이미드(main chain polyimide) 또는 측쇄 폴리이미드(side chain polyimide) 중 적어도 하나인 모기판 배향막의 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 감광 재료는 2,3,4,4'-테트라히드록시벤조페논(2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenone) 1,2-디아지도나프토퀴논-5-술포네이트(1,2-diazidonaphthoquinone-5-sulfonate)인 모기판 배향막의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 감광제는 디아조나프탈레논 술포닐 클로라이드(diazonaphthalenone sulfonyl chloride)인 모기판 배향막의 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 노광 및 현상 공정을 이용하여 상기 배향막을 제거하는 경우, 노광 장치로부터 방사된 자외선의 파장은 340~460㎚이고 노광 시간은 60~100s인 모기판 배향막의 제조 방법.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102929042B (zh) * 2012-11-09 2015-07-01 京东方科技集团股份有限公司 一种包含取向层的基板及其制作方法、显示装置
CN103105703B (zh) * 2013-01-30 2015-04-29 北京京东方光电科技有限公司 一种取向膜的检测方法及其相关装置
WO2014174891A1 (ja) * 2013-04-25 2014-10-30 シャープ株式会社 表示装置
CN104570486A (zh) * 2013-10-30 2015-04-29 京东方科技集团股份有限公司 一种配向膜的制作方法
CN103676338B (zh) * 2013-12-13 2016-08-24 合肥京东方光电科技有限公司 显示装置及其制造方法
CN103777384A (zh) * 2014-01-29 2014-05-07 北京京东方光电科技有限公司 一种显示面板的制作方法及转印版
CN103838024A (zh) * 2014-02-18 2014-06-04 北京京东方显示技术有限公司 一种液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
CN104035237B (zh) * 2014-05-30 2017-03-01 京东方科技集团股份有限公司 光配向膜及其制作方法、液晶显示器
CN104155805A (zh) * 2014-07-25 2014-11-19 京东方科技集团股份有限公司 一种取向膜的制备方法
CN104155806A (zh) * 2014-08-07 2014-11-19 深圳市华星光电技术有限公司 取向膜的制备方法
CN104570489B (zh) * 2014-12-26 2018-07-03 深圳市华星光电技术有限公司 掩模板及光配向方法
CN104536209A (zh) * 2015-01-09 2015-04-22 合肥京东方光电科技有限公司 转印板、显示屏、显示装置及显示装置制作方法
CN104730776A (zh) * 2015-04-10 2015-06-24 重庆京东方光电科技有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
CN107924085B (zh) 2015-06-15 2022-09-02 奇跃公司 虚拟和增强现实系统以及方法
CN105172324B (zh) * 2015-09-24 2017-11-07 京东方科技集团股份有限公司 一种印刷网版及封框胶的印刷方法
CN105425431B (zh) * 2015-11-02 2018-08-07 京东方科技集团股份有限公司 一种转印版润湿系统及取向液转印系统
CN105425477A (zh) * 2016-01-06 2016-03-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板的制作方法、显示面板及显示装置
CN105467686A (zh) * 2016-01-07 2016-04-06 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法、液晶盒、显示器
CN105629584A (zh) * 2016-01-07 2016-06-01 京东方科技集团股份有限公司 一种取向层的制作方法及显示基板的制作方法
CN105511166A (zh) * 2016-01-27 2016-04-20 京东方科技集团股份有限公司 一种取向设备及取向膜的制备方法、显示基板
CN105629587A (zh) * 2016-03-25 2016-06-01 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置
CN105759508B (zh) * 2016-04-21 2019-03-22 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶显示面板的光配向装置
CN105954941A (zh) * 2016-07-18 2016-09-21 京东方科技集团股份有限公司 显示基板的制作方法和装置
CN105974676A (zh) * 2016-07-22 2016-09-28 京东方科技集团股份有限公司 配向层的制造方法、液晶显示面板及显示装置
EP3555700B1 (en) * 2016-12-14 2023-09-13 Magic Leap, Inc. Patterning of liquid crystals using soft-imprint replication of surface alignment patterns
CN107272266A (zh) * 2017-07-28 2017-10-20 京东方科技集团股份有限公司 一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置
CN108525895B (zh) * 2018-04-17 2019-08-27 京东方科技集团股份有限公司 一种取向膜印刷系统及印刷装置的控制方法
CN108710238A (zh) * 2018-05-22 2018-10-26 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板的制作方法、印刷版、彩膜基板、待切割母板及显示面板
CN110007524A (zh) * 2019-04-02 2019-07-12 深圳市华星光电技术有限公司 配向版及配向膜的制作方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1175082C (zh) * 2001-10-26 2004-11-10 中国科学院长春应用化学研究所 由含有光敏封端剂的聚酰亚胺制备液晶取向膜的方法
JP2005338422A (ja) 2004-05-27 2005-12-08 Nippon Seiki Co Ltd 液晶表示基板の配向処理方法および液晶表示基板のマザー基板

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5866294A (en) * 1993-10-26 1999-02-02 Toray Industries, Inc. Water-less quinonediazide lithographic raw plate
US5654780A (en) * 1994-06-30 1997-08-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of manufacturing a liquid crystal display including performing orientation relaxation treatment on a portion of the orientation film.
JP2000111921A (ja) * 1998-10-05 2000-04-21 Canon Inc 感光性樹脂材料、液晶用配向膜材料およびそれを用いた液晶素子
JP2001343649A (ja) * 2000-06-02 2001-12-14 Nec Kagoshima Ltd 配向膜形成用印刷装置
JP2005157240A (ja) * 2003-11-07 2005-06-16 Iinuma Gauge Seisakusho:Kk 液晶表示素子製造装置および液晶表示素子の製造方法
US20050126410A1 (en) * 2003-11-07 2005-06-16 Samsung Electronics Co., Ltd. System and method for printing an alignment film
KR20070021749A (ko) * 2005-08-19 2007-02-23 삼성전자주식회사 유기 조성물, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 이의 제조방법
KR100928928B1 (ko) * 2006-06-30 2009-11-30 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널의 제조방법
CN101405647A (zh) * 2006-11-21 2009-04-08 索尼株式会社 液晶显示面板以及液晶显示面板的制造方法
JP2008156393A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、垂直配向型液晶表示素子の突起、ならびにそれらの製造方法
KR101092397B1 (ko) 2007-09-26 2011-12-09 제이에스알 가부시끼가이샤 액정 배향제, 액정 배향막과 그의 형성방법 및, 액정 표시 소자
JP5407394B2 (ja) 2008-03-21 2014-02-05 Ｊｎｃ株式会社 光配向剤、配向膜およびこれを用いた液晶表示素子
KR101392539B1 (ko) 2009-11-16 2014-05-07 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 폴리이미드 전구체 및 이 폴리이미드 전구체를 포함하는 감광성 수지 조성물

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1175082C (zh) * 2001-10-26 2004-11-10 中国科学院长春应用化学研究所 由含有光敏封端剂的聚酰亚胺制备液晶取向膜的方法
JP2005338422A (ja) 2004-05-27 2005-12-08 Nippon Seiki Co Ltd 液晶表示基板の配向処理方法および液晶表示基板のマザー基板

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Publication number Publication date
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