KR101536695B1 - 유기발광 다이오드를 응용한 백금(ⅱ) 네자리 o-n-c-n 배위화합물 - Google Patents
유기발광 다이오드를 응용한 백금(ⅱ) 네자리 o-n-c-n 배위화합물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101536695B1 KR101536695B1 KR1020137002734A KR20137002734A KR101536695B1 KR 101536695 B1 KR101536695 B1 KR 101536695B1 KR 1020137002734 A KR1020137002734 A KR 1020137002734A KR 20137002734 A KR20137002734 A KR 20137002734A KR 101536695 B1 KR101536695 B1 KR 101536695B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- coordination compound
- ligand
- platinum
- light emitting
- Prior art date
Links
- HRGDZIGMBDGFTC-UHFFFAOYSA-N platinum(2+) Chemical compound [Pt+2] HRGDZIGMBDGFTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 55
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 4
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 68
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 59
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 43
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 37
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 28
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 25
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 21
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 18
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 18
- WFOVEDJTASPCIR-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-methyl-5-pyridin-4-yl-1,2,4-triazol-3-yl)methylamino]-n-[[2-(trifluoromethyl)phenyl]methyl]benzamide Chemical compound N=1N=C(C=2C=CN=CC=2)N(C)C=1CNC(C=1)=CC=CC=1C(=O)NCC1=CC=CC=C1C(F)(F)F WFOVEDJTASPCIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 15
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- SWWQQSDRUYSMAR-UHFFFAOYSA-N 1-[(4-hydroxyphenyl)methyl]-1,2,3,4-tetrahydroisoquinoline-6,7-diol;hydrochloride Chemical group Cl.C1=CC(O)=CC=C1CC1C2=CC(O)=C(O)C=C2CCN1 SWWQQSDRUYSMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 12
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 12
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 12
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 12
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 12
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 11
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- LPYOMLDFPBWGFV-UHFFFAOYSA-M 2-pyridin-1-ium-1-ylacetaldehyde;iodide Chemical compound [I-].O=CC[N+]1=CC=CC=C1 LPYOMLDFPBWGFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 9
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- IYJZWRWCLWAFFX-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-ditert-butylphenyl)prop-2-enal Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C=CC=O)=CC(C(C)(C)C)=C1 IYJZWRWCLWAFFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WSNMPAVSZJSIMT-UHFFFAOYSA-N COc1c(C)c2COC(=O)c2c(O)c1CC(O)C1(C)CCC(=O)O1 Chemical compound COc1c(C)c2COC(=O)c2c(O)c1CC(O)C1(C)CCC(=O)O1 WSNMPAVSZJSIMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N indan-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCC2=C1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 4
- MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 1-bromobutane Chemical compound CCCCBr MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N benzopyrazine Natural products N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- QUGUFLJIAFISSW-UHFFFAOYSA-N 1,4-difluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(F)C=C1 QUGUFLJIAFISSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- AWXGSYPUMWKTBR-UHFFFAOYSA-N 4-carbazol-9-yl-n,n-bis(4-carbazol-9-ylphenyl)aniline Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2N1C1=CC=C(N(C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=C1 AWXGSYPUMWKTBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 8-Hydroxyquinolinyl Chemical group 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000837344 Homo sapiens T-cell leukemia translocation-altered gene protein Proteins 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100028692 T-cell leukemia translocation-altered gene protein Human genes 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000010520 demethylation reaction Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- KSAVQLQVUXSOCR-UHFFFAOYSA-M sodium lauroyl sarcosinate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCC(=O)N(C)CC([O-])=O KSAVQLQVUXSOCR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- YGTAZGSLCXNBQL-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-thiadiazole Chemical compound C=1N=CSN=1 YGTAZGSLCXNBQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C=NOC2=C1 KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKXJNTQPXAFAEH-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole;oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1.C1=CC=C2SC=NC2=C1 JKXJNTQPXAFAEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNCMQRWVMWLODV-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbenzimidazole Chemical compound C1=NC2=CC=CC=C2N1C1=CC=CC=C1 XNCMQRWVMWLODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFZYIUUQBHRNV-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydrooxadiazole Chemical compound C1ONN=C1 RLFZYIUUQBHRNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOIBXBUXWRVJCF-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-3-phenylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C1=CC=CC=C1 LOIBXBUXWRVJCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDRVFDDBLLKWRI-UHFFFAOYSA-N 4H-quinolizine Chemical compound C1=CC=CN2CC=CC=C21 GDRVFDDBLLKWRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 0 CC(C)(C)c1cc(-c2cc(-c3cccc(-c4*5cc(cccc6)c6c4)c3*53Oc4cc(cccc5)c5cc4-4)*3c-4c2)cc(C(C)(C)C)c1 Chemical compound CC(C)(C)c1cc(-c2cc(-c3cccc(-c4*5cc(cccc6)c6c4)c3*53Oc4cc(cccc5)c5cc4-4)*3c-4c2)cc(C(C)(C)C)c1 0.000 description 1
- ZVFIHTXVOUNDJH-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)c1cc(-c2cc(-c3cccc(-c4ccccn4)c3)nc(-c(c(O)c(cc3)F)c3F)c2)cc(C(C)(C)C)c1 Chemical compound CC(C)(C)c1cc(-c2cc(-c3cccc(-c4ccccn4)c3)nc(-c(c(O)c(cc3)F)c3F)c2)cc(C(C)(C)C)c1 ZVFIHTXVOUNDJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHNRLQRZRNKOKU-UHFFFAOYSA-N CCN(CC1=NC2=C(N1)C1=CC=C(C=C1N=C2N)C1=NNC=C1)C(C)=O Chemical compound CCN(CC1=NC2=C(N1)C1=CC=C(C=C1N=C2N)C1=NNC=C1)C(C)=O UHNRLQRZRNKOKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006620 amino-(C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N cinnoline Chemical compound N1=NC=CC2=CC=CC=C21 WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- NRNCYVBFPDDJNE-UHFFFAOYSA-N pemoline Chemical compound O1C(N)=NC(=O)C1C1=CC=CC=C1 NRNCYVBFPDDJNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000761 pemoline Drugs 0.000 description 1
- 125000001828 phenalenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N pteridine Chemical compound N1=CN=CC2=NC=CN=C21 CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004862 thiobutyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/28—Radicals substituted by singly-bound oxygen or sulphur atoms
- C07D213/30—Oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F17/00—Metallocenes
- C07F17/02—Metallocenes of metals of Groups 8, 9 or 10 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/06—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
- H10K50/125—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers specially adapted for multicolour light emission, e.g. for emitting white light
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/341—Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes
- H10K85/342—Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes comprising iridium
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/341—Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes
- H10K85/346—Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes comprising platinum
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/656—Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising two or more different heteroatoms per ring
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2101/00—Properties of the organic materials covered by group H10K85/00
- H10K2101/10—Triplet emission
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/917—Electroluminescent
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
본 발명은 백금(Ⅱ)을 함유된 유기금속재료에 관한 것이다. 상기 재료는 고발사양자효율을 가진 초록색 내지 오렌지색의 광을 발사할 수 있으며, 상기 재료를 발광재료로 사용할 수 있고, 초록색 광을 발사할 수 있는 유기발광다이오드를 제조할 수 있다. 상기 백금(Ⅱ)을 함유된 유기금속재료는 보통 용매에 용해할 수 있으므로 용해가공법, 인쇄가공법 등의 방법으로 제조할 수 있다.
Description
본 발명은 일종의 새로운 유기금속재료 및 그 유기발광 다이오드(OLED)와 폴리머 발광 다이오드(PLED)중의 응용에 관한 것이다. 유기금속재료는 양호한 방출양자 효율 및 종래기술의 유기용제의 가용성을 보여준다. 이러한 재료를 응용하고 진공집적, 스핀코팅 등의 기술 또는 인쇄방법을 통해, 고효율으로 단색 및 백색 OLED(WOLED)를 제조할 수 있다.
1965년, Edward F. Gurnee와 Fernandez Reet Teoste는 처음으로 유기전기발광(미국특허 3,172,862)을 관찰 및 연구하였다. 그 후 Eastman Kodak의 Tang이 공개적으로 쌍층 OLED(유기발광 다이오드,US 4,356,429; Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 12, 913)를 구성하였다. 이 다이오드관은 다층구조를 사용하고, 발광전자 전송계층(Alq3 (q=양성자를 없앤 8-Hydroxyquinolinyl)제조)과 적합한 유기재료의 홀 전송계층을 포함한다. 이는 그 후 사용하는 OLED 재료의 연구에 있어 화제의 연구가 되었다. OLED는 많은 장점을 가지고 있다. 예를 들어 운행전압 낮고 매우 얇으며 자동발광할 수 있고, 양호한 설비효율이 있으며, 높은 대비 및 높은 해상도가 있고, 또한, OLED는 평면 모니터와 조명에 사용 가능하다.
두 종류의 발광재료는 OLED에 응용될 수 있다. 즉 형광성과 인광성 재료이다. 인광성 재료는 발광재료 개발의 주요 추세가 되었다. 그 이유는 OLED 생산의 75%의 엑시톤이 삼중선이고, 25%의 엑시톤은 일중선이기 때문이다. 이것은 인광성 재료의 최대설비효율이 형광재료의 3배가 되다는 뜻이다.
백금은 유기 리간드와 형성한 발광 배위화합물의 과도기적 금속 중의 하나로, 상기 배위화합물은 높은 방출양자 효율과 양호한 열안정성을 가지고 있다. 이러한 장점으로 인해, 백금(Ⅱ) 배위화합물은 고성능 OELDs 중의 발광재료(Applied Physics Letters (2007), 91(6) 063508; Chemistry-A European Journal (2010), 16(1), 233-247)로 응용된다. OLED에 응용된 백금 배위화합물 중에, 안정적 화학결합구조를 가진 녹색 빛을 방출할 수 있는 재료는 많지 않은 것이다.
백금(Ⅱ) 배위화합물의 안정성에 있어서, 리간드 중의 배위값 (coordination position)의 수량이 증가할 때, 리간드와 백금(Ⅱ)중심 간의 결합에너지는 가장 높다. 즉, 네자리 리간드 백금(Ⅱ) 배위화합물 중에, 리간드와 백금(Ⅱ)중심 간의 결합에너지는 가장 높다. 또한, 방향족 배위값 간에 증가한 초과원자는 리간드의 공액결합을 끊고, 리간드의 안정성을 약하게 하므로 결국 배위화합물의 안정성이 약해진다. 방향족 배위값 간에 존재하는 초과원자의 두자리 리간드, 세자리 리간드 또는 네자리 리간드는 약해진 공액의 발광 녹색 빛의 백금(Ⅱ) 재료를 포함하여, 공액 네자리 리간드 시스템처럼 양호하지 못하다.
다음으로 대다수 공액의 네자리 리간드 시스템는 순녹색 및 방출재료를 가질 수 없고, 그 내부 특성에 있어, 예를 들어 에너지 대역 틈에서 MLCT 천이의 간섭을 받는다. 방출 스팩트럼은 전자진동구조이다. 이러한 이유로 안정적인 녹색 빛의 백금(Ⅱ)재료를 개발하기 쉽지 않다.
상술한 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 새로운 백금(Ⅱ) 배위화합물 시스템을 제공한다. 상기 백금(Ⅱ) 배위화합물 시스템은 안정적인 화학구조를 가지며, 방출원자 효율이 높고, OLED 중의 녹색 빛 방출재료의 순녹색 빛 방출에 응용된다. 네자리 리간드 중의 치환기를 바꾸는 것을 통해, 백금의 방출색이 황색이나 오렌지색으로 바꿀 수 있다. 황색 또는 오렌지색 빛 방출재료를 사용하기 위해, 서로 색혼합방법을 통해 백색 OLED(WOLED)를 만들 수 있다. 또한, 이러한 배위화합물은 강력한 에너지 방출이 가능하며, 단일체와 일종의 배위화합물의 에너지 방출결합을 통해, 상기 배위화합물로부터 단일 발광 부분인 WOLED를 만들 수 있다.
OLED에 응용하는 대다수 백금(Ⅱ) 배위화합물은 보통용제에 약간 녹는다. 용액처리방법인 스핀코팅과 인쇄(흑백 프린트, 연속성 roll to roll 인쇄 등을 포함)에는 응용할 수 없다. 본 발명의 재료는 이러한 약점을 극복하였다. 따라서 본 발명의 목적은 보통용제에 녹을 수 있고, 용액처리 방법에는 낮은 원가와 대형 면적의 제조에 응용할 수 있다는 백금(Ⅱ) 배위화합물을 제공하는 것에 있다.
본 발명은 구조 I의 화학구조의 백금(Ⅱ) 기본 발광재료, 이를 제조방법 및 유기발광 다이오드(OLED) 및 폴리머 발광 다이오드(PLED)에 응용하는 것을 제공한다.
구조 I
그 중에, R1-R14 은 독립적으로 수소, 할로겐, 수산기, 치환된 알킬기, 미 치환 알킬기, 시클로알킬기, 치환된 아릴기, 미 치환 아릴기, 아실기, 알콕시기, 알실옥시기, 아미노기, 니트로기, 아실아미노기, 알랄킬기, 시안기, 카르복실기, 술포기, 스티릴기, 아미노카르보닐기, 카르바밀기, 아릴카르보닐기, 벤젠카르보닐기 또는 알콕시카보닐기이다. 상기 각각의 R1-R14은 독립적으로 인접한 R그룹과 결합하여 5-8원환을 형성하며, X1-x20은 독립적으로 붕소, 탄소, 질소, 산소, 규소이다.
본 발명 중에서, 별도로 설명하지 않으면, 전문용어인 할로겐, 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기, 아실기, 알콕시기와 방향족계 또는 헤테로사이클 방향족 그룹은 아래와 같은 뜻이 있다.
본 발명 중의 할로겐 또는 할로는 불소, 염소, 브롬과 요오드를 포함하며, 바람직하게는 불소, 염소, 브롬을 포함하고, 더 바람직하게는 불소 또는 염소를 포함하고, 가장 바람직하게는 불소이다.
본 발명에 사용한 아릴기, 아릴기 부분 또는 방향족계는 6-30의 탄소 원자를 포함하며, 바람직하게는 6-20개의 탄소 원자를 포함하고, 더 바람직하게는 6-8개의 탄소 원자 및 하나의 방향족 고리 또는 여러 개의 복합한 방향족 고리로 구성된 아릴기이다. 적합한 아릴기는 예를 들어 페닐기, 나프틸기, acenaphthenyl, 2-수소-acenaphthylenyl,anthracenyl, fluorenyl, phenalenyl, phenanthrenyl이다. 상기 아릴기는 치환하지 않은 알릴기(즉 치환할 수 있는 수소 원자를 가진 탄소 원자) 또는 아릴기에서 하나, 하나 이상 또는 모두 다 치환가능한 알릴기이다. 적합한 치환기는 예를 들어 할로겐이다. 바람직하게는 F, B 또는 Cl을 선택하며, 더 바람직하게는 1-20개, 1-10개 또는 1-8개의 탄소 원자를 포함하는 알킬기이다. 가장 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 이소프로필 또는 티-뷰틸을 선택하며; 상기 아릴기 는 바람직하게는 재차 치환하거나 치환하지 않은 C6-아릴기 또는 fluorenyl을 선택하고; 상기 알켄기는 바람직하게는 적어도 1개의 질소 원자를 포함한 알켄기이며 더 바람직하게는 피리딘기, 아크릴기이며, 바람직하게는 1개의 이중결합의 아크릴기이고, 더 바람직하게는 이중결합을 가진 1-8개의 탄소 원자의 아크릴기이다.
상기 아릴기는 가장 바람직하게는 F와 티-뷰틸을 지닌 치환기이다. 바람직하게는 정한 아릴기 또는 임의의 적어도 1개의 상기 치환기로 치환된 C6-아릴기의 아릴기이다. 상기 C6-아릴기는 바람직하게는 0, 1 또는 2개의 상기 치환기이다. 상기 C6-아릴기는 더 바람직하게는 치환하지 않은 페닐기 또는 치환된 페닐기이다. 예를 들어 비페닐기, 2개의 티-뷰틸기로 바람직하게는 메타자리에서 치환된 페닐기이다. 본 발명 중에 응용한 아릴기 또는 아릴기 부분은 바람직하게는 페닐기이고, 미치환 또는 상기 치환기, 바람직하게는 할로겐, 알킬기 또는 아릴기로 치환된 것이다.
본 발명의 상기 알킬기 또는 알킬기 부분은 1-20개의 탄소 원자, 바람직하게는 1-10개의 탄소 원자, 더 바람직하게는 1-6개의 탄소 원자를 갖춘 알킬기이다. 상기 알킬기는 선형 또는 가지형 연쇄 알킬기이며, 하나 또는 다수 개의 이종원자로, 바람직하게는 N, O 또는 S 중단이다. 또한, 상기 알킬기는 하나 또는 다수 개의 아릴기와 관련된 치환기로 치환할 수 있다. 알킬기에는 하나 또는 다수 개의 아릴기를 지니는 것이 가능하다. 상기 아릴기는 상술한 목적에 적합하게 사용할 수 있다. 아릴기는 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 이소프로필, N-프로필, 이소부틸, 초-부틸, 삼차부틸, 이차부틸, 이소펜틸, N-펜틸, 이차펜틸, 네오펜틸, N-헥실, 이소헥실, 이차헥실이며, 가장 바람직하게는 삼차부틸, C4H9、C6H13이다.
일실시예로서, 상기 시클로알킬기는 환형 알킬기이다. 바람직하게는 시클로알킬기는 3-7개의 탄소 원자를 함유한 시클로알킬기이고, 시클로프로필, 시클로헥실, 시클로펜틸 등을 포함한다. 또한 상기 시클로알킬기는 헤일로, 알킬기 중에서 선택할 수 있다. 예를 들어 삼차부틸, C4H9、C6H13의 하나 또는 다수 개의 치환기로 임의로 치환한다.
일실시예로서, 상기 아실기는 단일 사슬로 CO그룹에 연쇄한 것이며, 상기 알킬기와 같다.
일실시예로서, 상기 알콕시기는 산소와 연결된 것이며, 상기 알킬기와 같다.
일실시예로서, 상기 헤테로사이클 방향족계 또는 헤테로사이클 방향족 그룹은 방향족, C3 -8 순환그룹과 관련 있으며, 하나의 산소 또는 유황 원자, 또는 1-4개의 질소 원자, 또는 1개의 산소 또는 유황 원자가 최대 2개의 질소 원자의 조합을 포함하며, 또는 이를 치환하고 벤조-피리디노-조합한 유도체를 포함한다. 예를 들어, 그 중 하나는 탄소 원자와 관련이 있다. 상기 헤테로사이클 방향족계 또는 헤테로사이클 방향족 그룹은 하나 또는 다수 개의 상기 아릴기의 치환기로 치환할 수 있다.
일실시예로서, 헤테로아릴기는 상기 서로 같거나 또는 다른 0, 1 또는 2개의 치환기의 5-6원-방향족 헤테로사이클 시스템이다. 상기 헤테로아릴기의 전형적인 실시예는 미치환 퓨란, 벤조푸란, 티오펜, 벤조티오펜, 피롤, 피리딘, 인돌, 옥사졸, 벤조옥사졸, 이소옥사졸, 벤즈이속사졸, 싸이아졸, 벤조티아졸, 이소디아졸, 이미다졸, 벤지미다졸, 피라졸, 인다졸, 테트라졸, 퀴놀린, 아이소퀴놀린, 피리다진, 피리미딘, 푸린, 피라진, 푸라잔, 1,2,3-옥사디아졸, 1,2,3-티아디아졸, 1,2,4-티아디아졸, 트리아졸, 벤조트리아졸, 프레리딘, phenoxazole, 옥사디아졸, benzopyrazole, 퀴놀리진, 신놀린, 프탈라진, 퀴나졸린과 퀴녹살린 및 그의 단일-또는 치환 유도체를 포함하며, 이에 한정되지 않다.
일실시예로서, 치환기는 헤일로, 수산기, 시안기, O-C1 -6-알킬기, C1 -6-알킬기, 수산기-C1 -6-알킬기와 아미노기-C1 -6-알킬기이다.
본 발명의 백금(Ⅱ) 배위화합물은 보통용제에 녹을 수 있고, 용액처리 방법에는 낮은 원가와 대형 면적의 제조에 응용할 수 있다는 장점이 있다.
도 1은 리간드 및 구조Ⅱ의 합성방안;
도 2는 리간드 및 구조Ⅰ의 합성방안.
도 2는 리간드 및 구조Ⅰ의 합성방안.
구조I의 화학구조를 가진 유기금속 배위화합물은 사이클로메탈화 배위화합물이다. 구조I 중의 백금 중심은 +2 산화상태이고 사각평면구조를 가진다.
백금 중심의 배위 위치는 네가지 리간드로 차지된다. 네가지 리간드는 금속-산소 결합, 질소기증결합, 금속-탄소결합과 질소기증결합에 의해 O, N, C, N(O-N-C-N 리간드)의 순서로 백금의 중심에 배위한다. 금속-산소 결합은 탈양자화 페놀 또는 치환 페놀과 백금 간의 결합이며, 질소기증은 N-헤테로사이클 그룹에서 나오며, 예를 들어 피리딘 및/또는 아이소퀴놀린 그룹. 또한 금속-탄소결합은 벤졸 또는 치환 밴졸과 백금에 의해 형성한다. 본 발명 중의 네가지 리간드의 화학결합은 구조Ⅱ와 같다.
구조Ⅱ
그 중에, R1-R14 은 독립적으로 수소, 할로겐, 수산기, 치환된 알킬기, 미치환 알킬기, 시클로알킬기, 치환된 아릴기, 미치환 아릴기, 아실기, 알콕시기, 알실옥시기, 아미노기, 니트로기, 아실아미노기, 알랄킬기, 시안기, 카르복실기, 술포기, 스티릴기, 아미노카르보닐기, 카르바밀기, 아릴카르보닐기, 벤젠카르보닐기 또는 알콕시카보닐기이다. 상기 각각의 R1-R14은 독립적으로 인접한 R그룹과 결합하여 5-8원환(예를 들어, 치환 또는 미치환 아릴기, 치환 또는 미치환 시클로알킬기)을 형성하며, X1-x20은 독립적으로 붕소, 탄소, 질소, 산소, 규소이다.
일실시예로서, 구조I과 구조II 중에, 각각의 R1-R14은 독립적으로 수소, 할로겐(예를 들어 불소, 염소, 브롬과 요오드), 수산기, 1-10개의 탄소 원자를 함유한 미치환 알킬기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 치환된 알킬기, 1-10개의 탄소 원자를 함유한 시클로알킬기, 1-20개 탄소 원자를 함유한 미치환 아릴기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 치환된 아릴기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 아실기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 알콕시기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 알실옥시기, 아미노기, 니트로기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 아실아미노기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 알랄킬기, 시안기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 카르복실기, 술포기, 스티릴기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 아미노카르보닐기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 카르바밀기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 아릴카르보닐기, 1-20개의 탄소 원자를 함유한 벤젠카르보닐기, 또는 1-20개의 탄소 원자를 함유한 알콕시카보닐기이다.
일실시예로서, R1-R14그룹이 제공한 탄소 원자의 총수량은 1-40개이다. 다른 실시예 중, R1-R14그룹이 제공한 탄소 원자의 총수량은 2-30개이다.
일실시예로서, R1=할로겐, 알킬기, R3=알킬기, R4=할로겐, R6= 알킬기, 알킬기 또는 아릴기에 의해 치환된 아릴기,R8=할로겐,R9=알킬기, 아릴기에 의해 치환된 아릴기, R10=할로겐, X14=이종원자, 바람직하게는 N、O 또는 S이며, X13=이종원자,바람직하게는 N、O 또는 S이고,및/또는 X17=이종원자, 바람직하게는 N、O 또는 S이다. 다른 실시예 중, R2 및 R3는 같이 아릴기 또는 시클로알킬기를 형성하고, R12 및 R13는 같이 아릴기 또는 시클로알킬기를 형성한다.
다른 실시예 중, R1=F, 삼차부틸, R3=삼차부틸, R4=F,R6=비페닐, 삼차부틸, 2차치환 페닐기, R8=F,R9=비페닐, 삼차부틸, R10=F,X14=N,X13=N, 및/또는 X17=N이 다. 또 다른 실시예 중, R2 및 R3 는 같이 페닐기를 형성하고, R12 및 R13는 같이 페닐기를 형성한다.
도 1에 도시된 바와 같은 반응으로 네가지 리간드를 제조할 수 있다. 간단하고 쉽게 볼 수 있도록 도 1과 같이, 방향족계 A, B, C와 D는 치환되지 않는 것이다(즉 R1-R14는 수소이다). 비록 도 1에 도시되지 않지만, 구조I과 구조II에 의하여 R1-R14는 수소가 아닐 수 있다.
커플링반응에 사용한 전구체그룹(F1)과 피리딘링의 형성에 사용하는 전구체그룹(F4) 또는 F4의 제조에 사용하는 전구체그룹(F3)을 함유하는 방향족계 C와 피리딘링의 형성에 사용하는 전구체그룹(F2)을 함유하는 질소 헤테로사이클 방향족계 D는 메탈 커플링에 의해 커플링반응을 진행한다. 만약 방향족계 C는 단지 F3를 함유하면, 작용기 전환 반응에 의해 F4 로 전환한다. 다음으로 얻은 생산물을 메톡시기 및 피리딘링 반응에 의해 피리딘링의 형성에 사용하는 전구체그룹 (F6)의 방향족계 A와 반응시킨다. (만약 F6의 방향족계 A가 시장판매를 통해 얻지 못하면, 작용기 전환반응에 의해 F5의 제조에 사용하는 전구체그룹(F5)을 F6로 전환할 수 있다). 마지막으로, 탈메틸기반응을 통해 메톡시기를 수산기로 전환한다.
O-N-C-N 리간드(Ligand)의 구체적인 실시예는 아래와 같으며, 이에 한정되지 않다.
도 2에 도시된 바와 같은 반응을 통해, 본 발명의 백금(II) 배위화합물을 제조할 수 있다.(구조I와 같음)
적당한 용제(예: 아세트산 또는 아세트산과 클로로폼의 혼합물) 중, 적당한 온도(예: 환류된 아세트산) 하에, 구조II의 리간드와 백금 화합물을 반응시키다. 백금 화합물은 플라티늄솔트를 포함하고, 특히 백금(II)을 함유된 솔트를 포함한다.
백금(II) 배위화합물(complex)의 구체적인 실시예는 아래와 같으며, 이에 한정되지 않다.
구조I를 가진 배위화합물을 사용하여 열분해 및 용해로 처리된 OLED를 제조할 수 있다. 아래 실시예는 본문에서 기술한 백금(II) 배위화합물의 제조, 물리적 성질 및 전지발광 데이터에 대한 실시예이다. 이러한 실시예는 본 발명을 이해하기 위함에 있고, 어떠한 방식으로도 후술한 청구항의 청구범위를 한정하지 않다.
아래 실시예 및 명세서 또는 청구항 중에, 특별한 기재가 없는 경우에는 기재된 데이터와 백분율은 모두 중량으로 계산하며, 모든 온도는 섭씨도로 표시하며, 압력은 대기압 또는 대기압과 유사한 기압이다.
실시예 중에 기재되지 않거나 별도로 기재되지 않을 경우에는, 본 발명의 명세서, 청구항 중에 기재되는 성분, 반응조건 등에 대한 모든 데이터, 값 및/또는 표현은 모두 '약'으로 표현한다.
기재된 특정한 도면 또는 수치범위에 있어서, 하나의 범위 중의 도면 또는 값은 같은 조건의 특정한 다른 범위의 도면 또는 값과 합병하여 수치범위를 이루어진다.
실시예 401
구조II를 가진 화학구조의 리간드의 상용제조방법:
도 1에 도시된 바와같이, 커플링반응에 사용한 전구체그룹(F1)과 피리딘링의 형성에 사용하는 전구체그룹(F4) 또는 F4의 제조에 사용하는 전구체그룹(F3)을 함유하는 방향족계 C와 피리딘링의 형성에 사용하는 전구체그룹(F2)을 함유하는 질소 헤테로사이클 방향족계 D는 메탈 커플링에 의해 커플링반응을 진행한다. 만약 방향족계 C는 단지 F3를 함유하면, 작용기 전환 반응에 의해 F4 로 전환한다. 다음으로 얻은 생산물을 메톡시기 및 피리딘링 반응에 의해 피리딘링의 형성에 사용하는 전구체그룹 (F6)의 방향족계 A와 반응시킨다. (만약 F6의 방향족계 A가 시장판매를 통해 얻지 못하면, 작용기 전환반응에 의해 F5의 제조에 사용하는 전구체그룹(F5)을 F6로 전환할 수 있다). 마지막으로, 탈메틸기반응을 통해 메톡시기를 수산기로 전환한다.
실시예 402
리간드 201의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 201에 있어서:
A: 벤젠; C: 벤젠; D: 피리딘; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:3-[3,5-bis(tert-butyl)phenyl]-2-propenal; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔ㅌ트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률:72%.1H NMR (500 MHz, CDCl3): 1.43 (s, 18H), 6.98 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.08 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.26-7.28 (m, 1H), 7.36 (t, J = 8.4 Hz, 1H), 7.53 (s, 2H), 7.60 (s, 1H), 7.67 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.82 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.85 (d, J = 7.4 Hz, 1H), 7.90 (s, 1H), 7.95 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.04 (s, 1H), 8.07 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 8.13 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.59 (s, 1H), 8.73 (d, J = 7.4 Hz, 1H), 14.84 (s, 1H). MS(EI, +ve): 513 (M+).
실시예 403
리간드 202의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 202에 있어서:
A: 벤젠; C: 플루오로벤젠; D: 피리딘; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:3-[3,5-bis(tert-butyl)phenyl]-2-propenal; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔ㅌ트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률:60%. 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 25℃):δ = 1.42 (s, 18H, t Bu), 6.97 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.07 (d, J = 7.1 Hz, 1H), 7.28-7.31 (m, 1H), 7.33-7.37 (m, 2H), 7.51 (s, 2H), 7.59 (s, 1H), 7.78-7.82 (m, 1H), 7.85-7.87 (m, 2H), 7.93 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 8.02 (s, 1H), 8.04-8.08 (m, 1H), 8.55-8.58 (m, 1H), 8.75-8.77 (m, 1H), 15.02 (s, 1H, -OH).
실시예 404
리간드 203의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 203에 있어서:
A: paradifluorobenzene; C: 벤젠; D: 피리딘; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:3-[3,5-bis(tert-butyl)phenyl]-2-propenal; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔ㅌ트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률:77%. 1H NMR (400 MHz, CDCl3, 25℃): δ= 1.43 (s, 18H, t Bu), 6.96-7.01 (m, 1H), 7.28-7.31 (m, 1H), 7.43-7.46 (m, 1H), 7.51 (s, 2H), 7.61 (s, 1H), 7.67 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.82-7.86 (m, 2H), 7.93 (s, 1H), 7.96 (s, 1H), 8.06 (d, J = 7.1 Hz, 1H), 8.14 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.57 (s, 1H), 8.73 (d, J = 3.8 Hz, 1H), 15.02 (s, 1H, -OH)。19F NMR (376 MHz, CDCl3, 25℃): δ= -123.5, -132.5.
실시예 405
리간드 204의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 204에 있어서:
A: 벤젠; C: 벤젠; D: 피리미딘; F1: 브론산; F2:브롬화물; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:3-[3,5-bis(tert-butyl)phenyl]-2-propenal; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔ㅌ트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률: 72%. 1H NMR (400 MHz, CDCl3, 25℃):δ= 1.43 (s, 18H, t Bu), 6.97 (t, J = 7.1 Hz, 1H), 7.09 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.22-7.25 (m, 1H), 7.36 (t, J = 8.3 Hz, 1H), 7.53 (s, 2H), 7.60 (s, 1H), 7.69 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.93-7.96 (m, 2H), 8.04 (s, 1H), 8.16 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 8.58 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 8.86 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 9.06 (s, 1H), 14.82 (s, 1H, -OH).
실시예 406
리간드 205의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 205에 있어서:
A: 나프탈렌; C: 벤젠; D: 피리딘; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:3-[3,5-bis(tert-butyl)phenyl]-2-propenal; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률: 77%. 1H NMR (400 MHz, CDCl3, 25℃): δ= 1.45 (s, 18H, t Bu), 7.27-7.32 (m, 2H), 7.42 (s, 1H), 7.47 (t, J = 6.9 Hz, 1H), 7.56 (s, 2H), 7.63 (s, 1H), 7.70 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.82-7.88 (m, 3H), 7.96 (s, 1H), 8.12 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 8.17 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.23 (s, 1H), 8.47 (s, 1H), 8.62 (s, 1H), 8.76 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 14.52 (s, 1H, -OH).
실시예 407
리간드 206의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 206에 있어서:
A: 벤젠; C: 벤젠; D: 아이소퀴놀린; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:3-[3,5-bis(tert-butyl)phenyl]-2-propenal; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률: 77%. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): 1.44 (s, 18H), 6.98 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.09 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.35 (t, J = 8.4 Hz, 1H), 7.55 (s, 2H), 7.60-7.73 (m, 4H), 7.92-8.09 (m, 6H), 8.19 (s, 1H), 8.27 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.72 (s, 1H), 9.38 (s, 1H), 14.88 (s, 1H)。MS(EI, +ve): 563 (M+).
실시예 408
리간드 207의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 207에 있어서:
A: paradifluorobenzene; C: 플루오로벤젠; D: 아이소퀴놀린; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:3-[3,5-bis(tert-butyl)phenyl]-2-propenal; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률: 60%. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): 1.43 (s, 18H), 6.95-7.01 (m, 1H), 7.09 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.36-7.45 (m, 2H), 7.51 (s, 2H), 7.61 (s, 1H), 7.65 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 7.75 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 7.91-8.06 (m, 5H), 8.28 (s, 1H), 8.75 (m, 1H), 9.38 (s, 1H), 15.02 (s, 1H). 19F NMR (376 MHz, CDCl3): -114.93, -123.42, -132.54. MS(EI, +ve): 617 (M+).
실시예 409
리간드 208의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 208에 있어서:
A: 나프탈렌; C: 벤젠; D: 아이소퀴놀린; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:3-[3,5-bis(tert-butyl)phenyl]-2-propenal; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률: 72%. 1H NMR (400 MHz, CDCl3, 25℃): δ= 1.46 (s, 18H, t Bu), 7.32 (t, J = 7.1 Hz, 1H), 7.43 (s, 1H), 7.44 (t, J = 7.1 Hz, 1H), 7.58 (s, 2H), 7.62-7.64 (m, 2H), 7.70-7.75 (m, 3H), 7.87 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.94 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.00 (s, 1H), 8.03 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 8.12 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 8.21 (s, 1H), 8.24 (s, 1H), 8.29 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 8.48 (s, 1H), 8.75 (s, 1H), 9.39 (s, 1H), 14.49 (s, 1H, -OH).
실시예 410
리간드 209의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 209에 있어서:
A: 1-indanone; C: 벤젠; D: 아이소퀴놀린; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:없음; F4:아세틸기; F5:양자; F6:N,N-dimethylethenamine; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 없음; 작용기전환2: 디메틸 아세트아미드와 반응함; 피리딘링 형성: a)T-부톡사이드와 THF가 존재하는 조건하에 반응함; b)THF를 제거하여 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; c)T-부톡사이드가 존재하는 조건하에, 1-Bromobutane와 반응하며 부틸 사슬 추가; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률:65%. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): 0.70-0.73 (m, 10H), 1.09-1.16 (m, 4H), 1.97-2.03 (m, 4H), 6.90-6.94 (m, 2H), 7.28-7.29 (m, 1H), 7.33 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.62 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.70-7.71 (m, 2H), 7.80 (t, J = 8.5 Hz), 7.85 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 8.06-8.11 (m, 2H), 8.65 (s, 1H), 8.75 (d, J = 4.7 Hz, 1H), 9.52 (s, br, 1H). MS(EI, +ve): 449 [M+].
실시예 411
리간드 210의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 210에 있어서:
A: 1-indanone; C: 벤젠; D: 아이소퀴놀린; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:없음; F4:아세틸기; F5:양자; F6:N,N-dimethylethenamine; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 없음; 작용기전환2: 디메틸 아세트아미드와 반응함; 피리딘링 형성: a)T-부톡사이드와 THF가 존재하는 조건하에 반응함; b)THF를 제거하여 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; c)T-부톡사이드가 존재하는 조건하에, 1-Bromobutane와 반응하며 헥실 사슬 추가; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률:73%. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): 0.72-0.80 (m, 10H), 1.05-1.17 (m, 12H), 1.95-2.05 (m, 4H), 6.92-6.95 (m, 2H), 7.34 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.60 (t, J = 7.0 Hz, 1H), 7.66 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.71-7.77 (m, 3H), 7.91 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.01 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 8.11 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.18 (s, 1H), 8.21 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 8.79 (s, 1H), 9.38 (s, 1H), 9.54 (s, br, 1H). 13C NMR (126 MHz, CD2Cl2): 13.98, 22.54, 24.02, 29.66, 31.48, 39.70, 54.32, 113.17, 114.25, 116.70, 117.98, 124.36, 125.57, 127.02, 127.18, 127.52, 127.57, 127.89, 129.28, 130.57, 130.91, 130.99, 136.66, 139.57, 140.14, 142.09, 151.04, 152.47, 152.53, 154.44, 155.14, 161.25. MS(EI, +ve): 555 [M+].
실시예 412
리간드 211의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 211에 있어서:
A: 1-indanone; C: 플루오로벤젠; D: 아이소퀴놀린; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:없음; F4:아세틸기; F5:양자; F6:N,N-dimethylethenamine; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 없음; 작용기전환2: 디메틸 아세트아미드와 반응함; 피리딘링 형성: a)T-부톡사이드와 THF가 존재하는 조건하에 반응함; b)THF를 제거하여 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; c)T-부톡사이드가 존재하는 조건하에, 1-Bromobutane와 반응하며 헥실 사슬 추가; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률:44%. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): 0.71-0.80 (m, 10H), 1.08-1.18 (m, 12H), 1.92-2.01 (m, 4H), 6.89-6.93 (m, 2H), 7.30-7.37 (m, 2H), 7.65 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.70 (m, 2H), 7.75 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.92 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 8.03 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.09-8.12 (m, 1H).
실시예 413
리간드 219의 제조:
실시예 401 중의 방법으로 얻은 리간드 219에 있어서:
A: 벤젠; C: 벤젠; D: 피리딘; F1: 브론산; F2:트리플레이트; F3:아세틸기; F4:1-(2-Oxoethyl)-pyridinium iodide; F5:아세틸기; F6:4,4'-비페닐-2-플루펜널; 커플링반응: Suzuki반응; 작용기전환1: 피리디늄 솔트 형성반응; 작용기전환2: αβ불포화 케톤 형성반응; 피리딘링 형성: 아세트산 암모늄과 메틸알코올의 존재 조건하에 반응함; 탈메틸기: 피리딘 염화수소를 용해함. 수률:72%. 1H NMR (500 MHz, CD2Cl2, 25℃): δ= 6.99 (t, J = 8.2 Hz, 1H), 7.05 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.29-7.32 (m, 1H), 7.32-7.38 (m, 1H), 7.40-7.43 (m, 1H), 7.49-7.52 (m, 2H), 7.67-7.72 (m, 3H), 7.81-7.86 (m, 3H), 7.89-7.93 (m, 3H), 8.03 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.04 (s, 1H), 8.08-8.10 (m, 1H), 8.16-8.18 (m, 1H), 8.19 (s, 1H), 8.69 (s, 1H), 8.72-8.74 (m, 1H).
실시예 414
구조I을 가진 배위화합물의 상용 제조방법:
도 2에 도시된 바와 같이, 아세트산과 클로로폼의 혼합물 중에, 118℃ 하에, 구조II를 가진 리간드와 Potassium tetrachloroplatinate를 24시간 동안 반응시킨다. 생산물은 색층 분해법으로 순화시킨다.
실시예 415
배위화합물 101의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 201을 사용하여 배위화합물 101을 얻는다. 수률: 80%. 1H NMR (500 MHz, CD2Cl2): 1.47 (s, 18H), 6.74 (t, J = 6.8 Hz, 1H), 7.24-7.29 (m, 2H),7.32-7.40 (m, 2H), 7.57 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.66-7.69 (m, 4H), 7.78 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 7.83 (s, 1H), 7.97 (t, J = 7.9 Hz, 1H), 8.17 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 8.37 (s, 1H), 8.99 (d, J = 6.8 Hz, 1H). MS(FAB, +ve): 706 (M+).
실시예 416
배위화합물 102의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 202를 사용하여 배위화합물 102를 얻는다. 수률: 70%. 1H NMR (400 MHz, CDCl3, 25℃): δ= 1.49 (s, 18H, t Bu), 6.76-6.80 (m, 1H), 6.88-6.93 (m, 1H), 7.36-7.43 (m, 3H), 7.60 (s, 2H), 7.61-7.65 (m, 3H), 7.69 (s,1H), 7.98-8.01 (m, 2H), 8.14 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 8.33 (s, 1H), 9.08 (d, J = 6.8 Hz, 1H). 19F NMR (376 MHz, CDCl3, 25℃): δ= -113.2.
실시예 417
배위화합물 103의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 203을 사용하여 배위화합물 103을 얻는다. 수률: 80%. 1H NMR (500 MHz, DMF, 25℃): δ= 1.43 (s, 18H, t Bu), 7.36-7.41 (m, 1H), 7.52 (t, J = 6.0 Hz, 1H), 7.69 (s, 1H), 7.81 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.91 (s, 1H), 8.11-8.15 (m, 2H), 8.22 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 8.29 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.40 (s, 1H), 8.43 (s, 1H), 8.54 (s, 1H), 9.00 (d, J = 5.7 Hz, 1H). 19F NMR (376 MHz, DMF, 25℃): δ= -126.6, -129.3.
실시예 418
배위화합물 104의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 204를 사용하여 배위화합물 104를 얻는다. 수률: 80%. 1H NMR (400 MHz, CD2Cl2, 25℃): δ= 1.50 (s, 18H, t Bu), 6.74 (t, J = 6.9 Hz, 1H), 7.15 (s, 1H), 7.21-7.26 (m, 2H), 7.36 (t, J = 6.5 Hz, 1H), 7.67-7.71 (m, 6H), 8.12 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.30 (s, 1H), 8.86 (s, 1H), 9.04 (m, 1H).
실시예 419
배위화합물 105의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 205를 사용하여 배위화합물 105를 얻는다. 수률: 60%. 1H NMR (400 MHz, CD2Cl2, 25℃): δ= 1.48 (s, 18H, t Bu), 7.13 (t, J = 7.0 Hz, 1H), 7.30 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 7.37-7.43 (m, 2H), 7.58-7.64 (m, 3H), 7.6-7.71 (m, 4H), 7.80-7.84 (m, 2H), 7.93 (s, 1H), 8.03 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 8.54 (s, 1H), 8.69 (s, 1H), 9.0-9.04 (m, 1H).
실시예 420
배위화합물 106의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 206을 사용하여 배위화합물 106을 얻는다. 수률: 80%. 1H NMR (500 MHz, CD2Cl2): 1.48 (s, 18H), 6.74 (t, J = 6.8 Hz, 1H), 7.28-7.42 (m, 3H), 7.60-7.70 (m, 6H), 7.80-7.90 (m, 3H), 8.03 (s, 1H), 8.13-8.17 (m, 2H), 8.35 (s, 1H), 9.65 (s, 1H). MS(FAB, +ve): 756 (M+).
실시예 421
배위화합물 107의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 207을 사용하여 배위화합물 107을 얻는다. 수률: 65%. 1H NMR (400 MHz, CDCl3, 25℃): δ= 1.49 (s, 18H, t Bu), 6.68-6.73 (m, 1H), 6.82-6.87 (m, 1H), 7.28-7.29 (m, 1H), 7.34-7.36 (m, 1H), 7.39 (s, 1H), 7.56 (s, 2H), 7.62-7.66 (m, 2H), 7.75-7.82(m, 2H), 7.95-8.01 (m, 3H), 9.32 (s, 1H).19F NMR (376 MHz, CDCl3, 25℃): δ= -113.8, -126.3, -129.7.
실시예 422
배위화합물 108의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 208을 사용하여 배위화합물 108을 얻는다. 수률: 60%. 1H NMR (400 MHz, CDCl3, 25℃): δ= 1.54 (s, 18H, t Bu), 6.88-6.93 (m, 2H), 7.01 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.06-7.11 (m, 2H), 7.16-7.21 (m, 3H), 7.30 (t, J = 6.7 Hz, 1H), 7.50 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.59-7.63 (m, 4H), 7.72 (s, 1H), 8.01 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.58 (s, 1H), 8.68 (s, 1H), 8.80 (s, 1H).
실시예 423
배위화합물 109의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 209를 사용하여 배위화합물 109를 얻는다. 수률: 65%. 1H NMR (500 MHz, CD2Cl2): 0.69-0.80 (m, 10H), 1.10-1.18 (m, 4H), 2.00-2.15 (m, 4H), 6.75 (d, J = 7.1 Hz, 1H), 7.19 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.26 (t, J = 7.6 Hz, 1H), 7.36 (t, J = 6.0 Hz, 1H), 7.49-7.53 (m, 2H), 7.57 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.92 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.96 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 9.12 (d, J = 5.3 Hz, 1H). MS(FAB, +ve): 642 [M+].
실시예 424
배위화합물 110의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 210을 사용하여 배위화합물 110를 얻는다.수률: 70%. 1H NMR (500 MHz, CD2Cl2): 0.76-0.85 (m, 10H), 1.03-1.19 (m, 12H), 2.01-2.13 (m, 4H), 6.74 (d, J = 7.0 Hz, 1H), 7.16 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.28 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.52-7.63 (m, 5H), 7.77-7.80 (m, 1H), 7.89 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.96 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 8.08 (s, 1H, 8.14 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 9.74 (s, 1H).13C NMR (126 MHz, CD2Cl2): 13.72, 22.52, 24.05, 29.67, 31.49, 39.91, 55.38, 108.18, 113.77, 116.10, 119.30, 122.32, 122.54, 122.62, 125.70, 126.85, 127.68, 127.98, 128.60, 129.09, 132.51, 132.84, 136.64, 140.91, 141.41, 143.53, 153.74, 153.88, 154.50, 157.73, 160.81, 160.89, 162.73. MS(FAB, +ve): 748 [M+].
실시예 425
배위화합물 111의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 211을 사용하여 배위화합물 111을 얻는다.수률: 80%. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): 0.68-0.77 (m, 10H), 1.02-1.12 (m, 12H), 2.00-2.07 (m, 4H), 6.71 (d, J = 7.0 Hz, 1H), 7.00 (dd, J = 8.4 Hz, 3 J F -H = 11.9 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.47 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.54 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.62 (dd, J = 8.3 Hz, 4 J F -H = 3.9 Hz, 1H), 7.71 (t, J = 8.6 Hz, 1H), 7.87 (t, J = 8.6 Hz, 1H), 7.90 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.97 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.18 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.43 (s, 1H), 9.84 (s, 1H). 19F NMR (376 MHz, CDCl3): -114.17. MS(FAB, +ve): 766 [M+].
실시예 426
배위화합물 219의 제조:
실시예 410 중의 방법으로 리간드 219를 사용하여 배위화합물 219를 얻는다.수률: 60%. 1H NMR (400 MHz, CD2Cl2, 25℃): δ= 6.75 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.25 (t, J = 7.6 Hz, 1H), 7.30 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.36-7.46 (m, 3H), 7.51-7.58 (m, 2H), 7.65 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.73-7.79 (m, 3H), 7.84 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.88 (s, 1H), 7.96-8.00 (m, 3H), 8.18 (d, J = 7.4 Hz, 1H), 8.42 (s, 1H), 8.95 (d, J = 4.8 Hz, 1H).
실시예 427
배위화합물 101 - 배위화합물 112의 광물리적 성질
실시예 428
상용되는 열분해 OLED 제조방법.
고진공환경(압력〈1x10- 6토르)중, 투명물질층, 홀전송층, 발광층, 전자전송층, 전자주입층의 양극은 금속 음극 상에 순차로 침적한다.
실시예 429
실시예 428을 사용하여 일종의 장치를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 10 nm의 N,N'-더블(naphtalen-1-N,N'-더블(페닐기)-벤지딘(NPB)과 30nm의 4,4',4"- Tris(carbazol-9-yl)-triphenylamine(TCTA)이고, 발광층은 TCTA층(2.8%의 배위화합물 101)을 도포하는 30nm의 배위화합물 101이고, 전자전송층은 30nm의 2,9- dimethyl-4, 7-디페닐-1, 10-페난트롤린(BCP)이며, 전자주입층은 1nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 100nm인 알루미늄이다.
실시예 430
실시예 428을 사용하여 일종의 장치를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 40 nm의 NPB이며, 발광층은 4,4'-더블(carbazol-9-yl)-biphenyl(CBP)층(4.4%의 배위화합물 106)을 도포하는 20nm의 배위화합물 106이고, 전자전송층은 15nm의 BCP와 30nm의 Tris(8-hydroxy-quinolinato) aluminium이고, 전자주입층은 1nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 100nm인 알루미늄(Al)이다.
실시예 431
실시예 428을 사용하여 일종의 장치를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 40 nm의 NPB이며, 발광층은 4,4'-더블(carbazol-9-yl)-benzene(mCP)층(4.9%의 배위화합물 110)을 도포하는 20nm의 배위화합물 110이고, 전자전송층은 30nm의 BCP이고, 전자주입층은 1nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 100nm인 알루미늄(Al)이다.
실시예 432
실시예 428을 사용하여 일종의 장치를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 40 nm의 NPB이며, 발광층은 CBP층(2.6%의 배위화합물 110)을 도포하는 20nm의 배위화합물 110 및 2,2',2"-(1,3,5-benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole)( TPBi; 2.9 %의 배위화합물 107)층을 도포하는 20nm의 배위화합물 107이며, 전자전송층은 30nm의 BCP이고, 전자주입층은 1nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 100nm인 알루미늄(Al)이다.
실시예 433
실시예 428을 사용하여 일종의 장치를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 40 nm의 NPB이며, 발광층은 mCP층(3.1%의 배위화합물 101)을 도포하는 20nm의 배위화합물 101 및 CBP층(3.5%의 배위화합물 101)을 도포하는 20nm의 배위화합물 101이고, 전자전송층은 30nm의 BCP이고, 전자주입층은 1nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 100nm인 알루미늄(Al)이다.
실시예 434
실시예 428을 사용하여 일종의 장치를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 40 nm의 NPB이며, 발광층은 TCTA층(1.3%의 배위화합물 101)을 도포하는 20nm의 배위화합물 101, CBP층(1.2%의 배위화합물 101)을 도포하는 10nm의 배위화합물 101 및 TPBi(1.5%의 배위화합물 101)층을 도포하는 20nm의 배위화합물 101이고, 전자전송층은 30nm의 BCP이고, 전자주입층은 1nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 100nm인 알루미늄(Al)이다.
실시예 435
실시예 428을 사용하여 일종의 장치를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 40 nm의 NPB이며, 발광층은 TCTA층(1.1%의 배위화합물 101)을 도포하는 20nm의 배위화합물 101 및 TPBi(1.2%의 배위화합물 101)층을 도포하는 20nm의 배위화합물 101이고, 전자전송층은 30nm의 BCP이고, 전자주입층은 1nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 100nm인 알루미늄(Al)이다.
실시예 436
실시예 428을 사용하여 일종의 장치를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 40 nm의 NPB이며, 발광층은 CBP층(1.1%의 배위화합물 101)을 도포하는 100nm의 배위화합물 101이고, 전자전송층은 30nm의 BCP이고, 전자주입층은 1nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 100nm인 알루미늄(Al)이다.
실시예 439
단일 방사기 WOLED의 제조.
실시예 428을 사용하여 일종의 단일 방사기 WOLED를 제조한다. 그 중에서, 홀전송층은 40nm의 NPB이며, 발광층은 mCP층(9%의 배위화합물 224)을 도포하는 30nm의 배위화합물 224이고, 전자전송층은 40nm의 BA1Q이고, 전자주입층은 0.5nm의 플루오르화 리듐과 금속음극이 80nm인 알루미늄(Al)이다.
실시예 437
상기 실시예의 장치의 성능은 아래와 같다.
실시예 438
용액처리 OLED 제조.
스핀코팅으로 한층의 3,4-Ethylenedioxythiophene: 폴리 (styrenesulfonic acid)(PEDOT:PPS)(~ 40 nm)을 ITO유리 위에 침적시키고, 건조기에서 건조한다. PVK 중의 5% 배위화합물 101을 20㎎/mL의 속도로 chlorobenzene에 용해시킨다. PVK 중의 5% 배위화합물 101을 PEDOT에 스핀코팅시키며, PPS층의 위층에 진행하며 건조기에 건조시킨다(~80nm). 열분해법(압력〈1 x 10- 6토르)을 이용하며, 10nm의 BCP, 30nm의 Alq、1nm LiF와 100nm의 Al층을 순차로 중합체층의 최상면에 침적시킨다. 상기 장치는 CIE를 가지며, (0.31, 0.61)의 밝기max와 효율max은 각각 17,800 cdm-2과 10.9 cdA-1이다.
이상과 같이 실시예를 통해 본 발명의 내용을 자세히 설명하였다. 그러나 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니한다. 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 해당 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
Claims (13)
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제 4항에 있어서,
상기 유기발광다이오드가 열분해법, 스핀코팅 또는 인쇄에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 유기발광 다이오드. - 제 4항 또는 제 5항에 있어서,
상기 유기발광다이오드가 상기 유기금속 배위화합물로부터 발생하는 단색광을 방출하는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드. - 제 4항 또는 제 5항에 있어서,
상기 유기발광다이오드가 초록색 광을 방출하며, 가로좌표 CIE≤0.31이며, 새로좌표 CIE≥0.59인 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드. - 제 4항 또는 제 5항에 있어서,
상기 유기발광다이오드가 백색 광을 방출하며, 상기 백색 광의 모든 발광부가 상기 유기금속 배위화합물에 있는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드. - 제 4항 또는 제 5항에 있어서,
상기 유기발광다이오드가 백색 광을 방출하며, 상기 백색 광은 상기 유기금속 배위화합물이 방출한 광 및 기타 발광재료로부터 방출한 하나 또는 다수 개의 서로 다른 방출부를 가진 조합광인 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US36635910P | 2010-07-21 | 2010-07-21 | |
US61/366,359 | 2010-07-21 | ||
PCT/CN2011/001184 WO2012009957A1 (en) | 2010-07-21 | 2011-07-20 | Platinum(ii) tetradentate o-n-c-n complexes for organic light-emitting diode applications |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130069723A KR20130069723A (ko) | 2013-06-26 |
KR101536695B1 true KR101536695B1 (ko) | 2015-07-14 |
Family
ID=45492839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020137002734A KR101536695B1 (ko) | 2010-07-21 | 2011-07-20 | 유기발광 다이오드를 응용한 백금(ⅱ) 네자리 o-n-c-n 배위화합물 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8877353B2 (ko) |
KR (1) | KR101536695B1 (ko) |
CN (1) | CN103097395B (ko) |
DE (1) | DE112011102389B4 (ko) |
HK (1) | HK1181393A1 (ko) |
TW (1) | TWI558712B (ko) |
WO (1) | WO2012009957A1 (ko) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8772485B2 (en) * | 2011-12-09 | 2014-07-08 | The University Of Hong Kong | Palladium complexes for organic light-emitting diodes |
US9306178B2 (en) | 2012-04-12 | 2016-04-05 | The University Of Hong Kong | Platinum(II) complexes for OLED applications |
US20150171351A1 (en) * | 2012-07-10 | 2015-06-18 | Cambridge Display Technology Limited | Light-emitting compound |
US9978961B2 (en) * | 2014-01-08 | 2018-05-22 | Universal Display Corporation | Organic electroluminescent materials and devices |
US10038153B2 (en) * | 2014-04-03 | 2018-07-31 | Versitech Limited | Platinum (II) emitters for OLED applications |
CN105273712B (zh) | 2014-07-11 | 2017-07-25 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 用于发光二极管的发光材料 |
DE102015002966A1 (de) * | 2015-03-07 | 2016-09-08 | Audi Ag | Oberflächenelement für eine Bedieneinrichtung eines Kraftfahrzeugs |
CN205026747U (zh) * | 2015-09-21 | 2016-02-10 | 广东美的厨房电器制造有限公司 | 微波加热装置和用于它的抽屉门组件 |
CN106939024A (zh) * | 2016-01-04 | 2017-07-11 | 上海和辉光电有限公司 | 一种用于OLED材料的以杂氮芴为基础单元的四齿配体Pt络合物 |
CN107021987A (zh) * | 2016-01-29 | 2017-08-08 | 上海和辉光电有限公司 | 一种用于OLED材料的以杂氮芴为基础单元的四齿配体Pt络合物 |
WO2017152011A1 (en) * | 2016-03-03 | 2017-09-08 | Graphic Packaging International, Inc. | Thermally-activated laminate construct and methods of using the same |
US10672997B2 (en) * | 2016-06-20 | 2020-06-02 | Universal Display Corporation | Organic electroluminescent materials and devices |
EP3266790B1 (en) | 2016-07-05 | 2019-11-06 | Samsung Electronics Co., Ltd | Organometallic compound, organic light-emitting device including the same, and diagnostic composition including the organometallic compound |
KR102673814B1 (ko) * | 2016-08-25 | 2024-06-10 | 삼성전자주식회사 | 유기금속 화합물 및 이를 포함한 유기 발광 소자 |
KR102654864B1 (ko) | 2016-11-18 | 2024-04-05 | 삼성전자주식회사 | 유기금속 화합물, 이를 포함한 유기 발광 소자 및 이를 포함한 진단용 조성물 |
US10811621B2 (en) | 2017-02-15 | 2020-10-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Organometallic compound, organic light-emitting device including the organometallic compound, and a diagnostic composition including the organometallic compound |
KR102519180B1 (ko) | 2017-07-26 | 2023-04-06 | 삼성전자주식회사 | 유기금속 화합물, 이를 포함한 유기 발광 소자 및 이를 포함한 진단용 조성물 |
KR102637104B1 (ko) * | 2017-11-08 | 2024-02-15 | 삼성전자주식회사 | 유기금속 화합물, 이를 포함한 유기 발광 소자 및 이를 포함한 진단용 조성물 |
KR102542467B1 (ko) * | 2017-11-08 | 2023-06-12 | 삼성전자주식회사 | 유기금속 화합물, 이를 포함한 유기 발광 소자 및 이를 포함한 진단용 조성물 |
CN109980111B (zh) * | 2017-12-28 | 2021-02-19 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种含四齿铂(ii)配合物的有机电致发光器件 |
CN109970811A (zh) * | 2017-12-28 | 2019-07-05 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种基于恶唑、噻唑或咪唑的四齿铂(ii)配合物材料及应用 |
CN108504351B (zh) * | 2018-06-13 | 2020-10-09 | 湖北师范大学 | 一种橙光发光材料及其制备方法和发光方法 |
CN110872325B (zh) * | 2018-09-03 | 2021-05-21 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 基于铂四齿oncn络合物的有机发光材料、制备方法及其在有机发光二极管中的应用 |
US12035615B2 (en) * | 2018-12-13 | 2024-07-09 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting device, apparatus including the same, and organometallic compound |
CN111377972B (zh) * | 2018-12-28 | 2022-06-10 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种双核四齿铂(ii)配合物及应用 |
CN109802047A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-05-24 | 香港大学深圳研究院 | 一种基于红外波段的有机发光器件及其制备方法 |
CN109841759A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-06-04 | 香港大学深圳研究院 | 一种基于铂配合物的oled器件及其制备方法 |
CN112940040B (zh) * | 2019-12-11 | 2022-06-10 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种四齿铂(ii)配合物的制备及应用 |
CN113717229B (zh) * | 2020-05-26 | 2022-08-19 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 含oncn四齿配体的铂配合物及其在有机发光二极管中的应用 |
CN113801166B (zh) * | 2020-06-16 | 2023-04-07 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 四齿金属络合物及其应用 |
CN114426563B (zh) * | 2020-10-29 | 2023-11-28 | 四川阿格瑞新材料有限公司 | 一种金属络合物及其应用 |
CN114573639B (zh) * | 2020-11-30 | 2023-12-12 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 含咔唑的oncn四齿配体的铂配合物 |
CN114644657B (zh) * | 2020-12-21 | 2024-05-31 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 二价铂配合物 |
CN114751939B (zh) * | 2021-01-11 | 2024-05-10 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 含多氮杂环的四齿oncn铂配合物 |
CN115490733A (zh) * | 2021-06-17 | 2022-12-20 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 含oncn四齿配体的杂环修饰的铂配合物 |
CN113501809B (zh) * | 2021-07-13 | 2022-07-26 | 浙江工业大学 | 一种含有喹啉结构单元的四齿环金属铂(ii)和钯(ii)配合物发光材料及其应用 |
CN116102597A (zh) * | 2021-11-10 | 2023-05-12 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 高色纯度的二价铂配合物 |
CN116102598A (zh) * | 2021-11-10 | 2023-05-12 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 高效二价铂配合物磷光OLEDs材料及其应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060115371A (ko) * | 2003-11-04 | 2006-11-08 | 다카사고 고료 고교 가부시키가이샤 | 백금 착체 및 발광소자 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3172862A (en) | 1960-09-29 | 1965-03-09 | Dow Chemical Co | Organic electroluminescent phosphors |
US4356429A (en) | 1980-07-17 | 1982-10-26 | Eastman Kodak Company | Organic electroluminescent cell |
US6653654B1 (en) | 2002-05-01 | 2003-11-25 | The University Of Hong Kong | Electroluminescent materials |
DE10350722A1 (de) * | 2003-10-30 | 2005-05-25 | Covion Organic Semiconductors Gmbh | Metallkomplexe |
EP1703976A2 (en) * | 2004-01-12 | 2006-09-27 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Use of metal complex compounds comprising pyridine, pyrimidine or s-triazine derived ligands as catalysts for oxidations with organic peroxy acids and/or precursors of organic peroxy acids and h2o2 |
US7361415B2 (en) | 2004-04-16 | 2008-04-22 | The University Of Hong Kong | System and method for producing light with organic light-emitting devices |
US20050244672A1 (en) | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Chi-Ming Che | Organic light-emitting devices |
US7655323B2 (en) * | 2004-05-18 | 2010-02-02 | The University Of Southern California | OLEDs utilizing macrocyclic ligand systems |
US20060134461A1 (en) * | 2004-12-17 | 2006-06-22 | Shouquan Huo | Organometallic materials and electroluminescent devices |
TWI644918B (zh) * | 2011-02-23 | 2018-12-21 | Universal Display Corporation | 新穎四牙鉑錯合物 |
US9783564B2 (en) * | 2011-07-25 | 2017-10-10 | Universal Display Corporation | Organic electroluminescent materials and devices |
-
2011
- 2011-07-13 US US13/181,936 patent/US8877353B2/en active Active
- 2011-07-20 DE DE112011102389.8T patent/DE112011102389B4/de active Active
- 2011-07-20 KR KR1020137002734A patent/KR101536695B1/ko active IP Right Grant
- 2011-07-20 WO PCT/CN2011/001184 patent/WO2012009957A1/en active Application Filing
- 2011-07-20 CN CN201180035264.5A patent/CN103097395B/zh active Active
- 2011-07-21 TW TW100125806A patent/TWI558712B/zh active
-
2013
- 2013-07-24 HK HK13108685.8A patent/HK1181393A1/zh unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060115371A (ko) * | 2003-11-04 | 2006-11-08 | 다카사고 고료 고교 가부시키가이샤 | 백금 착체 및 발광소자 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI558712B (zh) | 2016-11-21 |
US8877353B2 (en) | 2014-11-04 |
TW201213335A (en) | 2012-04-01 |
CN103097395B (zh) | 2015-09-16 |
WO2012009957A1 (en) | 2012-01-26 |
DE112011102389B4 (de) | 2023-07-06 |
KR20130069723A (ko) | 2013-06-26 |
DE112011102389T5 (de) | 2013-05-02 |
HK1181393A1 (zh) | 2013-11-08 |
US20120018711A1 (en) | 2012-01-26 |
CN103097395A (zh) | 2013-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101536695B1 (ko) | 유기발광 다이오드를 응용한 백금(ⅱ) 네자리 o-n-c-n 배위화합물 | |
KR102091968B1 (ko) | 신규한 헤테로렙틱 이리듐 복합체 | |
JP6251299B2 (ja) | リン光物質 | |
EP1683804B1 (en) | Platinum complex and luminescent element | |
JP6113005B2 (ja) | 新規なシリル化金属錯体 | |
TWI359803B (en) | Tetraphenylnaphthalene derivatives and organic lig | |
TWI313292B (en) | Light-emitting element and iridium complex | |
TWI475022B (zh) | Organic electroluminescent elements | |
KR101904175B1 (ko) | 발광다이오드용 발광재료 | |
TW200423814A (en) | Organometallic compounds for use in electroluminescent devices | |
JPWO2010035723A1 (ja) | 置換されたアントラセン環構造とピリドインドール環構造を有する化合物および有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2021084911A (ja) | 有機エレクトロルミネセント材料およびその素子 | |
TWI232704B (en) | Organic light emitting diode containing a novel Ir complex as a phosphorescent emitter | |
JP5554064B2 (ja) | 非対称スチリル誘導体及びこれを用いた有機電界発光素子 | |
JP7402979B2 (ja) | 白金金属錯体及び有機エレクトロルミネセンスデバイスにおけるその用途 | |
TWI387575B (zh) | 含聯三伸苯及蒎之芳香族化合物合成暨在有機電激發光元件上之應用 | |
JP2021193080A (ja) | エレクトロルミネセント材料および素子 | |
JP5746713B2 (ja) | 有機発光ダイオードのための発光性化合物 | |
TWI675035B (zh) | 一種有機金屬配合物發光材料 | |
TW200909438A (en) | Transition metal complexes with carbene ligands and their application | |
WO2019085689A1 (zh) | 含有机金属配合物发光材料的器件 | |
KR20240013480A (ko) | 트리아졸로페난트리딘 킬레이트 리간드가 배위된 이리듐 착물을 포함하는 청색 인광 화합물 및 이를 이용한 유기발광소자 | |
JP2002363175A (ja) | 赤色有機エレクトロルミネセンス素子およびデバイスに用いる新規化合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190306 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191220 Year of fee payment: 6 |