KR101536045B1 - 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지 구조 - Google Patents

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Abstract

패키지 구조 형성 방법은 접착층을 구비한 캐리어 상에 다이와 비아를 적용하는 스텝 및 노출된 다이 상의 비아 및 마운트의 단부와 비아 주위와 캐리어 상에 성형기판을 형성하는 스텝을 포함할 수 있다. 비아는 비아를 분리하는 하나 이상의 유전체층을 가진 비아 칩 내에 있을 수 있다. 비아 칩(104)은 캐리어로부터 분리되어 형성될 수 있다. 비아 칩의 유전체층은 성형기판과 상이한 물질을 포함하고, 성형기판으로부터 비아를 분리할 수 있다. RDL 접촉 패드를 구비한 RDL 및 도전성 라인은 성형기판 상에 형성될 수 있다. 적어도 하나의 다이를 구비한 제2 구조는 성형기판의 반대측면 상에 장착될 수 있고, 제2 구조 상의 다이는 적어도 하나의 RDL 접촉 패드와 전기적으로 통신한다.

Description

팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지 구조{Fan-Out Wafer Level Package Structure}
일반적으로, 현대 전자기기의 디자인에서 드라이빙 팩터(driving factor)들 중 하나는 소정 공간으로 들어갈 수 있는 스토리지(storage) 및 컴퓨팅 파워(computing power)의 양이다. 잘 알려진 무어의 법칙은 소정 디바이스 상의 트랜지스터의 수가 18개월마다 거의 2배가 될 것이라는 것을 명시한다. 더 작은 패키지로 더 많은 프로세싱 파워를 압축(compress)하기 위해, 더 감소된 트랜지스터 사이즈가 재료 및 프로세스의 물리적 특성에 의해 제한될 수있는 포인트(point)까지 트랜지스터 사이즈가 감소된다. 더 큰 서브시스템을 하나의 칩으로 패키징(칩 상의 시스템)함으로써, 또는 칩 사이의 거리 및 후속 상호접속 거리를 감소시킴으로써 트랜지스터 사이즈의 한계를 극복할 것을 디자이너들이 시도하고 있다.
시스템을 형성하는 다양한 칩들 사이의 거리를 감소시키기 위해 사용되는 한가지 방법은 수직으로 러닝(running)하는 전기 상호 접속을 가진 칩을 적층(stack)하는 것이다. 이것은 기판의 상부 및 하부 표면 상의 칩을 가진 멀티플 기판층을 포함할 수 있다. 기판의 상부측 및 하부측에 칩을 적용(apply)하기 위한 한가지 방법은, 상부 표면과 하부 표면 사이에 전기 접속을 제공하기 위해 기판을 통해 배치된 도전성 비아(conductive via)를 기판이 구비하는 소위 "플립-칩(flip-chip)" 패키징이다.
또한, 패키지-온-패키지(package-on-package) 구조는 솔더(solder) BGA(ball grid array), LGA(land grid array) 등을 통해 다른 캐리어(carrier), 패키지, PCB 등에 장착될(mounted) 수 있다. 일부의 경우에, 어레이 또는 본드 피치(bond pitch) 내의 개별 상호접속의 분리(separation)는, 패키지-온-패키지 구조 내의 다이(die)를 매칭시키지 않을 수 있고, 또는 패키지-온-패키지 구조 내부보다는 상이한 접속 어레인지먼트(arrangement)를 필요로 할 수 있다.
패키지 구조 형성 방법은 접착층을 구비한 캐리어 상에 다이와 비아를 적용하는 스텝 및 노출된 다이 상의 비아 및 마운트의 단부와 비아 주위와 캐리어 상에 성형기판을 형성하는 스텝을 포함할 수 있다. 비아는 비아를 분리하는 하나 이상의 유전체층을 가진 비아 칩 내에 있을 수 있다. 비아 칩(104)은 캐리어로부터 분리되어 형성될 수 있다. 비아 칩의 유전체층은 성형기판과 상이한 물질을 포함하고, 성형기판으로부터 비아를 분리할 수 있다. RDL 접촉 패드를 구비한 RDL 및 도전성 라인은 성형기판 상에 형성될 수 있다. 적어도 하나의 다이를 구비한 제2 구조는 성형기판의 반대측면 상에 장착될 수 있고, 제2 구조 상의 다이는 적어도 하나의 RDL 접촉 패드와 전기적으로 통신한다.
이제, 본 실시형태 및 이것을 제조하고 사용하는데 포함되는 기술의 더 완전한 이해를 위해, 첨부도면과 결합된 이하의 설명에 대한 참조가 이루어진다.
도 1 내지 도 7은 본 발명의 실시형태에 의한 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지 구조를 제조하는 방법에 있어서의 중간 스텝을 나타낸 단면도이다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 실시형태에 의해 제조된 웨이퍼 레벨 패키지의 실시형태를 나타낸 단면도이다.
도 10은 본 발명의 실시형태에 의한 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지 구조를 제조하는 방법의 실시형태에 있어서의 스텝들을 나타낸 플로우 다이어그램이다.
반대로 나타내지 않으면, 상이한 도면에 있어서의 대응 숫자 및 심볼은 일반적으로 대응 부분을 나타낸다. 도면은 실시형태들의 적절한 양상을 명확하게 나타내기 위해 도시되고, 비례적으로 도시될 필요는 없다. 명확함을 위해, 비본질적인 도면부호는 가능한 개별 도면으로부터 빠져있다.
본 실시형태의 제작 및 사용이 이하 상세히 논의된다. 그러나, 본 발명은 광범위한 특정 콘텍스트에서 실시될 수 있는 다수의 적용 가능한 개념을 제공한다는 것이 인식되어야 한다. 논의되는 특정 실시형태는 개시된 대상을 제작하고 사용하기 위한 특정 방식의 예시일 뿐이며, 상이한 실시형태의 범위를 제한하지 않는다.
실시형태들은, 특정 콘텍스트, 즉 예컨대 웨이퍼 레벨 패키지 어셈블리에서 유용한 팬 아웃 구조를 제조하고 사용하는 것에 관하여 설명될 것이다. 그러나, 마운팅 메모리 어셈블리, 디스플레이, 입력 어셈블리, 이산 콤포넌트(discrete component), 파워 서플라이, 또는 레귤레이터, 또는 다른 모든 콤포넌트들을 포함하지만 이에 한정되지 않는 다른 전기 콤포넌트들에 다른 실시형태들이 적용될 수도 있다.
도 10은 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지 구조를 제조하는 방법(1000)의 실시형태에 있어서의 스텝들을 나타낸 플로우 다이어그램이다. 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키징 구조를 형성하기 위한 방법(1000)에서의 중간 스텝들을 나타낸 도 1 내지 도 7과 관련되어 도 10을 설명한다.
우선 도 10을 참조하면, 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지를 제조하는 방법(1000)의 실시형태에서의 제1 스텝이 블록 1002에 도시되어 있다. 캐리어(112) 및 선택적으로 접착층(110)이 도1에 도시된 바와 같이 제공될 수 있다. 캐리어(112)는, 후속 연질층(subsequent non-rigid layer)의 증착을 위한 베이스 또는 구조적 강도를 제공하도록 구성될 수 있다. 일실시형태에서, 캐리어(112)는 유리(glass)가 될 수 있지만, 대안으로서 웨이퍼, 반도체, 금속, 합성물(synthetic) 또는 적합한 토포그래피(topography) 및 구조적 강도를 가진 다른 물질이 될 수 있다.
일부 실시형태에서, 접착층(110)은 캐리어(112)에 적용될 수 있다. 일실시형태에서, 접착층(110)은 접착 테이프 또는 DAF(die attachment film)가 되거나 대안으로서 스핀 온 프로세스(spin-on process) 등을 통해 캐리어(112)에 적용되는 글루(glue) 또는 에폭시(epoxy)가 될 수 있다. 일부 실시형태에서, 접착층(110)은 후속 스텝에서 팬 아웃 어셈블리[도 8 참조, 엘리먼트(800)] 및 관련 디바이스들 또는 층들로부터 캐리어(112)를 분리하는데 사용될 수 있다.
다이(102)는 블록 1004에서, 도 1에 도시된 바와 같이, 적용될 수 있다. 개시된 설명은 하나보다 많은 다이(102)를 포함할 수 있기 때문에 다이(102)의 적용은 싱글 다이(102)의 적용에 한정되지 않는다. 일부 실시형태에서, 다이(102) 내의 회로(미도시)에 대한 전기 접속을 제공하기 위해, 예컨대 핀(pin), 마운팅 패드(mounting pad), 랜드(land) 등에 접촉될 수 있는 하나 이상의 마운트(mount)(114)를 다이(102)가 구비할 수 있다. 다이(102)는 접착층(110) 또는 다른 적합한 부착 방법에 의해 캐리어(112)에 부착 또는 장착될 수 있다. 다이(102)는 캐리어(112)로부터 벗어난(facing away) 마운트(114)에 의해 다이(102)의 상면에서 캐리어(112)에 부착될 수 있다.
하나 이상의 비아(106)가 블록 1006에서, 도 1에 도시된 바와 같이, 부착 또는 생성될 수 있다. 일실시형태에서, 접착층(110) 또는 다른 적합한 부착 수단에 의해 캐리어(112)에 부착될 수 있는 비아 칩(via chip)(104) 내에 비아(106)가 형성될 수 있다. 일실시형태에서, 비아 칩(104)은 피크 앤 플레이스 장치(pick-and-place apparatus)에 의해 배치될 수 있다. 비아 칩(104)은 실질적으로 도전성 물질로 이루어진 하나 이상의 비아(106)와 하나 이상의 유전체층(108)으로 이루어질 수 있다. 일부 실시형태에서, 비아(106)는 구리(copper)가 될 수 있고, 다른 실시형태에서, 비아(106)는 알루미늄, 금, 팔라듐, 은, 동일 또는 다른 도전성 물질의 합금이 될 수 있다. 또한, 유전체층은 성형기판(molded substrate)(202)과 다른 물질로 형성될 수 있고, 성형기판(202)으로부터 비아(104)를 분리할 수 있다.
비아 칩(104)은 캐리어(112) 상의 배치에 앞서 형성될 수 있고, 또는 비아(106)는 캐리어 상의 제자리에(in situ) 형성될 수 있다. 예컨대, 비아 칩(104)은 더 큰 구조의 일부(part)로서 형성될 수 있다. 예컨대, 멀티플 비아(106) 또는 멀티플 비아 칩(104)이 단일 구조 내에 형성되고, 이어서 소망하는 또는 소정의 사이즈로 커팅될 수 있다. 예컨대, 유전체가 에칭되거나 그 내부에 비아 개구(via opening)가 형성될 수 있고, 이어서 증착 또는 플레이팅 프로세스(plating process)에 의해 비아(106)가 형성될 수 있다. 대안으로서, 비아(106)는 밀링(milling), 성형(molding), 증착되거나, 캐리어(112) 상의 배치에 앞서 유전체(108) 또는 성형재료(molding compound)에 의해 형성될 수 있다.
또한, 도시된 실시형태는 다이(102)의 각 측면 상에 하나씩인 2개의 비아 칩(104)을 갖는 싱글 다이(102)를 나타내지만, 비아 칩(104)과 다이(102)의 수와 배치는 도시된 실시형태에 한정되지 않는다. 예컨대, 다이(102) 주변에 배치된 2개 이상의 비아 칩(104) 또는 하나의 비아 칩(104)을 가진 멀티플 다이(102)가, 캐리어(112) 상에 배치될 수 있다.
성형재료(202a)는 성형기판(202)을 형성하기 위해 블록 1008에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 적용될 수 있다. 성형재료(202a)는 캐리어(112)에 적용될 수 있고, 비아 칩(104)과 다이(102) 주변의 영역을 채우고(fill), 다이(102) 마운트(114) 및 비아(106) 주위의 모든 갭을 채울 수 있다. 일실시형태에서, 성형기판(202)은 에폭시, 수지(resin), 성형가능 폴리머 등의 비도전성 물질로부터 형성될 수 있다. 성형재료(202a)는 실질적으로 액체이지만 적용될 수 있고, 이어서 에폭시 또는 수지 내에서의 화학 반응을 통해 경화될(cured) 수 있다. 다른 실시형태에서 성형재료(202a)는, 다이(102) 및 비아 칩(104) 주위에 배치될 수 있는 가단성있는 고체(malleable solid) 또는 젤(gel)로서 적용되는, 열적으로 경화된 폴리머(thermally cured polymer) 또는 자외선(UV: ultraviolet)이 될 수 있다. UV 또는 열적으로 경화된 성형재료(202a)를 사용하는 실시형태에서, 성형기판(202)은 예컨대, 웨이퍼 또는 패키지 등의 성형 영역의 주위를 경계로 하는(bordering) 몰드(mold)를 사용하여 제자리에 형성될 수 있다. 선택적으로, 캐리어(112) 또는 성형기판(202)으로부터 몰드의 분할(parting)을 허용하는 성형재료(202a)를 적용하기 전에 릴리즈 필름(release film)이 적용될 수 있다. 성형재료(202a)와 캐리어(112) 사이에 접착 또는 다른 장벽(barrier) 없이 캐리어(112)에 성형재료(202a)가 적용되는 경우에, 릴리즈 필름이 유리할 수 있다.
성형기판(202)은 블록 1010에서, 도 3에 도시된 바와 같이, 감소될 수 있다. 일부 실시형태에서, 다이(102) 마운트(114) 및 비아(106)로부터 초과 물질을 제거하기 위해 연삭 스텝(grinding step)을 경험할(undergo) 수 있다. 이러한 실시형태에서, 성형기판(202)은 화학-기계적 연마, 순수 기계적 연마, 화학적 에칭, 또는 다른 적합한 감소 프로세스를 받을 수 있다. 일부 실시형태에서, 결과로서 얻어진 감소된 성형기판(202)은 비아(106)와 다이(102) 마운트(114)의 상면에서 또는 그 아래에 상면(202b)을 가질 수 있다. 일부 실시형태에서, 다이(102) 마운트(114)와 비아(106)의 제1 단부는 성형기판(202)의 제1 측면(202b)과 실질적으로 평면이 될 수 있다. 따라서, 다이(102) 마운트(114)와 비아(106) 상에 전기 접촉이 형성될 수 있도록, 감소된 성형기판(202)의 연마된 면 또는 제1 측면(202B)에서 다이(102) 마운트(114)와 비아(106)의 제1 단부가 노출될 수 있다. 일부 실시형태에서, 다이(102) 마운트(114) 또는 비아(106)의 높이를 연삭(grinding)이 감소시킬 수도 있다.
제1 재배선층(RDL : redistribution layer)(402)이 블록 1012에서, 도 4에 도시된 바와 같이, 형성될 수 있다. 성형기판(202)은 평탄화된 또는 감소된 표면의 일측면(202b) 상에 배치된 RDL(402)을 가질 수 있다. 일부 실시형태에서, RDL(402)은, IMD(intermetal dielectric)(408) 내에 배치되고, RDL 접촉 패드(404)와 전기 접촉하는 하나 이상의 도전성 라인(conductive line)을 가질 수 있다. RDL(402) 도전성 라인(406)은 하나 이상의 다이(102) 마운트(114) 또는 하나 이상의 비아(106)와 더 접촉될 수 있다. 다이(102) 마운트(114)보다 더 큰 본드 피치를 RDL 접촉 패드(404)가 가질 수 있도록, 하나 이상의 다이(102) 마운트(114)로부터 도전성 라인(406)이 팬 아웃(fan out)되어 볼 그리드 어레이 또는 다른 패키지 마운팅 시스템에 적합하게 될 수 있다. 일실시형태에서, RDL(402)은, 팬 아웃되도록 구성된 도전성 라인(406)을 가질 수 있고, 다이(102) 마운트(114)와 RDL 접촉 패드(404) 사이에 전기 접속을 제공할 수 있다. 또한 일부 실시형태에서, 하나 이상의 비아(106)를 RDL 접촉 패드(404)에 접속시키는 도전성 라인(406)을 RDL(402)이 가질 수 있다. 일부 실시형태에서, 도전성 라인(406)은, 예컨대 비아(106)를 다른 비아(106)에, 다이(102) 마운트(114)에, 또는 다른 다이(102) 또는 디바이스에 전기 접속시킬 수 있다.
패키지 마운트(502)는 블록 1014에서, 도 5에 도시된 바와 같이 적용될 수 있고, 다이(102) 또는 회로가 이어서 테스트될 수 있다. 일실시형태에서, 패키지 마운트(502)는, 예컨대 볼 그리드 어레이를 포함하는 솔더 볼(silder ball)로서, RDL 접촉 패드(404)에 적용될 수 있다. 다른 실시형태에서, 패키지 마운트는 LGA(land grid array), 핀 어레이(pin array), 또는 다른 적합한 패키지 부착 시스템이 될 수 있다.
블록 1016에서 캐리어(112)가 디본딩(debonding)될 수 있고, 비아(106)가 노출된다. 도 6은 디본딩된 캐리어(112)를 가진 패키지를 나타낸다. 사용되는 접착층(110)을 노출시키거나 비아 및 성형기판을 노출시키기 위해 캐리어(112)가 제거될 수 있다. 일실시형태에서, 접착층(110)은 소프트하게 되거나(softened) 열, 자외선 광, 또는 용액(solvent)을 통해 약화될 수 있고, 캐리어(112)는 성형기판(202)으로부터 분리된다. 다른 실시형태에서, 캐리어(112)는 연삭 또는 연마 프로세스를 통해 제거될 수 있다.
도 7은 성형기판(202)의 제2 측면(202c)에서 노출되는 비아(106)를 갖는 본 개시의 실시형태에 의한 패키지를 나타낸다. 접착층(110)은, 연삭, 화학적 기계적 연마, 가열 등 또는 용액(solvent)와 같은 다른 수단에 의해 기계적으로 제거될 수 있다. 일부 실시형태에서, 성형기판(202)의 제2 측면(202c)과 비아의 제2 단부를 감소 또는 평탄화시키는 프로세스에서 접착층(110)이 제거될 수 있다. 캐리어(112)를 제거시키는 프로세스이 일부로서 접착층(110)이 제거될 수 있다. 따라서, 비아의 제2 단부는 성형기판(202)의 제2 측면(202c)과 실질적으로 평면이 될 수 있다. 또한, 다이(102)의 상면(102a)은 성형기판(202)의 제2 측면을 통해 노출될 수 있다. 성형기판(202)이 소망하는 또는 소정의 두께로 되게 하기 위해 성형기판(202)의 제2 측면(202c)에 적용되는 평탄화 프로세스가 사용될 수 있다. 예컨대 일실시형태에서, 다이(102)의 상면(102a)을 노출시키고, 이에 따라 성형기판(202)은 다이(102) 마운트(114)를 포함하는 다이(102)의 높이와 거의 동일한 두께를 갖도록 하기 위해 성형기판(202)이 감소될 수 있다.
제2 구조(802)가 블록 1018에서 장착될 수 있다. 도 8은 싱글 다이(102) 상에 장착된 제2 구조(802) 또는 다이를 가진 본 개시에 따라 제조된 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지 구조의 일실시형태를 나타낸다. 일실시형태에서, 제2 구조(802)의 저면이 다이(102)의 상면(102a)으로부터 분리되는 높이에서 제2 구조(802)가 장착될 수 있다. 일실시형태에서, 제2 구조(802)는 제2 기판(804)을 가질 수 있고, 비아(106)에 제2 구조(802)를 접속시키도록 하나 이상의 구조 커넥터(808)가 적용될 수 있다. 일실시형태에서, 구조 커넥터(808)는 제2 구조(802)의 저면 상의 랜드(land)에 적용되는 솔더 볼이 될 수 있다. 다른 실시형태에서, 구조 커넥터(808)는 솔더 페이스트(solder paste), 도전성 접착제(conductive adhesive) 등이 될 수 있다.
도 9는 본 개시에 의해 제조된 제2 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지 구조(900)의 다른 실시형태를 나타낸다. 일실시형태에서, 제2 구조(902)는 예컨대 와이드(wide) I/O DRAM 칩에서와 같이 핀 어레이를 가진 다이가 될 수 있다. 이러한 실시형태에서, 비아 칩(104)이 적어도 2개의 다이(102) 사이에 배치되도록 하기 위해, 성형기판(202)에 2개 이상의 다이(102)가 배치된 성형기판(202) 내에 싱글 비아 칩(104)이 배치될 수 있다.
따라서, 상기 관점에서, 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키지 구조를 형성하는 방법은 복수의 마운트(114)를 구비한 다이(102) 또는 액티브 디바이스(active device)를 캐리어(112) 상에 적용하는 스텝, 캐리어(112) 상에 하나 이상의 비아(106)를 제공하는 스텝, 및 비아(106) 주위 및 캐리어(112) 상에 성형기판(202)을 형성하는 스텝을 포함할 수 있다. 비아(106)를 노출시키기 위해 캐리어(112) 맞은편에 있는 제1 측면(202b) 상에서 성형기판(202)이 감소될 수 있다. 일부 실시형태에서, 다이(102) 상의 마운트(114)는 성형기판(202)의 제1 측면(202b)을 통해 노출될 수도 있다. 성형기판(202)의 제1 측면(202b)을 통해 노출되는 다이(102)의 마운트(114) 및 비아(106)의 단부는 성형기판(202)의 제1 측면(202b)과 실질적으로 평면이 될 수 있다. 접착층(110)은 캐리어(112) 상에 선택적으로 배치될 수 있고, 비아 및 다이는 접착층(110)에 의해 캐리어(112)에 부착된다. 또한, 성형기판(202)은 접착층(110) 상에 형성될 수 있다.
비아(106)를 구비하는 비아 칩(104)과 선택적으로 비아(106)를 분리하는 하나 이상의 유전체층(108)은 캐리어(112) 또는 접착층(110) 상에 비아(106)를 제공하는데 사용될 수 있다. 비아 칩(104)은, 접착층(110) 상의 하나 이상의 비아 칩(104)의 배치 이전에 접착층(110)과 캐리어(112)로부터 분리되어 형성될 수 있다. 비아 칩(104)의 유전체층(108)은 성형기판(202)으로부터 비아(106)를 분리시킬 수 있고, 유전체층(108)은 성형기판(202)과 상이한 물질을 포함한다. 일실시형태에서, 성형기판(202)은 비아 칩(104) 사이에 배치된 다이(102)를 가진 적어도 2개의 비아 칩(104)을 가질 수 있다. 다른 실시형태에서, 성형기판(202)은 2개의 다이(102) 사이에 배치된 비아 칩(104)과 접착층(110) 상의 적어도 2개의 다이(102)를 가질 수 있다.
복수의 RDL 접촉 패드(404)와 도전성 라인(406)을 구비한 RDL(402)은 성형기판(202)의 제1 측면(202b) 상에 형성될 수 있다. RDL 접촉 패드(404)는 다이(102)의 마운트(114)의 본드 피치보다 더 큰 본드 피치를 가질 수 있고, 패키지 마운트(502)는 RDL 접촉 패드(404) 상에 배치될 수 있다.
캐리어(112)는 디본딩될 수 있고, 접착층(110)은 제거된다. 제1 측면(202b) 맞은편의 성형기판(202)의 제2 측면을 통해 하나 이상의 비아(106)가 노출될 수 있다. 제2 구조(802)는 성형기판(202)의 제2 측면에서 장착될 수 있고, 제2 구조(802) 상에는 적어도 하나의 비아(106)와 전기적으로 통신하는 적어도 하나의 다이(102)가 배치된다. 일실시형태에서, 제2 구조(802) 상의 다이(102)는 적어도 비아(106)를 거쳐서 적어도 하나의 RDL 접촉 패드(404)와 전기적으로 통신한다.
본 발명과 그 장점을 상세히 설명했지만, 청구범위에 의해 규정되는 본 발명의 사상 및 범위로부터 벗어나지 않는 다양한 수정, 대체, 및 개조가 이루어질 수 있다는 것을 이해해야 한다. 상기 논의된 다수의 특징과 기능들은 다양한 물질 및 프로세싱 스텝의 순서를 사용하여 구현될 수 있다는 것을 당업자는 용이하게 이해할 것이다. 예컨대, 성형재료(202a)의 적용을 위해 구조를 제자리에 유지하기에 충분한 모든 적합한 수단에 의해 다이와 비아가 캐리어에 부착될 수 있다. 다른 예에서, 팬 아웃 웨이퍼 레벨 구조를 생성하기 위한 다수의 스텝이 본 발명의 범위 내에 유지되면서 임의의 유리한 순서로 수행될 수 있다는 것을 당업자는 용이하게 이해할 것이다.
또한, 본 출원의 범위는 명세서에 개시된 프로세스, 머신, 제조, 상황의 조합, 수단, 방법 및 스텝의 특정 실시형태에 한정되는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자는, 여기에 개시된 대응 실시형태가 본 발명에 따라 사용될 수 있음에 따라 실질적으로 동일 기능을 수행하거나 실질적으로 동일 결과를 달성하는 기존의 또는 나중에 개발될 프로세스, 머신, 제조, 상황의 조합, 수단, 방법, 또는 스텝을 본 발명으로부터 용이하게 인식할 것이다. 따라서, 청구범위는 이러한 프로세스, 장치, 제조, 상황의 조합, 수단, 방법, 또는 스텝 등이 그 범위 내에 포함되는 것으로 의도된다.

Claims (10)

  1. 패키지 구조 형성 방법에 있어서,
    복수의 마운트(mount)를 구비한 다이를 캐리어(carrier) 위에 적용하는 스텝;
    상기 캐리어 상에 하나 이상의 비아(via)를 제공하는 스텝;
    상기 비아 주위와 상기 캐리어 위에 성형기판(molded substrate)을 형성하는 스텝;
    상기 캐리어 맞은편의 상기 성형기판의 제1 측면을 연삭(grinding)하고, 상기 캐리어 맞은편의 상기 성형기판의 제1 측면에서 상기 하나 이상의 비아를 노출시키는 스텝;
    재배선층(RDL : redistribution layer)을 상기 성형기판의 상기 제1 측면 상에 형성하는 스텝으로서, 상기 RDL은 복수의 RDL 접촉 패드 및 상기 RDL 접촉 패드들에 전기적으로 접촉하는 하나 이상의 도전성 라인(conductive line)을 구비하고, 상기 도전성 라인은 상기 다이 상의 상기 복수의 마운트로부터 팬 아웃(fan out)하는, 상기 RDL을 형성하는 스텝; 및
    상기 제1 측면 맞은편의 상기 성형기판의 제2 측면에서 상기 하나 이상의 비아를 노출시키는 스텝
    을 포함하는,
    패키지 구조 형성 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 성형기판은 접착층을 포함하고, 상기 다이는 상기 접착층에 적용되고, 상기 성형기판은 상기 접착층 상에 형성되는,
    패키지 구조 형성 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 성형기판의 상기 제1 측면을 감소시키는 스텝은, 상기 다이 상의 상기 복수의 마운트를 노출시키는 스텝을 더 포함하는,
    패키지 구조 형성 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 RDL을 형성하는 스텝은, 상기 다이 상의 상기 복수의 마운트의 본드 피치(bond pitch)보다 더 큰 본드 피치를 가진 상기 RDL 접촉 패드를 형성하는 스텝을 더 포함하는,
    패키지 구조 형성 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 성형기판의 상기 제2 측면에서 제2 다이를 장착(mounting)하는 스텝을 더 포함하고, 상기 제2 구조 상에는 하나 이상의 비아와 전기적으로 통신하는 적어도 하나의 다이가 배치되는,
    패키지 구조 형성 방법.
  6. 패키지 구조 형성 방법에 있어서,
    캐리어의 제1 측면 상에 접착제를 구비한 상기 캐리어를 제공하는 스텝;
    복수의 마운트를 구비한 다이를 상기 접착제 상에 적용하는 스텝;
    상기 접착제 상에 비아를 제공하는 스텝;
    상기 비아와 상기 다이 주위와 상기 캐리어 위에 성형기판을 형성하는 스텝;
    RDL(redistribution layer)을 상기 성형기판의 제1 측면 상에 형성하는 스텝으로서, 상기 RDL은 복수의 RDL 접촉 패드 및 상기 RDL 접촉 패드들에 전기적으로 접촉하는 적어도 하나의 도전성 라인(conductive line)을 구비하고, 상기 도전성 라인은 상기 다이 상의 상기 복수의 마운트들로부터 팬 아웃(fan out)하는, 상기 RDL을 형성하는 스텝;
    상기 RDL 접촉 패드 상에 복수의 패키지 마운트를 적용하는 스텝; 및
    상기 비아 상에 그리고 상기 다이 위에 제2 다이를 장착(mounting)하는 스텝
    을 포함하는,
    패키지 구조 형성 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 비아를 제공하는 스텝은, 적어도 하나의 바아를 각각 포함하는 하나 이상의 비아 칩을 상기 접착제 상에 제공하는 스텝을 포함하는,
    패키지 구조 형성 방법.
  8. 패키지에 있어서,
    성형기판;
    상기 성형기판 내에 적어도 부분적으로 배치되고, 적어도 하나의 마운트를 구비한, 다이;
    상기 성형기판 내에 배치되고, 상기 성형기판의 제1 측면에서 제1 단부를 구비하고, 상기 제1 측면 맞은편의 상기 성형기판의 제2 측면에서 제2 단부를 구비하는, 적어도 하나의 비아; 및
    상기 성형기판의 상기 제1 측면 상에 형성된 제1 재배선층(RDL)으로서, 상기 제1 RDL은 복수의 RDL 접촉 패드 및 상기 RDL 접촉 패드들에 전기적으로 접촉하는 복수의 도전성 라인(conductive line)을 구비하고, 상기 복수의 도전성 라인은 상기 다이 상의 상기 적어도 하나의 마운트로부터 팬 아웃(fan out)하는, 상기 제1 RDL,
    을 포함하는,
    패키지.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 비아의 상기 제1 단부와 상기 다이의 상기 적어도 하나의 마운트는 상기 성형기판의 상기 제1 측면을 통해 노출되는,
    패키지.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 비아는 적어도 하나의 비아 칩 내에 배치되고, 상기 적어도 하나의 비아 칩은 상기 성형기판으로부터 상기 비아를 분리시키는 유전체층을 포함하는,
    패키지.
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