KR101388161B1 - 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더 - Google Patents

애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더 Download PDF

Info

Publication number
KR101388161B1
KR101388161B1 KR1020080020303A KR20080020303A KR101388161B1 KR 101388161 B1 KR101388161 B1 KR 101388161B1 KR 1020080020303 A KR1020080020303 A KR 1020080020303A KR 20080020303 A KR20080020303 A KR 20080020303A KR 101388161 B1 KR101388161 B1 KR 101388161B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
anode
holder
anode holder
plating
substrate
Prior art date
Application number
KR1020080020303A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20090019671A (ko
Inventor
미츠토시 야하기
겐이치 아베
유지 아라키
요시오 미나미
도모야스 나가유미
Original Assignee
가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 filed Critical 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
Publication of KR20090019671A publication Critical patent/KR20090019671A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101388161B1 publication Critical patent/KR101388161B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C25D17/12Shape or form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/28Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
    • H01L21/283Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current
    • H01L21/288Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a liquid, e.g. electrolytic deposition

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 컨덕팅 벨트는 반도체웨이퍼와 같은 기판의 표면을 도금하기 위해 전류를 애노드에 공급하기 위한 애노드 홀더용으로 사용된다. 상기 애노드 및 기판은 도금장치의 도금탱크 내에서 서로 마주보도록 수직방향으로 배치된다. 상기 컨덕팅 벨트는 상기 애노드의 외주에지와 접촉하여 상기 애노드를 유지시킬 수 있는 벨트를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더{CONDUCTING BELT FOR USE WITH ANODE HOLDER AND ANODE HOLDER}
본 발명은 애노드 홀더(anode holder)용 컨덕팅 벨트(conducting belt) 및 애노드 홀더에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체웨이퍼와 같은 기판의 표면을 도금하기 위해 전류를 애노드에 공급하기 위한 컨덕팅 벨트 및 이러한 애노드를 유지하기 위한 애노드 홀더에 관한 것이다. 본 발명은 또한 컨덕팅 벨트를 이용하여 기판을 도금하기 위한 도금장치에 관한 것이다. 상기 도금장치는 반도체기판의 표면 상에 범프(bumps)를 형성하기 위한 범프도금장치 또는 예컨대 직경이 10 ㎛ 내지 20 ㎛ 이고, 깊이가 70 ㎛ 내지 150 ㎛ 인 종횡비가 크고 깊이가 깊은 비아홀(via holes)을 도금하기 위한 도금장치일 수도 있다.
최근, 반도체회로의 인터커넥션(interconnections) 및 범프 형성 시 도금공정에 의해 반도체웨이퍼와 같은 기판 상에 금속막 및 유기막을 형성하는 방법이 사용되어 왔다. 예를 들어, 반도체회로들을 연결하기 위한 미세한 인터커넥션 및 반도체회로를 구비한 반도체웨이퍼의 표면 상의 소정의 부분에 금, 은, 구리, 땜납, 니켈 또는 이들 금속의 다층의 인터커넥션 또는 범프(돌출연결전극)를 형성하는 것 이 널리 실시되어, 상기 반도체회로를 범프를 통해 패키지 기판의 전극 또는 TAB(tape automated bonding) 전극에 전기적으로 연결시키게 된다. 상기 인터커넥션 및 범프는 전기도금법, 무전해도금법, 기상증착법 및 프린팅법을 포함하는 여하한의 각종 방법들에 의해 형성될 수도 있다. 이들 방법 가운데, 전기도금공정이 가장 널리 사용되어 왔는데, 그 이유는 I/O 단자가 보다 많고 피치가 보다 작은 반도체칩을 생산하기 위해 보다 높은 막증착율로 보다 미세한 패턴을 생성할 수 있기 때문이다. 상세한 설명을 위해서, 일본특허공개공보 제2000-96292호를 참조할 수 있다. 가장 널리 사용되는 전기도금공정에 의해 형성되는 금속막은 순도가 높고, 증착율이 높으며, 막두께 제어가 용이한 특성을 가진다.
첨부도면들 가운데 도 15는 기판과 애노드가 도금탱크 내에 수직방향으로 배치되는 수직침지(vertical-immersion)도금장치를 개략적으로 보여준다. 도 15에 도시된 바와 같이, 상기 도금장치는 도금용액(Q)을 내부에 함유하는 도금탱크(101)를 포함한다. 애노드 홀더(102)에 의해 유지된 애노드(103) 및 기판 홀더(104)에 의해 유지된 기판(W)은 상기 애노드(103)와 기판(W)이 서로 마주보는 관계로 이격되어 서로 평행하게 놓여 있는 방식으로 상기 도금용액(Q) 안에 수직방향으로 침지된다. 전류가 도금전원(105)에 의하여 애노드(103)와 기판(W) 사이에 공급되면, 상기 기판 홀더(104)로부터 노출되는 기판(W)의 표면(W1)이 전기도금된다. 상기 도금탱크(101)는 도금용액(Q)을 유입구(111)로부터 도금탱크(101)로 공급하고, 상기 도금용액(Q)을 상기 도금탱크(101)로부터 유출구(112)를 통해 배출시킴으로써, 도금용액(Q)을 순환시키기 위한 도금용액순환장치(106)와 조합된다.
도 15에 도시된 바와 같이, 상기 수직침지도금장치는 애노드 홀더(102)에 의해 유지되는 애노드(103)를 마주보도록 기판(W)을 배치시켜 상기 기판(W)의 도금을 수행한다. 애노드로서 판형 애노드가 도시되어 있지만, 케이지 내에 하우징된 애노드 볼이 애노드로 사용될 수도 있다. 하지만, 애노드 홀더에 의해 유지되는 판형 애노드는 다음과 같은 장점들을 제공한다:
1) 차폐판(shield plate)이 애노드 홀더 상에 탑재될 수도 있고, 이러한 차폐판은 애노드의 개방 직경을 조정하는 것을 가능하게 하여, 평면내 균일성(in-plane uniformity)을 용이하게 제어할 수 있게 한다(예컨대, 일본특허공개공보 제2005-29863호 참조).
2) 애노드는 판 형태이기 때문에, 상기 애노드가 기판에 평행하게 유지되기 쉬워 평면내 균일성을 향상시킬 수 있게 된다.
상술된 바와 같이, 기판이 수직침지도금장치에 의해 도금되고 있는 동안, 애노드를 유지하기 위해 애노드 홀더를 이용하는 것이 좋다. 하지만, 상기 도금장치는 보다 미세한 인터커넥션 및 향상된 스루풋을 위한 성장 요건들을 충족시키기 위하여 다음과 같은 기능들을 가져야만 한다.
1) 기판 상에 형성될 보다 미세한 인터커넥션이 전류의 애노드로의 공급의 확실성을 요구함.
2) 처리될 기판의 크기가 커짐에 따라, 애노드의 크기 또한 더욱 크다. 보다 큰 애노드는 그 중량으로 인해 또다른 애노드와 수동으로 손쉽게 대체될 수 없기 때문에, 애노드 교체를 위하여 새로운 지그(jig)가 필요하다.
3) 상기 애노드의 교체는 단시간 내에 효율적으로 수행되어야 한다.
본 발명의 목적은 전류를 애노드에 신뢰성 있게 공급할 수 있고, 상기 애노드를 새로운 애노드로 용이하게 교체할 수 있으며, 애노드의 교체 작업의 효율성을 개선하여 작업 시간을 단축시킬 수 있는 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더를 제공하는 것이다.
본 발명의 제1실시형태에 따르면, 전류를 애노드에 공급하기 위한 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트가 제공되되, 상기 애노드 및 기판이 도금장치의 도금탱크 내에서 서로 마주보도록 수직방향으로 배치되며, 상기 컨덕팅 벨트는 상기 애노드의 외주에지(edge)와 접촉하여 상기 애노드를 유지시킬 수 있는 벨트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 컨덕팅 벨트는 원형 벨트에 의해 애노드의 외주에지를 타이트하게 함으로써 디스크형 애노드를 유지할 수 있다. 상기 벨트는 애노드의 외주에지를 타이트하게 함으로써, 전류가 컨덕팅 벨트를 통해 애노드로 신뢰성 있게 공급된다. 따라서, 애노드와 컨덕팅 벨트간의 위치 정렬을 수행할 필요가 없게 되어, 상기 애노드를 교체하는 데 필요한 시간이 단축될 수 있다. 상기 컨덕팅 벨트는 보통 1 cm 내지 2 cm 의 폭을 가지므로, 상기 컨덕팅 벨트와 상기 애노드간의 접촉 면적이 넓고, 상기 컨덕팅 벨트와 애노드간의 여하한의 접촉 저항이 감소될 수 있 게 된다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 벨트는 실질적으로 상기 에노드의 외주에지 전체와 접촉할 수 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 벨트는 상기 애노드를 유지하도록 패스너(fastener)에 의해 서로 체결되는 대향 단부들을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 패스너는 볼트와 너트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 벨트의 일 단부에 고정된 전도성 브래킷을 더 포함하여 이루어지고, 상기 전도성 브래킷은 상기 전류를 공급하기 위한 콘택트(contact)를 구비하는 것을 특징으로 하는 컨덕팅 벨트가 제공된다.
본 발명의 제2실시형태에 따르면, 애노드를 수직방향으로 유지하기 위한 애노드 홀더가 제공되되, 상기 애노드 및 기판이 도금장치의 도금탱크 내에서 서로 마주하도록 수직방향으로 배치되고, 상기 애노드 홀더는 전류를 상기 애노드에 공급하기 위한 컨덕팅 벨트를 하우징하기 위해 구멍이 내부에 형성된 애노드 홀더 베이스; 및 상기 애노드의 전방면의 일부분을 커버하기 위해 상기 애노드 홀더 베이스 상에 탑재된 애노드 마스크를 포함하여 이루어지고, 상기 컨덕팅 벨트는 상기 애노드의 외주에지와 접촉할 수 있고 상기 애노드를 유지시킬 수 있는 벨트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 상기 애노드의 노출 영역이 애노드 마스크에 의해 조정될 수 있다. 또한, 상기 컨덕팅 벨트는 애노드 홀더에 의해 마스킹되어, 도금공정 시에 도금용액에 노출되지 않는다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 애노드 홀더는 상기 애노드의 후방면을 커버하기 위해 상기 애노드 홀더 베이스의 후방면 상에 탑재된 후방 커버(rear cover)를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 애노드 마스크는 원형 개구부를 구비하고, 상기 원형 개구부는 상기 애노드의 직경보다 작은 직경을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 애노드 홀더는 상기 애노드 홀더를 이송하기 위한 핸드(hand)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 애노드 홀더 베이스는 용액을 배출시키기 위한 용액배출구멍을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제3실시형태에 따르면, 애노드를 유지하는 애노드 홀더와 그 위에 기판을 서로 마주보는 관계로 유지하는 기판 홀더를 그 안에 수직방향으로 배치하기 위한 도금탱크; 상기 애노드 홀더를 교환하기 위한 임시저장유닛; 및 상기 도금탱크와 상기 임시저장유닛간에 상기 애노드 홀더를 이송하기 위한 이송로봇을 포함하여 이루어지고, 상기 애노드 홀더는 전류를 상기 애노드에 공급하기 위한 컨덕팅 벨트를 하우징하기 위해 구멍이 내부에 형성된 애노드 홀더 베이스; 및 상기 애노드의 전방면의 일부분을 커버하기 위해 상기 애노드 홀더 베이스 상에 탑재된 애노드 마스크를 포함하여 이루어지며, 상기 컨덕팅 벨트는 상기 애노드의 외주에지와 접촉할 수 있고 상기 애노드를 유지시킬 수 있는 벨트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 도금장치가 제공된다.
본 발명에 따르면, 이송로봇과 맞서는 구조를 갖는 애노드 홀더가 상기 이송로봇에 의해 운반될 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 도금장치는 애노드 홀더를 세정하기 위한 세정탱크(cleaning tank)를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 도금장치는 애노드 홀더로부터 물방울을 제거하기 위한 송풍탱크(blowing tank)를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 상기 애노드 홀더는 애노드 홀더가 세정수에 의해 세정되고, 물방울(water droplet)이 상기 애노드 홀더로부터 제거된 후에 이송로봇에 의하여 제거부를 통해 장치의 외부로 이송될 수 있다.
본 발명의 제4실시형태에 따르면, 전류를 애노드에 공급하기 위한 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트에 의해 유지되는 애노드가 제공되되, 상기 애노드 및 기판이 도금장치의 도금탱크 내에서 서로 마주보도록 수직방향으로 배치되며, 상기 컨덕팅 벨트는 상기 애노드의 외주에지와 접촉할 수 있고 상기 애노드를 유지시킬 수 있는 벨트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 애노드는 디스크형인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 컨덕팅 벨트는 다음과 같은 장점들을 제공한다.
1) 컨덕팅 벨트가 애노드의 외주에지 전체 또는 거의 전체와 접촉하게 되기 때문에, 상기 컨덕팅 벨트는 전류를 상기 애노드의 외주에지 전체 또는 거의 전체로부터 애노드로 공급할 수 있다. 그러므로, 상기 컨덕팅 벨트와 애노드간에 발생하는 접촉 실패가 방지된다.
2) 컨덕팅 벨트와 애노드간의 접촉 면적이 넓기 때문에, 상기 컨덕팅 벨트와 애노드간의 여하한의 접촉 저항이 감소된다.
3) 애노드의 외주에지 전체 또는 거의 전체가 컨덕팅 벨트에 의해 고정되기 때문에, 상기 애노드와 컨덕팅 벨트간의 위치 정렬을 수행할 필요가 없게 된다. 또한, 상기 애노드가 용이하게 기계가공될 수 있는 데, 그 이유는 애노드가 원형 디스크의 형태이기 때문이다.
4) 애노드는 컨덕팅 벨트를 느슨하게 하고, 새로운 애노드를 제 위치에 배치하여, 상기 컨덕팅 벨트를 다시 타이트하게 함으로써 간단히 새로운 것으로 용이하게 교체될 수 있다.
5) 애노드는 원형 디스크의 형태이면서 컨덕팅 벨트에 의해 유지되기 때문에, 상기 애노드는 낭비되는 영역이 없게 된다.
본 발명에 따른 애노드 홀더는 다음과 같은 장점들을 제공한다.
1) 애노드는 후방 커버를 제거하고, 패스너를 느슨하게 하며, 새로운 애노드를 제 위치에 배치하고, 상기 패스너를 다시 타이트하게 하며, 상기 후방 커버를 다시 부착함으로써 간단히 새로운 것으로 용이하게 교체될 수 있다.
2) 애노드 마스크는 그 내경이 애노드의 직경보다 작다. 그러므로, 컨덕팅 벨트에 의해 유지되는 애노드가 그 교체 시기를 초과하여 과사용되는 경우에도, 상기 애노드가 애노드 홀더에서 떨어져 나가거나 도전성 오류를 겪게 되는 것이 방지된다.
3) 애노드 홀더의 하단부에 형성된 용액배출구멍은 도금용액을 애노드 홀더로부터 상기 용액배출구멍을 통해 신속하면서도 신뢰성 있게 배출시킨다.
본 발명에 따른 도금장치는 다음과 같은 장점들을 제공한다.
1) 애노드 홀더는 완전 자동화된 이송로봇에 의해 제거되기 때문에, 상기 애노드 홀더는 용이하게 교체될 수 있다.
2) 도금장치로부터 애노드 홀더를 제거하기 위하여, 상기 애노드 홀더는 이송로봇에 의해 도금탱크 밖으로 꺼내지고, 상기 애노드 홀더로부터 도금용액을 제거하기 위해 세정탱크 내에서 세정된다. 그 후, 송풍탱크에서 애노드 홀더로부터 물방울이 제거되며, 상기 애노드 홀더는 도금장치로부터 임시저장유닛을 통과하여 제거된다. 따라서, 조작자가 애노드 홀더의 제거를 위해 도금용액을 만질 필요가 없게 되어, 조작자의 안전성이 보장될 수 있다.
3) 애노드 홀더가 용이하게 제거될 수 있기 때문에, 애노드 마스크가 용이하게 교체될 수 있다.
4) 이송로봇은 고레벨의 위치설정 정확성을 가지며, 미세한 위치 조정을 수행할 수 있다. 결과적으로, 애노드 홀더가 높은 복원력을 가지고 원하는 위치에 배치될 수 있어, 기판과 애노드간의 전극간 거리(interelectrode distance)가 용이하 게 변경될 수 있다.
본 발명의 상기 목적과 기타 목적, 특징 및 장점들은 예시를 통하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명하는 첨부도면들과 연계하여 후술하는 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 애노드 홀더 및 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트를 도 1 내지 도 8을 참조하여 설명하기로 한다. 상기 컨덕팅 벨트와 애노드 홀더는 통상적으로 도 15에 도시된 바와 같이 수직침지도금장치에서 이용된다. 도금탱크를 구비한 도금장치의 구조적 상세는 후술하는 실시예들에서는 기술하지 않기로 한다.
도 1 내지 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트를 보여준다. 도 1은 애노드를 유지하는 컨덕팅 벨트의 정면도이고, 도 2는 컨덕팅 벨트의 측면도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 대체로 1로 표시된 컨덕팅 벨트는 티탄과 같은 전도성 재료로 이루어진 링 형태의 벨트형 박판을 포함하여 이루어진다. 상기 컨덕팅 벨트는 그 안에 핏팅된 디스크형 애노드(5)를 유지시킨다. 상기 컨덕팅 벨트(1)는 그 안에 애노드(5)를 고정하기 위해 볼트(6)와 너트(7)에 의해 서로 체결되는 대향 단부(1a, 1b)를 구비한다. 상기 컨덕팅 벨트(1)는 두께가 1 mm 내지 3 mm 이고, 폭이 1 cm 내지 2 cm 이다. 피도금기판(W)은 원형 디스크 형태이기 때문에, 애노드(5) 또한 원형 디스크 형태이다. 애노드(5)는 외경이 150 mm 내지 300 mm 이고, 두께가 10 mm 내지 20 mm 이다.
도 3은 도 1의 원으로 표시된 영역 A을 도시한 확대도로서, 체결된 조립체를 상세히 보여준다. 도 3에 도시된 바와 같이, 볼트(6)는 컨덕팅 벨트(1)의 대향 단부(1a, 1b) 안으로 삽입되고, 이중 너트(7)는 상기 컨덕팅 벨트(1)에 의해 애노드(5)를 체결하도록 상기 볼트(6) 상에 나사결합된다. 상기 원형 애노드(5)는 그 외주에지가 상기 컨덕팅 벨트(1)의 내주면과 전체적으로 또는 거의 전체적으로 근접하여 있다.
도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 전도성 브래킷(2)은 볼트(8)와 이중 너트(9)에 의해 컨덕팅 벨트(1)의 단부(1a)에 고정된다. 상기 전도성 브래킷(2)은 그 원단부 상에 콘택트(3)를 구비한다. 상기 콘택트(3)는 도금탱크 내에 제공된 콘택트(도시안됨)와 접촉하게 되어, 상기 콘택트(3)에 도금전원으로부터 전류가 공급될 수 있게 된다.
도 4는 컨덕팅 벨트(1)의 사시도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 컨덕팅 벨트(1)의 단부(1a, 1b)는 원형 박판으로부터 바깥쪽 방사상으로 거의 90°의 각도로 구부러져 있다. 상기 단부(1a, 1b)는 볼트(6)를 삽입하기 위해 그 안에 형성된 볼트삽입구멍(1c)을 구비한다. 단부(1a)는 단부(1b) 보다 길고, 볼트(8)를 삽입하기 위해 그 안에 형성된 노치(1d)를 구비한다.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이 구성된 컨덕팅 벨트(1)는 다음과 같은 장점들을 제공한다.
1) 컨덕팅 벨트(1)가 애노드(5)의 외주에지 전체 또는 거의 전체와 접촉하게 되기 때문에, 상기 컨덕팅 벨트(1)는 전류를 애노드(5)의 외주에지 전체 또는 거의 전체로부터 상기 애노드(5)로 공급할 수 있다. 그러므로, 상기 컨덕팅 벨트(1)와 애노드(5)간에 발생하는 접촉 실패가 방지된다.
2) 컨덕팅 벨트(1)와 애노드(5)간의 접촉 면적이 넓기 때문에, 상기 컨덕팅 벨트(1)와 애노드(5)간의 여하한의 접촉 저항이 감소된다.
3) 애노드(5)의 외주에지 전체 또는 거의 전체가 컨덕팅 벨트(1)에 의해 고정되기 때문에, 상기 애노드(5)와 컨덕팅 벨트(1)간의 위치 정렬을 수행할 필요가 없게 된다. 또한, 상기 애노드(5)가 용이하게 기계가공될 수 있는 데, 그 이유는 애노드(5)가 원형 디스크의 형태이기 때문이다.
4) 애노드(5)는 컨덕팅 벨트(1)를 느슨하게 하고, 새로운 애노드를 제 위치에 배치하여, 상기 컨덕팅 벨트(1)를 다시 타이트하게 함으로써 간단히 새로운 것으로 용이하게 교체될 수 있다.
5) 애노드(5)는 원형 디스크의 형태이면서 컨덕팅 벨트(1)에 의해 유지되기 때문에, 상기 애노드(5)는 낭비되는 영역이 없게 된다.
도 1 내지 도 4에 도시된 애노드(5) 및 컨덕팅 벨트(1)는 도 5 내지 도 7에 도시된 애노드 홀더(10)에 의해 유지된다. 이하, 애노드 홀더(10)를 도 5 내지 도 7을 참조하여 설명하기로 한다.
도 5는 애노드 홀더(10)의 부분 단면의 정면도이고, 도 6은 도 5의 VI - VI 선을 따라 취한 단면도이며, 도 7은 애노드 홀더(10)의 분해사시도이다. 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 애노드 홀더(10)는 컨덕팅 벨트(1)에 의해 유지되는 애 노드(5)를 그 위에 탑재하기 위한 애노드 홀더 베이스(11), 상기 애노드(5)의 뒷면을 유지하기 위해 상기 애노드 홀더 베이스(11)의 뒷면 상에 탑재된 후방 커버(12) 및 상기 애노드(5)의 앞면의 일부분을 커버하기 위해 상기 애노드 홀더 베이스(11)의 전방면 상에 탑재된 애노드 마스크(13)를 포함하여 이루어진다.
도 7에 도시된 바와 같이, 상기 애노드 홀더 베이스(11)는 실질적으로 직사각형 박판의 형태이고, 컨덕팅 벨트(1)에 의해 유지되는 애노드(5)를 하우징하기 위해 그 안에 중앙에 형성된 원형의 하우징 구멍(11a)을 구비한다. 상기 애노드 홀더 베이스(11)는, 마멸된 애노드를 교체하기 위해 로봇이 애노드 홀더(10)를 이송할 때, 로봇이 잡을 수 있는 상단부 상에 실질적으로 T-형상의 한 쌍의 핸드(11b, 11b)를 구비한다. 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 컨덕팅 벨트(1)에 연결된 전도성 브래킷(2)의 원단부 상의 콘택트(3)는 상기 핸드 중 하나(11b)의 하부면 상에 유지된다. 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 애노드 홀더 베이스(11)는, 애노드 교체를 위하여 애노드 홀더(10)가 도금탱크로부터 상승될 때, 상기 애노드 홀더(10)로부터 도금용액을 신속하면서도 신뢰성 있게 배출시킬 수 있도록 그 하단부에 형성된 용액배출구멍(11h)을 구비한다.
도 7에 도시된 바와 같이, 상기 후방 커버(12)는 실질적으로 직사각형의 박판 형태이고, 그 위에 중앙에 배치된 원형의 가압부(12a)를 구비한다. 도 6에 도시된 바와 같이, 원형의 가압부(12a)는 후방 커버(12)의 외주영역보다 약간 두껍다. 따라서, 상기 원형의 가압부(12a)는, 후방 커버(12)가 애노드 홀더 베이스(11) 상에 탑재될 때, 상기 애노드 홀더 베이스(11)의 원형의 하우징 구멍(11a) 안으로 핏 팅된다. 결과적으로, 상기 원형의 가압부(12a)는 상기 원형의 하우징 구멍(11a) 내에 하우징되는 애노드(5)의 후방면을 가압한다.
상기 애노드 마스크(13)는 그 안에 형성된 중앙 개구부(13a)를 구비한 환형판의 형태를 가진다. 상기 애노드 마스크(13)의 개구부(13a)는 애노드(5)의 직경보다 작은 직경을 가져, 상기 애노드 홀더 베이스(11) 상에 탑재된 애노드 마스크(13)가 상기 하우징 구멍(11a) 안에 하우징된 애노드(5)의 외주부를 커버 또는 마스킹하도록 한다. 상기 개구부(13a)의 직경은 상기 애노드(5)의 전방면 상의 전기장을 제어하도록 선택될 수 있다. 상기 애노드 마스크(13)는 염화비닐, PEEK(polyether ether ketone), PVDF(polyvinylidene difluoride) 등으로 제조된다.
도 5 내지 도 7에서, 애노드 홀더 베이스(11) 상에 탑재된 애노드(5)는 그 후방면이 후방 커버(12)에 의해 가압된다. 하지만, 상기 애노드(5)는 그 전방면이 전방 커버에 의해 가압될 수도 있다. 이러한 수정예에서는, 애노드 마스크가 전방 커버 상에 탑재될 수도 있고, 또는 상기 전방 커버가 애노드 마스크로서 배가될 수도 있다.
도 5 내지 도 7에 도시된 애노드 홀더(10)는 다음과 같은 장점들을 제공한다.
1) 애노드(5)는 후방 커버(12)를 제거하고, 이중 너트(7)를 느슨하게 하며, 새로운 애노드(5)를 제 위치에 배치하고, 상기 이중 너트(7)를 다시 타이트하게 하며, 상기 후방 커버(12)를 다시 부착함으로써 간단히 새로운 것으로 용이하게 교체 될 수 있다.
2) 애노드 마스크(13)는 그 내경이 애노드(5)의 직경보다 작다. 그러므로, 컨덕팅 벨트(1)에 의해 유지되는 애노드(5)가 그 교체 시기를 초과하여 과사용되는 경우에도, 상기 애노드(5)가 애노드 홀더(10)에서 떨어져 나가거나 도전성 오류를 겪게 되는 것이 방지된다.
3) 애노드 홀더(10)의 하단부에 형성된 용액배출구멍(11h)은, 애노드 홀더(10)가 도금탱크로부터 상승될 때, 도금용액을 상기 애노드 홀더(10)로부터 신속하면서도 신뢰성 있게 배출시킨다.
도 8은 도금용액 내에 침지된 애노드 홀더(10)를 보여준다. 도 8에 도시된 바와 같이, 애노드 홀더(10)는 핸드(11b, 11b)가 도금용액레벨(L) 상방에 위치되는 방식으로 도금용액 내에 배치된다. 상기 핸드(11b, 11b) 중 하나 위에 유지되는 콘택트(3)는 도금탱크 내에 제공되는 홀더(15)에 고정된 접촉판(16)과 접촉하게 된다. 상기 접촉판(16)은 전기공급라인(17)을 통해 도금전원(도 8에는 도시안됨)에 연결된다. 그러므로, 상기 도금전원으로부터 상기 전기공급라인(17) 및 접촉판(16)을 통해, 콘택트(3)에 연결되는 애노드 홀더(10)에 의해 유지된 애노드(5)에 전류가 공급된다.
도 9는 도 1 내지 도 4에 도시된 컨덕팅 벨트(1)와 도 5 내지 도 7에 도시된 애노드 홀더(10)를 통합한 도금장치의 개략적인 평면도이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 도금장치는 기판(W)을 로딩 및 언로딩하기 위한 로딩/언로딩유닛(U1), 및 기판(W)의 도금, 기판(W)의 세정 등을 포함하는 각종 처 리를 수행하기 위한 도금처리유닛(U2)을 포함하여 이루어진다. 상기 로딩/언로딩유닛(U1)은 반도체웨이퍼와 같은 기판(W)을 하우징하는 카세트(20)를 그 위에 배치하기 위한 3개의 카세트 테이블(22), 기판(W)의 노치 또는 오리엔테이션 플랫(orientation flat)을 소정의 방향으로 정렬하기 위한 얼라이너(24) 및 도금된 기판을 고속으로 스핀시켜 상기 도금된 기판(W)을 건조하기 위한 스핀 드라이어(26)를 포함하여 이루어진다. 상기 로딩/언로딩유닛(U1)은 또한 기판 홀더(18)를 그 위에 배치하고, 기판(W)을 상기 기판 홀더(18) 상에 탑재하며 상기 기판 홀더(18)로부터 기판(W)을 떼어내기 위한 기판탑재/탑재해제유닛(30)을 구비한다. 상기 카세트 테이블(22), 얼라이너(24), 스핀 드라이어(26) 및 기판탑재/탑재해제유닛(30)은 상기 카세트 테이블(22), 얼라이너(24), 스핀 드라이어(26) 및 기판탑재/탑재해제유닛(30) 사이에서 기판(W)들을 이송하기 위한 이송 로봇(32) 주위에 배치된다.
상기 도금유닛(U2)은 기판탑재/탑재해제유닛(30)으로부터 순서대로 연속해서, 기판 홀더(18)를 저장 및 임시 배치하기 위한 스토커(stocker; 34), 기판(W)의 표면을 고도의 친수성으로 만들기 위해 기판(W)을 적시도록 기판(W)을 순수 내에 침지시키는 예비습식탱크(pre-wetting tank; 36), 황산이나 염산과 같은 화학용액으로 기판(W) 상에 형성된 시드층의 표면으로부터의 전기 저항이 큰 산화막을 에칭하기 위한 예비담금탱크(pre-soaking tank; 38), 애노드 홀더(10)와 기판(W)의 표면을 순수로 세정하기 위한 물세정탱크(40), 기판(W)을 도금하기 위한 도금탱크(44), 또다른 물세정탱크(40), 또다른 도금탱크(44), 또다른 물세정탱크(40) 및 상기 세정된 기판(W)과 세정된 애노드 홀더(10)로부터 물을 제거하기 위한 송풍탱크(42)를 포함하여 이루어진다. 각각의 도금탱크(44)는 기판(W)의 구리 도금을 수행하는 역할을 한다. 대안적으로, 각각의 도금탱크(44)는 기판(W)의 니켈 도금, 땜납 도금 또는 금 도금을 수행할 수도 있다.
상기 스토커와 탱크들 사이에서 기판(W)과 함께 기판 홀더(18)를 이송하기 위해 이송장치(50)가 스토커(34) 및 탱크(36, 38, 40, 42, 44) 곁에 배치된다. 상기 이송장치(50)는 기판탑재/탑재해제유닛(30)과 스토커(34) 사이에서 기판(W)을 이송하고, 상기 스토커(34), 예비습식탱크(36), 예비담금탱크(38), 물세정탱크(40), 도금탱크(44) 및 송풍탱크(42) 사이에서 기판(W)을 운반하기 위한 운반장치(52)를 포함한다. 상기 운반장치(52)는 또한 임시저장유닛(70)(후술함), 예비습식탱크(36), 예비담금탱크(38), 물세정탱크(40), 송풍탱크(42) 및 도금탱크(44) 사이에서 애노드 홀더(10)를 운반하는 역할도 한다.
상기 기판탑재/탑재해제유닛(30)은 수직 위치와 수평 위치 사이에서 90°의 각도로 회전축(45)을 중심으로 각을 이루면서 이동가능한 평탄한 지지판(46)을 포함하여 이루어진다. 상기 기판 홀더(18)는, 상기 평탄한 지지판(46)이 수평 위치에 있을 때, 상기 지지판(46) 상에서 서로 평행하게 배치된다. 기판(W)이 기판 홀더(18) 중 하나와 이송로봇(32) 사이에서 이송된 후, 상기 지지판(46)은 수평 위치로부터 수직 위치로 각도를 이루면서 이동되고, 상기 기판 홀더(18)를 운반장치(52)와 주고 받는다.
애노드 홀더(10)를 교체하고, 애노드 홀더(10)를 임시로 배치하기 위한 임시 저장유닛(70)은 물세정탱크(40)와 도금탱크(44) 사이에 배치된다. 대안적으로, 상기 임시저장유닛(70)은 스토커(34)와 송풍탱크(42) 사이에 위치한 여하한의 인접한 장비들간의 여하한의 위치에 배치될 수도 있다. 또한, 상기 임시저장유닛(70)은 도 9에 가상선으로 표시된 바와 같이 송풍탱크(42)와 하우징(47) 사이에 배치될 수도 있다.
상기 애노드 홀더(10)의 상단부 상에 제공된 실질적으로 T-형상의 핸드(11b, 11b)는 애노드 홀더(10)를 이송하거나 상기 애노드 홀더(10)를 현수하기 위한 지지부로서의 역할을 한다(도 5 및 도 8 참조). 상기 임시저장유닛(70)에서는, 애노드 홀더(10)가 임시저장유닛(70)의 원주벽의 상부면 상에 달려 있는 핸드(11b)에 의해 수직방향으로 현수된다. 또한, 상기 애노드 홀더(10)는 운반장치(52)에 의해 잡힌 현수된 애노드 홀더(10)의 핸드(11b)와 함께 상기 운반장치(52)에 의해 이송된다. 각각의 예비습식탱크(36), 예비담금탱크(38), 물세정탱크(40), 송풍탱크(42) 및 도금탱크(44)에서는, 상기 애노드 홀더(10)가 상기 탱크의 원주벽의 상부면 상에 달려 있는 핸드(11b)에 의해 현수된다.
도 10 및 도 11은 이송장치(50)의 구동유닛으로서 리니어모터유닛(85)을 보여준다. 구체적으로, 도 10은 이송장치(50)의 리니어모터유닛(58)의 평면도이고, 도 11은 도 10에 도시된 리니어모터유닛(58)의 정면도이다. 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 리니어모터유닛(85)은 기본적으로 세장형 베이스(86) 및 상기 베이스(86)를 따라 이동가능한 슬라이더(87)를 포함하여 이루어진다. 상기 운반장치(52)는 상기 슬라이더(87)의 상부면 상에 탑재된다. 상기 베이스(86)의 곁에는 케이블 컨베이어 브래킷(89) 및 케이블 컨베이어 리시버(90)가 배치되고, 상기 케이블 컨베이어 브래킷(89) 및 케이블 컨베이어 리시버(90)를 따라 케이블 컨베이어(92)가 연장된다.
도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 운반장치(52)는 리니어모터유닛(85)에 의해 구동되기 때문에, 상기 운반장치(52)는 긴 거리에 걸쳐 이동될 수 있고, 그 길이가 감소되어 상기 이송장치(50)의 전체 길이를 감소시킬 수 있다. 상기 이송장치(50)는 치수 정확성과 유지보수를 요구하는 긴 볼 스크루와 같은 구성요소들이 없을 수 있다.
도 12 내지 도 14는 운반장치(52)를 상세히 보여준다. 구체적으로, 도 12는 운반장치(52)의 정면도이고, 도 13은 운반장치(52)의 아암 상에 장착된 그리핑기구의 평면도이며, 도 14는 그리핑기구의 수직단면도이다. 상기 운반장치(52)는 기판 홀더(18)를 이송하고 애노드 홀더(10)도 이송하기 위한 이송로봇을 포함하여 이루어진다. 이하, 운반장치(52)가 애노드 홀더(10)를 이송하거나 운반하는 경우를 설명하기로 한다. 도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이, 상기 운반장치(52)는 기본적으로 운반장치본체(53), 상기 운반장치본체(53)로부터 횡방향으로 연장되는 아암(54), 상기 아암(54)을 승강시키기 위한 아암승강기구(55) 및 상기 애노드 홀더(10)의 핸드(11b)를 탈착가능하게 잡기 위해 상기 아암(54) 내에 배치된 그리핑기구(57)를 포함하여 이루어진다. 상기 아암승강기구(55)는 수직방향으로 연장되는 회전가능한 볼 스크루(58) 및 상기 볼 스크루(58) 상에 나사결합된 너트(59)를 포함하여 이루어진다. 상기 너트(59)에는 LM 베이스(60)가 결합된다. 승강모터(61)의 구동축에 고정된 구동풀리(62) 및 상기 볼 스크루(58)의 상단부에 고정된 피구동풀리(63) 주위에 타이밍 벨트(64)가 감겨져 있다. 상기 승강모터(61)의 구동축은 운반장치본체(53)에 고정된다. 승강모터(61)가 작동되면, 볼 스크루(58)가 타이밍 벨트(64)에 의해 그 자체축을 중심으로 회전되고, 상기 볼 스크루(58) 상에 나사결합되는 너트(59)에 결합된 LM 베이스(60)는 LM 가이드를 따라 수직방향으로 이동된다.
도 13 및 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 아암(54)은 그리핑기구(57)가 그 사이에 배치되는 한 쌍의 이격된 측판(74)을 구비한다. 두 그리핑기구(57)가 예시된 실시예에 도시되어 있지만, 그 구조는 서로 동일하기 때문에 그들 중 하나를 후술하기로 한다.
상기 그리핑기구(57)는 측판(74)들 사이에 횡방향으로 이동가능하게 배치된 일 단부를 구비한 고정 홀더(75), 상기 고정 홀더(75)를 통해 연장되는 가이드축(76) 및 상기 가이드축(76)의 단부(도 14에서는 하단부)들에 결합된 가동 홀더(77)를 포함하여 이루어진다. 상기 고정 홀더(75)는 상기 측판(74)들 중 하나 상에 탑재된 횡방향으로 이동하는 실린더(78)에 실린더 조인트(79)에 의해 결합된다. 상기 가이드축(76)의 타 단부(도 14에서는 상단부)에는 축 홀더(82)가 연결된다. 상기 축 홀더(82)는 실린더 커넥터(81)에 의해 수직방향으로 이동하는 실린더(80)에 결합된다.
횡방향으로 이동하는 실린더(78)가 작동되면, 상기 고정 홀더(75)는 상기 가동 홀더(77)와 함께 상기 측판(74)들 사이에서 횡방향으로 이동된다. 상기 수직방 향으로 이동하는 실린더(80)가 작동되면, 상기 가동 홀더(77)는 상기 가이드축(76)에 의해 안내되면서 수직방향으로 이동된다.
상기 그리핑기구(57)에 의해 임시저장유닛(70) 등에 현수되는 애노드 홀더(10)의 핸드(11b)를 잡기 위하여, 상기 가동 홀더(77)는 가동 홀더(77)가 핸드(11b)와 간섭하는 것을 방지하면서 상기 핸드(11b)보다 낮은 위치로 하강된다. 그런 다음, 횡방향으로 이동하는 실린더(78)가 작동되어, 핸드(11b) 상방에 고정 홀더(75)를 위치시키고, 상기 핸드(11b) 밑에 가동 홀더(77)를 위치시키게 된다. 그 후, 수직방향으로 이동하는 실린더(80)가 작동되어, 고정 홀더(75) 및 가동 홀더(77)가 그 사이에서 핸드(11b)를 잡을 때까지 상기 가동 홀더(77)를 상승시키게 된다. 상기 핸드(11b)는 수직방향으로 이동하는 실린더(80)가 가동 홀더(77)를 하강시키도록 작동될 때 해제될 수 있다.
도 5에 도시된 바와 같이, 상기 애노드 홀더(10)의 핸드(11b) 중 하나는 그 하부에지에 형성된 리세스(11e)를 구비한다. 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 가동 홀더(77)는 그 상부면 상에 애노드 홀더(10)의 리세스(11e) 안으로 핏팅될 수 있는 돌출부(77a)를 구비한다. 핸드(11b)가 고정 홀더(75)와 가동 홀더(77) 사이에서 잡힐 때, 상기 돌출부(77a)는 리세스(11e) 안으로 핏팅되어 상기 핸드(11b)를 적절하게 위치 및 배향시키게 된다.
도 9 내지 도 14에 도시된 바와 같이 구성된 도금장치의 처리 작업을 후술하기로 한다. 이하, 애노드의 교체 작업을 주로 설명하기로 한다. 우선, 기판(W)을 배치하는 공정을 간략히 후술하기로 한다. 기판(W)이 로딩/언로딩유닛(U1)에서 기 판 홀더(18) 상에 탑재된 후, 상기 이송장치(50)의 운반장치(52)는 기판 홀더(18)를 잡아, 상기 스토커(34)에서 기판 홀더(18)를 현수(임시 배치)시킨다. 그 후, 상기 운반장치(52)는 기판 홀더(18)를 스토커(34)로부터 제거하고, 예비습식탱크(36), 예비담금탱크(38), 도금탱크(44) 및 물세정탱크(40)를 통해 연속해서 상기 기판 홀더(18)를 운반하여, 상기 기판(W)을 연속해서 예비습식, 예비담금, 도금 및 세정하게 된다.
상기 도금 공정이 반복되면, 애노드(5)가 마멸되어 새로운 것으로 교체되어야 한다. 애노드(5)를 교체하는 고정을 후술하기로 한다.
도금탱크(44) 내에 침지되어 마멸된 애노드(5)를 유지하는 애노드 홀더(10)는 운반장치(52)에 의해 상승된다. 이 때, 상기 운반장치(52)의 그리핑기구(57)가 애노드 홀더(10)를 붙잡고, 상기 아암(54)은 상기 아암승강기구(55)에 의해 상승된다. 그런 다음, 애노드 홀더(10)는 인접한 물세정탱크(40)로 운반된다. 그 후, 상기 아암(54)은 아암승강기구(55)에 의해 하강되어, 애노드 홀더(10)가 물로 세정되는 물세정탱크(40) 안으로 상기 애노드 홀더를 가져가게 된다. 세정된 애노드 홀더(10)는 운반장치(52)에 의해 물방울이 애노드 홀더(10)로부터 제거되는 송풍탱크(42)로 이송된다.
그런 다음, 애노드 홀더(10)는 운반장치(52)에 의해 임시저장유닛(70)으로 운반된다. 그 후, 애노드 홀더(10)는 도금장치로부터 임시저장유닛(70)을 통해 작업테이블(도시안됨) 상으로 취해진다. 이 때, 애노드 홀더(10)는 도금장치의 측면으로부터 제거된다. 임시저장유닛(70)이 도 9의 가상선으로 표시된 바와 같이 송풍 탱크(42)와 하우징(47) 사이에 위치된다면, 상기 애노드 홀더(10)는 도금장치의 후단부로부터 제거될 수 있다. 작업테이블 상에서, 후방 커버(12)가 애노드 홀더(10)로부터 분리되고, 컨덕팅 벨트(1)가 느슨하게 되며, 마멸된 애노드(5)가 새로운 애노드(5)로 교체되고, 상기 컨덕팅 벨트(1)가 다시 타이트하게 된다. 상기 컨덕팅 벨트(1)는 너트(7)를 풀어 간단히 느슨하게 될 수 있고, 너트(7)를 다시 조여 간단히 다시 타이트하게 될 수도 있다.
그 후, 상기 후방 커버(12)가 애노드 홀더 베이스(11)에 부착되어, 새로운 애노드(5)를 애노드 홀더(10) 상에 장착하는 공정을 완료하게 된다. 새로운 애노드(5)가 그 안에 장착된 애노드 홀더(10)는 도금장치에서 임시저장유닛(70)으로 되돌아간 다음, 운반장치(52)에 의하여 도금탱크(44) 안에 다시 놓여진다.
도 9 내지 도 14에 도시된 바와 같이 구성된 도금장치는 다음과 같은 장점들을 제공한다.
1) 애노드 홀더(10)는 완전 자동화된 운반장치(이송로봇)(52)에 의해 제거되기 때문에, 상기 애노드 홀더(10)가 용이하게 교체될 수 있다.
2) 도금장치로부터 애노드 홀더(10)를 제거하기 위하여, 상기 애노드 홀더(10)는 운반장치(이송로봇)(52)에 의해 도금탱크(44) 밖으로 꺼내지고, 애노드 홀더(10)로부터 도금용액을 제거하기 위해 기판(W)을 세정하는 데 사용되기도 하는 물세정탱크(40)에서 세정되며, 기판(W)을 건조하는 데 사용되기도 하는 송풍탱크(42)에서 건조되고, 상기 도금장치로부터 임시저장유닛(70)을 통해 제거된다. 상기 임시저장유닛(70)은 애노드 홀더 교환 영역으로서의 역할을 한다. 조작자가 애 노드 홀더(10)의 제거를 위해 도금용액을 만질 필요가 없게 되어, 상기 조작자의 안전성이 보장될 수 있다.
3) 애노드 홀더(10)가 용이하게 제거될 수 있기 때문에, 애노드 마스크(13)가 용이하게 교체될 수 있다.
4) 운반장치(이송로봇)(52)는 고레벨의 위치설정 정확성을 가지며, 미세한 위치 조정을 수행할 수 있다. 결과적으로, 애노드 홀더(10)가 높은 복원력을 가지고 원하는 위치에 배치될 수 있어, 기판(W)과 애노드(5)간의 전극간 거리가 용이하게 변경될 수 있다.
지금까지 본 발명의 소정의 바람직한 실시예들을 상세히 도시하고 기술하였지만, 첨부된 청구범위의 범위에서 벗어나지 않으면서 다양한 변경 및 수정이 가능하다는 것은 자명하다.
도 1은 애노드를 유지하는 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트를 도시한 정면도;
도 2는 컨덕팅 벨트를 도시한 측면도;
도 3은 도 1의 동그라미친 영역 A를 도시한 확대도로서, 체결된 조립체를 상세히 도시한 도면;
도 4는 컨덕팅 벨트를 도시한 사시도;
도 5는 애노드 홀더의 부분 단면을 도시한 정면도;
도 6은 도 5의 VI - VI 선을 따라 취한 단면도;
도 7은 애노드 홀더를 도시한 분해사시도;
도 8은 도금용액에 침지된 애노드 홀더를 도시한 도면;
도 9는 도 1 내지 도 4에 도시된 컨덕팅 벨트와 도 5 내지 도 7에 도시된 애노드 홀더를 통합한 도금장치를 도시한 개략적인 평면도;
도 10은 도금장치 내의 이송장치의 리니어모터유닛을 도시한 평면도;
도 11은 도 10에 도시된 리니어모터유닛을 도시한 정면도;
도 12는 도금장치 내의 운반장치를 도시한 정면도;
도 13은 운반장치의 아암 상에 장착된 그리핑기구(gripping mechanism)를 도시한 평면도;
도 14는 도 13에 도시된 그리핑기구를 도시한 수직단면도; 및
도 15는 기판과 애노드가 도금탱크 내에 수직방향으로 배치된 종래의 수직침지도금장치를 도시한 수직단면도이다.

Claims (19)

  1. 도금탱크 내에 기판과 애노드를 대향시켜 수직방향으로 배치하는 도금장치에 이용되고, 애노드에 전류를 공급하기 위한 애노드 홀더에 부착되는 컨덕팅 벨트에 있어서,
    전도성 재료로 이루어지는 링 형상의 박판을 만곡시켜 실질적으로 애노드의 외주에지의 전체 둘레에 접촉하는 원 형상으로 하고, 양단부를 방사상 바깥쪽으로 절곡하여 상기 양단부의 일방의 단부를 타방의 단부보다 길게 형성한 벨트와,
    상기 벨트의 양단부 중 긴 쪽의 단부에 고정됨과 함께 전류를 공급하기 위한 콘택트를 가진 전도성 브래킷을 구비하고,
    상기 벨트의 양단부를 패스너에 의해 체결함으로써 상기 애노드를 유지하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 패스너는 볼트와 너트로 이루어지는 것을 특징으로 하는 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트.
  3. 상기 애노드를 유지한 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트를 하우징하기 위한 원 형상의 하우징 구멍을 가지는 애노드 홀더 베이스와,
    당해 애노드 홀더 베이스의 전방면에 부착되고 상기 애노드의 일부를 커버하는 애노드 마스크를 구비한 것을 특징으로 하는 애노드 홀더.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 애노드 홀더 베이스의 후방면에 부착되고 상기 애노드의 후방면을 커버하는 후방 커버를 구비한 것을 특징으로 하는 애노드 홀더.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 애노드 마스크는 원 형상의 개구를 가지고, 상기 원 형상의 개구의 내경은 상기 애노드의 외경보다 작은 것을 특징으로 하는 애노드 홀더.
  6. 제 3 항에 있어서,
    상기 애노드 홀더 베이스의 상부에, 반송용 핸드를 가지는 것을 특징으로 하는 애노드 홀더.
  7. 제 3 항에 있어서,
    상기 애노드 홀더 베이스의 하부에, 도금용액을 배출시키기 위한 용액배출구멍을 가지는 것을 특징으로 하는 애노드 홀더.
  8. 제 3 항에 기재된 애노드 홀더와 기판을 유지한 기판 홀더를 대향시켜 수직방향으로 배치하는 도금탱크와,
    상기 애노드 홀더를 교환하기 위한 임시저장유닛과,
    상기 도금탱크와 상기 임시저장유닛 사이에서 상기 애노드 홀더를 이송하는 이송로봇을 구비한 것을 특징으로 하는 도금장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 애노드 홀더를 세정하는 세정탱크를 구비한 것을 특징으로 하는 도금장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 애노드 홀더로부터 물방울을 제거하는 송풍탱크를 구비한 것을 특징으로 하는 도금장치.
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
  19. 삭제
KR1020080020303A 2007-08-20 2008-03-05 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더 KR101388161B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007213521A JP4942580B2 (ja) 2007-08-20 2007-08-20 アノードホルダ用通電ベルトおよびアノードホルダ
JPJP-P-2007-00213521 2007-08-20

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140029016A Division KR20140043918A (ko) 2007-08-20 2014-03-12 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090019671A KR20090019671A (ko) 2009-02-25
KR101388161B1 true KR101388161B1 (ko) 2014-04-23

Family

ID=40381136

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080020303A KR101388161B1 (ko) 2007-08-20 2008-03-05 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더
KR1020140029016A KR20140043918A (ko) 2007-08-20 2014-03-12 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140029016A KR20140043918A (ko) 2007-08-20 2014-03-12 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7897024B2 (ko)
JP (2) JP4942580B2 (ko)
KR (2) KR101388161B1 (ko)
CN (2) CN103290460A (ko)
TW (3) TWI417426B (ko)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5047087B2 (ja) * 2008-07-31 2012-10-10 富士フイルム株式会社 成膜装置、成膜方法、圧電膜、および、液体吐出装置
JP5400408B2 (ja) * 2009-02-13 2014-01-29 株式会社荏原製作所 アノードホルダ用通電部材およびアノードホルダ
US8236151B1 (en) * 2009-10-30 2012-08-07 Cypress Semiconductor Corporation Substrate carrier for wet chemical processing
FR2958300B1 (fr) * 2010-03-31 2012-05-04 Snecma Dispositif pour controler des caracteristiques physiques d'un bain d'electrodeposition metallique.
JP5642517B2 (ja) * 2010-11-29 2014-12-17 株式会社荏原製作所 めっき装置及びめっき方法
US9728435B2 (en) 2010-10-21 2017-08-08 Ebara Corporation Plating apparatus and plating method
KR101047336B1 (ko) 2011-01-25 2011-07-07 주식회사 티케이씨 반도체기판용 수직연속도금장치의 애노드판 급전장치
JP6216652B2 (ja) * 2014-02-06 2017-10-18 株式会社荏原製作所 基板ホルダを備えためっき装置
JP6218682B2 (ja) * 2014-06-18 2017-10-25 株式会社荏原製作所 基板ホルダを備えためっき装置、およびめっき方法
US10113246B2 (en) 2014-02-06 2018-10-30 Ebara Corporation Substrate holder, plating apparatus, and plating method
JP6285199B2 (ja) * 2014-02-10 2018-02-28 株式会社荏原製作所 アノードホルダ及びめっき装置
JP6795915B2 (ja) * 2016-06-10 2020-12-02 株式会社荏原製作所 アノードに給電可能な給電体及びめっき装置
CN108657818B (zh) * 2017-03-31 2024-04-26 可能可特科技(深圳)有限公司 一种基于fpc电镀的搬运装置
JP6891060B2 (ja) * 2017-07-11 2021-06-18 株式会社荏原製作所 レギュレーションプレート、アノードホルダ、及び基板ホルダ
JP7316908B2 (ja) 2019-10-30 2023-07-28 株式会社荏原製作所 アノード組立体

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005029863A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Ebara Corp めっき装置
JP2006132585A (ja) * 2004-11-02 2006-05-25 Sankyo Kogyo Kk エアーダクト用吊りバンド

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6017089A (ja) * 1983-07-06 1985-01-28 Daicel Chem Ind Ltd 高密度情報記録担体製造用スタンパ−の電鋳方法および装置
CN2175238Y (zh) * 1993-09-29 1994-08-24 北京科技大学 锌-镍合金电镀用阳极
JPH11209898A (ja) * 1998-01-23 1999-08-03 Ebara Corp メッキ用アノード電極
TW437035B (en) * 1999-06-10 2001-05-28 Ke Bin Fa Package of multi-chip semiconductor and its fabricating method
JP3900748B2 (ja) * 1999-07-08 2007-04-04 富士通株式会社 メッキ装置
JP2001098395A (ja) * 1999-09-24 2001-04-10 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 母板マスキング材
US6559387B1 (en) * 2000-09-01 2003-05-06 Senior Industries, Inc. Universal ground clamp with S-shaped second strap
JP3328812B2 (ja) * 2000-10-06 2002-09-30 株式会社山本鍍金試験器 電気めっき試験器の陰極カートリッジおよび陽極カートリッジ
EP1602127A2 (en) * 2003-03-11 2005-12-07 Ebara Corporation Plating apparatus
US7391116B2 (en) * 2003-10-14 2008-06-24 Gbc Metals, Llc Fretting and whisker resistant coating system and method
US20070238265A1 (en) * 2005-04-05 2007-10-11 Keiichi Kurashina Plating apparatus and plating method
US7507319B2 (en) * 2006-07-21 2009-03-24 Ebara Corporation Anode holder

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005029863A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Ebara Corp めっき装置
JP2006132585A (ja) * 2004-11-02 2006-05-25 Sankyo Kogyo Kk エアーダクト用吊りバンド

Also Published As

Publication number Publication date
CN101372754B (zh) 2013-07-17
US20090050473A1 (en) 2009-02-26
US7897024B2 (en) 2011-03-01
KR20090019671A (ko) 2009-02-25
CN101372754A (zh) 2009-02-25
TWI417426B (zh) 2013-12-01
JP2012107343A (ja) 2012-06-07
JP2009046724A (ja) 2009-03-05
TW201522719A (zh) 2015-06-16
JP4942580B2 (ja) 2012-05-30
TW201346073A (zh) 2013-11-16
TWI544114B (zh) 2016-08-01
TW200909614A (en) 2009-03-01
JP5529188B2 (ja) 2014-06-25
CN103290460A (zh) 2013-09-11
KR20140043918A (ko) 2014-04-11
TWI481749B (zh) 2015-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101388161B1 (ko) 애노드 홀더용 컨덕팅 벨트 및 애노드 홀더
JP4664320B2 (ja) めっき方法
US6660139B1 (en) Plating apparatus and method
KR102103538B1 (ko) 기판 홀더, 도금 장치 및 도금 방법
JP2004076022A (ja) 基板ホルダ及びめっき装置
TW201514347A (zh) 鍍覆裝置以及使用於該鍍覆裝置之清潔裝置
TW202111167A (zh) 鍍敷方法、鍍敷裝置及陽極保持器
JP3778281B2 (ja) 基板ホルダ及びめっき装置
JP5400408B2 (ja) アノードホルダ用通電部材およびアノードホルダ
TWI438308B (zh) 電化學電鍍裝置中的去鍍觸點
JP2002363794A (ja) 基板ホルダ及びめっき装置
TWI640659B (zh) 基板處理系統及基板處理方法
TWI623997B (zh) 鍍覆裝置及鍍覆方法
JP5763243B2 (ja) めっき装置
JP4111846B2 (ja) めっき装置
JP7460504B2 (ja) めっき装置
CN107488869B (zh) 能够供电至阳极的供电体及镀覆装置
JP7128385B1 (ja) めっき装置、及びめっき装置の製造方法
JP2005200727A (ja) 半導体素子の製造方法
JP2002363793A (ja) 基板ホルダ及びめっき装置
JP2002363797A (ja) 電気接点及びその製造方法、並びにめっき装置
JP2005281720A (ja) 湿式処理方法及び装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
A107 Divisional application of patent
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170317

Year of fee payment: 4