KR101240775B1 - 소수성 코팅을 갖는 액침 리소그래피용 광학 장치 및 이를 포함하는 투영 노광 장치 - Google Patents

소수성 코팅을 갖는 액침 리소그래피용 광학 장치 및 이를 포함하는 투영 노광 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 투영 렌즈의 작동 중에 자외 방사선에 노출되는 소수성 코팅(6, 7)이 적용되며 상기 투영 렌즈의 작동 중에 액침액에 의하여 적어도 부분적으로 습윤되는 하나 이상의 구성 요소(1)를 포함하는 액침 리소그래피용 광학 장치에 관한 것이다. 상기 소수성 코팅(6, 7)은 260 nm 미만의 파장에서 자외 방사선을 흡수 및/또는 반사하는 하나 이상의 자외선 저항성 층(6)을 포함한다.
광학 장치, 투영 렌즈, 액침 리소그래피, 자외선 저항성, 소수성 코팅, 투영 노광 장치

Description

소수성 코팅을 갖는 액침 리소그래피용 광학 장치 및 이를 포함하는 투영 노광 장치{OPTICAL ARRANGEMENT FOR IMMERSION LITHOGRAPHY WITH A HYDROPHOBIC COATING, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING THE SAME}
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 35 U.S.C. 119(e)(1) 하에 2006. 12. 29자로 출원된 미국 가출원 제 60/877,743 호의 우선권 이익을 주장한다. 2006. 12. 29자로 출원된 미국 가출원 제 60/877,743 호의 개시는 본 출원의 일부로 간주되며 본 출원의 개시에 참조로 통합된다. 본 출원은 또한 35 U.S.C. 119(a) 하에 2006. 12. 28자로 출원된 독일 특허 출원 제 10 2006 062 480.7 호에 대한 우선권을 주장하며, 이의 전체 내용은 본 출원의 개시에 참조로 통합된다. 본 출원은 또한 35 U.S.C. 119(a) 하에 2006. 12. 12자로 출원된 독일 특허 출원 제 10 2006 043 548.6 호에 대한 우선권을 주장하며, 이의 전체 내용은 본 출원의 개시에 참조로 통합된다.
본 발명은 투영 렌즈의 작동 중에 자외 방사선에 노출되는 소수성 코팅이 적용되며 상기 투영 렌즈의 작동 중에 액침액에 의하여 적어도 부분적으로 습윤되는 적어도 하나의 구성 요소를 포함하는 액침 리소그래피용 광학 장치에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이와 같은 광학 장치를 포함하는 투영 노광 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 광학적 구성 요소를 액체 특히 물로 습윤시키는 것은 그 광학적 특성에 부정적인 영향을 미친다. 예컨대, 습윤은 그 표면에 염과 같은 오염 물질의 형성을 초래할 수 있다. 광학 요소가 물로 습윤되는 것을 방지하기 위하여, 또는 상기 광학 요소로부터 물을 신속히 제거하기 위하여, 광학 요소에 소수성 코팅을 제공하는 것이 공지되어 있다. 본원의 문맥상, 용어 "소수성 코팅"은 일반적인 경우와 마찬가지로 그 표면이 물과 90°이상의 접촉각을 포함하는 코팅을 의미한다.
JP 2003-161806 A는 유리 기판의 비-코팅된 영역에 발수성(water-repellent) 층이 형성된 반사 방지 코팅을 갖는 광학 요소에 대하여 기재하고 있다. 상기 장치에서, 발수성 코팅은 반사 방지 코팅에 인접하여 또는 유리 기판의 측면 모서리에 형성될 수 있다. 이러한 방식으로, 광학 요소와 이와 관련된 지지 구조 사이의 공간에 습기를 방지할 수 있다.
US 5,494,712는 폴리머 층을 기판에 도포하여 물에 의한 습윤을 감소시키는 방법에 대하여 기재하고 있다. 상기 층은 바람직하게 하나 또는 수개의 오르가노-실리콘 화합물, 예컨대 실란 또는 실록산을 포함하고, 플라즈마 화학 기상 증착(PECVD)에 의하여 적용된다.
습윤의 문제는 마이크로리소그래피 특히 액침 리소그래피에 있어서도 중요하다. 마이크로리소그래피에서, 반도체 구성 요소를 제조하기 위하여, 마스크 위의 구조가 투영 렌즈에 의하여 축소된 규모로 감광성 기판 위로 영상화된다. 이와 같은 적용에 요구되는 고해상도를 달성하기 위하여, 자외선 파장 범위, 전형적으로 250 nm 이하에서 조명 방사가 사용된다. 해상도 및 시야의 깊이를 더욱 증가시키기 위하여, 액침 리소그래피에서, 액침액, 대개 증류수를 투영 렌즈의 마지막 광학 요소와 감광성 기판 사이에 배치하여 굴절율을 증가시키도록 한다. 이러한 장치에서, 상기 투영 렌즈의 마지막 광학 요소는 물에 의하여 적어도 부분적으로 습윤되므로, 액침 리소그래피에서 발수성 및 내수성 코팅이 빈번하게 사용된다.
JP 2005-268759 A로부터 액침 리소그래피용 투영 노광 장치 내에 배치되고 그 적어도 하나의 표면에서 조명 방사선에 노출되는 광학적 구성 요소가 공지되었다. 상기 표면은 이산화실리콘(SiO2), 불화마그네슘(MgF2) 또는 불화칼슘(CaF2)으로 이루어지는 결합층을 포함하고, 상기 표면 위로 무정형 불소폴리머를 포함하는 발수성 층이 적용된다.
JP11-149812는 바람직하게 플루오로카본 폴리머를 포함하는 발수성 보호층이 반사-증가 또는 반사-감소 다층 시스템에 적용되어, 대기로부터 습기의 침입에 대한 보호를 제공하는 광학 요소에 대하여 기재하고 있다. 상기 보호층의 두께는 250 nm 미만의 파장에서 플루오로카본 폴리머에 의한 방사선의 과도한 흡수를 방지하도록 1 nm 내지 10 nm이다.
EP 0895113 A2는 지지 기구 및 자외선 분광 범위에서 방사선을 전달하는 점착제가 도포되는 구성 요소를 포함하는 어셈블리에 대하여 기재하고 있다. 상기 점착제는 자외선 경화성이며, 상기 점착제 영역 내에서 투명한 구성 요소와 점착제 사이에, 상기 점착제를 경화시키기에 적합한 분광 범위 내에서 광을 전달하고 상기 투명한 구성 요소에 의하여 전달된 상기 분광 범위 내의 유용한 분광 범위로부터 높은 정도의 자외선을 반사 또는 흡수하는 얇은 층이 적용되어, 그 결과 점착제는 이러한 파장 범위 내에서 자외 방사선에 대하여 보호된다.
인쇄된 간행물 US 2006/0240365로부터, 감수성 렌즈 요소를 보호하기 위한 방법이 공지되었다. 상기 방법에서, 렌즈 표면의 모서리 영역에 자외 방사선을 흡수하며 금속 산화물로 이루어지는 얇은 자외선 저항성 층을 생성한다. 추가적인 보호층을 상기 금속 산화물 층에 적용하며, 상기 추가적인 층은 예컨대 폴리우레탄층일 수 있다. 상기 두 층은 예컨대 감수성 불화칼슘으로 이루어지는 것일 수 있는 렌즈 요소가 액침액에 의하여 용해되는 것을 보호하기 위한 것이다.
그러나, 상기한 바와 같이 광학적 표면의 습윤을 방지할 목적으로만 소수성 코팅이 사용되지는 않는다. 대신, 소수성 코팅은 예컨대 실질적으로 메니스커스 형상의 물 컬럼을 생성하기 위하여 물에 의한 습윤이 불가피한 구성 요소 상의 위치에 적용될 수도 있다. 이와 같은 코팅의 적용은 예컨대 마이크로리소그래피용 투영 렌즈의 상기 렌즈 사용 이전에 광학적 영상화 특성 및 영상화 오류에 대한 간섭(interferometric) 측정의 경우에 유리할 수 있다. 이러한 측정을 위하여, 상기 투영 렌즈는 상응하는 측정 장치 위에 배치되고, 액침액이 상기 측정 장치와 투영 렌즈 사이에 배치되어 실제 적용에서의 조건에서 측정을 행할 수 있다. 대부분의 경우에, 초순수가 액침액으로서 사용되고, 상기 측정 장치의 광학적 구성 요소 주위의 링이 상기 초순수가 흘러나오는 것을 방지한다. 상기 링은 볼록한 따라서 위쪽을 향하여 곡선 모양인 물 메니스커스를 형성하기 위하여 소수성 표면을 가져야 한다. 상기 측정 장치에 대향하는 렌즈의 마지막 광학적 구성 요소에의 완전한 접촉이 항상 신뢰할 수 있을 정도로 보증되는 것이 중요하다.
액침 시스템에서 소수성 코팅의 사용에 대한 일반적인 문제점은 투영 렌즈의 작동 중에 상기 코팅에 작용하는 자외 방사선에 의하여 상기 코팅이 손상 또는 파괴될 가능성이다. 나아가, 자외선 방사의 결과, 상기 코팅의 소수성 특성이 열화되어 극단적인 경우 상기 코팅이 친수성 특성을 나타낼 수 있다. 특히, 실제 적용에 있어서, 소수성 표면을 갖는 링의 제조에 지금까지 사용된 재료는 그 표면 특성에 관한 한 단시간 후에 이미 변화된 것으로 나타났는바, 이는 방사 지속 기간이 증가되면 소수성 특성이 감소함을 나타낸다. 이는 특히 점점 더 짧은 파장, 예컨대 193 nm 이하의 파장을 사용하는 레이저를 이용하는 방사와 관련된다. 이는 짧은 작동 기간 후에 안정한 볼록한 물 메니스커스를 더 이상 제공할 수 없으며, 그 결과, 렌즈와 측정 장치 사이의 액침 컬럼이 파손되어 측정이 중단되어야 함을 의미한다.
발명의 목적
본 발명의 목적은 위에 언급한 유형의 광학 장치에 강하고 지속적인 자외선 방사 하에서도 소수성 특성을 유지하는 소수성 코팅을 갖는 구성 요소를 제공하는 것이다.
발명의 개요
상기 목적은 260 nm 미만의 파장에서 자외 방사선을 흡수 및/또는 반사하는 적어도 하나의 자외선 저항성 층을 포함하는 소수성 코팅에 의하여 달성된다. 상기 장치에서, 상기 소수성 코팅은, 예컨대, 부가적으로 소수성 특성을 갖는 단지 하나의 자외선 저항성의 흡수성 및/또는 반사성 층을 포함할 수 있거나, 또는 상기 자외선 저항성의 흡수성 및/또는 반사성 층은 상기 코팅의 추가적인 소수성 층을 투영 렌즈의 자외 방사선으로부터 보호할 수 있다.
유리한 실시예에서, 상기 구성 요소는 자외선 범위 내 파장에서 투명한 재질로 만들어지는 광학 요소이며, 상기 광학 요소는 바람직하게 투영 렌즈의 말단 요소를 형성한다. 이러한 경우, 상기 광학 요소는 액침액에 의하여 적어도 부분적인 영역에서 습윤되며, 이러한 장치에서 상기 소수성 코팅은 전형적으로 상기 부분적 영역 밖의 광학 요소의 표면에 적용되어 대개 상기 습윤된 부분적 영역에 직접적으로 인접하고 상기 액침액 내로 침지되지 않는 상기 광학 요소의 다른 부분의 습윤에 대하여 보호한다.
바람직한 개선예에서, 상기 소수성 코팅은 상기 광학 요소의 광학적으로 선명한(optically clear) 직경 밖에 형성된다. 광학 요소의 "광학적으로 선명한 직경"이라는 용어는 방사선이 표적화된 방식으로 통과하는 영역, 즉, 예컨대 렌즈의 경우 영상화에 기여하는 영역을 의미한다. 상기 광학적으로 선명한 직경은 특히 렌즈 표면이 연마된 표면 영역에 의하여 결정되는 반면, 상기 직경 밖의 영역은 비연마되고 무광택이며 따라서 거친 표면을 가진다. 대개, 광학적으로 선명한 직경 내의 영역은 투영 렌즈의 말단 요소가 액침액 내로 침지되는 영역에 실질적으로 상응한다.
본 발명자들은 광학적으로 선명한 직경 밖의 광학 요소의 어떠한 습윤도 습윤으로부터 초래되는 증발로 인한 냉각의 결과 광학적 특성에 부정적인 영향을 미칠 수 있음을 인지하였다. 결과적으로, 습윤된 영역에서, 히트 싱크가 생성되고, 이는 광학 요소의 온도 평형에 부정적인 영향을 미칠 수 있으며, 예컨대 광학 요소로서 렌즈의 경우, 바람직하지 않은 영상화 오류를 초래할 수 있다. 액체가 연마된 표면으로부터 흘러나오듯이 무광택 표면으로부터 흘러나오지 않기 때문에, 이러한 문제는 특히 무광택 표면, 즉 광학적으로 선명한 직경 밖에서 일어난다.
나아가, 본 발명자들은 투명한 광학적 직경 밖에서도 소수성 코팅이 자외선 방사의 결과 즉 투영 렌즈가 작동될 때 상기 광학 요소 내에서 발생하는 산란 광의 결과 손상될 수 있음을 인지하였으며; 이는 상기 소수성 코팅이 적어도 하나의 자외선 저항성 층을 포함하는 이유이다. 이러한 장치에서, 상기 소수성 코팅은 단지 하나의 자외선 저항성 소수성 층을 포함하거나, 또는 바람직하게, 자외선을 흡수하는 자외선 저항성 층에 의하여 추가적인 소수성 층이 상기 광학 요소의 내부로부터의 자외 방사선으로부터 보호될 수 있다.
유리한 개선예에서, 반사-감소 코팅이 광학 요소에 적용되며, 상기 소수성 코팅은 상기 광학 요소의 비-코팅된 영역 내에, 바람직하게 상기 반사-감소 코팅에 인접하여 배치된다. 대개, 상기 반사 방지 코팅은 적어도 렌즈의 투명한 광학적 직경 영역 내에 적용되고; 상기 반사 방지 코팅은 대개 높은 굴절율의 물질과 낮은 굴절율의 물질이 교호하는 몇몇 개의 층을 포함한다. 반사 방지 코팅의 바람직한 예는 본 출원인의 PCT/EP2006/005630에 기재되어 있으며, 상기 공보는 참조로서 본 출원의 내용의 일부를 구성한다.
특히 바람직한 개선예에서, 소수성 층이 자외선 저항성 층의 상부에 적용된다. 이미 앞서 기술한 바와 같이, 자외선 저항성이고 자외 방사선을 흡수하는 상기 층은 소수성 층을 자외 방사선으로부터 보호한다. 이러한 방식으로, (물과의 접촉각, 코팅 점착 및 누출 습성과 관련한) 소수성 층의 열화를 방지할 수 있다.
유리한 개선예에서, 상기 소수성 층의 재료(물질)는 이산화크롬(CrO2), 실란, 실록산, DLC, 불화물, 소수성 바니시 및 점착제, 폴리머, 바람직하게 플루오로카본 폴리머, 특히 Optron, WR1 및 테플론(Teflon) AF로 이루어지는 군으로부터 선택된다. Optron은 Merck에서 제조된 코팅의 유형이고; 테플론 AF는 Cytop에 의하여 유통된다. 실록산은 자외선 경화성이거나 또는 열 경화성일 수 있거나 (예컨대, Ormocer) 또는 CVD-법에 의하여 적용될 수 있다. 적어도 상기 소수성 층이 산소를 포함하는 대기에서 사용될 때, 상기 언급한 재료 중 어떠한 것도 마이크로리소그래피에서 통상적인 방사 강도에서 자외선에 노출시 장기간 안정하지 않다. 이러한 문맥에서, 용어 "장기간 안정함"은 전형적으로 7년 이하의 내용 연한을 의미한다. 또한, 상기 언급한 재료 중 일부에서, 기판 점착 및 소수성 특성이 자외선에의 노출에 의하여 방해될 수 있다. 그러나, 불활성 가스 분위기, 예컨대 N2, 희 가스 또는 이들의 혼합물을 제공함으로써 상기 재료의 장기간 안정성을 증가시킬 수 있다. 소수성 층에 적합한 추가적인 재료는 불소수지, 폴리테트라-플루오로-에틸렌과 같은 불소계 수지 재료, 아크릴 수지 재료, 또는 실리콘계 수지 재료를 포함한다. CYTOP(ASAHI GLASS CO., LTD.에서 제조)을 또한 발수성 층으로서 사용할 수 있다.
또 바람직한 개선예에서, 상기 투명한 물질은 불화칼슘(CaF2), 석영 유리(SiO2) 및 이산화게르마늄(GeO2)로 이루어지는 군으로부터 선택된다. 특히, 불화칼슘 및 석영 유리가 마이크로리소그래피에서 사용되는 전형적인 렌즈 재료이다.
개선예에서, 상기 자외선 저항성 층은 900 nm 이상의 파장에서 방사선에 대하여 투과성이다. 상기 자외선 저항성 층은 따라서 프로세스 체인 중 방사되어야 할 파장, 즉, 예컨대 레이저 솔더링을 위한 940 nm에서 또는 고온 측정을 위한 1 ㎛ 이상의 파장에 대하여 투과성이다.
바람직한 개선예에서, 상기 광학 요소는 평철 렌즈(plano-convex lens)로서 고안되며, 상기 평면 표면은 원뿔 형상의 렌즈 부분을 포함한다. 이러한 형상의 광학 요소는 바람직하게 액침 리소그래피용 투영 렌즈의 말단 요소로서 사용된다.
또 바람직한 실시예에서, 상기 소수성 코팅은 상기 원뿔 형상의 렌즈 부분의 원뿔형 측면 표면 및/또는 평면 표면 상에 제공된다. 상기 원뿔 형상의 렌즈 부분은 적어도 부분적으로 액침액과 접촉하므로, 특히 원뿔형 측면 표면의 경우, 상기 원뿔형 측면 표면이 액침액에 의하여 습윤되고 습윤이 평면 표면까지 연장될 위험이 있다. 소수성 코팅에 의하여, 습윤 및 이에 따른 습윤된 영역 내에 광학 요소의 온도 저하를 방지할 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 상기 소수성 코팅은 또한 렌즈가 지지체에 결합되는 렌즈의 모서리 영역, 예컨대 측면 표면에 적용될 수 있다; 이러한 방식으로, 렌즈와 마운트 사이의 틈에 물이 침입하는 것을 방지할 수 있다.
또 유리한 개선예에서, 상기 광학 요소의 원뿔 형상의 렌즈 부분의 적어도 전면이 액침액 내에 침지되고, 그 결과, 투영 렌즈의 개구수 및 따라서 최소 구조의 영상화가 고해상도 및 깊은 시야에서 가능하게 된다.
매우 바람직한 본 발명의 실시예에서, 상기 광학 장치는 투영 렌즈의 광학적 특성을 측정하기 위한 광학 측정 장치를 포함하며, 상기 투영 렌즈와 상기 광학 측정 장치 사이에 액침액이 배치되고, 액침액 영역 내에 실질적으로 메니스커스 형상의 물 컬럼을 형성하기 위하여 소수성 코팅을 포함하는 구성 요소가 배치된다. 본 명세서의 도입 부분에서 기술한 바와 같이, 이러한 경우 상기 소수성 코팅은 구성 요소가 물로 습윤되는 것을 방지하기 위하여 사용되는 것이 아니라 위쪽을 향한 곡선 모양인 볼록한 물 메니스커스를 형성하기 위하여 사용된다. 상기 측정 장치를 포함하는 광학 장치는 반드시 투영 노광 장치의 일부를 형성하지는 않으나, 서로 다른 투영 노광 장치들의 제조 공정 중에 투영 렌즈의 광학적 성능을 규명하기 위하여 사용되는 독립형의 측정 장치로서 사용될 수 있다.
상기 실시예에 대한 유리한 개선예에서, 상기 소수성 코팅을 포함하는 구성 요소는 상기 측정 장치의 하우징의 일부를 형성하거나 상기 측정 장치의 구성 요소이며, 이러한 구성 요소는 상기 측정 장치에 연결되고, 상기 구성 요소 위에 액침액이 배치된다.
또 유리한 개선예에서, 상기 소수성 코팅을 포함하는 구성 요소는 액침액을 제한하여 액침액이 흘러나오는 것을 방지하기 위한 인클로저 링을 포함한다.
또 유리한 개선예에서, 상기 소수성 코팅을 포함하는 구성 요소는 귀금속으로 만들어진다. 물론, 다른 재료들 또한 가능하다.
측정되고자 하는 렌즈가 예컨대 렌즈 아래에 웨이퍼가 배치된 이미 사용중인 렌즈라면, 코팅될 상기 구성 요소는 또한 제로더(Zerodur), 석영 또는 투영 노광 장치에 사용되는 유사한 재료로 만들어질 수 있다.
바람직한 실시예에서, 물, 특히 초순수가 액침액으로서 제공된다. 물의 사용과 별도로, 오일과 같은 다른 액침액 또한 가능하다.
그러한 렌즈의 작동 중에도, 때때로 에너지 측정, 전달 측정 등이 수행되어야 하므로, 다양한 측정 장치가 웨이퍼 주위에 배치된다. 이러한 장치에서도, 렌즈의 마지막 광학 요소와 측정 장치 사이에 가까운 액체 접촉이 존재하여야 한다. 따라서, 이러한 장치에서도, 실제 적용에서 사용되는 조건 하에 강한 방사 중에도 제자리에 유지되는 볼록한 물 메니스커스의 형성을 보증하는 구성 요소가 제공되어야 한다.
또 바람직한 실시예에서, 상기 자외선 저항성 층은 260 nm 이하, 바람직하게 200 nm 이하의 파장에서 자외 방사선에 불투과성이다. 정상적으로, 이용가능한 광원으로 인하여, 액침 노광 장치에 사용되는 자외 방사선의 파장은 248 nm 또는 193 nm이다. 자외선 저항성 층의 흡수 경계는 따라서 상기 노광 장치의 작동 파장 이상이며, 그 결과 상기 층 위에 적용되고 완전하게 자외선 저항성이 아니며 소수성인 층이 이러한 방사선으로부터 보호될 수 있다. 또한, 상기 불투과성 층이 광학 요소에 적용되면, 임의의 흡수된 불순물을 제거하기 위한 세정 중에 강한 자외선 방사가 가하여지는 마주보는 렌즈 표면의 소위 "UV 버닝" 중에 자외 방사선에 대한 보호를 제공한다. 광학 요소를 제공하기 위한 프로세스 체인에서, UV-버닝은 다양한 코팅, 측정 및 설치 단계에 제공된다. 상기 소수성 층의 제공으로 인하여, 프로세스 체인의 매우 초기에 흡수층이 적용될 수 있다.
상기 자외선 저항성 층은 바람직하게 이산화티타늄(TiO2), 오산화탄탈륨(Ta2O5), 이산화하프늄(HfO2), 이산화지르코늄(ZrO2) 및 티타늄-지르코늄 혼합 산화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 물질을 포함하며, 이는 특히 석영 유리, 불화칼슘 또는 이산화게르마늄을 포함하는 구성 요소를 코팅하는데에 유리하게 사용될 수 있다. 특히, TiO2 및 Ta2O5는 280 nm 이하의 파장에서 흡수성이 높으며 적어도 석영 유리보다 나은 소수성 특성을 보여 그 위에 적용되는 소수성 층의 부분적 손상이 광학 요소의 광학적 특성에 지나치게 부정적인 영향을 미치지 않기 때문에 자외선 저항성 층의 재료로서 적합하다. 필요하다면, 상기 소수성 코팅 또한 상기 언급한 물질 중 하나의 층을 포함할 수 있다. 또한, 상기 언급한 물질들은 소수성 코팅에 대한 결합제로서 사용될 수 있다;즉, 상기 소수성 층은 상기 구성 요소의 기판보다 상기 물질들에 더 잘 접착한다. 자외선 저항성 층에 적합한 1 미만의 광 강도를 가진 다른 금속 산화물은 예컨대 SiO 또는 Cr2O3이다. 상기한 물질들의 혼합물 또한 자외선 저항성 층을 형성하는데에 사용될 수 있는 것으로 이해된다.
또 바람직한 실시예에서, 상기 자외선 저항성 층의 두께는 적어도 200 nm이다. 이러한 두께를 가질 경우, 대부분의 흡수성 물질들은 자외 방사선이 상기 흡수층을 통과하지 못할 것임을 보증한다. 그러나, 상기 층의 분리를 방지하기 위하여, 흡수층의 두께는 지나치게 두껍지 않아야 한다. 층 재료로서 Ta2O5 및 TiO2가 사용되는 경우, 1 ㎛의 최대 층 두께를 초과하지 말아야 한다.
또 유리한 실시예에서, 상기 자외선 저항성 층은 귀금속 층이다.
다양한 실험에 의하여 예컨대 금, 이리듐, 팔라듐, 백금, 수은, 오스뮴, 레늄, 로듐, 루테늄, 은, 코발트, 구리 또는 이들의 합금을 포함하는 귀금속 코팅이 장기간의 강한 방사 후에도 그 소수성 표면 특성을 유지하는 것으로 입증되었다. 저항성 또한 높은 소수성 코팅에 대한 두번째 설명은 화학 원소의 주기율 시스템에서 3족 내지 7족의 금속 층, 예컨대, 크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 바나듐, 니오븀, 탄탈륨, 티타늄, 지르코늄, 하프늄, 스칸듐, 이트륨, 망간, 탈륨 및 이들의 합금의 사용에 있다. 실리콘(Si)과 같은 1 미만의 광 강도를 갖는 다른 물질 또한 사용 가능한 것으로 이해된다.
본 발명에 따라 귀금속 또는 금속층을 사용하면, 앞서 기재한 단파 레이저 방사로 인한 악화된 조건 하에 코팅으로부터 유출되는 물질들에 의하여 액침액이 오염되지 않는 것으로 입증되었다.
실제 적용에서, 블랙 크롬으로도 알려져 있는 산화크롬을 포함하는 코팅이 특히 적합하다. 블랙 크롬은 이산화크롬 및 금속 크롬을 포함하는 화합물로서, 특히 코팅이 액침액 내에 배치될 때, 자외 방사선에 노출시 마이크로리소그래피 적용에 충분한 내구성을 나타낸다.
또한, 상기 자외선 저항성 귀금속 또는 금속층의 두께는 10 내지 200 nm, 바람직하게 15 내지 100 nm가 특히 유리하다.
바람직하게, 상기 자외선 저항성 층 및/또는 소수성 층은 스퍼터링, PVD(물리기상증착), CVD(화학기상증착), PECVD(플라즈마 화학기상증착), 냉간 가스 스프레이, 스핀 코팅, 플라즈마 스프레이, 딥 코팅 및 수동적 코팅, 특히 브러쉬 또는 스펀지를 이용하는 도포로 이루어지는 군으로부터 선택되는 방법에 의하여 적용된다. 음극 스퍼터링으로도 알려져 있는 스퍼터링은 층을 침전시키는 방법으로, 이 방법을 이용하여 매우 얇은 층 두께를 가진 고품질의 적용될 층을 얻을 수 있다. 그 다음의 세가지 방법은 코팅될 표면에 기상 증착에 의하여 기판을 코팅하는 기법에 관한 것이다. 냉간 가스 스프레이의 경우, 코팅 재료가 베이스 재료에 분말 형태로 초고속으로 적용된다. 회전 코팅의 경우, 회전하는 기판 위로 얇고 균질한 층이 적용된다. 플라즈마 스프레이의 경우, 분말이 플라즈마 제트에 첨가되고, 높은 플라즈마 온도로 인하여 상기 분말이 녹으며, 코팅될 가공 소재 위로 플라즈마 제트와 함께 주입된다. 딥 코팅은 코팅을 균질하게 도포할 수 있도록 한다. 마지막으로, 브러쉬 또는 스폰지를 이용하는 도포는 수동적 코팅이다.
본 발명은 또한 조명 시스템, 투영 렌즈, 및 상기한 바와 같은 광학 장치를 포함하는 액침 리소그래피용 투영 노광 장치에 관한 것이다. 상기 광학 장치는 상기 투영 렌즈의 말단 요소로서 소수성 코팅을 갖는 광학 요소를 포함할 수 있고/있거나, 실질적으로 메니스커스 형상의 물 컬럼을 형성하기 위하여 소수성 코팅을 포함하는 구성 요소를 포함할 수 있다.
본 발명의 추가적인 특성 및 이점이 이하 본 발명의 예증적인 실시예, 본 발명의 문맥상 의미있는 세부사항을 도시하는 도면, 및 청구항에서 기술된다. 본 발명의 변형에서 개별적인 특성들을 그 자체로 독립적으로 또는 임의의 조합으로 몇몇개의 특성들을 함께 실행할 수 있다.
예증적 실시예가 개략적인 도면에 도시되고 이하 설명 부분에서 설명된다. 다음이 도시된다;
도 1a, b는 소수성 코팅을 갖는 광학 요소에 대한 개략도로서, (a) 사시도 및 (b) 단면도이고;
도 2은 도 1a, b의 광학 요소를 투영 렌즈의 말단 요소로서 포함하는 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치의 일 실시예에 대한 개략도이고; 및
도 3은 투영 렌즈를 측정하는데 사용되는 광학 장치의 일 실시예에 대한 개략도이다.
바람직한 실시예에 대한 상세한 설명
도 1a, b는 석영 유리(SiO2)를 포함하고 평철렌즈로서 고안되며 평면 표면(2) 위에 원뿔형 렌즈 부분(3)을 절단된 원뿔 형상으로 포함하는 광학 요소(1)을 개략적으로 도시한다. 상기 원뿔형 렌즈 부분(3)은 서로 다른 개구각을 갖는 두 개의 하위 영역을 포함하고, 반사-방지 코팅(9)(도 1b에 도시됨)이 그 위로 적용되는 면(4)을 포함하며, 상기 반사-방지 코팅은 물에 의한 열화에 대하여 보호를 제공하 기 위하여 예컨대 SiO2 또는 테플론으로 만들어지는 캡핑층으로 알려진 최상층(도시하지 않음)을 포함할 수 있다. 또한, 필요하다면, 소수성 코팅이 또한 상기 반사-방지 코팅 위에 형성될 수 있으며, 이러한 경우 자외선 저항성 코팅은 작동 파장에서 자외 방사선에 대하여 투과성이도록 선택되어야 한다. 작동 중에, 그러한 자외 방사선 부분만이 영상화에 기여하는데에 사용되며, 이러한 부분이 면(4)을 통하여 진입하므로 상기 면(4)의 직경이 대략 투명한 광학적 직경을 결정한다. 특히 액침 리소그래피에서 광학 요소(1)를 사용하면 반사-방지 코팅(9)이 없어도 가능한 것으로 이해된다.
원뿔형 렌즈 부분(3)의 원뿔형 측면 표면(5) 위에, 상기 반사-방지 코팅에 인접하여 소수성 코팅(6, 7)(도 1b에 도시함)이 적용되며, 상기 소수성 코팅은 평면 렌즈 표면(2) 위로 더욱 연장되고, 자외선 저항성인 TiO2로 만들어지고 280 nm 미만의 파장을 갖는 자외선을 흡수하는 제1층(6)을 포함한다. 대안적으로, 상기 제1층(6)은 또한 다른 재료, 예컨대 Ta2O5, HfO2, ZrO2 또는 티타늄-지르콘을 포함하는 혼합 산화물을 포함할 수 있다. 도시되는 영역에 부가하여, 상기 렌즈는 또한 렌즈 모서리, 예컨대 원통형 측면 표면 상에 소수성 코팅을 포함할 수 있다. 이러한 방식으로, 광학 요소(1)가 설치될 때 발생하는 상기 렌즈와 마운트 사이의 틈에 물이 침입하는 것을 방지할 수 있다.
플루오로카본 폴리머, 본 실시예에서 Optron으로 이루어지는 소수성 제2층(7)을 상기 제1층(6) 위에 적용한다. 상기 제2층(7)은 자외 방사선에 저항성이 아니며 따라서 원뿔형 렌즈 부분(3)의 측면 표면(5) 또는 평면 표면(4)을 통하여 침입한 산란 광에 의하여 손상될 수 있다. 상기 제2층(7)을 산란광으로부터 보호하기 위하여, 상기 제1층(6)은 200 nm 이상의 두께를 가지며, 이러한 두께는 자외선에 불투과성이 되도록 하기에 충분하다. 상기 제2층(7)은 또한 다른 소수성 및 비-자외선 저항성 물질, 예컨대 이산화크롬(CrO2), 실란, 실록산, 폴리머, WRI 또는 테플론 AF와 같은 불소폴리머, DLC, 불화물 또는 소수성 바니시 또는 점착제로 만들어질 수 있다. 상기 제1층(6)은 부가적으로 상기 제2층(7)에 대한 결합제로서 작용하며, 이러한 이유로 제2층(7)의 구조와 유사한 격자 구조를 가진다.
광학 장치 내에 설치하기 위한 상기 광학 요소(1)를 제조하는 프로세스 체인에서, 상기 소수성 코팅(6, 7)은 초기 단계에 적용된다. 이러한 프로세스에서, 상기 제2층(7)은 상기 볼록 렌즈 표면(8)의 UV-버닝 중, 예컨대 상기 프로세스 체인에서 연이은 코팅 단계 중에 사용되는 렌즈를 통과하는 자외 방사선에 대하여 제1층(6)에 의하여 보호된다. TiO2로 이루어지는 제1층(6)은 900 nm 이상에서 투과성이므로, 상기 프로세스 체인에서 예컨대 레이저 솔더링 동안 광학 요소(1)를 방사에 의하여 광선투과시키는 단계를 수행하는 것이 가능하다.
상기 제2 및 제1층(7, 6)의 재료의 다른 적절한 조합은 다음을 포함한다(층 두께를 괄호 안에 기재함): 플루오레신(1.0 ㎛)/Si(200 nm), 플루오레신(1.0 ㎛)/Ta(200 nm), 플루오레신(0.5 ㎛)/Cr2O3 (50 nm)/Cr(150 nm), 플루오레신(0.5 ㎛)/W(100 nm)/Cr(1.00 nm) 등. 어떠한 조합에서도 1 이상의 광학 밀도를 제공하는 것이 가능하다.
CVD 기법을 이용하여 상기 광학 요소(1)를 상기 소수성 코팅(6, 7)으로 코팅한다. 대안적으로, PVD, PECVD, 냉간 가스 스프레이, 스핀 코팅, 플라즈마 스프레이, 딥 코팅 및 수동적 코팅, 특히 브러쉬 또는 스폰지를 이용하는 도포와 같은 코팅 기법을 사용할 수 있다.
또한, 제1층(6) 및 제2층(7)을 포함하는 상기 코팅(6, 7)을 사용하는 대신, 보다 많거나 보다 적은 층을 갖는 코팅을 사용할 수 있다. 필요하다면, 2 이상의 층을 적용할 수 있으며, 추가적인 기능성 층이 제1층 및 제2층(6, 7) 사이에 및/또는 상기 표면(5, 2)과 제1층(6) 사이에 각각 제공될 수 있다. 상기 기능성 층은 보호층, 제1층(6)과 제2층(7) 사이의 빈틈없는 접촉을 향상시키기 위한 층, 또는 기계적 강도를 강화하기 위한 층일 수 있다. 그러나, TiO2 또는 Ta2O5는 석영 유리에 비하여 나은 소수성 특성을 가지므로 습윤에 대한 약간의 보호를 이미 제공하기 때문에, 예컨대 TiO2 또는 Ta2O5로 이루어지는 단지 하나의 자외선 저항성 층만을 적용하는 것 또한 충분할 수 있다.
특히, 상기 코팅은 귀금속, 예컨대 금, 이리듐, 팔라듐, 백금, 수은, 오스뮴, 레늄, 로듐, 루테늄, 은, 코발트, 구리 및 이들의 합금으로 만들어지거나 또는 화학 원소의 주기율 시스템에서 3족 내지 7족 금속, 예컨대 크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 바나듐, 니오븀, 탄탈륨, 티타늄, 지르코늄, 하프늄, 스칸듐, 이트륨, 망간, 탈륨 및 이들의 합금으로 만들어지는 자외선 저항성 층일 수 있다. 상기 물질 들은 특히 자외 방사선에 대하여 저항성이며 코팅으로부터 유출되는 물질들로 액침액을 오염시키지 않는 것으로 나타났다. 이러한 층을 포함하는 코팅은 소수성 층이 금속층 또는 귀금속층에 의하여 자외 방사선으로부터 보호되는 코팅일 수 있으므로이러한 층을 단지 하나 포함하는 코팅을 사용할 수 있다. 상기한 바와 같이, 점착을 증진시키기 위하여, 상기 코팅은 또한 몇몇개의 귀금속층 또는 3족 내지 7족 금속층을 포함할 수 있다.
상기 광학 요소(1)의 기능은 도 2에 도시한 바와 같이 고직접 반도체 성분을 제조하기 위한 웨이퍼 스캐너 형태로 편의상 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치(10)의 노광 작업의 의미로 기술된다.
상기 투영 노광 장치(10)는 광원으로서 193 nm의 작동 파장을 갖는 엑시머레이저(11)를 포함하며, 다른 작동 파장, 예컨대 248 nm 또한 가능하다. 하향 배치된 조명 시스템(12)은 그 출구 평면에서 하향 배치된 투영 렌즈(13)의 텔레센트릭(telecentric) 요구조건에 부합하는 윤곽이 뚜렷하고 매우 균일하게 조명된 영상 시야를 생산한다.
상기 조명 시스템(12) 뒤에, 포토마스크(도시하지 않음)를 지지하고 조작하기 위한 기구(14)가 상기 포토마스크가 상기 투영 렌즈(13)의 물체 평면(15)에 놓이도록 배치되고, 스캐닝 작업을 위하여 상기 평면에서 화살표(16)로 나타내는 이동 방향으로 이동할 수 있다.
마스크 평면으로도 불리우는 상기 평면(15) 뒤에, 상기 투영 렌즈(13)가 뒤따르며, 이는 상기 포토마스크의 영상을 축소된 규모로, 예컨대 4:1 또는 5:1 또는 10:1의 규모로 포토레지스트층이 적용된 웨이퍼(17)에 영상화한다. 상기 웨이퍼(17)는 감광성 기판으로 작용하며, 포토레지스트층을 갖는 평면 기판 표면(18)이 투영 렌즈(13)의 영상 평면(19)과 실질적으로 일치하도록 배치된다. 상기 웨이퍼(17)는 이를 포토마스크와 동시에 상기 포토마스크에 대하여 역평형으로 이동시키기 위하여 스캔 드라이브를 포함하는 기구(20)에 의하여 지지된다. 상기 기구(20)는 또한 상기 웨이퍼(17)를 상기 투영 렌즈(13)의 광학축(21)에 평행한 z-방향뿐 아니라 상기 축에 대하여 수직인 x- 및 y- 방향으로 이동시키기 위한 매니퓰레이터를 포함한다.
상기 투영 렌즈(13)는 상기 영상 평면(19)에 인접한 말단 요소로서 도 1a, b의 광학 요소(1), 즉 그 면(4)이 투영 렌즈(13)의 마지막 광학 표면을 형성하고 상기 기판 표면(18) 위에 작업 거리에 배치된 원뿔형 렌즈 부분(3)을 갖는 투명한 평철렌즈를 포함한다. 상기 면(4)과 기판 표면(18) 사이에, 물이 액침액(22)으로서 배치되며, 이는 투영 렌즈(13)의 아웃풋 말단에서 개구수를 증가시킨다. 결과적으로, 포토마스크 위의 구조 영상화가 광학 요소(1)와 웨이퍼(17) 사이의 공간이 보다 작은 굴절율을 갖는 매질, 예컨대 공기로 채워진 경우 가능한 것 보다 큰 해상도 및 깊은 시야에서 일어난다.
투명한 광학적 직경 밖의 습윤으로부터 보호하기 위하여 소수성 코팅을 적용할 수 있는 것은 광학 요소뿐이 아니며, 소수성 코팅과 액침액 사이에 영구적인 접촉이 의도되는 구성 요소, 즉, 측정되어야 하며 액침 시스템에 사용되는 반도체 리소그래피용 투영 렌즈(102)가 측정 장치(101)에 의하여 작은 공간에 배치되는 도 3 에 도시되는 바와 같은 광학 장치에도 이와 같은 코팅을 적용할 수 있는 것으로 이해된다. 상기 투영 렌즈(102)를 통과하는 방사선의 전파 방향에서 마지막으로 배치되는 광학 요소(103)는 상기 측정 장치(101) 위에 근거리 간격으로 위치한다.
상기 측정 장치(101) 내에 또는 그 위에, 간섭 측정을 위하여 제공되는 그리드(104)가 광학적 구성 요소로서 존재한다. 상기 그리드(104) 주위에, 구성 요소(105)가 고리 형태로 배치된다. 적어도 상기 그리드(104)로 향하는 내부에, 상기 고리는 소수성 코팅(108)을 포함한다. 상기 소수성 코팅은 스퍼터링에 의하여 고리의 표면에 적용된 귀금속 또는 금속층이다. 예증적 실시예에서, 산화크롬이 소수성 금속 코팅으로서 사용된다. 실제 적용에서, 상기 물질은 화살표(106)의 방향에 따르는 자외선 조사에 대하여 매우 저항성이며, 그 소수성 특성을 유지하는 것으로 나타났다. 실제 적용에서, 마지막 광학 요소(103)와 측정 장치(101) 사이의 공간을 완전히 채우는 액침액, 예컨대 초순수(107)의 어떠한 오염의 증거도 없었다.
렌즈의 측정은 예컨대 불연속 측정으로서 수행될 수 있으며, 여기서 액침액이 상기 공간에 배치된다. 메니스커스 컬럼이 형성된 후, 이는 몇 시간 동안 안정하게 유지되며, 요구되는 측정을 수행할 수 있다. 초순수를 사용할 경우, 작업은 바람직하게 20 ℃의 물 온도에서 대기압에서 수행된다.
그러나, 불연속 방법 대신, 예컨대 몇 mm/min의 유동 속도로 물을 상기 공간을 통하여 연속적으로 펌핑하는 것 또한 가능하다. 이러한 경우 역시 안정한 메니스커스 컬럼이 형성된다.
일반적으로, 측정을 수행하는 동안, 상기 측정 장치(101)로부터 작업 거리는 대략 2 내지 4 mm, 바람직하게 3 mm이다.
구성 요소(105)로서 상기 고리 내부의 소수성 코팅 대신에 또는 이에 부가하여, 소수성 코팅은 또한 상기 투영 렌즈(102)에 대향하는 측정 장치(101)의 하우징 상부에 또는 상기 측정 장치(101) 상부에 배치된 상기 그리드(104) 주위의 플레이트에 제공될 수 있다.
나아가, 도 3에 도시하는 측정 장치를 예컨대 도 2에 도시하는 바와 같은 투영 노광 장치에 사용할 수 있다. 이러한 경우, 도 2의 투영 노광 장치(10)에서의 투영 렌즈(13)의 마지막 광학 요소(1)와 측정 장치(101) 사이의 공간이 물로 채워지고, 앞서 기술한 소수성 코팅을 포함하는 구성 요소(105)가 메니스커스 물 컬럼을 형성하기 위하여 사용된다. 이러한 경우, 광학 요소(1)와 구성 요소(105) 모두 자외선 저항성 소수성 코팅(6, 7 및 108)을 각각 포함하는 광학 장치가 형성된다.
이상에서 바람직한 실시예를 참조로 하여 기술하였다. 본 명세서의 개시로부터, 당업자는 본 발명 및 이에 따르는 이점을 이해할 수 있을 뿐 아니라 개시된 구조와 방법에 대한 명백하고 다양한 변화 및 변경을 발견할 것이다. 따라서, 출원인은 이러한 모든 변화 및 변경이 첨부되는 청구범위 및 그의 균등물에 의하여 정의되는 본 발명의 사상 및 범위 내에 속하는 것으로 의도한다.
본 발명에 의하면, 광학 장치에 강하고 지속적인 자외선 방사 하에서도 소수성 특성을 유지하는 소수성 코팅을 갖는 구성 요소가 제공되며, 이는 260 nm 미만의 파장에서 자외 방사선을 흡수 및/또는 반사하는 적어도 하나의 자외선 저항성 층을 포함하는 소수성 코팅에 의하여 달성된다. 상기 소수성 코팅은, 부가적으로 소수성 특성을 갖는 단지 하나의 자외선 저항성의 흡수성 및/또는 반사성 층을 포함할 수 있거나, 또는 상기 자외선 저항성의 흡수성 및/또는 반사성 층은 상기 코팅의 추가적인 소수성 층을 투영 렌즈의 자외 방사선으로부터 보호할 수 있다.

Claims (27)

  1. 투영 렌즈(13, 102)의 작동 중에 자외 방사선에 노출되는 소수성 코팅(6, 7; 108)이 적용되며, 상기 투영 렌즈(13, 102)의 작동 중에 액침액(22, 107)에 의하여 적어도 부분적으로 습윤되는 하나 이상의 구성 요소(1, 105)를 포함하고,
    상기 소수성 코팅(6, 7; 108)이 하나 이상의 자외선 저항성 층(6, 108) 및 상기 자외선 저항성 층(6)의 상부에 적용된 소수성 층(7)을 포함하고,
    상기 하나 이상의 자외선 저항성 층(6, 108)은 260 nm 미만의 파장에서 자외 방사선의 흡수 및 반사 중 적어도 하나를 수행하고,
    상기 구성 요소는 자외선 범위 내의 파장에서 투명한 물질로 만들어진 광학 요소(1)이고,
    상기 소수성 코팅(6, 7)이 상기 광학 요소(1)의 광학적으로 선명한 직경 밖에 위치한 연마되지 않은 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 액침 리소그래피용 광학 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 반사-감소 코팅(9)이 상기 광학 요소(1)에 적용되며, 상기 소수성 코팅(6, 7)이 상기 광학 요소(1)의 비-코팅된 영역 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 상기 소수성 층(7)의 물질이 이산화크롬(CrO2), 실란, 실록산, DLC, 불화물, 소수성 바니시 및 소수성 점착제, 폴리머, 플루오로카본 폴리머, Optron, WR1 및 테플론 AF로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 투명한 물질이 불화칼슘(CaF2), 석영 유리(SiO2) 및 이산화게르마늄(GeO2)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6)이 900 nm 이상의 파장에서 방사선에 대하여 투과성인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 광학 요소(1)가 평철 렌즈로서 고안되고, 상기 평철 렌즈의 평면 표면(2)이 원뿔 형상의 렌즈 부분(3)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 소수성 코팅(6, 7)이 상기 원뿔 형상의 렌즈 부분(3)의 원뿔형 측면 표면(5) 및 평면 표면(2) 중 적어도 하나 상에 제공되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  11. 제9항에 있어서, 상기 광학 요소(1)의 원뿔 형상의 렌즈 부분(3)의 적어도 전면(4)이 상기 액침액(22) 내로 침지되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 투영 렌즈(102)의 광학적 특성을 측정하기 위한 광학 측정 장치(101)를 더 포함하고, 상기 투영 렌즈(102)와 상기 광학 측정 장치(101) 사이에 액침액(107)이 배치되며, 상기 액침액(107) 영역 내에 본질적으로 메니스커스 형상의 물 컬럼을 형성하기 위하여 소수성 코팅(108)을 포함하는 구성 요소(105)가 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 소수성 코팅(108)을 포함하는 상기 구성 요소(105)가 상기 측정 장치(101)의 하우징의 일부를 형성하거나, 상기 측정 장치(101)의 구성 요소(105)이며, 상기 구성 요소(105)는 상기 측정 장치(101)에 연결되고, 상기 구성 요소(105) 위에 상기 액침액(107)이 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  14. 제12항에 있어서, 상기 소수성 코팅을 포함하는 상기 구성 요소(105)가 상기 액침액(107)을 제한하기 위한 인클로저 링(enclosure ring)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  15. 제12항에 있어서, 상기 소수성 코팅(108)을 포함하는 상기 구성 요소(105)가 귀금속으로 만들어지는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  16. 제1항에 있어서, 물이 액침액(22, 107)으로서 제공되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  17. 제1항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6, 108)이 260 nm 이하의 파장에서 자외 방사선에 대하여 불투과성인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  18. 제1항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6)이 이산화티타늄(TiO2), 오산화탄탈륨(Ta2O5), 이산화하프늄(HfO2), 이산화지르코늄(ZrO2) 및 티타늄-지르코늄 혼합 산화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  19. 제1항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6)이 적어도 200 nm의 두께인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  20. 제1항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6, 108)이 귀금속 층인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  21. 제20항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6, 108)이 금, 이리듐, 팔라듐, 백금, 수은, 오스뮴, 레늄, 로듐, 루테늄, 은, 코발트, 구리 및 이들의 합금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  22. 제1항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6, 108)이 화학 원소의 주기율 시스템의 3족 내지 7족의 금속 층인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  23. 제22항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6, 108)이 크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 바나듐, 니오븀, 탄탈륨, 티타늄, 지르코늄, 하프늄, 스칸듐, 이트륨, 망간, 탈륨 및 이들의 합금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  24. 제23항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6, 108)이 산화크롬을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  25. 제20항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6, 108)의 코팅 두께가 10 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  26. 제1항에 있어서, 상기 자외선 저항성 층(6) 및 상기 소수성 층(7) 중 적어도 하나가 스퍼터링, PVD, CVD, PECVD, 냉간 가스 스프레이, 스핀 코팅, 플라즈마 스프레이, 딥 코팅 및 수동 코팅으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 방법에 의하여 적용되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  27. 조명 시스템(12),
    투영 렌즈(13, 102), 및
    제1항에 따른 광학 장치를 포함하는 액침 리소그래피용 투영 노광 장치.
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