JP5645406B2 - 浸漬リソグラフィーのための疎水性被膜を有する光学的配置、ならびにそれを具える投影露光器機 - Google Patents
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Description
本出願は、2006年12月29日付け出願の米国の仮出願第60/877,743号の35 U.S.C. 119(e)(1)の下での利益を請求する。2006年12月29日付け出願の米国の仮出願第60/877,743号の開示は、1部分と考慮され、および本出願の開示において参照することによって組込む。本出願は更に2006年12月28日付け出願の独国特許出願第10 2006 062 480.7号に対する35 U.S.C. 119(a)の下での優先権を主張し、その全体の内容を、この結果(hereby)、参照することによって本出願の開示において組込む。本出願はまた、2006年9月12日付け出願の独国特許出願第10 2006 043 548.6号に対して35 U.S.C. 199(a)の下での優先権を主張し、全体の内容を、この結果、参照することによって本出願の開示において組込む。
(本発明の目的)
Claims (22)
- 浸漬リソグラフィーのための光学的配置体であって、
少なくとも1つの部品(1)を備え、
前記少なくとも1つの部品(1)には、疎水性被膜(6、7)が適用されており、その疎水性被膜(6、7)は、投影レンズ(13)の操作の間にUV放射に露光されるものであり、
前記少なくとも1つの部品(1)は、浸漬流体(22)によって投影レンズ(13)の操作の間に少なくとも1部分において濡らされるものであり、
疎水性被膜(6、7)は、UV放射を260nm未満の波長で吸収しおよび/または反射する少なくとも1つの耐UV性層(6)を具え、
前記部品はUV範囲における波長に透過性な物質から作成される光学素子(1)であり、
疎水性被膜(6、7)は光学素子(1)の光学的にクリアな領域の外側の非研磨表面上に形成されており、
前記疎水性皮膜(6、7)の前記耐UV性層(6)は、前記光学素子(1)の前記非研磨表面に直に形成されており、
前記非研磨表面は、前記クリアな領域よりも粗い、マットな面である、光学的配置体。 - 光学素子(1)は投影レンズ(13)の端部素子を形成する、請求項1に記載の光学的配置体。
- 反射低減性被膜(9)が光学素子(1)に適用され、そこで疎水性被膜(6、7)は、光学素子(1)における前記反射低減性被膜(9)により被覆されていない領域に配置される、請求項1または2に記載の光学的配置体。
- 疎水性層(7)が耐UV性層(6)の上に適用される、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 疎水性層(7)の物質が、次の、すなわち、二酸化クロム(CrO2)、シラン、シロキサン、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、フッ化物、疎水性ニスおよび疎水性接着剤、重合体からなる群、またはOptron(オプトロン)、WR1およびTeflon(商標、テフロン)AFのようなフルオロカーボン重合体からなる群より選ばれる、請求項4に記載の光学的配置体。
- 前記光学素子(1)を形成する前記透過性な物質は、次の、すなわち、フッ化カルシウム(CaF2)、石英ガラス(SiO2)および二酸化ゲルマニウム(GeO2)からなる群より選ばれる、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は900nmまたはそれよりも長い波長で放射に対して透過性である、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 光学素子(1)は平凸レンズとして設計され、平坦表面(2)が円錐形状のレンズ部分(3)を具える、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 疎水性被膜(6、7)は、円錐形状のレンズ部分(3)の円錐の横方向表面(5)上、および/または平坦表面(2)上に提供される、請求項8に記載の光学的配置体。
- 光学素子(1)の円錐に形成されたレンズ部分(3)の少なくとも前面(4)が浸漬流体(22)中に浸される、請求項8または9に記載の光学的配置体。
- 水、または超純水が、浸漬流体(22)として提供される、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は、260nmより短い波長、または200nm未満で、UV放射に対して不浸透性である、請求項1乃至11のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は、次の、すなわち、二酸化チタン(TiO2)、五酸化タンタル(Ta2O5)、二酸化ハフニウム(HfO2)、二酸化ジルコニウム(ZrO2)およびチタン-ジルコニウム混合酸化物からなる群より選ばれる物質を含む、請求項1乃至12のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は厚さで少なくとも200nmとして測られる、請求項13に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は貴金属の層である、請求項1乃至12のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は、次の、すなわち、金、イリジウム、パラジウム、白金、水銀、オスミウム、レニウム、ロジウム、ルテニウム、銀、コバルト、銅およびそれらの合金からなる群より選ばれる物質を備える、請求項15に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は化学的元素の周期系の第3乃至第7の群の金属層である、請求項1乃至12のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は、次の、すなわち、クロム、モリブデン、タングステン、バナジウム、ニオブ、タンタル、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、スカンジウム、イットリウム、マンガン、タリウム、およびそれらの合金からなる群より選ばれる物質を含む、請求項17に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)は酸化クロムを備える、請求項18に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)の被膜厚さは、10および200nmの間、または15および100nmの間である、請求項15乃至19のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 耐UV性層(6)および/または疎水性層(7)は、次の、すなわち、スパッタリング、物理的気相成長法(PVD)、化学気相成長法(CVD)、プラズマ強化化学気相成長法(PECVD)、冷ガス噴霧、回転被覆、プラズマ噴霧、浸漬被覆および手動被覆からなる群、またはブラシまたはスポンジの使用を伴う塗布からなる群より選ばれる方法によって適用される、請求項1乃至20のいずれか一項に記載の光学的配置体。
- 浸漬リソグラフィーのための投影露光器機(10)であって、
イルミネーションシステム(12)と、
請求項1乃至21のいずれか一項に記載の光学的配置体と
を具える、器機。
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