JP2010503223A - 浸漬リソグラフィーのための疎水性被膜を有する光学的配置、ならびにそれを具える投影露光器機 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2006年12月29日付け出願の米国の仮出願第60/877,743号の35 U.S.C. 119(e)(1)の下での利益を請求する。2006年12月29日付け出願の米国の仮出願第60/877,743号の開示は、1部分と考慮され、および本出願の開示において参照することによって組込む。本出願は更に2006年12月28日付け出願の独国特許出願第10 2006 062 480.7号に対する35 U.S.C. 119(a)の下での優先権を主張し、その全体の内容を、この結果(hereby)、参照することによって本出願の開示において組込む。本出願はまた、2006年9月12日付け出願の独国特許出願第10 2006 043 548.6号に対して35 U.S.C. 199(a)の下での優先権を主張し、全体の内容を、この結果、参照することによって本出願の開示において組込む。
(本発明の目的)
Claims (27)
- 浸漬リソグラフィーのための光学的配置であって、次の、すなわち、
少なくとも1種の部品(1、105)で、それに疎水性被膜(6、7;108)が適用され、その疎水性被膜(6、7;108)が投影レンズ(13、102)の操作の間にUV放射に露光されるもの、
その少なくとも1種の部品(1、105)で、浸漬流体(22、107)によって投影レンズ(13、102)の操作の間に少なくとも1部分において濡らされるものを具えており、
疎水性被膜(6、7;108)は、UV放射を260nm未満の波長で吸収しおよび/または反射する少なくとも1種の耐UV性層(6、108)を具えることを特徴とする、光学的配置。 - 部品は、UV範囲における波長で透過性な物質から作成される光学素子(1)であり、光学素子(1)はなるべくなら投影レンズ(13、102)の端部素子を形成する、請求項1に従う光学的配置。
- 疎水性被膜(6、7)は、光学素子(1)の光学的に明りょうな直径の外側に形成される、請求項2に従う光学的配置。
- 反射低減性被膜(9)が光学素子(1)に適用され、そこで疎水性被膜(6、7)は光学素子(1)の非被覆領域において、なるべくなら反射低減性被膜(9)に隣接して配置される、請求項2または3に従う光学的配置。
- 疎水性層(7)が耐UV性層(6)の頂部分上に適用される、請求項2乃至4のいずれか1項に従う光学的配置。
- 疎水性層(7)の物質が、次の、すなわち、二酸化クロム(CrO2)、シラン、シロキサン、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)、フッ化物、疎水性ニスおよび疎水性接着剤、重合体、なるべくならフルオロカーボン重合体、とりわけOptron(オプトロン)、WR1およびTeflon(商標、テフロン)AFからなる群より選ばれる、請求項5に従う光学的配置。
- 透過性物質は、次の、すなわち、フッ化カルシウム(CaF2)、石英ガラス(SiO2)および二酸化ゲルマニウム(GeO2)からなる群より選ばれる、請求項2乃至6のいずれか1項に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6)は900nmまたはそれよりも長い波長で放射に対して透過性である、請求項2乃至7のいずれか1項に従う光学的配置。
- 光学素子(1)は平凸レンズとして設計され、平坦表面(2)が円錐形状のレンズ部分(3)を具える、請求項2乃至8のいずれか1項に従う光学的配置。
- 疎水性被膜(6、7)は、円錐形状のレンズ部分(3)の円錐の横方向表面(5)上、および/または平坦表面(2)上に提供される、請求項9に従う光学的配置。
- 光学素子(1)の円錐に形成されたレンズ部分(3)の少なくとも前面(4)が浸漬流体(22)中に浸される、請求項9または10に従う光学的配置。
- さらに、光学的測定装置(101)を、投影レンズ(102)の光学的特徴を定めるために具え、投影レンズ(102)および光学的測定装置(101)の間で、浸漬流体(107)は配置され、および浸漬流体(107)の領域において、部品(105)は配置され、それは、本質的に半月の水柱を形成する目的のために疎水性被膜(108)を具える、先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置。
- 疎水性被膜(108)を具える部品(105)は、測定装置(101)の筐体の1部分を形成するか、または測定装置(101)の部品(105)であり、その部品(105)は、測定装置(101)に接続し、その部品(105)の上で浸漬流体(107)は位置付ける、請求項12に従う光学的配置。
- 疎水性被膜を具える部品(105)は、浸漬流体(107)を制限するための囲いリングを具える、請求項12または13のいずれか1項に従う光学的配置。
- 疎水性被膜(108)を具える部品(105)は貴金属から作成される、請求項12乃至14のいずれか1項に従う光学的配置。
- 水、とりわけ超純水が、浸漬流体(22、107)として提供される、先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6、108)は、260nmより短い波長、なるべくなら200nm未満でUV放射に対して不浸透性である、先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6)は、次の、すなわち、二酸化チタン(TiO2)、五酸化タンタル(Ta2O5)、二酸化ハフニウム(HfO2)、二酸化ジルコニウム(ZrO2)およびチタン-ジルコニウム混合酸化物からなる群より選ばれる物質を備える、先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6)は厚さで少なくとも200nmを測られる、先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6、108)は貴金属の層である、先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6、108)は、次の、すなわち、金、イリジウム、パラジウム、白金、水銀、オスミウム、レニウム、ロジウム、ルテニウム、銀、コバルト、銅およびそれらの合金からなる群より選ばれる物質を備える、請求項20に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6、108)は化学的元素の周期系の第3乃至第7の群の金属層である、先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6、108)は、次の、すなわち、クロム、モリブデン、タングステン、バナジウム、ニオブ、タンタル、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、スカンジウム、イットリウム、マンガン、タリウム、およびそれらの合金からなる群より選ばれる物質を備える、請求項22に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6、108)は酸化クロムを備える、請求項23に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6、108)の被膜厚さは、10および200の間のnm、なるべくなら15および100の間のnmである、請求項20乃至24のいずれか1項に従う光学的配置。
- 耐UV性層(6)および/または疎水性層(7)は、次の、すなわち、スパッタリング、PVD(物理的気相成長法)、CVD(化学気相成長法)、PECVD(プラズマ強化化学気相成長法)、冷ガス噴霧、回転被覆、プラズマ噴霧、浸漬被覆および手動被覆、とりわけブラシまたはスポンジの使用を伴う塗布からなる群より選ばれる方法によって適用される、先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置。
- 浸漬リソグラフィーのための投影露光器機(10)であって、次の、すなわち、
イルミネーションシステム(12)、
投影レンズ(13、102)、および
先行する請求項のいずれか1項に従う光学的配置
を具える、器機。
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